【課題】基板上に塗布膜を効率よく形成し、基板処理のスループットを向上させる。
【解決手段】ウェハ処理装置において、ウェハＷの表面Ｗ_１に紫外線を照射し、当該表面Ｗ_１を洗浄する（図１８（ａ））。その後、ウェハＷの表面Ｗ_１全面に密着剤Ｂを塗布し（図１８（ｂ））、当該密着剤Ｂを焼成した後（図１８（ｃ））、密着剤Ｂをリンスして、ウェハＷ上に密着膜Ｂ_Ｆを成膜する（図１８（ｄ））。その後、ウェハＷの密着膜Ｂ_Ｆ上に光重合開始剤を有するレジスト液Ｒを塗布する（図１８（ｅ））。その後、ウェハＷ上のレジスト液Ｒに所定の光量の紫外線を照射し、当該レジスト液Ｒを、ウェハＷ上で拡散せず、且つ凝集しないような流動性を有する半硬化状態にする。そして、ウェハＷ上に半硬化状態のレジスト膜Ｒ_Ｆを成膜する（図１８（ｆ））。 （もっと読む）

【課題】装置の小型化及び低価格化に寄与できる印刷装置を提供する。
【解決手段】基材１に対して所定のパターンを印刷する印刷部と、パターンが印刷された基材が収納される収納部１２と、パターンが印刷された基材を収納部に搬入する搬入部１３０と、搬入部による基材の収納部への搬入中に、基材に印刷されたパターンの検査を行う検査部１３３とを備える。 （もっと読む）

【課題】視認性が高く微細なパターンを形成することができるパターン形成装置及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】液滴を基材上に吐出する吐出部と、前記基材上に吐出された前記液滴を固化させる固化部と、前記吐出部を用いて前記液滴を基材上に吐出させる第一吐出動作、前記固化部を用いて前記液滴を固化させて第一層を形成する第一層形成動作、前記第一層の形状に関する情報に応じて前記第一層上に前記液滴を重ねて吐出させる第二吐出動作、前記固化部を用いて前記液滴を固化させて第二層を形成する第二固化動作、を行わせる制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】液状体が配置された被描画媒体の適切な位置に適切な量の硬化光を照射できるインクジェット描画装置、及びインクジェット描画装置の制御方法を提供する。
【解決手段】インクジェット描画装置は、光硬化型の液状体を吐出する吐出ノズルを備え、媒体保持手段に保持された被描画媒体に向けて液状体を吐出する吐出ヘッドと、液状体の硬化光を、被描画媒体に照射する硬化光照射手段と、吐出ヘッドと硬化光照射手段とを保持するヘッド保持手段と、被描画媒体と吐出ヘッドとを相対移動させるとともに、吐出ヘッドから液状体を吐出して被描画媒体に着弾させる吐出走査の吐出走査方向に、ヘッド保持手段と媒体保持手段とを相対移動させる相対走査手段と、吐出ヘッドを制御する吐出制御手段と、硬化光照射手段を制御する硬化光照射制御手段と、を備え、硬化光照射制御手段は、吐出制御手段が発信する吐出制御信号に基づいて、硬化光照射手段を制御する。 （もっと読む）

【課題】
使用により紫外線照射装置から熱が発生した場合でも、紫外線照射モジュールの反りを抑制し、紫外線照射領域の縮小や紫外線の焦点のずれ等が少ない光照射モジュールを提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明の光照射装置は、複数の光照射デバイスと、放熱部材とを備えており、該放熱部材は、前記複数の光照射デバイスのそれぞれに対応した、該光照射デバイスに固定された複数の第１の放熱部材と、該複数の第１の放熱部材を共通に支持する第２の放熱部材とを有するため、紫外線照射モジュールの反りを比較的小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】液状体が配置された被描画媒体の適切な位置に適切な量の硬化光を照射できるインクジェット描画装置、及びインクジェット描画装置の制御方法を提供する。
【解決手段】インクジェット描画装置は、媒体保持手段に保持された被描画媒体に向けて、液状体を吐出する吐出ヘッドと、液状体の硬化光を被描画媒体に照射する硬化光照射手段と、吐出ヘッドと硬化光照射手段とを保持するヘッド保持手段と、被描画媒体と吐出ヘッドとを相対移動させるとともに、吐出ヘッドから液状体を吐出して被描画媒体に着弾させる吐出走査における吐出走査方向に、ヘッド保持手段と媒体保持手段とを相対移動させる相対走査手段と、相対走査手段を制御する相対走査制御手段と、硬化光照射手段を制御する硬化光照射制御手段と、を備え、硬化光照射制御手段は、相対走査制御手段が発信する走査制御信号に基づいて、硬化光照射手段を制御する。 （もっと読む）

【課題】液状体が配置された被描画媒体の適切な位置に適切な量の硬化光を照射できるインクジェット描画装置、及びインクジェット描画装置の制御方法を提供する。
【解決手段】インクジェット描画装置は、光硬化型の液状体を、媒体保持手段に保持された被描画媒体に向けて吐出する吐出ヘッドと、液状体の硬化光を被描画媒体に向けて射出する硬化光射出手段と、吐出ヘッド及び硬化光射出手段を保持するヘッド保持手段と、被描画媒体と吐出ヘッドとを相対移動させるとともに、吐出ヘッドから液状体を吐出して被描画媒体に着弾させる吐出走査における吐出走査方向にヘッド保持手段と媒体保持手段とを相対移動させる相対走査手段と、相対走査手段の駆動源の出力を検出する駆動出力検出手段と、硬化光射出手段を制御する硬化光射出制御手段と、を備え、硬化光射出制御手段は、駆動出力検出手段の検出結果に基づいて、硬化光射出手段を制御する。 （もっと読む）

【課題】
ディスペンサ自体を減圧下にさらすことなく、減圧雰囲気下で液状材料をディスペンスしてボイドを抑制する。
【解決手段】
ステージ２０上に対象物１０が設置された後、ステージ２０上にチャンバ３０が設置される。チャンバ３０は、液状材料５０を格納したキャピラリ３３を有する。チャンバ３０とステージ２０との間に第１の密封空間４０が形成される。また、蓋材６０がチャンバ３０上に設置され、チャンバの吐出部３３に格納された液状材料５０と蓋材６０との間に、第２の密封空間４５が形成される。さらに、第１の密封空間４０を減圧することにより、吐出部３３から対象物１０上に液状材料５０が吐出される。その後、チャンバ３０内は大気に開放され、仮に発生していた場合であってもボイドの縮小が達成される。 （もっと読む）

【課題】基板表面に光硬化性材料を含む塗布液を塗布して光照射することで基板上にパターンを形成するパターン形成技術において、ノズル周辺での塗布液の固着を防止し、しかも、塗布された塗布液に確実に光を照射して硬化させることのできる技術を提供する。
【解決手段】基板Ｗの表面Ｗｆに沿って走査移動方向Ｄｓに移動するノズルＮから、光硬化性材料を含む塗布液を吐出させるとともに、ノズルＮに追随するように移動させた光出射部Ｅから光（例えばＵＶ光）を塗布液に照射する。塗布終了位置に到達するとノズルＮからの塗布液の吐出を停止するとともにノズルＮを基板表面Ｗｆから離間する方向に退避させる。一方、光照射部Ｅについては走査移動方向Ｄｓへの移動を継続することにより、塗布液の終端部にまで確実に光照射を行う。 （もっと読む）

【課題】前処理に用いる光照射部の光量を簡便な構成で効率的に測定することができる印刷装置を提供する。
【解決手段】基材上に液体の液滴を吐出する吐出ヘッドと、吐出ヘッドの液滴吐出動作に先立ち、基材の表面に活性光線を照射して基材の表面に対する所定の処理を行う処理部９と、を備えた印刷装置に関する。処理部９は、同一面内における一方向に沿って配列されて活性光線を照射する複数の照射部３２ａと、複数の照射部３２ａの光量を測定する光量測定部３５と、光量測定部３５を複数の照射部３２ａに対して昇降可能とする昇降機構３６と、を有する。 （もっと読む）