【課題】アンチモン系、リン系よりも弱い酸発生剤で硬化が可能となる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】実施の形態に係る感光性樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、１以上の架橋形成性部位を有するアクリル系モノマーと、末端ビニル系シランカップリング剤と、光重合開始剤と、光酸発生剤とを含有する。たとえば、エポキシ樹脂は、加水分解によりシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）を与えるアルコキシ基（Ｓｉ−ＯＲ）を有する。アクリル系モノマーは、末端ビニル基を１〜６個持つ分子である。末端ビニル系シランカップリング剤は、分子の一端に加水分解でシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）を与えるアルコキシ基（Ｓｉ−ＯＲ）を有し、他端に有機官能基としてビニル基を有する。また、光重合開始剤は、カルバゾール骨格を有するオキシム系ラジカル重合開始剤である。 （もっと読む）

【課題】硬化皮膜の無電解金めっき耐性が良好で、はんだレベラー（予備はんだ工程）や無電解金めっき工程の際の白化現象の発生が抑制された感光性樹脂組成物、その硬化皮膜および該硬化皮膜を備えるプリント配線板を提供する。
【解決手段】（Ａ）非感光性カルボン酸樹脂、（Ｂ）アルミニウム含有無機フィラー、（Ｃ）エポキシ樹脂、を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物である。さらに、感光性モノマーを含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】白濁及びクラック（ひび割れ）がなくクリアな硬化物を得ることができるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。また、前記ポジ型感光性樹脂組成物を硬化して得られた、白濁及びクラック（ひび割れ）がなくクリアな光学部材を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）無機粒子、（成分Ｂ）特定構造の構成単位を有するグラフト共重合体、（成分Ｃ）溶剤、（成分Ｄ）（ａ１）酸及び／又は熱によって脱離する基を有する構成単位と（ａ２）架橋基を有する構成単位とを有する重合体、並びに、（成分Ｅ）光酸発生剤、を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、前記ポジ型感光性樹脂組成物を硬化して得られた硬化物及び光学部材。 （もっと読む）

【課題】液浸露光時における疎水性を確保しつつ、現像欠陥を抑制することができるフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】［Ａ］親水性基を含む構造単位（Ｉ）を有するフッ素原子含有重合体、［Ｂ］アルカリ解離性基を含む構造単位（ＩＩ）を有するフッ素原子含有重合体、及び［Ｃ］酸解離性基を有する重合体を含有し、［Ａ］重合体、［Ｂ］重合体及び［Ｃ］重合体は互いに異なる重合体であるフォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】パターン加工性に優れ、ＵＶ硬化および熱硬化により高硬度、高透明であり、耐湿熱性の優れる硬化膜を与える、アルカリ現像可能なネガ型感光性樹脂組成物の硬化膜を具備し、該硬化膜によりモリブデン含有金属配線が保護されているタッチパネル部材の提供。
【解決手段】（Ａ）カルボン酸当量が２００g/mol以上１，４００g/mol以下であるアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）多官能モノマー、（Ｄ）ジルコニウム化合物を含有するネガ型感光性樹脂組成物の硬化膜を具備し、該硬化膜によりモリブデン含有金属配線が保護されているタッチパネル部材。 （もっと読む）

【課題】電子線あるいは極紫外線（ＥＵＶ光）を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、かつパターン倒れ性能に優れ、更には、パターン下部に食い込みの生じない形状に優れたパターン形成方法、感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及び、レジスト膜、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。
【解決手段】（Ａ）酸分解性繰り返し単位を含有し、酸の作用により有機溶剤を含む現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、（Ｂ）電子線又は極紫外線の照射により酸を発生し、かつ酸の作用により分解し有機溶剤に対する溶解度が減少する低分子化合物とを含有する感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程（１）、該膜を電子線又は極紫外線を用いて露光する工程（２）、及び、露光後に有機溶剤を含む現像液を用いて現像して、ネガ型のパターンを形成する工程（４）をこの順番で有する、パターン形成方法、これに供される感電子線性又は感極紫外線性樹脂組成物、及び、これを用いて形成されたレジスト膜。また、上記パターン形成方法を用いた、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】遮光剤を含有しながらも、低露光量で直進性・密着性に優れたパターンを形成可能な感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法、該感光性樹脂組成物を用いて形成されたカラーフィルタ、及び該カラーフィルタが使用された表示装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る感光性樹脂組成物は、光重合性化合物、光重合開始剤、下記式（１）で表される化合物、及び遮光剤を含有する。式中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に水素原子又は有機基を示すが、少なくとも一方は有機基を示す。Ｒ^１及びＲ^２は、それらが結合して環状構造を形成していてもよく、ヘテロ原子の結合を含んでいてもよい。Ｒ^３は、単結合又は有機基を示す。Ｒ^４〜Ｒ^９は、それぞれ独立に水素原子、有機基等を示すが、Ｒ^６及びＲ^７が水酸基となることはない。Ｒ^１０は、水素原子又は有機基を示す。
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【課題】永久マスクレジスト（ソルダーレジスト）に要求される諸特性を満足しつつ、アルカリ現像性、難燃性に優れ、且つ、可とう性（耐折性）と部品実装時の反り、低反発性及び、タック性、作業性に優れた感光性樹脂組成物、及びそれを用いた永久マスクレジストとその製造方法を提供する。
【解決手段】エチレン性不飽和基及びカルボキシル基を有するポリウレタン化合物、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、光重合開始剤、リン含有化合物、及び熱硬化剤を含有する感光性樹脂組成物であって、前記重合性化合物が、下記一般式（Ｉ）（式中、Ｒ^２はオキシアルキレン鎖を有する（メタ）アクリレート基）で表される化合物を感光性樹脂組成物中３〜２９質量％含有する、感光性樹脂組成物。
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【課題】光感度に優れるとともに、光硬化後に得られるレジスト形状を良好に維持することが可能な感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）分子内にエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）重合禁止剤を含有し、（Ｄ）重合禁止剤の含有量が組成物中の固形分全量を基準として２０〜１００質量ｐｐｍである、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】望ましくは高い解像度および低いラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するフォトレジストについての厳しい要件を満たす向上した解像度を有するカリックス［４］アレーンベースの分子性ガラス化合物、該化合物の形成方法および該化合物を含むフォトレジストを提供する。
【解決手段】式Ｃ（Ｒ^１）_２＝Ｃ（Ｒ^２）−Ｏ−（Ｌ）_ｎ−Ａｒ^１の芳香族ビニルエーテル（式中、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立して単結合、Ｈ、Ｃ_１−２０アルキル等であり、ＬはＣ_１−２０連結基であり、ｎは０もしくは１であり、並びにＡｒ^１はハロ含有単環式、または置換されているかもしくは非置換の多環式もしくは縮合多環式Ｃ_６−２０芳香族含有部分であり、ここで、Ｒ^１およびＲ^２のいずれかもしくは両方が単結合であってかつｎが０である場合にはＲ^１およびＲ^２はＡｒ^１に連結される）と、カリックス［４］アレーンとのビニルエーテル付加物を含む分子性ガラス化合物。 （もっと読む）