【課題】チタン系セラミックス膜の優れた性能を維持しつつ、耐酸化性および低摩擦特性を向上できるセラミックス複合部材を製造できる方法を提供する。
【解決手段】本発明は、基材１１ａと、その表面に設けられたチタン系セラミックス膜１１ｂとを備えたセラミックコーティング部材１１の表面に、表面被覆膜１２が形成されるセラミックス複合部材の製造方法を対象とする。本方法は、セラミックコーティング部材１１の表面に、チタン系セラミックス膜１１ｂのチタン化合物と反応して複合酸化物を生成する金属塩を含む処理液を塗布する工程と、その後、前記複合酸化物を生成させて、その複合酸化物によって構成される表面被覆膜１２を形成する工程とを含む。 （もっと読む）

構成要素(1)が示されている(図1)。この図は、金属基材(4)を示している。基材(4)上には、好ましくは、特にMCrAlY型の金属ボンドコート(7)が付着させてある。ボンドコート(7)は、2層の金属層(10、13)である。外側金属ボンドコート(13)は、内側金属コート(10)に比べて、アルミニウム(Al)および/またはクロム(Cr)の量が低減している。
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【課題】本発明の目的は、全く新しい模様自体が織り成す立体感や存在感、すなわち、見る角度によって全く違う表情を醸し出し、見るものを凌駕するような神秘的な美しさを有する時計部品を得ること、およびそのような時計部品を得るための製造方法、および美的処理の方法を得ることである。
【解決手段】本発明の美的処理を施した時計部品は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１−２００１に準拠して測定して得られた表面粗さ（Ｒａ）が０．１０μｍ未満である装飾品用母材に、粒度８０〜３０００の砥粒を含む研磨手段で微細な模様付け加工を施して得られ、該母材の表面上の同一または異なる位置に、ＪＩＳ Ｂ ０６０１−２００１に準拠して測定して得られた該母材の表面から深さ（Ｒｚ）０．００１μｍ以上０．１０μｍ未満の模様部を、少なくとも２個以上有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 絶縁基板との接着性及びエッチング性の両方に優れ、回路パターン形成の際のエッチング性が良好でファインピッチ化に適したプリント配線板用両面処理銅箔を提供する。
【解決手段】 プリント配線板用銅箔は、銅箔基材と、銅箔基材における一方の表面の少なくとも一部を被覆する第１の被覆層と、他方の表面の少なくとも一部を被覆する第２の被覆層とを備える。第１の被覆層にはＣｒが１８〜１８０μｇ／ｄｍ²の被覆量で存在し、第１の被覆層のＸＰＳによる表面からの深さ方向分析から得られた深さ方向（ｘ：単位ｎｍ）の金属クロムの原子濃度（％）をf₁(x)とし、酸化物クロムの原子濃度（％）をf₂(x)とし、全クロムの原子濃度（％）をf(x)とし（f(x)= f₁(x)+ f₂(x)）、銅の原子濃度（％）をh(x)とし、酸素の原子濃度（％）をｉ(x)とし、炭素の原子濃度（％）をj(x)とし、その他の金属の原子濃度の総和をｋ(x)とすると、区間［０、１．０］において、∫ｈ(x)dx/(∫f(x)dx + ∫h(x)dx + ∫i(x)dx + ∫j(x)dx + ∫k(x)dx)が１０％以下で、∫f₂(x)dx/(∫f(x)dx + ∫h(x)dx + ∫i(x)dx + ∫j(x)dx + ∫k(x)dx)が２０％以上で、区間［１．０、２．５］において、０．１≦∫f₁(x)dx/∫f₂(x)dx≦１．０を満たす。第２の被覆層は、白金族金属、金、及び、銀からなる群から選択される１種以上を含む。 （もっと読む）

【課題】離型剤の塗布をなくす方向への改善を可能とするために、高硬度性、密着性（金型に対するもの）、耐ヒートクラック性、耐圧性、耐熱性（耐酸化性）、耐食性（耐溶損性）、低濡れ性（耐溶着性）の特性を満足する鋳造金型表面用保護膜を提供すること。
【解決手段】金属基材表面に形成される保護膜本体を備え、その保護膜本体はCrAlN相とBN相とが三次元的に混じり合う複合膜であることを特徴とする鋳造金型表面用保護膜。又、その表面に向かうほどBN含有量率（vol％）が連続的に多くなる傾斜膜もしくは段階的に多くなる多層膜、又はこれらを組み合わせた膜である。 （もっと読む）

【課題】エンジン部品等の高負荷条件で使用可能な良好な耐摩耗性を備えた水素含有非晶質硬質炭素被覆部材を提供する。また、高負荷条件での使用においても耐摩耗性に優れた水素含有非晶質硬質炭素被覆部材の製造方法を提供する。
【解決手段】比較的平滑な表面が得られる水素含有非晶質炭素被膜において、この水素含有非晶質炭素被膜中に同じ非晶質の炭素微粒子を分散して、平滑な表面と被膜全体の硬度を維持したまま耐欠け性を向上させる。具体的には、アーク放電によってアーク式蒸発源の炭素カソードより放出される微粒子を被膜中に取り込むことによって、水素含有非晶質炭素被膜に同じ非晶質の炭素微粒子を分散する。 （もっと読む）

【課題】過酷な測定条件下でも良好な耐久性を発揮するとともに、従来技術よりも簡便な構成を有する酸化還元電位測定用の電極を提供する。
【解決手段】１）基材、２）基材表面上の一部又は全部に形成された第１被覆層及び３）第１被覆層表面上の一部又は全部に形成された第２被覆層を含む電極であって、（１）基材が銀を含み、（２）第１被覆層が塩化銀を含み、（３）第２被覆層が、プロトン伝導性材料を含む、ことを特徴とする酸化還元電位測定用電極に係る。 （もっと読む）

【課題】タービンエンジン及びその中のバケット、ブレード、ノズル、ベーン、ストラット、燃料ノズル、燃焼ケーシング及び連絡管のような物品にかかる振動応力を低減するための手段として制振コーティングを提供する。
【解決手段】約８重量％〜約１５重量％のＹ_２Ｏ_３及び約１９重量％〜約２８重量％のＴａ_２Ｏ_５を残部重量のＺｒＯ_２と共に含んでなる制振コーティング２を有する、バケット１、ブレード、ノズル、ベーン、ストラット、燃料ノズル、燃焼ケーシング及び連絡管のような物品とする。 （もっと読む）

【課題】高面圧が外周摺動面に加わった場合であっても、硬質炭素膜の剥離を著しく低減できるピストンリングを提供する。
【解決手段】ピストンリング基材１と、ピストンリング基材１の少なくとも外周摺動面に設けられた下地膜２と、下地膜２上に設けられた厚さ１μｍ以上７μｍ以下の硬質炭素膜３とを有する。第１のピストンリング１１は、その下地膜２が、ピストンリング基材１上に設けられたＣｒ膜２ａと、Ｃｒ膜２ａ上に設けられたＣｒ−Ｎ膜２ｂとからなるように構成し、第２のピストンリング１２は、その下地膜２が、ピストンリング基材１上に設けられた第１Ｃｒ膜２ａと、第１Ｃｒ膜２ａ上に設けられたＣｒ−Ｎ膜２ｂと、Ｃｒ−Ｎ膜２ｂ上に設けられて硬質炭素膜３の厚さを１００としたときの厚さが２〜５の範囲の第２Ｃｒ膜２ｃとからなるように構成する。 （もっと読む）

【課題】高精密度セラミック基板を提供する。
【解決手段】本発明の高精密度セラミック基板製造工程は、電気鍍金及び高精度の露光/エッチング方式で製造する必要があり、一般のプリント方式で製造するセラミック基板と異なり、セラミック基板表面に金属層を鍍金した後、金属層表面に乾燥型を貼付し、現像を行ない、露出した金属層表面に導電金属層を鍍金し、且つ回路部分を残した金属層及び導電金属層をエッチングし、所定位置の導電金属層表面に無酸素テープを粘着接合し、その無酸素テープは、セラミック粉、ガラス粉及び粘着剤を所定の比率で調合、積層して形成し、セラミック基板を無酸素炉に送り込み、同時焼成を行い、無酸素テープが遮蔽壁を成形し、無酸素炉内に同時焼成し、導電金属層は、酸化を発生せず、後続の溶接、電気鍍金工程を行なう時に既に鍍金した金属層が剥離、又は溶接不十分の欠陥が発生することがない。 （もっと読む）