【課題】指触乾燥性が良好で、無電解金めっき耐性の高い感光性樹脂組成物、その硬化皮膜および該硬化皮膜を備えるプリント配線板を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸変性感光性エポキシ樹脂、（Ｂ）非感光性カルボン酸樹脂、および、（Ｃ）液状２官能性エポキシ樹脂、を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物である。前記（Ｂ）非感光性カルボン酸樹脂の重量平均分子量が１００００以上３００００以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】優れたパターン倒れ耐性（ＰＣＭ）を有するレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下式（Ｉ）で表される化合物、その化合物に由来する構造単位を有する樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法。


［式中、Ｑ^Ｉ１及びＱ^Ｉ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表し、ｎは、０又は１を表し、ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立に、０又は１を表し、Ｘ^１は、単結合又は炭素数１〜１０のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよいが、ｎが０の時、Ｘ^１は単結合ではなく、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｚ^１＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】ＭＥＥＦ、ＣＤＵ及び解像性に優れるフォトレジスト組成物、並びにこのフォトレジスト組成物を用いたレジストパターンの形成方法の提供。
【解決手段】［Ａ］側鎖にスルホラクトン環を有するノルボルナン環を有する（メタ）アクリレート単位（Ｉ）を有し、重量平均分子量が３，０００以上８，０００以下である重合体、及び［Ｂ］酸発生体を含有するフォトレジスト組成物。また、［Ａ］重合体は、酸解離性基を含む構造単位（ＩＩ）をさらに有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】プロキシミティ露光装置を用いてスペーサを形成する場合でも、小径のスペーサを形成しやすいスペーサ形成用感光性樹脂組成物、当該感光性樹脂組成物から形成されたスペーサ、当該スペーサを備える表示装置、及び当該感光性樹脂組成物を用いるスペーサの形成方法を提供すること。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、光重合性モノマー（Ｂ）、及び光重合開始剤（Ｃ）、及び下記式（１）で表される化合物を含有する、スペーサ形成用感光性樹脂組成物を用いる。式中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に水素原子又は有機基を示すが、少なくとも一方は有機基を示す。Ｒ^１及びＲ^２は、それらが結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。Ｒ^３は、単結合又は有機基を示す。Ｒ^４〜Ｒ^９は、それぞれ独立に水素原子、有機基等を示すが、Ｒ^６及びＲ^７が水酸基となることはない。Ｒ^１０は、水素原子又は有機基を示す。
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【課題】優れたラインエッジラフネスのレジストパターンを製造し得るレジスト組成物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、樹脂及び酸発生剤を含有し、樹脂が、式（ａ１−０）で表される構造単位を含み、かつ、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂であるレジスト組成物。
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【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを製造することができる、特定の塩を酸発生剤として含むレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子等を表す。Ｌ^１は、２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基等を表す。Ｌ^２及びＬ^３は、それぞれ独立に、単結合、２価の炭素数１〜６の飽和炭化水素基等を表す。環Ｗ^１及び環Ｗ^２は、互いに独立に、炭素数３〜３６の炭化水素環を表す。Ｒ^１及びＲ^２は、互いに独立に、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。Ｒ^３は、炭素数１〜６のアルキル基を表す。ｔは、０〜２の整数を表す。Ｚ^＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】露光ラチチュード、及びＬＷＲなどのパターンラフネス特性に優れ、経時による性能の変動が少ない感放射線性樹脂組成物、それを用いた感放射線性膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。
【解決手段】放射線の照射により分解して酸を発生させる下記一般式（１）で表される化合物、及び酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有する感放射性樹脂組成物。一般式（１）中、Ｒ_１及びＲ_２は、各々独立に、アリールを表し、Ｒ_１とＲ_２が連結していてもよい。Ｒ_３及びＲ_４は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、又はアリール基を表す。また、Ｒ_３とＲ_４が連結していてもよい。Ｒ_５は、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、又はアルキルカルボニル基を表す。Ｒ_５は、Ｒ_３もしくはＲ_４と連結していてもよい。
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【課題】輝度を高めつつ、高いコントラストが得られる、カラーフィルタの着色パターン形成に有用な着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び表示装置を提供する。
【解決手段】（Ａ−１）一般式（Ｉ）で表される構造が金属又は金属化合物に配位したジピロメテン金属錯体化合物及び（Ａ−２）一般式（ＩＩ）で表される構造が金属又は金属化合物に配位したアザピロメテン金属錯体化合物から選択される１種以上の色素化合物と、（Ｂ）一般式（III）で表されるポルフィリン化合物と、を含有する。一般式（ＩＩＩ）中、Ｚ^１〜Ｚ^４はＮ又はＣ−Ｒ、Ａ^１〜Ａ^８は水素原子、アルキル基等を表し、Ａ^１とＡ^２、Ａ^３とＡ^４、Ａ^５とＡ^６、及びＡ^７とＡ^８の少なくとも一組は環構造を形成しない。Ｍは２価の金属イオン等を表す。
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【課題】１浴処理が可能で、耐刷性、インキ着肉性、及び印刷汚れにくさに優れた平版印刷版の製版方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、ビニルカルバゾール化合物由来のモノマー単位を有するアクリルポリマー、及び／又は、ウレタン−アクリルハイブリッドポリマーを含有する光重合性感光層を有するネガ型平版印刷版原版を作製する工程、前記ネガ型平版印刷版原版を画像様に露光する工程、及び、ｐＨ４〜１０であり、（成分Ａ）下記式（Ｉ）で表される化合物、及び、（成分Ｂ）水、を少なくとも含み、有機溶剤の含有量が５重量％未満である現像液により、露光された前記ネガ型平版印刷版原版を現像する工程、を含み、前記現像工程の前後での水洗工程及びガム引き工程を含まないことを特徴とする平版印刷版の製版方法。式（Ｉ）中、Ｒ¹は置換若しくは無置換の、フェニル基、１−ナフチル基又は２−ナフチル基を表し、ｎは４〜２０の整数を表す。
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【課題】多層レジストプロセスにおいて、有機溶媒現像の場合に、パターン倒れ耐性に優れるレジストパターンを形成させることができるレジストパターン形成方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、（１）レジスト下層膜形成用組成物を用い、基板上にレジスト下層膜を形成する工程、（２）フォトレジスト組成物を用い、上記レジスト下層膜上にレジスト膜を形成する工程、（３）上記レジスト膜を露光する工程、及び（４）上記露光されたレジスト膜を、有機溶媒を８０質量％以上含有する現像液を用いて現像する工程を有し、上記レジスト下層膜形成用組成物が、［Ａ］ポリシロキサン鎖を含み、カルボキシル基、酸の作用によりカルボキシル基を生じうる基及び酸無水物基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を有する成分を含有するレジストパターン形成方法である。 （もっと読む）