【課題】厚さ５〜２０ｎｍの銀を含む金属薄膜からなり、抵抗率が低く且つ透過率が高い透明導電薄膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板にイオンボンバード処理を施した後、この透明基板上にイオンプレーティングにより厚さ５〜２０ｎｍ、好ましくは厚さ５〜１０μｍの銀を含む金属薄膜を蒸着させて、抵抗率が１０^−４Ω・ｃｍ以下であり、波長３００ｎｍおよび５００ｎｍの光の透過率が７０％以上、好ましくは８０％以上である透明導電薄膜を製造する。 （もっと読む）

【課題】透明基材上に低抵抗のＩｎ・Ｓｎ複合酸化物（ＩＴＯ）からなる透明導電層が形成された透明導電性フィルムおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基材上にＩｎ・Ｓｎ複合酸化物からなる透明導電層を有し、透明基材の透明導電層が形成されている側の表面の算術平均粗さＲａが１．０ｎｍ以下であり、透明導電層中のＳｎ原子の量が、Ｉｎ原子とＳｎ原子とを加えた重さに対し、６重量％を超え１５重量％以下であり、前記透明導電層のホール移動度が１０〜３５ｃｍ^２／Ｖ・ｓであり、キャリア密度が６×１０^２０〜１５×１０^２０／ｃｍ^３である、透明導電性フィルム。当該透明導電性フィルムは、水の分圧が小さい雰囲気下において１００℃を超え２００℃以下の基材温度でアモルファス透明導電層をスパッタ製膜し、アモルファス透明導電層を加熱して結晶性透明導電層に転化することによって得られうる。 （もっと読む）

【課題】結晶化時間を短縮化することができる透明導電性薄膜を有する透明導電性フィルムを提供すること。
【解決手段】透明なフィルム基材の少なくとも一方の面に、少なくとも２層の透明導電性薄膜からなる透明導電性薄膜積層体を有する透明導電性フィルムであって、前記透明導電性薄膜は、いずれも、酸化インジウムまたは４価金属元素の酸化物を含有するインジウム系複合酸化物の結晶質膜であり、前記透明導電性薄膜積層体の表面の側に、酸化インジウムまたは４価金属元素の酸化物の割合が０を超え６重量％以下の第一の透明導電性薄膜（２１）を有し、前記透明導電性薄膜積層体の表面の側から第一の透明導電性薄膜に次いで、前記第一の透明導電性薄膜（２１）よりも、４価金属元素の酸化物の割合が大きい第二の透明導電性薄膜（２２）を有する。 （もっと読む）

【課題】耐久性、光学特性に優れると共に、配線精度の高精度化を容易に図ることができる透明配線層を備えた透明導電フィルム及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】透明導電フィルム１は、透明な樹脂からなる基材フィルム１１と、基材フィルム１１の表面に形成され、基材フィルム１１よりも光屈折率の高い高屈折コート層１２と、高屈折コート層１２の表面に形成され、高屈折コート層１２よりも光屈折率の低い低屈折コート層１３と、低屈折コート層１３の表面に形成された酸化形素からなる防湿性の下地層１４と、下地層１４の表面においてパターン形成され、下地層１４よりも光屈折率の高い結晶質のＩＴＯからなる透明配線層１５とを有する。透明配線層１５は、ＩＴＯの結晶子サイズが９ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】シート抵抗が十分に低く、可視光透過率が十分に高く、全面にわたって高い導電性を確保することができ、しかも電解液に対する耐食性に優れた透明導電膜およびその製造方法ならびにこの透明導電膜を用いた光電変換装置および電子機器を提供する。
【解決手段】透明導電膜は、金属細線ネットワーク層１２と、この金属細線ネットワーク層１２の少なくとも一方の面に設けられた一層または複数層のグラフェン層１３とを有する。金属細線ネットワーク層１２は、銅、銀、アルミニウム、金、鉄、ニッケル、チタンおよび白金からなる群より選ばれた少なくとも一種の金属からなる。金属細線ネットワーク層１２は透明基板１１上に設ける。フレキシブルな透明導電膜を得るためには、透明基板１１として透明プラスチック基板を用いる。 （もっと読む）

【課題】少ない工程数でシート抵抗が低い透明導電膜を製膜できる透明導電膜の製膜方法を提供すること。
【解決手段】ＩＴＯナノ粒子を含む膜を製膜する工程と、前記ＩＴＯナノ粒子を含む膜に、波長が７００〜２２００ｎｍの範囲内にあるレーザー光を照射する工程と、を含むことを特徴とする透明導電膜の製膜方法。前記ＩＴＯナノ粒子を含む膜は、ＩｎＳｎ錯体を含むことができる。また、前記ＩＴＯナノ粒子を含む膜は、ＩＴＯナノ粒子Ａと、前記ＩＴＯナノ粒子Ａよりも粒径が小さいＩＴＯナノ粒子Ｂとを含むことができる。 （もっと読む）

【課題】ヘイズが低く、反射率及び反射の視野角依存性が小さく、視認性に優れた導電材料及び導電材料の製造方法、並びにタッチパネルの提供。
【解決手段】平均短軸長さが５０ｎｍ以下であり、かつ平均長軸長さが５μｍ以上である金属ナノワイヤーを少なくとも含有する導電層を有する導電材料であって、前記導電層が、特定のテトラザインデン化合物及び特定のメルカプトテトラゾール化合物を含有し、前記金属ナノワイヤーが、銀と、ニッケル、ビスマス、スズ、ベリリウム、クロム、及びロジウムから選択される少なくとも１種の金属を、前記銀１モルあたり、１×１０^−４モル〜１×１０^−２モル含有する導電材料である。 （もっと読む）

【課題】耐熱安定性に優れ、高導電性でかつ透過性にすぐれた透明導電性体、またその簡便な製造方法を提供する。
【解決手段】カーボンナノチューブ［Ａ］と分散剤［Ｂ］と分散媒［Ｃ］とを、カーボンナノチューブ［Ａ］に対する分散剤［Ｂ］の質量比（［Ｂ］／［Ａ］）が１〜９、カーボンナノチューブ［Ａ］の含有率｛［Ａ］／（［Ａ］＋［Ｂ］＋［Ｃ］）｝が０．０００３〜０．０１５質量％となる範囲で含む被処理分散液を、分散剤［Ｂ］の分子量より分画分子量が大きい限外濾過膜を用いて被処理分散液のカーボンナノチューブの濃度を１０〜５００倍に濃縮して塗布用分散液を調製し、該塗布用分散液を透明基材上に塗布した後、乾燥させることを特徴とする透明導電体の製造方法。限外濾過法によって事前に分散剤を取り除くことで、透明導電性および耐熱安定性を向上させることを見出した。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１層以上の導電層を含む層が透明層の１方の面に部分的に積層されている透明導電膜において、少なくとも１層以上の導電層を含む層がある部分と無い部分との光学特性を近づけ、導電層の有無を目立たないようにした透明導電膜とその製造方法を提供する。
【解決手段】部分的に積層された、少なくとも１層以上の導電層を含む層同士の間に、少なくとも１層以上の導電性を持たない層を積層する。 （もっと読む）

【課題】ＰＥＴフィルム等の汎用高分子基板を用いた場合でも、基板上に優れた導電性と光透過性とを有する導電性膜を、簡易かつ安価に製造することができる、導電性膜の製造方法、及び、導電性膜を提供する。
【解決手段】導電性微粒子を含む有機溶媒分散体を基板に塗工してパターンを有する導電性膜を製造する方法であって、該製造方法は、有機溶媒分散体を基板に塗工した後、塗工された有機溶媒分散体を塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させてパターンを有する膜を形成する工程、及び、該パターンを有する膜に有機溶媒を含む溶媒溶液を作用させる工程を含むことを特徴とする導電性膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、透明導電性及びガスバリア性が高く、かつ耐屈曲性に優れたＣＮＴを導電性の層とする透明導電積層体を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明の透明導電積層体は、厚み２０〜１８８μｍの透明基材の少なくとも片面上に［Ａ］厚みが１０〜５００ｎｍである含ケイ素無機層、［Ｂ］厚みが１〜５０ｎｍであるカーボンナノチューブ層、［Ｃ］厚みが１０〜１２０ｎｍである透明保護層が透明基材側からこの順に設けられ、［Ａ］層の層内に、硫化亜鉛と二酸化ケイ素の合計に対する硫化亜鉛のモル分率が０．７〜０．９である硫化亜鉛−二酸化ケイ素共存相からなる、厚みが［Ａ］の層の全厚みの４０〜１００％である層状の領域を有することを特徴とする透明導電積層体。 （もっと読む）

【課題】量産工程に対応可能な大気圧プラズマＣＶＤ法を用いて、低抵抗な透明導電膜を成膜する方法を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電膜の成膜方法は、基板と成膜用印加電極との間に、有機金属化合物ガス、希ガス、および酸化ガスを含む成膜用ガスを供給するステップと、大気圧または大気圧近傍の圧力下において、基板と成膜用印加電極との間に高周波電圧を印加することにより、成膜用ガスから成膜用プラズマを発生させるステップと、該成膜用プラズマに基板を暴露する第１ステップと、基板と後処理用印加電極との間に、希ガスを含む後処理用ガスを供給するステップと、基板と後処理用印加電極との間に高周波電圧を印加することにより、後処理用ガスから後処理用プラズマを発生させるステップと、該後処理用プラズマに透明導電膜を暴露する第２ステップとを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】汎用性の高いフレキシブル基材上にシート抵抗値が十分に小さく、湿熱条件後及び屈曲後においてもシート抵抗値の上昇が抑制できる透明導電層を具備する透明導電性フィルム及びその製造方法並びに透明導電性フィルムを用いた太陽電池及びエレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】フレキシブル基材１１の少なくとも片面に、（Ａ）ポリオルガノシロキサン系化合物を含有するコート材料からなるアンダーコート層１２と、（Ｂ）透明導電層１３とが順次形成された透明導電性フィルム１０とする。 （もっと読む）

【課題】電極としてインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）を用いることなく、透明性と導電性とを両立する透明導電フィルム、その製造方法及びそれを用いた有機薄膜太陽電池を提供する。
【解決手段】支持体１２上に、同一組成の導電メッシュ１４とバスライン１６と、該導電メッシュ１４とバスライン１６とで区画される開口部２２に少なくとも配置される導電性ポリマー層１８を含んで構成される透明導電フィルム１０である。 （もっと読む）

【課題】薄板ガラスの一方の表面に保護フィルムを貼付け他方の面に透明導電膜を形成した透明導電性ガスバリヤフィルムにおいて、保護フィルムとしてＰＰフィルムのように耐熱性のないものを用いても、透明導電膜を低抵抗に形成できるようにする。
【解決手段】透明導電性ガスバリヤフィルム１は、ガスバリヤ層となる基材フィルム１０の裏面に保護フィルム（ＰＰフィルム）２０が貼付けられ、表面に透明導電膜３０が形成されている。透明導電膜３０は、ＩＴＯ層３１、Ａｇ合金からなるＡｇ層３２、ＩＴＯ層３３の３層を順次積層してなる積層膜であって、ＩＴＯ層，Ａｇ層は、スパッタリング法で形成できる。 （もっと読む）

【課題】 光透過性と異方導電性とを高いレベルで両立し、種々の電気機器に好適に用いることができる透明異方導電性膜、及び、そのような透明異方導電性膜を簡易かつ安価に製造することができる透明異方導電性膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 導電物質を含む導電性線部が間隔を空けて複数並ぶ透明異方導電性膜であって、該透明異方導電性膜は、導電性線部の長軸方向における電気抵抗率が、１×１０^−２Ω・ｃｍ以下であり、導電性線部の長軸方向と直交する方向における電気抵抗率が、１×１０^２Ω・ｃｍであり、全光線透過率が５０％以上である透明異方導電性膜。 （もっと読む）

【課題】汎用性の基体を使用し、透明性、導電性、膜強度に優れると共に、高温、高湿度環境下においても透明性、導電性、膜強度の劣化が少ない透明電極用の分散液の調製方法、透明導電膜、透明導電膜の形成方法及び透明導電膜の形成方法で形成された透明導電膜を用いた透明電極を有する有機ＥＬ素子の提供。
【解決手段】少なくとも導電性ポリマーと、前記一般式（Ｉ）、（II）で表わされる構造単位を有するポリマー（Ｋ）を含む分散液の調製方法であって、少なくとも前記導電性ポリマーと前記ポリマー（Ｋ）を含有する分散液を脱溶媒処理することを特徴とする分散液の調製方法。 （もっと読む）

【課題】被転写体との転写性及び密着性が良好であり、導電層の転写均一性が向上した導電層転写材料、及び該導電層転写材料を用いて転写された導電層を有し、部品点数が少なくなり、軽量化と薄型化が可能なタッチパネルの提供。
【解決手段】基材と、該基材上に、クッション層と、平均短軸長さが１００ｎｍ以下であり、平均長軸長さが２μｍ以上の金属ナノワイヤーを含有する導電層とをこの順に有し、前記導電層と前記クッション層の合計平均厚みＡと、前記基材の平均厚みＢとが、Ａ／Ｂ＝０．１〜０．７を満たし、前記導電層の平均厚みが、０．０１μｍ〜０．２μｍであり、前記クッション層の平均厚みが、１μｍ〜５０μｍである導電層転写材料とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、デバイス性能が保存で劣化しにくい透明電極を提供することにある。
【解決手段】透明フィルム基板上に、パターン状に形成された金属粒子からなる第一導電層を設け、さらに導電性ポリマー及び親水性の非導電性ポリマーを含有する第二導電層にて第一導電層を被覆する透明電極の製造方法において、第一導電層を形成した後に界面活性剤またはキレート剤を含有する水溶液に接触させた後、第二導電層を被覆することを特徴とする透明電極の製造方法。 （もっと読む）

【課題】簡易な方法により大面積で高透過率、低抵抗率の透明導電膜を得ること。
【解決手段】ＣＶＤ反応容器の第１の領域にショウノウを配置する工程と、ＣＶＤ反応容器の第２の領域にグラフェンシートを形成する基板を配置する工程と、第１の領域を加熱して、ショウノウを蒸気化し、ＣＶＤ反応容器内において、不活性ガスのキャリアガスを第１の領域から第２の領域に向けて流すことにより、加熱された第２の領域に配置された基板（Ｎｉ）上にショウノウの蒸気を導く工程と、加熱された第２の領域に配置された基板上において、ショウノウの蒸気を熱分解して、基板上に、グラフェンシートを得る工程を有する。そして、グラフェンシートと接触している基板の表面を、ウエットエッチングして、グラフェンシートをエッチング溶液中に剥離させる工程と、エッチング溶液中に剥離したグラフェンシートを、対象物上に貼り付ける工程とを有する。 （もっと読む）