高ヤング率かつ、耐湿熱性良好、低吸湿性の配向ポリイミドフィルムおよびその製造方法。主としてピロメリット酸成分と３０モル％以上９９モル％以下のｐ−フェニレンジアミン成分と、１モル％以上７０モル％以下の下記式（ＩＩ）の構成単位


（Ａｒ^ＩＩａおよびＡｒ^ＩＩｂはそれぞれ独立に、非反応性の置換基を含んでいてもよい炭素数６以上２０以下の芳香族基であり、上記構成単位（ＩＩ）中のＸが−Ｏ−、−Ｏ−Ａｒ^ＩＩＣ−Ｏ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−Ａｒ^ＩＩｄ−Ｏ−Ａｒ^ＩＩｅ−Ｏ−より選ばれる式群の少なくとも１種以上から成る）
で表されるジアミン成分とから成るポリイミドフィルムであって、面内にヤング率が３ＧＰａ以上である直交する二方向が存在し、７２％ＲＨ、２５℃における吸湿率が３．３ｗｔ％以下であることを特徴とするポリイミドフィルム。
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【課題】 ポリピロール類製マイクロチューブの処理法により処理されたポリピロール類製マイクロチューブからなる白熱発光材の提供。
【解決手段】 マイクロチューブの壁厚が０．１μｍ〜１０^４μｍ、長さが１０μｍ〜１０^６μｍ、直径が１μｍ〜１０^５μｍであり、マイクロチューブ長軸の方向で５０Ω^−１ｃｍ^−１以上の導電率を有するポリピロール類製マイクロチューブに電流を流し白熱発光せしめるか、火で直接加熱するポリピロール類製マイクロチューブの処理法により処理されたポリピロール類製マイクロチューブからなる白熱発光材。 （もっと読む）

【課題】 高いメッキ密着力を効率良く得るための、液晶性ポリマー成形品のメッキ前処理方法を提供する。
【解決手段】 シリカを20〜60重量％（組成物中）含有する液晶性ポリマー組成物より得られる成形品を、アルカリ性水溶液で処理し、次いでフッ化物水溶液で処理する液晶性ポリマー成形品のメッキ前処理方法。
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【課題】高い溶質除去性と高い水透過性を有し、かつ高い耐久性を有する複合半透膜を提供すると同時に、簡易な方法により、イオン除去率に比べ中性分子の除去率が高い膜や、特定のイオンを選択分離するといった複合半透膜の製造方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】微多孔性支持膜上に多官能アミン化合物と多官能酸ハロゲン化物からなるポリアミド分離機能層を形成してなる複合半透膜を、第一級アミノ基と反応してジアゾニウム塩またはその誘導体を生成する試薬に接触させたのち、ジアゾニウム塩との反応性試薬と接触させることや、多官能アミンとしてヒドラジン類を用い、酸化剤で処理といった簡易な方法によりイオン除去率に比べ中性分子の除去率が高い膜や、特定のイオンを選択分離するといった複合半透膜の製造方法を提供する。 （もっと読む）

大気圧グロー放電プラズマＡＰＧ（７）を発生させるための方法及び装置（１）であって、複数の電極（４，５）が配置され、この複数の電極（４，５）が前記プラズマ（７）を形成するための放電空間を規定する。電極（４，５）は、電源（８）に接続され、この電源（８）は、少なくとも５０ｋＨｚの周波数を有するＡＣ電圧を電極（４，５）に供給する。ガス状物質（６）は、前記放電空間に供給され、少なくとも、アルゴン、窒素、および空気より成る。
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方法およびシステムが、大気圧窒素誘電体−バリア放電を利用してポリマー物質の表面を処理する。処理装置内のＨ₂Ｏを測定および制御するなどによって、大気圧窒素誘電体−放電が、予め定められた量よりも低いＨ₂Ｏのレベルを有するように維持され、望ましい特性を生じるポリマー物質のための表面処理をもたらすことができる。さらに、Ｈ Ｈ₂Ｏレベルは、予め定められた量によってまたは得られたポリマー表面の分析などの別のパラメータによって測定および制御されてもよい。例えば、ポリマー表面には、処理されたポリマーのこれらの分析に基づいて処理装置内のＨ₂Ｏレベルを制御するなどによって、添加された窒素対添加された酸素の最適な比および／または洗浄後の前進接触角および未洗浄の前進接触角に基づいた最適な安定性が提供されうる。
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【課題】
ごく微量のカーボン材料の使用で、優れた導電性を有する導電性樹脂成形体を効率的に製造する方法及びその導電性樹脂成形体を提供すること。
【解決手段】
熱可塑性樹脂からなる成形体を、カーボン材料を含有する有機溶媒中に浸漬し、亜臨界状態又は超臨界状態の二酸化炭素の存在下で、カーボン材料を成形体表面に収着させた後、二酸化炭素及び有機溶媒を除去することを特徴とする導電性樹脂成形体の製造方法、及びその方法により得られた導電性樹脂成形体である。 （もっと読む）

【課題】ゴム及び／若しくは熱可塑性樹脂のみによって表面にスエード調を呈するような微細な凹凸を形成した装飾体の製造法を提供する。
【解決手段】口金より押出されたゴムよりなるドアオープニングシール１１を加硫後、中空状のシール部１６にマスク１７を当ててマスキングを施した状態でＵ形断面の取付部１３とリップ部１４の表面に一体形成されるスポンジゴム層１５に対し、ショットブラスト処理機５で、ショットブラストを行ってスエード調を呈する装飾部を形成する。 （もっと読む）

本発明は、基体（S）、耐引掻層（K）及びカバー層（D）を含む塗膜系の製造方法、並びに前記方法により製造した塗膜系に関する。 （もっと読む）

【課題】 レーザーアブレーションを利用した改質方法であるにも拘らず、改質処理されるべき基材を回転させたり平行移動させることなく固定配置した状態で、その表面を均一に改質させることが可能な基材の表面改質装置を提供すること。
【解決手段】 レーザー光３を発生するレーザー光発生装置２と、
表面に照射されたレーザー光３により飛散粒子を発生させるターゲット６と、
飛散粒子の付着により表面が改質される基材７と、
ターゲット６の表面上のレーザー光照射位置Ｐを支点にして、レーザー光３の入射方向Ｌ_１とターゲット６の表面の垂線方向Ｌ_２との間の角度θ_１を変化させるようにターゲット６を揺動させるターゲット揺動手段１０と、
を備えることを特徴とする基材の表面改質装置。 （もっと読む）