【課題】硬化性や離型性能を維持しつつ、セラミックスラリー等に対する濡れ性に優れた離型剤を提供する。
【解決手段】本発明に係る離型剤は、アルキル基又はアリール基末端モノ又はポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート単位（構成単位（Ａ））と、アルキル基の炭素原子数が１〜３０のアルキル（メタ）アクリレート単位（構成単位（Ｂ））とを含有するポリ（メタ）アクリレートを主剤とする。上記離型剤の架橋剤としては例えば、メラミン、イソシアネート、エポキシ、アルミニウムキレート、チタンキレート、紫外線硬化型樹脂等を使用する。 （もっと読む）

【課題】減衰性能を容易に発揮させることのできる減衰性付与剤、及び減衰性材料を提供する。
【解決手段】減衰性付与剤は、Ｎ，Ｎ´，Ｎ´´−トリフェニル−１，３，５−ベンゼントリアミンを有効成分として含有する。減衰性付与剤は、高分子材料と混合して使用される。減衰性材料は、高分子材料と減衰性付与成分とを含有する。減衰性付与成分は、Ｎ，Ｎ´，Ｎ´´−トリフェニル−１，３，５−ベンゼントリアミンである。 （もっと読む）

本発明は、酸化アルキレンを用いてのモノカルボキシ官能化ジアルキルホスフィン酸、そのエステルおよび塩を製造する方法に関し、この方法は、ａ）ホスフィン酸源（Ｉ）をオレフィン（ＩＶ）と触媒Ａの存在下で反応させて、アルキル亜ホスホン酸、その塩またはエステル（ＩＩ）にすること、ｂ）こうして得られたアルキル亜ホスホン酸、その塩またはエステル（ＩＩ）を式（Ｖ）の酸化アルキレンと触媒Ｂの存在下で反応させて、一官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩ）にすること、ｃ）こうして得られた一官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＶＩ）を触媒Ｃの存在下で反応させて、モノカルボキシ官能化ジアルキルホスフィン酸誘導体（ＩＩＩ）にすることを特徴とし、式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６は、同じかまたは異なり、互いに独立に、特にＨ、Ｃ_１〜Ｃ_１８アルキル、Ｃ_６〜Ｃ_１８アリール、Ｃ_６〜Ｃ_１８アラルキル、Ｃ_６〜Ｃ_１８アルキルアリールであり、ＸおよびＹは、同じかまたは異なり、互いに独立にＨ、Ｃ_１〜Ｃ_１８アルキル、Ｃ_６〜Ｃ_１８アリール、Ｃ_６〜Ｃ_１８アラルキル、Ｃ_６〜Ｃ_１８アルキルアリール、Ｍｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｃｅ、Ｂｉ、Ｓｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋおよび／またはプロトン化窒素塩基であり、触媒ＡおよびＣは、遷移金属および／または遷移金属化合物および／または触媒系であり、前記触媒系は、遷移金属および／または遷移金属化合物および少なくとも１種のリガンドから構成され、触媒Ｂはルイス酸である。
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【課題】ディスコティック液晶に強誘電性を付加することにより、有機圧電材料として圧電性が高く、且つ耐熱性に優れた新規材料を提供することにある。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする有機圧電材料。
【化１】


（式中、Ａｒはベンゼン、ベンゾキノン、アントラキノン、トリフェニレン、トルクセン、トリシクロキナゾリン、ジベンゾピレンのいずれかを示す。Ｑ_１及びＱ_２は酸素原子または硫黄原子を表す。Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３及びＲ_４は水素原子または置換基を表す。Ｗ_１及びＷ_２は置換基を表す。Ｌ_１及びＬ_２は単結合または２価の連結基を表す。ｎ及びｍは１以上の整数を表す。但し、ｎ及びｍの和は２〜８の整数である。） （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（ｂ１−１）で表される化合物を含むレジスト組成物。［式中、Ｒ^５１〜Ｒ^５３はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール基又はアルキル基を表し、Ｒ^５１〜Ｒ^５３のうち少なくとも１つは水素原子の一部が下記一般式（ｂ１０−１）で表される基で置換された置換アリール基であり、Ｒ^５１〜Ｒ^５３のうち、いずれか２つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。］
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【課題】防振ゴムが強固に取付金具に加硫接着された防振部材を提供する。
【解決手段】防振部材１０は、防振ゴム１３が加硫接着剤を介して取付金具１１，１２に加硫接着されている。防振ゴム１３は、クロロプレンゴムを原料ゴムとし、該原料ゴムに対してシランカップリング剤で表面処理されたシリカが配合されたゴム組成物で形成されている。 （もっと読む）

【課題】９０ｎｍ以下の短波長の光源を用いた微細なレジストパターンの形成に対応することができ、解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、ＰＥＢ温度依存性が良好で、パターン倒れ耐性および欠陥性能に優れ、液浸露光工程においても好適に用いられる。
【解決手段】側鎖にアダマンチルラクトンを有する繰り返し単位（ａ−１）、および酸解離性基を有する繰り返し単位（ａ−２）を含む樹脂（Ａ）と、特定構造のスルホニウム塩を含む感放射線性酸発生剤（Ｂ）とを含有する。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、酸発生剤成分（Ｂ）は、一般式（ｂ１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むレジスト組成物［式中、Ｒ^７”〜Ｒ^９”は、それぞれ独立に、アリール基またはアルキル基を表し；Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち、いずれか２つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよく；Ｒ^７”〜Ｒ^９”のうち少なくとも１つは、水素原子の一部または全部が下記一般式（ｂ１−０１）で表される基で置換された置換アリール基であり；Ｘ⁻はアニオンであり；Ｒ^２０は塩基解離性部位を有する二価の基であり；Ｒ^３０は２価の連結基であり；Ｒ^４０は酸解離性基を有する基である。］。
［化１］
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【課題】高感度で、ポリイミド前駆体の種類を問わず溶解性コントラストを得られ、結果的に十分なプロセスマージンを保ちつつ、形状が良好なパターンを得ることができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される光塩基発生剤、及びポリイミド前駆体を含有する、感光性樹脂組成物。


（Ａｒは、特定のアントラセニル基、特定のアントラキノリル基、又は特定のピレニル基のいずれかであり、他の各符号は、明細書中で定義したとおりである。） （もっと読む）

【課題】光酸発生剤、この光酸発生剤を含む共重合体、この共重合体を含む化学増幅型レジスト組成物およびこの化学増幅型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】共重合体の主鎖には光酸発生剤が連結している。これにより、光酸発生剤をレジスト膜内に均一に分散させることができ、レジストパターンのラインエッジ照度特性などを向上させることができる。 （もっと読む）