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国際特許分類[C01B31/02]の内容

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逆浸透膜を作製する方法が説明される。本方法は複数のカーボンナノチューブを、第一液体が水性層であって、第二層が水性層に非混和性の有機層である、2つの液体の界面に配向させ、2つの液体の界面において配向したカーボンナノチューブの周囲に薄層選択性膜を形成し、薄層選択性膜/カーボンナノチューブ複合材を構造支持層の上に接合させることを含む。
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種々の態様においては、本開示はカーボンナノチューブから官能化グラフェンナノリボンを製造する方法を記載する。概して、本方法は、複数のカーボンナノチューブを溶媒の不存在下においてアルカリ金属源に曝露し、その後、求電子剤を加えて官能化グラフェンナノリボンを形成することを含む。カーボンナノチューブを一般に加熱しながら溶媒の不存在下においてアルカリ金属源に曝露することによって、カーボンナノチューブがそれらの縦軸に対して実質的に平行に開裂し、これは一態様においては螺旋状に起こすことができる。本発明のグラフェンナノリボンは少なくともそれらの端部上において官能化されており、実質的に欠陥が無い。その結果、ここで記載する官能化グラフェンナノリボンは、機械的に剥離したグラフェンのものに匹敵する非常に高い電気伝導度を示す。 (もっと読む)


本発明は、ナノチューブを包含するナノ構造物の形成および処理に関する。いくつかの実施形態は、比較的穏やかな条件(例えば、低温)を使用するナノ構造物成長の方法を提供する。場合により、本発明の方法は、ナノ構造物形成の効率(例えば、触媒効率)を向上させることもあり、ナノ構造物形成中の所望されない副生成物(揮発性有機化合物および/または多環式芳香族炭化水素を包含する)の生成を減少させることもある。そのような方法は、ナノ構造物形成に関連したコストをを減少させることができ、環境および公衆衛生および安全における、ナノ構造物製造の有害作用も減少させることができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、カーボンナノチューブ線状構造体の製造方法に関する。
【解決手段】本発明のカーボンナノチューブ線状構造体の製造方法は、同じ平面に設置された複数のカーボンナノチューブアレイを提供するステップと、前記複数のカーボンナノチューブアレイからカーボンナノチューブを引き出し、複数のカーボンナノチューブフィルムを形成するステップと、前記複数のカーボンナノチューブフィルムを基準点に集めるステップと、集められた前記複数のカーボンナノチューブフィルムを併せて処理し、カーボンナノチューブ線状構造体を形成するステップと、を含む。 (もっと読む)


複合材料の組成物には、カーボン・ナノチューブ(CNT)の浸出した繊維が、マトリックス材に分散した状態で複数含まれる。組成物中のカーボン・ナノチューブの量は、複合材料の約0.1重量%から約60重量%の範囲である。 (もっと読む)


【課題】カーボンナノチューブフィルム製造方法の提供。
【解決手段】製造方法は、基板12を提供する第一ステップと、前記基板12の一つの表面に、平行な二つの縁部142を有する触媒層14を形成する第二ステップと、前記触媒層14が形成された該基板12をアニーリングする第三ステップと、アニーリングされた基板12を反応炉に配置し、保護ガスで700℃〜1000℃の温度で加熱した後で、カーボンを含むガスを導入して反応を行って、カーボンナノチューブアレイ10を成長させ、該カーボンナノチューブアレイ10は平行な二つの側面を含み、前記二つの側面は前記触媒層の二つの縁部142と対応する第四ステップと、前記カーボンナノチューブアレイ10の前記二つの側面に平行な方向に沿って、前記カーボンナノチューブアレイ10から離れるように少なくとも一枚のカーボンナノチューブフィルムを引き出して得る第五ステップと、を含む。 (もっと読む)


【課題】強度に優れた成形体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】繊維径1μm以下の互いに結合した複数の繊維状炭素と、Gaとを含む成形体に関する。 (もっと読む)


【課題】材料における変位、衝撃、応力、および/または歪みを検出できるカーボンナノチューブを含んだデバイスを提供する。
【解決手段】デバイスは、複数のカーボンナノチューブを含む検知素子および前記複数のカーボンナノチューブと接触している電気プローブを含み、前記電気プローブは、測定可能な方法で前記複数のカーボンナノチューブの抵抗率の変化に敏感に反応し、前記電気プローブは、前記抵抗率の変化により生じる電圧の変化を測定し、ここで、前記電圧の変化は、−130V〜170Vの範囲でほぼ直線的に変化し、そして、前記デバイスを応力にさらす結果として前記電圧の変化が生じる。 (もっと読む)


【課題】新規な炭素膜製造装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の炭素膜製造装置は、供給ガスに電子ビームを照射し、プラズマを発生させる電子ビーム発生装置7と、炭素源を収容し、炭素源を加熱して気化させる炭素源容器4と、炭素膜を堆積させる基板3を有する。ここで、供給ガスは、アルゴンガスであることが好ましい。また、電子ビーム発生装置7の電子通過量は10〜100Aの範囲内にあることが好ましい。また、炭素源は、フラーレンC60、フラーレンC70、その他ナノメートルスケールのカーボン粒子であることが好ましい。また、基板3の広さは1〜100cm2 の範囲内にあることが好ましい。また、基板3のバイアス電圧は-500〜0Vの範囲内にあることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】炭素元素の線状構造体を用いた熱伝導度及び電気伝導度が極めて高いシート状構造体を提供する。
【解決手段】基板12上に炭素元素の線状構造体16を形成し、線状構造体16間に充填層18を形成し、充填層18及び線状構造体16を複数枚に切断し、切断された充填層18及び線状構造体16をそれぞれ含む複数のシート状構造体10を形成する。このように形成したシート状構造体10の線状構造体16の両端部は、開端している。 (もっと読む)


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