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国際特許分類[G01N1/28]の内容

国際特許分類[G01N1/28]の下位に属する分類

色付け;含浸 (131)
ポリッシング;エッチング (139)
精製;清浄 (51)
試料の埋め込みまたは類似の取付け (322)
試料の希釈,撹拌または混合 (14)
試料の濃縮
低温試料処理,例.低温固定
放射を伴う試料処理,例.熱

国際特許分類[G01N1/28]に分類される特許

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【課題】試料中の金属を極力多量の液体(加圧熱水)中に溶出させる金属溶出方法、その金属溶出方法を前処理として用いる金属分析方法、及び上記金属溶出方法を行うための金属溶出装置を提供することを目的とする。
【解決手段】試料を加圧熱水中に分散させた状態で、加圧熱水と接触させることにより金属を溶出させる第一接触工程と、フィルターに捕捉された試料を更に加圧熱水と接触させることにより金属を溶出させる第二接触工程とを備える金属溶出方法。また、第一接触工程及び第二接触工程が加圧熱水を定常的に流した状態で行われる金属溶出方法。 (もっと読む)


【課題】広く浅いホローカソードであっても、密度の高いプラズマを形成することが出来、安定して金属被膜を成膜する。
【解決手段】プラズマイオン金属被着装置は、希薄ガス雰囲気に維持される真空チャンバ1内で対向するアノード2とホローカソード3と、これらアノード2とホローカソード3にプラズマ放電のための電圧を印加する電圧印加回路18と、真空チャンバ1内に原料ガスを供給する原料ガス供給室10と、ホローカソード3の中に金属被膜を形成する試料7を載せる試料台4とを備える。ホローカソード3のカソード周壁3bの上縁からホローカソード3の内側に張り出した円環状の遮蔽壁3aを設け、このホローカソード3の中に被膜形成用の原料ガスを導入するものである。具体的には、被膜形成用の原料ガスは、ホローカソード3のカソード周壁3b側から試料台4の上のプラズマ領域に導入する。 (もっと読む)


【課題】絶縁物の分析対象となる領域における帯電を補正することにより、正確かつ再現性良く質量分析を行うことが可能な絶縁物の二次イオン質量分析方法を提供する。
【解決手段】本発明の絶縁物の二次イオン質量分析方法は、絶縁物である試料の表面に導電性の連続膜であるPt−Pd合金薄膜を成膜し、このPt−Pd合金薄膜付き試料に一次イオンビーム及び電子ビームを照射し、この試料から発生する二次イオンを引き出し、質量分析する。 (もっと読む)


【課題】簡便な方法で試料の断面を広範囲に観察することができる試料観察方法及び試料観察装置を提供する。
【解決手段】微細パターンが形成されたウエハである平板状の試料Sに対して、グロー放電によって表面から深さ方向に掘削し、試料Sの表面から深さ方向に掘削断面を形成する。形成した掘削断面に電子線を照射し、SEMによって試料Sの掘削断面の観察を行う。グロー放電によって、試料Sの特定の位置に掘削断面を形成することができ、また試料Sの表面を広範囲に短時間で掘削することができる。従って、ウエハに形成された微細パターンの欠損の検査を、簡便に短時間で広範囲に実行することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】 SEM観察機能を備えないFIB装置でも、欠陥部分やコンタクトホールの中心位置を検出することが効率よく、実行できる試料断面作製方法を提供するものである。
【解決手段】 試料断面領域近傍に集束イオンビーム1を走査照射してエッチング加工しながら、集束イオンビーム1を照射することにより発生する二次電子2を検出する。検出した二次電子信号から加工終点検出機構16で加工終点を検出して、エッチング加工を終了する。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、試料のマスク面側と搭載面とが非平行の場合に、平行に加工する必要が無く試料作製を容易に行うことができるイオンミリング装置及びその方法を提供することにある。
【解決手段】本発明は、平面を有する試料を真空チャンバ内で試料ホルダユニットに固定してイオンビーム照射しミリング加工するイオンミリング装置において、前記試料ホルダユニットは、前記試料を前記イオンビームから遮蔽するマスクに接する前記平面に対してその裏面側の傾斜に沿って固定できる固定構造を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】微細な試料を無用に変質させることなく高精度に微細部位の断面の分析が可能な微細部位解析装置を提供する。
【解決手段】試料を断面加工して解析する微細部位解析装置は、試料台1と集束イオンビーム装置2と回転機構3と電子ビーム装置4と補正部5と分析装置6とからなる。集束イオンビーム装置2は、試料が置かれた試料台に向かって斜め方向の視線を有するよう配置され、試料台に対して斜め方向にターゲットを切断する。回転機構3は、ターゲットを中心に試料台を着眼位置中心回転させる。電子ビーム装置4は、切断するターゲットを探索すると共に回転中のターゲットを観察する。補正部5は、電子ビーム装置により観察されるターゲットの位置を補正する。分析装置6は、集束イオンビーム装置からターゲットの断面に照射される集束イオンビームにより放出される二次イオンを分析する。 (もっと読む)


【課題】 呼気凝縮液(EBC)に存在するグルコースを分析する方法およびシステムである。特定の実施例においては、電気化学的−または電量的ベースの検知技術が用いられ、グルコースが存在するかどうか、および/または、その濃度に関して、呼気凝縮液が分析される。本発明は、その呼気凝縮液において検出されたグルコースに基づいて、血中における血糖レベルに関して、非侵襲性であって、正確である評価を実施するシステムおよび方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】簡便に結晶方位の同定が可能であって、しかも微細な結晶粒に対して適用可能であり、被検体に含まれる添加物の影響を受けにくい結晶方位の同定方法及び結晶方位同定装置を提供する。
【解決手段】圧子を結晶体における所定の結晶粒に押し込んで圧痕を形成する圧痕形成手段と、圧痕の形状を計測する圧痕形状計測手段と、圧痕の形状から結晶方位を同定する解析手段とを備え、解析手段では、圧子で形成される理想的な圧痕の形状と、圧痕形状計測手段で計測した圧痕の形状との差に基づいて結晶方位を同定する。 (もっと読む)


【課題】コンタミネーション(細菌感染や汚濁)の可能性を低減すること。
【解決手段】ディッシュ11に保持された培養液中の試料細胞に向けて、当該試料細胞に作用する物質を含む液体を吐出する液滴吐出装置10を、上記試料細胞に作用する物質を含む液体を保持するとともに、当該液体を吐出する吐出口を有する吐出ヘッド12と、印加される電圧に応じて、上記吐出ヘッド12の吐出口から当該液体を吐出させる圧電素子34と、上記吐出ヘッド12の吐出口が上記培養液に非接触の位置にあるときに、上記圧電素子34に所定の電圧を印加する制御用・画像表示用PC17と、から構成する。 (もっと読む)


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