【課題】ウエハの研磨を適切に行なうことで圧電振動片の信頼性を向上させる。
【解決手段】研磨装置１５０を、水晶ウエハ１５５に接触する上定盤１５１の表面状態と、水晶ウエハ１５５に接触する下定盤１５２の表面状態とが異なるように、かつ、下定盤１５２による水晶ウエハ１５５の研磨量が上定盤１５１による水晶ウエハ１５１の研磨量よりも大きくなるように構成する。上定盤１５１の表面を研磨布１５８により覆い、該研磨布１５８を介して上定盤１５１を水晶ウエハ１５５に接触させ、下定盤１５２を砥石により構成される砥石定盤とする。研磨時に、上定盤１５１および下定盤５２と、水晶ウエハ１５５との間に、水（研削水）のみを供給し、研磨剤の供給を禁止している。 （もっと読む）

【課題】圧電薄膜の分離面の欠陥層を選択的にエッチングして平坦化し、均一な膜厚の圧電薄膜を得る圧電デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】まず、圧電単結晶基板１の表面１２側から水素イオンを注入することで、圧電単結晶基板１にイオン注入部分１００を形成する。次に、支持基板５０を圧電単結晶基板１に接合する。そして、圧電単結晶基板１と支持基板５０との接合体を加熱し、イオン注入部分１００を分離面とした分離を行う。ここで、支持基板５０に形成された圧電薄膜１０をアニールする。そして、圧電薄膜１０の分離面における欠陥層１３を選択的にエッチングして結晶層１１を露出させることで、圧電薄膜１０の分離面を平坦化する。 （もっと読む）

【課題】成長基板を設けるステップと、成長基板上にＩＩＩ族窒化物のエピタキシャル層を成長させるステップを有するバルク音響波デバイスの作製方法を提供する。
【解決手段】第１の電極１６をエピタキシャル層１４上に堆積させる。キャリア基板１８を設け、成長基板１２とエピタキシャル層１４と第１の金属電極１６の組合せをキャリア基板１８上にフリップチップ実装する。成長基板１２を除去し、第２の電極をエピタキシャル層１４上に堆積させて、エピタキシャル層１４が第１の金属電極１６と第２の金属電極の間には挟まれるようにする。バルク音響波デバイス１０は、第１の金属電極１６及び第２の金属電極と、第１の金属電極１６と第２の金属電極の間に挟まれたＩＩＩ族窒化物のエピタキシャル層１４とを備えている。キャリア基板１８を備え、第１の金属電極１６及び第２の金属電極ならびにエピタキシャル層１４がキャリア基板１８上に位置している。 （もっと読む）

【課題】数μｍ以下の厚みの非常に薄い水晶薄膜を安定して製造できる水晶デバイスの製造方法、及びこの製造方法で製造した水晶デバイスを提供する。
【解決手段】水晶単結晶基板１に水素イオンを注入して、表面１Ａから一定深さの部分をアモルファス化させて、水晶単結晶基板１内にアモルファス層１３Ａ〜１３Ｃを形成する。アモルファス層を形成する深さは、イオンや原子の注入条件（注入エネルギーやドーズ量）により決まり、注入条件に応じて１μｍ〜数μｍの深さにばらつきのない平坦な層が形成される。アモルファス層の側面が露出するように、表面１Ａから複数の溝１４Ａ〜１４Ｄを形成し、これらの溝にエッチング液を導入してエッチングを行う。水晶のアモルファスは、水晶結晶よりもエッチング速度が速いので、エッチングによりアモルファス層１３Ａ〜１３Ｃを除去することで、水晶単結晶基板１から水晶薄膜１５Ａ〜１５Ｃが分離される。 （もっと読む）

【課題】小型化を実現することのできる圧電デバイスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る圧電デバイス１００は、下側基板３０および上側基板２０と、それらに挟まれている中間基板１０とを含む圧電デバイスであって、中間基板は、圧電振動部１１と、圧電振動部の周囲を囲む枠部１２と、圧電振動部と枠部とを接続する接続部１５と、圧電振動部の上面に設けられた第１の励振電極１３と、圧電振動部の下面に設けられた第２の励振電極１４と、を有し、下側基板は、その下面に設けられた第１の外部端子３２および第２の外部端子３４を有し、当該圧電デバイスは、上側基板の下面において、接続部の上方から、当該接続部から最も離れた側面に沿った位置まで延び、かつ位置から当該側面を通ることにより、第１の励振電極と第１の外部端子とを電気的に接続する第１の配線２３ｃ、ｄをさらに含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、主面の外周に階段領域を設けた圧電振動片の製造方法を提供する。
【解決手段】 メサ型の圧電振動片の製造方法は、圧電基板に金属膜を形成する工程（Ｓ１０１）と、圧電材ウエハに貫通溝を形成して圧電基板の外形を形成する貫通溝形成工程（Ｓ１０６）と、金属膜の表面にフォトレジスト膜を形成する工程（Ｓ２０２）と、第１メサ段部の平面形状にレジストパターンを形成する工程（Ｓ２０３）と、レジストパターンに被覆されていない金属膜をエッチングして金属膜パターンを形成する工程（Ｓ２０４）と、金属膜パターンを保護膜として圧電基板をエッチングして第１メサ段部を形成する工程（Ｓ３０１）と、金属膜パターンを金属膜パターンの側面よりエッチングする工程（Ｓ３０２）と、側面がエッチングされた金属膜パターンを保護膜として圧電基板をエッチングして第２メサ段部を形成する工程（Ｓ３０４）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】角型ウエハにマスク材膜を成膜する際の膜厚のムラを抑制できる圧電振動片の製造方法、圧電振動片の製造装置、圧電振動片、この圧電振動片を備えた圧電振動子、発振器、電子機器、および電波時計を提供する。
【解決手段】スピンコート法により成膜するフォトレジスト膜成膜工程（マスク材膜成膜工程）を有し、整流板８８の上面８８ａには、同心円状の複数の溝部９０と、各溝部９０の径方向において隣接する複数の壁部９５と、が形成されており、複数の溝部９０のうち第１溝部９１の外側面９１ａの直径は、回転中心Ｋから角型ウエハ６５の外縁６６までの最長距離αよりも小径であって、回転中心Ｋから角型ウエハ６５の外縁６６までの最短距離βよりも大径に形成され、複数の溝部９０のうち第２溝部９２の外側面９２ａの直径は、回転中心Ｋから角型ウエハ６５の外縁６６までの最短距離βよりも小径に形成されていることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】被検体の表面から反射光が得られないような場合であっても、被検体の表面性状を確実に測定でき、歩留まり及び製造効率の向上を図ることができる表面性状評価方法を提供する。
【解決手段】ウエハＷをセットしていない状態において、第１参照平面５６で反射された第１参照光と、ウエハＷをセットした状態において、ウエハＷを透過して後に第１参照平面５６で反射された被検光と、に基づいてウエハＷの表面性状を評価することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ウエハ状態で隣り合った圧電発振器からの影響を与えず実装端子を介して圧電発振器の発振状態を正確に測定できる圧電発振器を提供することを目的とする。
【解決手段】 圧電発振器（１００）は圧電振動片（１０）と、回路端子（１３１ａ〜１３１ｄ）を有する電子回路素子（１３）と、複数の実装端子（１２５ａ〜１２５ｄ）が形成された実装面と実装面と接合面と第１キャスタレーション（１２２ａ、１２２ｃ、１２２ｅ、１２２ｇ）及び第２キャスタレーション（１２２ｂ、１２２ｄ、１２２ｆ、１２２ｈ）とを有するベース部と、を備える。第１キャスタレーションには回路端子と実装端子とを導電させる第１側面電極（１２３ａ、１２３ｃ、１２３ｅ、１２３ｇ）が形成され、第２キャスタレーションには回路端子及び実装端子と絶縁されている第２側面電極（１２３ｂ、１２３ｄ、１２３ｆ、１２３ｈ）が形成される。 （もっと読む）

【課題】 素子搭載部材の枠部の内周縁部から外周縁部までの幅のバラツキを低減し、安定して気密封止することができる圧電デバイス用シート基板を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明の圧電デバイス用シート基板は、凹部空間を有する素子搭載部材となる部分が複数設けられ、隣り合う素子搭載部材となる部分の間に余剰部が設けられた圧電デバイス用シート基板であって、素子搭載部材の角部と、前記余剰部とを含めて円柱状の第１の凹部が設けられていることを特徴とするものである。よって、素子搭載部材を個片化する際に、枠部の内周縁部から外周縁部までの幅のバラツキを低減することで、蓋部材が枠部主面と接合できない箇所ができることを低減することができる。 （もっと読む）

【課題】被処理体のエッチング量をより正確に把握することが可能なエッチング装置及びエッチング方法を提供する。
【解決手段】処理槽１１では、ＡＴカットの水晶からなる被処理体９をエッチング溶液でエッチングする処理が行われ、ＡＴカットの水晶片３１の両面に互いに対向するように励振電極３２、３３を設けると共に、これらの面の少なくとも一部に露出領域を設けたエッチングセンサ３は、この露出領域の水晶がエッチングされるように前記処理槽１１に配置される。発振回路２２は、このエッチングセンサ３の励振電極３２、３３に接続され、前記露出領域の水晶片の厚さに対応する周波数信号を取得し、演算部４は発振回路２２から取得した周波数信号の周波数の変化に基づき、前記処理槽１１内の被処理体９のエッチング量を算出する。 （もっと読む）

【課題】水晶デバイスの漏れ振動量測定工程での測定不良を即座に検知することで、測定不良の水晶振動子を後工程に物流させることを無くして不良発生を抑え、生産性を向上させる。
【解決手段】水晶ウェハ上に複数の水晶振動子を形成した後、各水晶振動子の漏れ振動の量を測定する工程を有する水晶デバイスの製造方法において、水晶ウェハに、第１の水晶振動子群と、第１の水晶振動子群より漏れ振動量が所定量多い第２の水晶振動子群とを形成し、第１の水晶振動子群の漏れ振動量の測定結果と第２の水晶振動子群の漏れ振動量の測定結果との差が、所定量以上であるとき、各水晶振動子の漏れ振動の量が正しく測定できたと判断する。第２の水晶振動子群の各水晶振動子は、上面のマスク層パターンの振動脚に応じた箇所と下面のマスク層パターンの振動脚に応じた箇所とが、所定量位置ずれさせることで形成される。 （もっと読む）

【課題】基板側の電極表面と振動部材の下面とが十分に狭い間隙で対向した構造を有し、ねじり振動を利用するＭＥＭＳデバイスを容易に製造する。
【解決手段】ＭＥＭＳデバイスの製造方法は、基材と、浮き構造体と、浮き構造体の一部の領域に対して離隔対向するかさ上げ対向部とを備える、ＭＥＭＳデバイスを製造する方法であって、ＳＯＩ基板を用意する工程Ｓ１と、第１シリコン層をパターニングすることによって、かさ上げ対向部、支持梁部などを形成する工程Ｓ２と、第１領域を厚み方向の途中までエッチング除去する工程Ｓ３と、中間絶縁層の少なくとも一部をエッチングしてかさ上げ対向部と第２シリコン層との間の接続を断つ工程Ｓ４と、基材を貼り付ける工程Ｓ５と、第２シリコン層をパターニングすることによって浮き構造体を形成するとともに、かさ上げ対向部を外枠部から分離させる工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】マスク材膜を成膜する際の膜厚のムラを抑制できる圧電振動片の製造方法、圧電振動片の製造装置、圧電振動片、この圧電振動片を備えた圧電振動子、発振器、電子機器、および電波時計を提供する。
【解決手段】ウエハ６５の第１面６５ａに、フォトレジスト材８５をスピンコート法により成膜するフォトレジスト膜成膜工程（マスク材膜成膜工程）を有し、フォトレジスト膜成膜工程は、ウエハ６５の周方向にウエハ６５を回転させて行い、スピンチャック７０は、ウエハ保持部７２の下面７２ｂに、スピンチャック７０の径方向に沿って放射状に延在し、スピンチャック７０の回転時にウエハ保持部７２の下面７２ｂから下方に向かって下降気流Ｄを発生するフィン７５を備えたことを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】振動素子のチューニングの際に用いるレーザー光による半導体基板の能動領域へのダメージを抑制し、電気的特性の安定した振動デバイスを提供する。
【解決手段】センサーデバイス１において、半導体基板としてのシリコン基板１０は、能動面１０ａ側に半導体素子を含んで構成される集積回路が形成された能動領域を有している。シリコン基板１０上に振動ジャイロ素子２０が配置されたセンサーデバイス１において、能動領域は、振動ジャイロ素子２０の駆動用振動腕２５ａ，２５ｂの先端側の錘部２８ａ，２８ｂ上に設けられた質量調整部としての錘電極４１と平面視で重なる領域を回避して形成されている。これにより、錘電極４１にレーザーを照射して周波数調整を行う際に、レーザーが能動面１０ａに到達したときに集積回路にダメージが加わるのを回避することができる。 （もっと読む）

【課題】製造工数の増加、製造効率の低下、及び振動特性の変動を抑制した上で、圧電板上に被膜パターンをムラなく形成できる圧電振動片の製造方法、圧電振動片、圧電振動子、発振器、電子機器及び電波時計を提供する。
【解決手段】フォトレジスト膜形成工程は、ウエハＳ上の金属膜４３に向けて気流を発生させてフォトレジスト材を噴霧する噴霧器７３と、ワークステージ７２及びウエハＳ間に配置された複数のスペーサ７４と、、を有する形成装置７１を用いて行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 高精度なチップへと切り出しが可能な水晶振動子の製造方法を提供することである。
【解決手段】 水晶振動子の製造方法であって、所定厚みの水晶板を準備する水晶板準備ステップと、準備した該水晶板の厚みと所望の周波数を発振するための水晶振動子チップの体積とに基づいて、切り出すべき水晶振動子チップの寸法を算出する寸法算出ステップと、該寸法算出ステップで算出した寸法に基づいて、該水晶板に対して透過性を有する波長のレーザビームをその集光点を該水晶板の内部に位置付けて照射して該水晶板内部に改質層を形成する改質層形成ステップと、該改質層形成ステップを実施した後、該水晶板に外力を付与して個々の水晶振動子チップへと分割する分割ステップと、を具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】環境に優しく、実用に耐える圧電特性を維持しつつ生産性に優れたＫ_ｘＮａ_{（１−ｘ）}Ｎｂ０_３を母材とした圧電材料を提供する。
【解決手段】焼結体からなる圧電材料であって、一般式Ｋ_ｘＮａ_{（１−ｘ）}Ｎｂ０_３で表されるとともに０．０２≦ｘ≦０．５である化合物に、ＺｎＯを最も多く含むＺｎ系ガラスと、Ｆｅ_２Ｏ_３とが添加されてなる圧電材料とした。より好ましくは、前記Ｚｎ系ガラスと前記Ｆｅ_２Ｏ_３が、ともに０ｗｔ％よりも多く、１．０ｗｔ％以下の質量比で添加されている圧電材料とすることである。 （もっと読む）

【課題】高精度に水晶振動子の外形パターンを形成する水晶振動子の製造方法を提供する。
【解決手段】水晶ウェハ１の主表面に耐蝕膜３を成膜する工程と、第一主表面の耐蝕膜３上に第一レジスト４ａを、第二主表面の耐蝕膜上に第二レジスト４ｂを塗布する工程と、第一主表面の製品領域外に、アライメントマーク５を露光する工程と、第一レジスト４ａを現像し、耐蝕膜３を露出させ、アライメントマーク５を形成する工程と、形成したアライメントマーク５を用いて第一主表面に水晶振動子の外形パターンを露光する工程と、前記アライメントマーク５を用いて第二主表面に水晶振動子の外形パターンを露光する工程と、第一レジストと第二レジストとを同条件で現像する工程とする。 （もっと読む）

【課題】優れたデバイス特性を有する弾性波デバイスを、優れた生産性で容易に製造することが可能な弾性波デバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、第１支持基板１２の上面に圧電基板１０を接合する工程と、圧電基板１０を接合する工程の後に圧電基板１０を薄層化させて圧電層１４を形成する工程と、圧電層１４の上面に第１電極１６を形成する工程と、第１支持基板１２に第１電極１６の下方に位置する孔部２２を形成する工程と、孔部２２を形成する工程の後に第１支持基板１２の下面に第２支持基板２４を接合する工程と、を有する弾性波デバイスの製造方法である。 （もっと読む）