【課題】 部品洗浄加熱器ポンプモジュールの提供。
【解決手段】 部品洗浄機は、洗浄液中に懸濁する金属粒子を回収するためにポンプ入口近くに配置された磁石と、取扱時に衝撃からポンプ機構を保護するケーシングと、一連の垂直層内での洗浄液の分離をうまく行う水平配向されたポンプと、貯留槽内の洗浄液の液位を計測する二つの液位センサーと、洗浄液の蒸発分を制限するために貯留槽と容器との境界部に位置する蒸発制限板と、衝撃から装置を保護するために制御部の操作部の隣りに設置された保護ハンドルバーと、可変調整器なしのポンプを使用して洗浄液の流量を低流量にできるポンプモーター制御装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】移動の際に洗浄液が飛散しにくく設置スペースが狭いノズル洗浄装置、および当該ノズル洗浄装置を備える電子部品実装機を提供することを課題とする。
【解決手段】ノズル洗浄装置５は、洗浄液Ｌが貯留される洗浄槽６００を有しノズル８の被洗浄部８２を洗浄する洗浄部６０と、洗浄部６０の上方に配置され洗浄後の被洗浄部８２に気体Ｇを吹き付けることにより、被洗浄部８２を乾燥させる乾燥部６１と、洗浄部６０と乾燥部６１との間に配置され、洗浄部６０と乾燥部６１とを連通、遮断可能に仕切るシャッター６２０を有するシャッター部６２と、を有する装置本体６を備える。洗浄モードにおいてはシャッター６２０を開け被洗浄部８２を洗浄し、乾燥モードにおいてはシャッター６２０を閉じ被洗浄部８２を乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】溶剤蒸気の流出や引火の危険を減少し洗浄効率の良い迅速な洗浄作業を可能にする。複数の洗浄部を設けて同時に被洗浄物を挿入したり複数の洗浄部を順次移動しながら異なる洗浄作業を被洗浄物に加える。この復数の洗浄部を個々に密閉可能にするとともに被洗浄物の外部への出入口を一個とし、溶剤蒸気の外部への流出を極度に減少させる。
【解決手段】蓋体２にて密閉可能な出入口３を上端に設けた基準室１を設ける。この基準室１の外周に基準室１との連通および遮断を可能にした側室８、９を設ける。前記基準室１に被洗浄物７を出入する上下搬送機構５と、被洗浄物７を側室８、９内に搬入または基準室１に搬出可能とした水平搬送機構１１，１２とを設ける。この水平搬送機構１１、１２に接続し、側室８、９と基準室１との連通または遮断を可能とした遮断壁２６、２７とから成る被洗浄物の洗浄装置である。 （もっと読む）

【課題】不純物を確実に除去して優れた洗浄効果を得るとともに、作業性を向上させることのできる多結晶シリコンの洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄槽２の洗浄室２１〜２５内に、異なる勾配の載置面６１を有する支持台６が複数配設され、バスケット３は、その両側部に、吊り上げ機４２により係止される突出部３５がバスケット３の幅方向外方に突出し、かつ、長さ方向に間隔をあけて相互に平行に一対ずつ設けられてなり、支持台６は、その両側部に、載置面６１にバスケット３を載置する際に、一対の突出部３５の間に配置され、支持台６の載置面６１よりも上方に突出する一対のガイドフレーム７が上下方向に沿って立設されている。 （もっと読む）

【課題】除染に要する時間を短縮することができる化学除染方法を提供する。
【解決手段】構成部材の表面にフェライト皮膜を形成した後、原子力プラントの運転を開始する。１つの運転サイクルにおける運転が終了したとき、原子力プラントの運転を停止し、原子力プラントの定期検査を実施する。この定期検査の期間中で、表面にフェライト皮膜を形成したその構成部材を対象に化学除染を実施する。この化学除染において、還元除染液（シュウ酸溶液）を使用する還元除染工程において、構成部材の表面に形成されて放射性核種が付着しているフェライト皮膜を除去する。この構成部材に対しては、酸化除染液を使用する酸化除染工程を実施しない。酸化除染工程を実施しないので、化学除染に要する時間を短縮できる。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物の蒸気洗浄方法及びその装置に係るもので、被洗浄物の蒸気洗浄に於いて、溶剤ガスの外部への流出を減少し環境に与える影響が少ない安全な蒸気洗浄を可能とするとともに溶剤の消費を減少し廉価な蒸気洗浄を可能にしようとするものである。
【解決手段】洗浄液２の上部に、被洗浄物７の蒸気洗浄を行う蒸気層５を蒸気発生部１１に接続して設け、この蒸気層５の厚みを、被洗浄物７の上下移動方向に於ける最大直径よりも小さい直径とすると共に、この被洗浄物７を洗浄液２側から上部側に蒸気層５を通過させながら、蒸気を被洗浄物７に接触して凝縮させることにより蒸気洗浄を行うものである。 （もっと読む）

【課題】処理対象基板を良好に迅速に基板処理溶液で処理することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１００は、溶液保持容器１３０に収容されている基板処理溶液ＴＬに処理対象基板ＰＢが浸漬される。このような溶液保持容器１３０に溶液供給機構１４１が基板処理溶液ＴＬを上方から下方に落下させて順次供給する。このように上方から下方に落下する基板処理溶液ＴＬを溶液乱流機構１４２が処理対象基板ＰＢの一面の基板処理領域ＴＳに圧送する。このため、処理対象基板ＰＢの一面の基板処理領域ＴＳは基板処理溶液ＴＬが単純に上方から下方へ落下するだけではなく、乱流となって圧送されることになる。 （もっと読む）

【課題】 構造が簡易でメンテナンス作業も容易な超音波洗浄システムを提供する。
【解決手段】 超音波洗浄槽１１内の液体に洗浄容器２０の一部が接触し得るように支持する容器支持部材としてのローラ部材１３，１４を超音波洗浄槽１１外に備えてなる。従って、洗浄容器２０をローラ部材１３，１４に支持させた状態で回転させると、超音波洗浄槽１１内の液体を介して洗浄容器２０内に超音波が照射され、洗浄容器２０内の被洗浄物の汚れを除去することができる。本発明によれば、ローラ部材１３，１４が超音波洗浄槽１１外に配置されているため、ローラ部材１３，１４のシール対策は簡易でよく、メンテナンス作業も容易で、製造コスト、メンテナンスコストの低減に寄与する。 （もっと読む）

【課題】基板の洗浄処理を効率よく行うことができ、設置スペースを小さくすることができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】供給台３０と、回収台３６と、供給台３０から回収台３６までの搬送経路に沿って配置され、基板を洗浄する一連の洗浄処理工程を行う複数個の洗浄処理槽２２，２４，２６と、互いに隣接する洗浄処理槽２２，２４，２６の間に配置された仮置台３２，３４と、基板が収納されたラック２，４，６，８を搬送する複数の搬送アーム部４４，４６，４８とを備える。搬送アーム部４４，４６，４８は、それぞれ、搬送経路の互いに異なる区間において、基板が収納されたラック２，４，６，８を、供給台３０又は仮置台３２，３４から洗浄処理槽２２，２４，２６に搬送する第１の動作と、洗浄処理槽２２，２４，２６から仮置台３２，３４又は回収台３６に搬送する第２の動作とを繰り返す。 （もっと読む）

【課題】洗浄品質を向上できるとともに大気汚染や作業環境汚染を確実に防止する。
【解決手段】被洗浄物の洗浄を行う洗浄容器内の圧力変動をアキュムレータで吸収するようにした密閉型洗浄装置において、前記洗浄容器と前記アキュムレータとの間に前記洗浄容器内を減圧する真空発生装置を設け、前記被洗浄物の洗浄の際に、前記洗浄容器を減圧させるとともに、該減圧に伴う前記真空発生装置内の圧力変動を前記アキュムレータで吸収させるように構成した。 （もっと読む）