【課題】振動腕部に設けられる溝部の断面形状の対称性を改善し、容易に製造を容易とする音叉型水晶振動素子の提供。
【解決手段】基部１１１と基部から延設する振動腕部１１２とからなる構造で振動腕部が長さ方向に溝部ＧＬを有する音叉型水晶振動素子の製造方法であって、水晶ウェハに耐食膜を成膜する耐食膜成膜工程と、感光性レジストを形成し音叉形状に感光性レジストを残しつつ溝部となる部分の感光性レジストを除去し露出する耐食膜を除去するパターニング工程と、水晶ウェハの露出する水晶部分を除去するウェットエッチング工程とを含み、パターニング工程で、溝部となる部分内の感光性レジストが溝部となる部分の長さ方向の縁部分から溝部となる部分内に斜めに突起させた状態で除去され、ウェットエッチング工程で、溝部となる部分に残された感光性レジストにより、水晶片の除去が徐々になされて溝部の断面形状を略Ｖ字形状に形成する。 （もっと読む）

【課題】振動腕部に設けられる溝部の断面形状の対称性を改善し、容易に製造を容易とする音叉型水晶振動素子の提供。
【解決手段】基部１１１と基部から延設する振動腕部１１２とからなる構造で振動腕部が長さ方向に溝部ＧＬを有する音叉型水晶振動素子の製造方法で、水晶ウェハに耐食膜成膜の耐食膜成膜工程と、感光性レジストを形成し音叉形状に感光性レジストを残しつつ溝部となる部分の感光性レジストを除去し露出する耐食膜除去のパターニング工程と、水晶ウェハの露出水晶部分除去のウェットエッチング工程とを含み、パターニング工程で、溝部となる部分内の耐蝕膜が溝部となる部分の長さ方向の縁部分から溝部となる部分内に斜めになる斜めパターン部を残した状態で除去され、ウェットエッチング工程で、斜めパターン部分も含めた溝部となる部分に残された耐蝕膜により、水晶片の除去が徐々になされて溝部の断面形状を略Ｖ字形状に形成する。 （もっと読む）

【課題】 振動腕の表裏面から股部又は溝部の基部側の端面への角度が緩やかな音叉型水晶振動片の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 音叉型水晶振動片（１０Ａ）の製造方法は水晶材に成膜された耐食膜にレジストを塗布しレジストを露光して基部（１１）と振動腕（１２Ａ）と溝部（１３Ａ）とに対応する領域を露光するフォトリソグラフィ工程と、基部と振動腕と溝部とに対応する領域の以外の耐食膜をエッチングし且つ水晶材をエッチングして音叉型水晶振動片の外形を形成する第１エッチング工程と、水晶材に残っている耐食膜およびレジストを除去する除去工程と、除去工程後に水晶材をエッチング剤に浸漬して、一対の振動腕と基部との間に形成される第１股部（１４Ａ）又は溝部の基部側の端面の少なくとも一方をエッチングする第２エッチング工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、支持腕のスプリアスと振動腕の共振周波数とを遠ざけた圧電振動片、圧電デバイスおよび圧電振動片の製造方法を提供する。
【解決手段】 圧電振動片は、圧電材料により形成された基部（１１）と、第１厚さを有し基部から所定方向に一直線に伸びる一対の振動腕（１２）と、一対の振動腕の両外側で基部から所定方向に一直線に伸び、第１厚さと異なる第２厚さの第２厚さ領域（ＡＲ１）を有する一対の支持腕（１３）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】精度よく加工することができる水晶基板のエッチング方法、この方法により外形を形成した圧電振動片、この圧電振動片を有する圧電振動子、発振器、電子機器、および電波時計を提供する。
【解決手段】水晶基板７０の第１面７０ａに、水晶基板７０と略同一のエッチングレートを有する補助基板７２が接合された状態で、水晶基板７０の第２面７０ｂ側から、水晶基板７０および補助基板７２を連続してドライエッチングすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、主面の外周に階段領域を設けた圧電振動片の製造方法を提供する。
【解決手段】 メサ型の圧電振動片の製造方法は、圧電基板に金属膜を形成する工程（Ｓ１０１）と、圧電材ウエハに貫通溝を形成して圧電基板の外形を形成する貫通溝形成工程（Ｓ１０６）と、金属膜の表面にフォトレジスト膜を形成する工程（Ｓ２０２）と、第１メサ段部の平面形状にレジストパターンを形成する工程（Ｓ２０３）と、レジストパターンに被覆されていない金属膜をエッチングして金属膜パターンを形成する工程（Ｓ２０４）と、金属膜パターンを保護膜として圧電基板をエッチングして第１メサ段部を形成する工程（Ｓ３０１）と、金属膜パターンを金属膜パターンの側面よりエッチングする工程（Ｓ３０２）と、側面がエッチングされた金属膜パターンを保護膜として圧電基板をエッチングして第２メサ段部を形成する工程（Ｓ３０４）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】振動エネルギーを閉じ込めながら厚み滑り振動させることができると共に、輪郭振動の発振を抑制すること。
【解決手段】水晶結晶のＸ軸方向に沿った側面１１の少なくとも一部が、表裏主面１０ａとのなす角度が水晶結晶のｍ面が作り出す角度を超え、且つ、１８０度未満の角度範囲内に収まる第１傾斜面１１ａとされ、この第１傾斜面が、フッ酸に、該フッ酸の粘度を高める添加剤、又は、アルコール類からなる添加剤を加えたエッチング液を利用したウェットエッチング加工により形成されている水晶振動板１０を提供する。 （もっと読む）

【課題】ＭＥＭＳデバイスの製造方法において、陽極接合の際の空気の逃げ道を確保しつつ、陽極接合に必要な電圧を小さく抑える。
【解決手段】ＭＥＭＳデバイスの製造方法は、ＳＯＩ基板を用意する工程Ｓ１と、第１シリコン層を、複数の基本パターンに分割されつつ全てがブリッジ部によって接続されて全体が一体物となった形状にパターニングする工程Ｓ２と、中間絶縁層をエッチング除去することによって上記ブリッジ部の各両側の空間を連通させる工程Ｓ３と、基材と上記ＳＯＩ基板とを貼り合わせる工程Ｓ４と、電圧を印加することによって陽極接合させる工程Ｓ５と、第２シリコン層をパターニングして高架シリコン層を形成するとともに上記ブリッジ部を露出させる工程Ｓ６と、上記高架シリコン層をマスクとして上記第１シリコン層から基礎シリコン層を形成しつつ上記ブリッジ部を除去する工程Ｓ７とを含む。 （もっと読む）

【課題】クリーニング工程後の実装工程で、圧電振動片の実装強度を確保できる圧電振動子の製造方法、圧電振動子、発振器、電子機器および電波時計を提供する。
【解決手段】実装工程Ｓ５０の前に、接合ヘッド７０の汚れを落とすクリーニング工程Ｓ４０と、クリーニング工程Ｓ４０の後に、擬似バンプＢ２が形成された擬似基板７４に接合ヘッド７０を用いて擬似圧電振動片７６を実装する擬似実装工程Ｓ４５と、を有しており、擬似実装工程Ｓ４５は、擬似圧電振動片７６の擬似バンプＢ２に対する潜り込み量Ｙ３が所定値以上になるまで繰り返し行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ウルツ鉱型結晶の面内配向薄膜の製造において、大面積で製造することができ、且つ装置に要するコストを抑えることができる方法及び装置を提供する。
【解決手段】真空容器１１内にプラズマ生成ガスを導入し、真空容器１１内に配置されたウルツ鉱型結晶のターゲットＴをスパッタすることによる生成されたスパッタ粒子をターゲットＴに対向して真空容器１１内に配置された基板ホルダ１５に取り付けられた基板Ｓに堆積させることにより薄膜を製造する際に、基板ホルダ１５と真空容器１１の壁の間に高周波電圧を印加する。これにより、基板Ｓの表面においてプラズマシースが形成され、プラズマ生成ガスが電離して生じる陽イオンの量を増加させると共に、このプラズマシースによって陽イオンが加速され、十分なエネルギーをもって成膜中の薄膜に入射するため、ウルツ鉱型結晶の最密面が基板に平行に成長しにくくなる。その結果、全体としてウルツ鉱型結晶のc軸が面内方向に配向した面内配向薄膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】小型化された圧電振動片にも対応でき、２次振動モードなどの高調波振動モードでの発振を確実に抑制できる圧電振動片を提供する。
【解決手段】圧電振動片は、基部１０と、基部１０から延びる一対の振動腕１１，１２と、振動腕１１，１２に形成されている励振電極１４ａ，１４ｂと、振動腕１１，１２の基部１０との接続部であり、屈曲振動により屈曲する第１屈曲部２１と、第１屈曲部２１より振動腕１１，１２の先端側であり、２次振動モードで屈曲する第２屈曲部２２と、を有し、第２屈曲部２２の少なくとも一部に、第２屈曲部２２の周囲とは組織構造の異なる変質部３０が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】容易に周波数調整が可能な振動片の構成を提供する。
【解決手段】基部１５と、基部１５から延びる面外振動をする振動腕１１，１２，１３と、振動腕１１，１２，１３の共振周波数を調整する第１質量部５１，５２，５３と、を有し、第１質量部５１，５２，５３は振動腕１１，１２，１３の面外振動により圧縮または伸長する第１面と、第１面が圧縮した時に伸長し第１面が伸長した時に圧縮する第２面とを有し、第１質量部５１，５２，５３は第１面および第２面の少なくとも一方の面であって、振動腕１１，１２，１３の基部１５側の端部から先端部までの長さの略中心に形成されている。 （もっと読む）

【課題】 ディスペンサにより導電性接着剤を塗布した場合に、導電性接着剤の滴下量と滴下位置にばらつきがあっても、圧電素子の電極と導電性接着剤が接触する位置が一定で、接触面積も一定となるような取り付け構造を提供することを課題とする。
【解決手段】 圧電振動子は、凹部１４−１，１４−２を有するパッケージ１２と、突起電極３２−１，３２−２を有する圧電素子３０と、凹部内に収容された導電性接着剤１６とを含む。突起電極３２−１，３２−２は凹部１４−１，１４−２内の導電性接着剤１６中に埋め込まれて固定されている。 （もっと読む）

【課題】ゲッタリング工程時の接合膜の飛散を抑制し、良好な電気的特性が得られる圧電振動子の製造方法と、良好な電気的特性が得られる圧電振動子を搭載した発振器、電子機器及び電波時計を提供する。
【解決手段】ベース基板２の外側からベース基板２を貫通して、ゲッター材３４に第１レーザＬ１を照射し、ゲッター材３４を活性化させてキャビティＣ内に存在する気体を吸着するゲッタリング工程Ｓ８０と、ベース基板２の外側からベース基板２を貫通して、圧電振動片４の振動腕部１０，１１の先端に形成された重り金属膜２１に第２レーザＬ２を照射し、圧電振動片４の周波数を調整する周波数調整工程Ｓ９０と、を有しており、ゲッタリング工程Ｓ８０における第１レーザＬ１の強度は、周波数調整工程Ｓ９０における第２レーザＬ２の強度よりも弱いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】金属膜を保護膜として水晶基板をエッチングし複数の水晶片を形成する水晶基板において、板厚が薄い高周波のものでも製造が容易で、個片を簡単に分離可能な水晶片集合体を提供することを目的とする。
【解決手段】水晶のＸ軸（電気軸）に対して平行で且つＺ軸（光軸）に対して傾斜したカット面を有する水晶基板であって、前記水晶基板の表面の前記Ｘ軸と直交する方向に延設されたフレーム部と、前記フレーム部に沿って形成された複数の水晶片と、前記フレーム部から前記Ｘ軸と平行な方向に延設された第１アーム部と、前記第１アーム部の端部から前記Ｘ軸と平行な方向に延設され前記水晶片に接続された第２アーム部とを備え、前記第２アーム部は前記第１アーム部より細幅であることを特徴とする水晶片集合体。 （もっと読む）

【課題】 テラヘルツ発振器用ＭＥＭＳ素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 ビア・エッチングホール・パターンと第１非ビア・エッチングホール・パターンとが形成された第１基板と、第１基板のビア・エッチングホール・パターンに対応する位置に同じ第２非ビア・エッチングホール・パターンが形成された第２基板とを接合して設けられたＭＥＭＳ素子であり、また、第１基板と第２基板とが接合されたものを第１構造体とし、該第１構造体と、該第１構造体と同じ構造の第２構造体とを互いに接合するＭＥＭＳ素子である。 （もっと読む）

【課題】優れた特性を有し、且つ製造が容易で歩留りの高い、安価で小型化された圧電薄膜共振子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板１１の第１の面上に形成された圧電薄膜１２と、該圧電薄膜１４を挟むように形成された下部電極１３及び上部電極１４とを有する圧電薄膜共振子１Ａであって、前記圧電薄膜１２が窒化アルミニウムで形成され、前記上部電極１４及び下部電極１３はそれぞれルテニウム又はルテニウム合金の層を含み、前記下部電極１３には、その下に形成された空隙１５に全体が露出しているとともに、前記下部電極より柔らかい材料による薄膜層１６が形成されていることを特徴とする圧電薄膜共振子。 （もっと読む）

【課題】エレクトレットを備える音響共振器、および前記共振器を製造する方法、切り替え可能な結合共振器フィルターへの応用を提供すること。
【解決手段】共振器は、少なくとも１つの圧電層（３０）と、この層の両側にある電極（２４、２６）と、永久電界を圧電層に印加するための電極間の少なくとも１つのエレクトレット層（３２）とを備える。この電界の強度は、所望の値だけ共振器の共振周波数をシフトするように決定される。圧電層は、電荷を含み、それ自体エレクトレット層を構成することができる。 （もっと読む）

【課題】圧電ウエハの表面に対して垂直なエッチング面を短時間で形成する圧電ウエハのエッチング加工方法を提供する。
【解決手段】圧電ウエハのエッチング加工方法は、圧電ウエハの一方の面１２および他方の面１４に開口部１６を有するマスク１８を形成し、前記開口部１６をエッチングして貫通溝を形成するものである。そして前記一方の面１２に形成され前記開口部１６に隣接する前記マスク１８におけるＺ’軸方向の端部を、前記他方の面１４に形成され前記開口部１６に隣接する前記マスク１８におけるＺ’軸方向の端部に対して、前記圧電ウエハの＋Ｚ’方向に前記圧電ウエハの板厚の５０±１０％ずらしている。 （もっと読む）

【課題】加工精度が良く高品質の振動片の提供。
【解決手段】本発明は、シリコンで形成される基部１と、シリコンで形成され基部１の左側面１３に一体に接続される振動部２と、振動部２などに形成される電極と、を備えている。振動部２は、３つの振動腕部片２１〜２３からなる。その振動腕部片２１〜２３のそれぞれは、面方位（１１１）面からなる上面と、その上面と対向し面方位（１１１）面からなる下面と、を有する。 （もっと読む）