【課題】基板の表面からリンス液を良好に除去することができる、基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】ウエハＷの表面に純水が供給され、ウエハＷの表面に対するリンス処理（ウエハＷの表面を純水で洗い流す処理）が行われた後、純水よりも表面張力の低いＩＰＡ液がウエハＷの表面に供給される。また、ＩＰＡ液の供給と並行して、ウエハＷの表面と反対側の裏面に温水が供給される。 （もっと読む）

【課題】洗浄液の減圧沸騰および突沸の有無を切り替えることのできる洗浄装置を提供する。
【解決手段】減圧手段５により洗浄槽３内を減圧後、液相給気弁１８を開いて、洗浄槽３の内外の差圧により被洗浄物２よりも下方から洗浄槽３内の水溶液中に外気を導入する。減圧手段５による洗浄槽３内の減圧は、洗浄槽３内の水溶液が所定温度未満の場合には、水溶液を沸騰させるが、洗浄槽３内の水溶液が所定温度以上の場合には、水溶液を沸騰させない範囲の減圧に止める。水溶液を沸騰させた場合、その後の水溶液中への外気導入により、その気泡を核として、水溶液を突沸させる。 （もっと読む）

【課題】基板表面に付着したパーティクル等の汚染物質を除去する基板処理方法および基板処理装置において、スループットの低下を招くことなく、しかも優れた面内均一性でパーティクル等を除去する。
【解決手段】基板Ｗの回転中心Ｐ（０）から基板Ｗの外縁側に離れた初期位置Ｐ（Ｒin）の上方に冷却ガス吐出ノズル７を配置し、回転している基板Ｗの初期位置Ｐ（Ｒin）に冷却ガスを供給して、初期位置Ｐ（Ｒin）および回転中心Ｐ（０）を含む初期領域に付着するＤＩＷを凝固させる。そして、初期凝固領域ＦＲ0の形成に続いて、ノズル７から冷却ガスを供給しながら初期位置Ｐ（Ｒin）の上方から基板Ｗの外縁部の上方まで移動させることによって、凝固される範囲を基板Ｗの外縁側に広げて基板表面Ｗｆに付着していた全ＤＩＷ（凝固対象液）を凝固して液膜ＬＦ全体を凍結する。 （もっと読む）

【課題】粘度を低減し取り扱い性に優れる液体洗浄剤組成物の提供。更に、洗浄時に優れた起泡性／泡安定性を呈すると共に、濯ぎ時には優れた泡切れ性を呈する液体洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】下記（ａ）〜（ｃ）成分を含有し、（ａ）成分／（ｂ）成分の質量比が１／１０〜１０／１であり、（ａ）成分と（ｂ）成分の合計含有量が４〜２０質量％であり、且つ、（ｃ）成分／〔（ａ）成分＋（ｂ）成分〕の質量比が１／１００〜２．５／１である液体洗浄剤組成物。
（ａ）炭素数８〜１４の脂肪酸及びそれらの塩から選ばれる１種以上の化合物０．５〜１０質量％（但し、脂肪酸塩を含む場合は脂肪酸としての換算量）、
（ｂ）炭素数８〜１６の炭化水素基を１つ有するアミンオキサイド型界面活性剤０．５〜１９．５質量％、及び、
（ｃ）炭素数４〜８のオレフィン及びスチレンから選ばれる１種とマレイン酸との共重合体０．１〜１０質量％ （もっと読む）

【課題】イオン系コンタミが少なく、かつ乾燥不良が起きず、その結果ヘッド浮上量が微少なハードディスクに搭載してもヘッドクラッシュを起こさない磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】電気抵抗値が１０ＭΩ・ｃｍ以下である水溶液を用いてガラス基板１０をリンスする処理と、水よりも沸点の低い水溶性溶剤の蒸気を、前記リンス処理したガラス基板に接触させる乾燥処理とを含む磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記乾燥処理において、前記蒸気中の水分量が０．５質量％以下である蒸気を用いる。前記水よりも沸点の低い水溶性溶剤が、イソプロピルアルコール、エタノール、アセトンから選ばれる一種又は二種以上であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】充填する除菌液の量を減らしてコスト削減を図るとともに、設置スペースに合わせて向きを自在に変えて設置することができるまな板除菌用袋を提供する。
【解決手段】パルプを材料に用いて作られてまな板２を包む不織布製シート３と、このシート３で包まれた状態でまな板２を収納すべく合成樹脂材料からなる袋本体４とからなり、袋本体４の出し入れ用開口部１３を閉じて袋本体４の密封状態を保持するジッパー１４を備え、前記シート３で包まれたまな板２を袋本体４の中で除菌液に浸した状態を保持するようにした。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物から剥離して洗浄水の液面に浮遊した油分を効果的に除去することができる洗浄装置及び洗浄方法を得る。
【解決手段】ガラスリング１８の内周面１８Ａと接触する洗浄水Ｗの液面の縁部Ｅが、液面の一般部Ｇに比べて鉛直方向で高くなっている。このため、洗浄槽１２に供給された洗浄水Ｗによって溢れ出た洗浄水Ｗ及び洗浄水Ｗの液面に浮遊した油分Ａは、回収筒３４に流れ込む。このように、液面に浮遊する油分Ａが効果的に、回収筒３４に流れ込んで回収される。 （もっと読む）

【課題】不良デバイスの発生を抑制できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、第１供給部からの帯状の基板を第１回収部へ送る第１送り機構と、第１供給部から送られた基板の裏面の少なくとも一部にカバー部材を着ける第１装置と、裏面にカバー部材が着けられた状態で第１装置から送られた基板の表面の処理を行う表面処理装置と、表面処理装置と第１回収部との間に配置され、表面処理装置から送られた基板からカバー部材を離す第２装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】従来よりコンパクト化することが可能な浸漬装置の提供を目的とする。
【解決手段】本発明の電着処理装置１０は、ワークＷに電着被膜を形成するための表面の電着塗料を貯留した円形の電着処理槽１１と、電着処理槽１１内の電着塗料を一方向に旋回させる起流ポンプ１５と、ワークＷを吊り下げて、電着塗料に浸した状態に保持するワーク治具２０と、電着塗料中の異物を取り除くためのフィルタ１６とを備えている。電着処理槽１１を円形にしたことで電着処理装置１０が従来よりもコンパクト化され、設置の自由度が向上する。 （もっと読む）

【課題】 基板面内や基板間の処理のバラツキを低減することができるとともに、製品性能や製造歩留を向上させる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 処理基板１が収容される槽ＴＫと、処理槽ＴＫ内に液体、気体、又は液体と気体との両方を送り出す送出機構ＴＢ、Ａと、処理基板１に対して、液体、気体、又は気体と液体との両方が槽ＴＫ内へ送り出される位置と対向する位置から槽ＴＫ内の液体、気体、又は気体と液体との両方を排出する排出手段１０、２０、３０、４０と、を備えた基板処理装置。 （もっと読む）