説明

国際特許分類[B08B3/04]の内容

処理操作;運輸 (1,245,546) | 清掃 (8,628) | 清掃一般;汚れ防止一般 (8,628) | 液体または蒸気の使用または存在を含む方法による清掃 (4,413) | 液体との接触を含む清掃 (2,924)

国際特許分類[B08B3/04]の下位に属する分類

国際特許分類[B08B3/04]に分類される特許

71 - 80 / 648


【課題】基板表面に付着したパーティクル等の汚染物質を除去するための基板処理装置および基板処理方法において、処理不良の基板が発生するのを未然に防止するとともに、無駄な凝固体の形成・解凍除去を抑制して稼動効率を高める。
【解決手段】基板の表面に形成される液膜の膜厚が所定範囲内となっている場合のみ、その基板に対して凍結処理(ステップS5)、凍結膜の解凍除去(ステップS6)および基板乾燥(ステップS7)を実行している。したがって、液膜の膜厚が所定範囲を超えて十分なパーティクル除去率が期待できない場合には、レシピの途中であるが、基板に対する凍結処理(ステップS5)、凍結膜の解凍除去(ステップS6)および基板乾燥(ステップS7)を行うことなく、基板処理を終了する。 (もっと読む)


【課題】基板表面上に吐出された処理液の滞留を防止し基板全面における処理の均一化を有効に達成できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】スプレーパイプ部22と、スプレーパイプ部22の長手方向に一列に互いに近接して形設され処理液をその吐出口26から基板Wの表面102へ吐出する複数のノズル部24から構成される複数のスプレーノズル14とを備える基板処理装置において、基板Wの表面102に対する複数のノズル部24の吐出口26の対向角度を、水平姿勢で搬送される基板Wの表面102の基板搬送方向Xに関して交差する方向における中央部付近から両端部付近にかけて、鉛直線に対して漸次大きくなるように、複数のノズル部24を複数のスプレーパイプ部22に形設することにより、基板Wの表面102上において吐出後の処理液の積極的な液流れを発生させる。 (もっと読む)


【課題】小型化を図ることのできる洗浄システムを提供する。
【解決手段】洗浄システム10は、貯留タンク30から洗浄部16に洗浄液を導入する導入通路17や、洗浄部16内の洗浄液を貯留タンク30に戻すための排出通路18、吸入通路21、吐出通路22を備える。吸入通路21や吐出通路22内の流体を貯留タンク30に圧送するポンプ20を備える。貯留タンク30の上壁部31に貫通孔39が形成される。ポンプ20の駆動時における貯留タンク30への流体の流入量を可変設定する変更装置を備える。流入量が多くなる態様での変更装置の作動時には貫通孔39を介して貯留タンク30の外部に放出される空気量より上記流入量が多くなり、且つ流入量が少なくなる態様での変更装置の作動時には上記流入量が貫通孔39を介して放出される空気量以下になるように、貫通孔39の開口形状と変更装置の作動態様とが設定される。 (もっと読む)


【課題】基板表面に付着したパーティクル等の汚染物質を除去するための基板処理装置および基板処理方法において、高いスループットを得られ、しかも優れた処理性能でパーティクル等を除去する。
【解決手段】凍結後の液膜LF(凝固膜FF)の到達温度を低くすることによってパーティクルの除去効率を高めることができる。しかも、基板表面Wf全体に凝固膜FFが形成される前後で冷却ガスの流量を変更しているので、処理に要する時間を短縮しながら優れた処理性能でパーティクル等を除去することができる。特に、液膜LFを凍結させる段階での冷却ガスの流量については基板表面Wf上の液膜LFを吹き飛ばさない程度に抑えることが必要であるが、凝固膜FFが全面形成された後の段階ではこのような制約がなく、冷却ガスの流量を多くすることが可能であり、これにより冷却能力を高めることができる。 (もっと読む)


【課題】構造物表面に固着したスケールにスケール除去液を所定時間接触させることができ、簡単に且つ安全にスケールを除去することができるスケール除去装置を提供する。
【解決手段】スケール除去液10を用いて、スケール200が固着した構造物表面106から検査対象となる部位のスケールを除去するスケール除去装置であって、スケール除去液10を収納する液容器4と、液容器内のスケール除去液が注入される液注入口23と、液注入口に設けられた液逆止弁24とを有し、一面側が開放したケース本体2と、ケース本体の開放した側の縁部に設けられ、密着性及び気密性を有するシール部3とを備え、シール部3が構造物表面106に当接されることにより構造物表面106とケース本体2との間に充填空間21が形成され、充填空間21にスケール除去液10が充填されることによりケース本体2が構造物表面106に吸着保持されるように構成した。 (もっと読む)


【課題】メンテナンス頻度を低減させながらも、除液効率を高く維持する。
【解決手段】洗浄されたコインの洗浄液を除去するコイン除液装置50であって、コインを挟み込んで搬送する柔軟性ロール82によって、コインの表面に付着した洗浄液を除去する際に、掻き上げ手段70によって、この柔軟性ロール82の表面を長手方向に亘って掻くことで、柔軟性ロール82の表面の油分をロール表面から浮き上がらせるようにした。 (もっと読む)


【課題】効率よく、かつ医療器具の細部分まで洗浄できる医療器具の洗浄方法および医療器具の洗浄装置を提供する。
【解決手段】医療器具にオゾンガスを接触させること、および、医療器具を洗浄液で洗浄する液体洗浄工程をさらに含むこと、また、前記液体洗浄工程で用いた洗浄液を貯水する工程を含み、前記貯水工程で貯水された洗浄液を前記液体洗浄工程で再利用することにより、前記医療器具を洗浄する。また、オゾンガスを発生させるオゾンガス発生部16と、前記オゾンガスを利用して前記医療器具を洗浄する洗浄部17とを備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】マイクロチップの性能を回復させることが可能なクリーニング法及びクリーニング液を提供する。
【解決手段】マイクロ流体デバイスに形成された流路であって、ポリマー皮膜を有する表面を有し、且つ核酸及び/又はタンパク質を含む試料が接触した流路を、25℃において少なくとも同体積の水への溶解性を有する有機溶媒のみからなるクリーニング液、又は50体積%以上の前記有機溶媒を緩衝液中に含むクリーニング液に接触させることによってクリーニングする、マイクロ流体デバイスのクリーニング方法。前記緩衝液のpHが8〜10である前記の方法。前記緩衝液が3〜8Mのタンパク質変性剤をさらに含む前記の方法。前記緩衝液のpHが2〜4である前記の方法。 (もっと読む)


【課題】複数個の伸線用のダイスをダイス保持部の回転部材の外周部分の複数個の保持部に環状に配列保持し、回転部材の傾斜回転及び割出回転により複数個のダイスを順次、超音波ホーンに対向して超音波洗浄することができ、超音波ホーンによりダイスの表面や極細孔径のダイス孔の内面に付着している伸線加工により生じた粉状屑等の汚染物質を良好に洗浄することができる。
【解決手段】ダイス保持部1は外周部分に複数個のダイスDを環状に配列可能な複数個の保持部4aをもつ回転部材4、回転部材の外周部分に配列された複数個のダイスが洗浄液M中に没入又は洗浄液中から露出するように回転部材を傾斜位置で傾斜回転自在に支持する支持機構5及び回転部材を割出回転可能な割出回転機構6からなる。 (もっと読む)


【課題】処理槽内の処理液に含まれるごく微細な異物を低コストで効率良く除去できる処理槽における異物除去システムを提供する。
【解決手段】異物除去システムは、比重の小さい異物を含む処理液を回収する上中層用回収部と、上中層用回収部からの処理液を濾過液と異物とに分離する第2サイクロン装置23と、第2サイクロン装置23からの濾過液をさらに濾過して処理槽に還流する処理液濾過装置50と、を備える。処理液濾過装置50は、直線管からなる供給配管54を介して第2サイクロン装置23の濾過液排出口23bに連通するハウジング52と、ハウジング52の上面に取り付けられる蓋部材64と、蓋部材64に供給配管54と同軸に着脱自在に取り付けられるブラシ66と、を備える。 (もっと読む)


71 - 80 / 648