【課題】 二重回転シャッタ機構を有するスパッタリング装置でクロスコンタミネーションの防止を図ることができるスパッタリング装置及び二重回転シャッタユニット並びにスパッタリング方法を提供する。
【解決手段】 二重回転シャッタ機構を構成する２枚のシャッタ板，のうち、ターゲット側に配設された第１のシャッタ板に形成された第１の開口部の周囲かつ第２のシャッタ板との間に円筒状の第２の防着シールドを取り付け、スパッタリングカソードと第１のシャッタ板との間には、ターゲットの前面領域の周囲を囲むように円筒状の第１の防着シールドが配設されることで、スパッタ物質が第１のシャッタ板と第２のシャッタ板の間、及び、第１のシャッタ板とスパッタリングカソードの間の隙間を通ることができなくなり、クロスコンタミネーションの発生を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】腫瘍細胞を選択的に破壊する等、種々の用途に効果的に利用可能な新規な形状の磁性微粒子、その製造方法及びその製造装置を提供する。
【解決手段】コア部１とそのコア部２の周りにある多数のヒゲ状突起３とからなり、そのヒゲ状突起３を含む粒子径Ｄに対するヒゲ状突起３の長さＬの割合が５％以上３０％以下である磁性微粒子１により、上記課題を解決する。このとき、ヒゲ状突起３を含む粒子径Ｄの平均が１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲内である磁性微粒子１は、ガスフロースパッタ法で形成された鉄微粒子として好ましく得ることができ、腫瘍細胞内に貪食又はエンドサイトーシスされて外部から加わる変換磁場により該腫瘍細胞を破壊する磁性微粒子として利用できる。 （もっと読む）

【課題】サセプタ上に落下したフレーク状の付着物を、サセプタのサイズに関係なく、サセプタ上のパージガスの乱れ及び巻き上がりを発生させることなく、確実に除去し、延いては、基板温度の均一性を保ち、再現性のよい膜品質を得ることができ、稼働率を高め得る気相成長装置及び気相成長方法を提供する。
【解決手段】シャワーヘッド１４における複数のガス噴出孔を中心部から外周に向かって同心に区画した複数の領域に対して、ガスの噴出量を個別に制御する流量制御装置６が設けられている。流量制御装置６は、トレイ１２のサセプタ１３への載置前に、シャワーヘッド１４に対向するサセプタ１３の面内領域に向けて、複数の領域に対して個別に流量を変えながらパージガスをシャワーヘッド１４のガス噴出孔からシャワー状に噴出させる。 （もっと読む）

付着チャンバをｉｎ−ｓｉｔｕプラズマ洗浄する方法および装置が提供される。一実施形態では、真空を中絶させることなく付着チャンバをプラズマ洗浄する方法が提供される。この方法は、付着チャンバ内に配置されたサセプタであり、電気的浮動状態にある付着リングによって周囲を取り囲まれたサセプタ上に基板を配置すること、付着チャンバ内の基板上および付着リング上に金属膜を付着させること、付着リング上に付着した金属膜を、真空を中絶させることなく接地すること、ならびに付着チャンバ内に形成されたプラズマによって、付着リング上の接地された金属膜を再スパッタすることなく、かつ真空を中絶させることなしに、付着チャンバから汚染物質を除去することを含む。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、欠陥のない有機分子膜被覆ナノ結晶粒子を提供するのみならず、これを含む有機分子膜被覆ナノ粒子の製造工程を極めて簡便にすることができた製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明は、ナノ結晶粒子の表面が有機分子膜にて被覆されてなる有機分子膜被覆ナノ結晶粒子であって、前記ナノ結晶粒子の表面全体が有機分子膜にて被覆されていることを特徴とし、有機分子膜被覆ナノ粒子の製造方法であって、ナノ粒子の母材となるターゲット材料を表面修飾用の有機分子液中に浸漬した状態でレーザー照射し、前記ターゲット材料から前記有機分子液中にナノ粒子を放散させ、その表面に前記有機分子を結合させることを特徴とする。
本発明は、上記の製造方法において、前記ターゲット材料が、前記レーザー照射によって放散されたナノ粒子の表面に酸化膜が生じない性質を有することを特徴とし、前記ターゲット材料が、予め表面を水素終端化されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スペースを有効利用し、品質低下を防止し、生産効率を向上させることのできる外段取り装置を提供する。
【解決手段】被成膜対象の基材５が装着されるとともに、成膜装置内に配置される基材ホルダ４を保持する保持部材２０と、この保持部材２０が取り付けられる移動可能フレーム１０と、この移動可能フレーム１０に取り付けられるとともに、基材ホルダ４の表面に清浄空気を供給する清浄空気供給手段３０とを備えたことを特徴とする外段取り装置１。 （もっと読む）

【課題】対象物の被成膜面以外に形成された膜の剥離を十分に抑制することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】所定雰囲気のチャンバー内において材料源から飛来する粒子を対象物に対して付着させることによって前記対象物に成膜する成膜装置であって、前記チャンバー内には、複数列に配列されたフィン５２を有する防着板５が設けられており、前記フィン５２のそれぞれは、隣接する列のフィン５２に対して、配列方向にずれた位置に配置されている。 （もっと読む）

【課題】真空チャンバ内に連続してシート基材を供給して、真空成膜を行なうことが可能であり、しかも、繰り出しリールと巻き取りリールを大気圧側（外部）に設置可能であり、真空を破壊せずに連続的に作業ができる真空成膜装置を提供する。
【解決手段】連続的に供給される連続帯状のシート基材１に高真空Ｐ₇ の条件下にて真空成膜を行なう真空チャンバ３と、真空チャンバ３の外部の大気圧Ｐ₀ 側に設置されてシート基材１を繰り出す繰り出しリールＲ₁ と、繰り出しリールＲ₁ と真空チャンバ３の入口側との間に介設されると共に複数段階的に大気圧Ｐ₀ から高真空Ｐ₇ へ順次複数段階的に減圧する段階的減圧手段４と、真空チャンバ３の外部の大気圧Ｐ₀ 側に設置されて成膜後のシート基材１を巻き取る巻き取りリールＲ₂ と、真空チャンバ３の出口側と巻き取りリールＲ₂ との間に介設されると共に複数段階的に高真空Ｐ₇ から大気圧Ｐ₀ へ順次複数段階的に復元する段階的圧力復元手段５と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】対象物の被成膜面以外に形成された膜の剥離を十分に抑制することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】所定雰囲気のチャンバー内において材料源から飛来する粒子を対象物に付着させることによって前記対象物に成膜する成膜装置であって、前記チャンバー内には、複数の防着層５１を積層させた防着部が当該チャンバーの壁部に着脱可能に設けられており、複数の前記防着層５１は、それぞれ前記粒子を付着させる付着部５２を有しており、前記付着部５２の分布密度は、複数の前記防着層５１の間で互いに異なっている。 （もっと読む）

【課題】ナノ粒子を高いスループットにて堆積させることができるナノ粒子堆積技術を提供する。
【解決手段】真空チャンバー１０には、基板保持部３０に保持された基板Ｗの直下にＫセル４０が配置されている。Ｋセル４０のるつぼ４１にはナノ粒子の原材料となるコバルトが投入される。るつぼ４１の開口部はガス噴出治具５０のガス噴出部５１によって覆われている。ガス噴出部５１は上端にアパーチャ５２を形成したテーパ面を有しており、その内側が蒸気発生空間４５とされる。るつぼ４１を加熱してコバルトの蒸気が発生している蒸気発生空間４５にガス供給部６０からヘリウムガスを供給する。ヘリウムガスはアパーチャ５２から噴出されて基板Ｗへと向かう気流を形成する。コバルトの蒸気はヘリウムガスの気流によってクラスターを形成しつつ基板Ｗまで運搬される。 （もっと読む）