【課題】耐久性、防汚性、視認性向上効果、オリゴマー抑制効果に優れる透明導電性フィルムおよびこれを用いたタッチパネルを提供する。
【解決手段】基材フィルムの一方の面に、シリカ層（Ａ）と導電層とを基材フィルム側からこの順に有し、前記基材フィルムの前記シリカ層（Ａ）を有する面とは反対面に、樹脂を含むハードコート層とシリカ層（Ｂ）とを基材フィルム側からこの順に有し、前記シリカ層（Ａ）およびシリカ層（Ｂ）が、ケイ素、炭素および酸素を含む透明導電性フィルムおよびこれを用いたタッチパネル。 （もっと読む）

【課題】透明フィルム基材上に結晶質のインジウム系複合酸化物膜が形成された長尺状の透明導電性フィルムを製造する。
【解決手段】本発明の製造方法は、インジウムと４価金属とを含有するインジウム系複合酸化物の非晶質膜が、スパッタ法により前記長尺状透明フィルム基材上に形成される非晶質積層体形成工程、および前記非晶質膜が形成された長尺状透明フィルム基材が、加熱炉内に連続的に搬送され、前記非晶質膜が結晶化される結晶化工程、を有する。前記結晶化工程における加熱炉内の温度は１７０℃〜２２０℃であることが好ましい。また、前記結晶化工程におけるフィルム長さの変化率は＋２．５％以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】銅ナノ構造体を利用した有用な製品を提供する。
【解決手段】本発明の一観点に係る透明導電膜は、ポリマー中に銅ナノ構造体を分散させた構造となっている。この観点において、銅ナノ構造体は、銅ナノワイヤーであることが好ましく、また、銅ナノ構造体を０．０１ｗｔ％以上１５ｗｔ％以下の範囲で含むことも好ましい。また、本発明の他の一観点に係る透明導電膜の製造方法は、ポリマー溶液中に銅ナノ構造体を加えて混合及び攪拌し、ポリマー溶液を基板上に塗布し、乾燥させる。なおこの観点において、銅ナノ構造体は、銅ナノワイヤーであることが好ましく、銅ナノ構造体が、ポリマー溶液中のポリマー及び前記銅ナノ構造体の重量の和に対して０．０１ｗｔ％以上１５ｗｔ％以下の範囲で含まれることも好ましい。 （もっと読む）

【課題】基材の種類に関わらず、良好な電気特性及び光学特性を有する透明導電性シートの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電性シートの製造方法は、透明基材の一主面上に、透明導電性粒子とバインダ樹脂と溶媒とを含むコーティング組成物を塗布して透明導電膜を形成する第１の工程と、上記透明導電膜を、温度１０〜５０℃でかつ相対湿度６０％以下の環境下で乾燥させることにより、上記透明導電膜中の溶媒量を減少させる第２の工程とを含み、上記コーティング組成物中の固形分濃度は、８０％以下であり、上記第２の工程後の上記透明導電膜の乾燥膜厚をａ（μｍ）とし、上記第２の工程後の上記透明導電膜中の溶媒量をｂ（ｍｇ／ｍ²）としたとき、ｂ／ａ［ｍｇ／（ｍ²・μｍ）］が１０以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、透明導電膜が導電性繊維を含むものであるにもかかわらず、引き回し配線の配線抵抗を小さくできる導電パターン形成基板を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の導電パターン形成基板は、第１の導電パターンＰ_１と第２の導電パターンＰ_２とが設けられ、第１の導電パターンＰ_１は、透明導電膜の、透明絶縁材料内の導電性繊維が除去され、導電性繊維が存在していた部分に空隙が形成された第１の絶縁ラインＢ_１により構成された第１の絶縁パターン１４ａによって設けられ、第２の導電パターンＰ_２は、透明導電膜と金属膜が除去されて形成された第２の絶縁ラインＢ_２により構成された第２の絶縁パターン１４ｂによって設けられている。 （もっと読む）

【課題】塗布により基板上に透明導電膜を形成する場合、高温処理やカレンダ処理を用いずに、良好な電気特性および光学特性を有しつつ、耐熱性に優れ、かつ塗膜強度の強い透明導電性シートを得る製造方法の提供を可能とする。
【解決手段】透明基板と、前記透明基板の上に形成された透明導電膜とを含む透明導電性シートの製造方法であって、透明導電性粒子と樹脂と溶剤とを含むコーティング組成物を前記透明基板上に塗布して塗膜を形成する工程と、前記塗膜に紫外線を照射する工程とを含み、前記コーティング組成物の固形分中の前記透明導電性粒子の重量含有率が８０重量％以上９０重量％未満であり、前記樹脂が、樹脂Ａと樹脂Ｂとを含み、前記樹脂Ａは、ガラス転移点が２０℃以上１００℃未満であり、前記樹脂Ｂは、ガラス転移点が１００℃以上であり、かつ、樹脂Ａと樹脂Ｂとの重量比（Ａ／Ｂ）が０．２以上０．９未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】キャリア電子の移動度が高く、光電変換素子の入射光側電極として好適に用いられるフッ素ドープ酸化スズ膜の形成方法の提供。
【解決手段】ＣＶＤ法を用いて、１０ｋＰａ以下の圧力下で、基体温度が５００℃以下、かつ、形成される膜におけるキャリア電子の移動度が極大値となる成膜温度にて、フッ素ドープ酸化スズ膜を基体上に形成した後、圧力１０ｋＰａ以下の非酸化性雰囲気下にて、該成膜温度よりも２０〜３０℃高い温度で１分以上保持し、その後、圧力１０ｋＰａ以下の非酸化性雰囲気下にて、少なくとも基体温度が３００℃以下となるまで、平均冷却速度１０℃／ｍｉｎ以下で徐冷することを特徴とするフッ素ドープ酸化スズ膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】導電パターンの位置を所望の位置からずらすことなく、三次元形状を有する導電パターン形成基板を製造できる方法を提供する。
【解決手段】絶縁基板１１と、絶縁基板１１の上に設けられ、基体内に金属からなる網状部材が配置される導電部Ｃおよび基体内の網状部材が除去されることにより形成された空隙が配置される絶縁部Ｉを有する導電膜１２とを備えた三次元形状を有する導電パターン形成基板１０を製造する方法であって、絶縁基板１１の上に、基体内に網状部材が配置される基礎膜ａが少なくとも形成された成形用基板１８を得る工程と、成形用基板１８を三次元成形し、三次元形状基板２０とする工程と、三次元形状基板２０における基礎膜ａにレーザ光Ｌを照射することによって空隙を形成し、導電膜１２とする工程と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】配線領域の形成に手間がかからず製造が容易であり、表示領域においては導電パターンが視認されにくい高品位な透明導電膜を形成できるとともに、該透明導電膜の絶縁部の絶縁性が十分に確保され電気的な信頼性が向上する導電パターン形成基板の製造方法及び導電パターン形成基板を提供する。
【解決手段】絶縁基板１１上の表示領域１３及び配線領域１５に、透明基体内に網状部材が配置される基礎膜ａを形成する工程と、基礎膜ａ上の配線領域１５に、配線ライン１４を形成する工程と、基礎膜ａ上の表示領域１３に対応する部位にマスク手段５０を形成して、基礎膜ａのうち配線領域１５における配線ライン１４に対応する部位以外の部位をドライエッチングにより除去する工程と、基礎膜ａのうち表示領域１３に対応する部位にレーザ光Ｌを照射することにより、空隙を形成して、透明導電膜１２とする工程と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明によれば、カーボンナノチューブの分散性を維持しつつ高い導電性を示す導電性複合体の製造方法を提供する。
【解決手段】分子内にスルホン酸基を有する分散剤（Ａ）とカーボンナノチューブを含有する組成物（Ｂ）を基材上へ製膜する第一の工程、および組成物（Ｂ）が製膜された面にオーバーコート剤を積層する第二の工程を含む導電性複合体の製造方法であって、第一の工程における導電層の表面抵抗値Ｒ_Ａと第二の工程を経た後の導電層の表面抵抗値Ｒ_Ｂとの関係がＲ_Ａ＞Ｒ_Ｂとなることを特徴とする導電性複合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】
カーボンナノチューブを導電材して用いた透明導電複合材において、透明導電性の高い透明導電複合材およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
透明基材上に、カーボンナノチューブを溶媒に分散した分散液を塗布後、該分散液中の溶媒を蒸発させて除去し、カーボンナノチューブ含有層を形成する透明導電複合材の製造方法であって、
分散液を塗布する面の水接触角を３５〜５５°となるよう調整した透明基材上に、以下の（Ａ）および／または（Ｂ）の特性を満たす様に調整したカーボンナノチューブの濃度が０．０２〜０．１５質量％の分散液を塗布することを特徴とする透明導電複合材の製造方法。
（Ａ）ｐＨが６〜１０
（Ｂ）カーボンナノチューブの濃度を０．００３質量％に希釈した分散液のゼータ電位が−６０ｍＶ〜−４０ｍＶ （もっと読む）

【課題】導電性線状構造体を溶液に分散させ基材に室温、大気圧下で導電体を形成させる際に、導電性線状構造体の配向性が極めて小さい導電体を提供し、電磁波シールド、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス素子、電子ペーパーやタッチパネル電極などのディスプレイ関連のＸＹ電極に搭載した際に、位置検出精度が高く、誤作動の少ない導電体を提供することを目的とする。
【解決手段】基材の少なくとも一方の面に導電性線状構造体を含有する導電体層を有する導電性フィルムであって、該導電体層上で無作為に場所を選択して撮影した画像の中心に直径が実寸法で７０μｍに当たる円を作図し、該円の中心を通り該円を３６等分する１８本の直線を引き、前記円の内部における前記導電性線状構造体と前記直線との交点の数を各直線ごとに計数し、該交点の数が最も多い直線をｌ_０、ｌ_０となす角が９０度である直線をｌ_９０としたとき、ｌ_０の前記交点の数ｎ_０とｌ_９０の前記交点の数ｎ_９０の比である交差本数比ｎ_０／ｎ_９０が１．００〜１．２５である導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】透明性及び電気的特性に優れ、印刷法でも製造可能な透明導電膜を提供する。更に、本発明は、該透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】金属酸化物を含有する透明導電膜であって、前記金属酸化物は、下記式（１）に規定する関係を満たす透明導電膜。
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【課題】耐熱安定性、耐湿熱安定性に優れ、高導電性の導電性体、またその簡便な製造方法を提供すること。
【解決手段】カーボンナノチューブ［Ａ］と、カルボキシメチルセルロース［Ｂ］とが、［Ａ］に対する［Ｂ］の質量比（［Ｂ］の含有量／［Ａ］の含有量）が０．５〜９で含まれる、水［Ｃ］を分散媒とした分散液を、基材上に［Ａ］を１〜４０ｍｇ／ｍ^２の範囲となるよう塗布し乾燥した塗布面に、酸触媒［Ｄ］とアルコール［Ｅ］とを、［Ｅ］に対する［Ｄ］の質量比（［Ｄ］の含有量／［Ｅ］の含有量）が０．００５〜０．１である処理液を２５℃〜１００℃、５秒〜２０分の条件で接触させた後、乾燥させることを特徴とする導電体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 繊維状導電性物質を使用し、特に静電容量式のタッチパネル用の透明電極等として使用する場合でも、異方性に由来する問題が生じずに、良好に使用できる透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】 帯状に延びる支持体フィルム上に繊維状導電性物質を含有する透明導電層を有する透明導電性フィルムであって、前記透明導電層中の前記繊維状導電性物質がランダムに配向しており、前記帯状に延びる支持体フィルムの長手方向に対して垂直に入射させた光による輝度ＬＸを、前記帯状に延びる支持体フィルムの短手方向に対して垂直に入射させた光による輝度ＬＹで除した値が１．３以下であることを特徴とする透明導電フィルム、その製造方法、及びタッチパネル。 （もっと読む）

【課題】重荷重で打点特性および耐屈曲性に優れる透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】可撓性透明基材１上に、結晶性のインジウム・スズ複合酸化物からなる透明導電層３が形成されており、透明導電層の圧縮残留応力が０．４〜２ＧＰａである透明導電性フィルム。透明導電層３は、非晶質のインジウム・スズ複合酸化物からなる非晶質透明導電層を加熱することにより得られうる。加熱の際には透明導電層に圧縮応力が付与されることが好ましい。また、加熱による透明導電層の寸法変化は、少なくとも面内の一方向において−０．３％〜−１．５％であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】銀塩乳剤層を露光、現像処理することで透明導電膜を作製する場合において、金属銀部にキセノンランプからの光を照射しても、表示品質上の劣化等をもたらすことなく、金属銀部の低抵抗化を図ることができ、作製される透明導電膜の表面抵抗を低下させることができる透明導電膜の製造方法及び透明導電膜を提供する。
【解決手段】支持体１２上に銀塩乳剤層２４を有する感光材料を露光処理する第１露光工程と、露光後の銀塩乳剤層２４を現像処理して、支持体１２上に金属銀部１４による導電パターン１６を形成する現像工程とを有する透明導電膜１０の製造方法において、さらに、現像処理後の金属銀部１４にキセノンフラッシュランプからのパルス光を照射する第２露光工程を有し、感光材料における銀塩乳剤層２４の銀／バインダーの体積比が０．５／１以上６／１以下である。 （もっと読む）

【課題】拡散ブロッキング構造、透明導電構造及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電構造は、基板ユニット、第１のコーティングユニット、拡散ブロッキング構造、第２のコーティングユニット、第３のコーティングユニット及び導電ユニットを備える。基板ユニットは、プラスチック基板を有する。第１のコーティングユニットは、プラスチック基板上に形成された第１のコーティングを有する。拡散ブロッキング構造は、第１のコーティングに形成され、複数の第１の酸化層を有する第１の酸化ユニットと、複数の第２の酸化層を有する第２の酸化ユニットを備え、前記複数の第２の酸化層と前記複数の第１の酸化層とは交互に積層されている。第２のコーティングユニットは、拡散ブロッキング構造に形成された第２のコーティングを有する。第３のコーティングは、第２のコーティングに形成された第３のコーティングを有する。導電ユニットは、第３のコーティング上に形成された透明導電構造を有する。 （もっと読む）

【課題】酸化亜鉛系薄膜をパターニングする際のエッチングレートが充分に低く、エッチングレートを容易かつ確実に制御することが可能であり、良好なパターン形状を有するとともに導電性も高い酸化亜鉛系薄膜を得ることができるパターニング方法を提供する。
【解決手段】本発明のパターニング方法は、酸化亜鉛系薄膜を酸によりエッチングしてパターニングする方法であって、前記酸化亜鉛系薄膜が、酸化亜鉛を主成分とし、亜鉛とチタンとの合計に対するチタンの原子数比Ｔｉ／（Ｚｎ＋Ｔｉ）が０．０２を超え０．１以下の薄膜である。前記酸化亜鉛系薄膜は、実質的に亜鉛、チタンおよび酸素からなる酸化物焼結体または酸化物混合体を加工して得られるターゲットを膜形成材料として成膜されたものであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 透過率および電気伝導度を向上させるために伝導性フィルムを酸溶液で後処理する方法、およびこれを用いた伝導性フィルムを提供する。
【解決手段】本発明の伝導性フィルムの後処理方法は、（Ａ）ベース部材を提供する段階と、（Ｂ）前記ベース部材に伝導性高分子組成物をコートおよび乾燥させて伝導性フィルムを得る段階と、（Ｃ）前記伝導性フィルムを酸溶液で後処理する段階とを含んでなる。本発明によれば、伝導性フィルムを酸溶液で浸漬法またはスプレー法によって酸化させる後処理を施すことにより、伝導性高分子のバンドギャップが小さくなり、伝導性フィルムの透過率および電気伝導度が向上する。 （もっと読む）