【課題】炭素数５以上のパーフルオロアルカンスルホン酸を含まずに、十分に強い酸を発生する酸発生剤を提供する。更には、ＡｒＦエキシマレーザー光に対して高感度で、露光時の露光量のズレに対しても解像性の劣化を伴わない、露光余裕度を有するレジスト組成物を構成する酸発生剤を提供する。
【解決手段】下記一般式（２）で示されるスルホン酸オニウム塩によって、前記課題は解決する。


（式中、Ｒは置換もしくは非置換の炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、置換もしくは非置換の炭素数６〜１５のアリール基又は炭素数４〜１５のヘテロアリール基を示す。） 一般式（２）で示されるスルホン酸オニウム塩は３，３，４−トリフルオロ−４−（トリフルオロメチル）−１，２−オキサチエタン−２，２−ジオキシドを出発原料に用い、アルコーリシス（第１工程）、加水分解（第２工程）、塩交換（第３工程）の３工程で製造できる。 （もっと読む）

【課題】ホウ酸化アルカリ土類金属トルエンスルホネートの改良した製造方法を提供する。
【解決手段】下記の工程を含むホウ酸化アルカリ土類金属アルキルトルエンスルホネートの製造方法：
（ａ）（ｉ）油溶性アルキルトルエンスルホン酸、または油溶性アルカリ土類金属アルキルトルエンスルホネート塩、またはそれらの混合物、（ii）アルカリ土類金属源、（iii）炭化水素溶媒と低分子量のアルコールとからなる混合物中に存在するホウ素源、および（iv）過塩基化酸（ただし、それらのうちの少なくとも一種はホウ酸である）を反応させる工程、
（ｂ）工程（ａ）の反応生成物を、炭化水素溶媒、低分子量のアルコールおよび工程（ａ）で生成した水のいずれの蒸留温度よりも高い温度に加熱することにより、反応生成物から炭化水素溶媒、低分子量のアルコールおよび生成水を蒸留除去する工程、
ただし、上記方法の工程において外部からの水の添加は行なわない。 （もっと読む）

【課題】 純物質でありながら室温で液状を示し、金属カチオンを有する塩を提供する。
【解決手段】下記構造式（１）で表される多分岐オリゴエチレンオキシド誘導体。
【化９】



（式中、ｍは１以上の整数、ｎは負でない整数、ｐは自然数、Ｒ１〜Ｒ２^ｍは置換されてもよいアルキル基又は置換されてもよいアリ−ル基、Ｘ⁻はアニオン官能基を含む基、Ｍ^ｐ＋はｐ価のカチオンを表す。） （もっと読む）

【課題】保存安定性の良いα−スルホ脂肪酸アルキルエステル塩の濃縮物をもたらすα−スルホ脂肪酸アルキルエステル塩溶液を製造する方法を提供する。
【解決手段】α−スルホ脂肪酸アルキルエステルをアルカリ物質で中和してα−スルホ脂肪酸アルキルエステル塩溶液を製造する方法において、中和工程を、α−スルホ脂肪酸アルキルエステル塩１００質量部あたり、５０質量部〜１５０質量部の炭素数１〜３のアルコール及び５質量部〜２０質量部の水の存在下で行う。 （もっと読む）

【課題】半導体素子などの製造工程における微細加工技術、特にフォトリソグラフィーに適した化学増幅レジスト材料の一部である、光酸発生剤及びその中間体として有用な、アルコキシカルボニルフルオロアルカンスルホン酸塩を、安価で入手容易な原料を用いて、穏和な条件および簡便な操作で、収率良く、しかも廃棄物も少なく提供する。
【解決手段】安価で入手容易なハロフルオロアルカン酸誘導体から誘導されるハロフルオロアルカン酸エステル類を出発原料に用いて、これをスルフィン化（第１工程）した後、酸化（第２工程）することによって目的とするアルコキシカルボニルフルオロアルカンスルホン酸塩を得る。さらにはこれを塩交換（第３工程）することによって、光酸発生剤として有用なアルコキシカルボニルフルオロアルカンスルホン酸オニウム塩を得る。 （もっと読む）

【課題】細胞増殖性障害を治療するのに有用な置換２−（ピリジン−２−イルアミノ）−ピリド［２，３−ｄ］ピリミジン−７−オン類又はその薬学的に許容可能な塩の製造方法の提供。
【解決手段】




上記一般式で表わされる２つの化合物とを遷移金属触媒、塩基、及び場合によりホスフィン物質の存在下で、反応させ、形成された化合物とイセチオン酸とで反応させる工程を含む方法。 （もっと読む）

【課題】高濃度でありながら低粘性のアルキルベンゼンスルホン酸塩組成物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】（１）（ａ）アルキルベンゼンスルホン酸を苛性アルカリにて中和し、粗中和物を得る工程、（ｂ）粗中和物に前記アルキルベンゼンスルホン酸を添加し、酸性混合物を得る工程、及び（ｃ）酸性混合物に苛性アルカリを添加し、中和する工程を含むアルキルベンゼンスルホン酸塩組成物の製造方法、及び（２）その製造方法によって得られたアルキルベンゼンスルホン酸塩組成物である。 （もっと読む）

【課題】
反応性芳香族スルホン酸塩、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】
下記一般式（１）で示される反応性芳香族スルホン酸塩。
【化１】


（上記一般式（１）中、Ｒ^１は水素原子又は下記一般式（２）で示される基を表し、Ｒ^２は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、又は下記一般式（２）で示される基を表し、Ｍはアルカリ金属原子又はアンモニウムを表し、ｍ、ｎ、ｐは各々独立して１〜２０の整数を表し、ｘは０〜３の整数を表す。）
【化２】


（上記一般式（２）中、Ｍはアルカリ金属原子又はアンモニウムを表し、ｐは１〜２０の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】良好なパターン形状を有するパターンを形成することができ、高い解像度を示す化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で示されることを特徴とする塩。


（式（Ｉ）中、Ｘはｎ価の連結基を表す。Ｙ¹およびＹ²は互いに独立にフッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表し、ｎは２又は３を表し、Ａ⁺は有機対イオンを表す。） 前記記載の塩を有効成分とすることを特徴とする酸発生剤。 （もっと読む）

本発明は、アリールスルホネート基、スペーサーおよび基Ｙを含み、ここでＹが、ＣＦ_３−（ＣＨ_２）_ａ−Ｏ−、ＳＦ_５−、ＣＦ_３−（ＣＨ_２）_ａ−Ｓ−、ＣＦ_３ＣＦ_２Ｓ−、［ＣＦ_３−（ＣＨ_２）_ａ］_２Ｎ−もしくは［ＣＦ_３−（ＣＨ_２）_ａ］ＮＨ−（式中、ａは０〜５の範囲から選択される整数を表す）、または式（Ｉ）（式中ＲｆがＣＦ_３−（ＣＨ_２）_ｒ−、ＣＦ_３−（ＣＨ_２）_ｒ−Ｏ−、ＣＦ_３-（ＣＨ_２）_ｒ−Ｓ−、ＣＦ_３ＣＦ_２−Ｓ−、ＳＦ_５−（ＣＨ_２）_ｒ−もしくは［ＣＦ_３−（ＣＨ_２）_ｒ］_２Ｎ−、［ＣＦ_３−（ＣＨ_２）_ｒ］ＮＨ−もしくは（ＣＦ_３）_２Ｎ−（ＣＨ_２）_ｒ−を表し、Ｂが単結合、Ｏ、ＮＨ、ＮＲ、ＣＨ_２、Ｃ（Ｏ）−Ｏ、Ｃ（Ｏ）、Ｓ、ＣＨ_２−Ｏ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）、Ｎ−Ｃ（Ｏ）、Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｎ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ、Ｏ−ＳＯ_２もしくはＳＯ_２−Ｏを表し、Ｒが１〜４個のＣ原子を有するアルキルを表し、ｂが０もしくは１を表し、ｃが０もしくは１を表し、ｑが０もしくは１を表し、ここでｂおよびｑからの少なくとも１つのラジカルが１を表し、ｒが０、１、２、３、４もしくは５を表す）を表す化合物、これらの化合物の製造方法、ならびにこれらの界面活性化合物の使用に関する。


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