国際特許分類[G03F7/004]の内容
物理学 (1,541,580) | 写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ (245,998) | フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置 (42,984) | フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化またはパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置 (38,375) | 感光材料 (22,284)
国際特許分類[G03F7/004]の下位に属する分類
アジド (15)
ジアゾニウム塩または化合物 (20)
キノンジアジド (829)
炭素―炭素三重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.アセチレン化合物 (3)
炭素―炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物 (5,469)
不溶性または特異的に親水性になる高分子化合物 (1,733)
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト (3,188)
クロム酸塩
銀塩 (43)
シリコン含有化合物 (806)
接着促進非高分子添加剤に特徴のある感光組成物 (35)
構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの (2,371)
国際特許分類[G03F7/004]に分類される特許
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ポジ型感光性アクリル樹脂およびポジ型感光性樹脂組成物
【課題】形成したパターンをベークした後であっても矩形または矩形に近いプロファイルが形成可能なポジ型感光性樹脂組成物を提供することが可能な樹脂を提供する。
【解決手段】主鎖末端にカルボキシル基を含有し、かつ、3員環および/または4員環の環状エーテル基を有する繰り返し単位を含有する、アルカリ現像液に不溶または難溶性で酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となるポジ型感光性アクリル樹脂を用いる。
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ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法
【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式(1)〜(3)から選ばれる酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。
【効果】露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好で、特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。
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光硬化性熱硬化性樹脂組成物、そのドライフィルム及び硬化物並びにそれらを用いたプリント配線板
【課題】半導体パッケージ用ソルダーレジストとして重要なPCT耐性、HAST耐性、無電解金めっき耐性、冷熱衝撃耐性を有する硬化皮膜を形成できる光硬化性熱硬化性樹脂組成物、そのドライフィルム及び硬化物、並びにこれらによりソルダーレジスト等の硬化皮膜が形成されてなるプリント配線板を提供する。
【解決手段】アルカリ水溶液により現像可能な光硬化性熱硬化性樹脂組成物は、(A)カルボキシル基含有樹脂(但し、エポキシ樹脂を出発原料とするカルボキシル基含有樹脂を除く)、(B)光重合開始剤、(C)水酸基含有エラストマー、及び(D)アミノ樹脂、イソシアネート、又はブロックイソシアネートのいずれか1種を含有する。上記カルボキシル基含有樹脂は、水酸基を含まないことが好ましく、さらに感光性基を有することが好ましい。また、上記水酸基含有エラストマーは、ブタジエン又はイソプレン誘導体であることが好ましい。
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塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】レジストパターンのラインエッジラフネスに優れた酸発生剤を含むレジスト組成物の提供。
【解決手段】式(I)で表される塩。
[式中、Q1〜Q4はフッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。L1及びL2は炭素数1〜17の2価の飽和炭化水素基等を表す。Wは式(W−I)
(式中、nは0〜5の整数を表す。R1は炭素数1〜12の炭化水素基等を表す。mは0〜4の整数を表す。2つの*はL1及びL2との結合手である。)で表される基を表す。Za+及びZb+は有機対イオンを表す。]
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フォトスペーサ用感光性樹脂組成物およびこれを用いたフォトスペーサ
【課題】g線及びh線に対する露光感度が高く、かつ、主フォトスペーサとサブフォトスペーサの両方の形状に優れたフォトスペーサの提供。
【解決手段】(A)分子内に重合性基を有するバインダー樹脂、(B)重合性化合物、(C)特定のオキシム構造を有する光重合開始剤、(D)増感剤および(E)重合禁止剤を含有し、同時に2種以上の独立したパターンの形成が可能なフォトスペーサ用感光性樹脂組成物。
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ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法
【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式(1)で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。
(R1、R2は炭素数1〜8の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素数6〜10のアリール基、又は炭素数2〜10のアルケニル基で、酸素原子又は硫黄原子を有していてもよい。R3はフッ素原子又はトリフルオロメチル基、mは1〜5の整数。)
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好で、特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、特に超LSI製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、EUV露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。
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感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法
【課題】レジストパターンの裾引き形状改善に効果が有り、LER性能が良好なパターンを形成することが可能である感活性光線又は感放射線樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有し、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を、感活性光線性または感放射線性樹脂組成物の全固形分を基準として、10〜30質量%含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。
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機上現像型の平版印刷版原版を用いる印刷方法
【課題】印刷スタート時の損紙を減少し、印刷物にムラを発生させないための、機上現像型平版印刷版原版の簡易な印刷方法を提供する
【解決手段】下記(i)から(v)の工程順に行う印刷方法。
(i)機上現像型平版印刷版原版を画像様に露光し、印刷機の版胴に装着する。
(ii)印刷機の湿し水供給手段である水着けローラー、水着けローラーに水を給水するローラー、水量を安定化させるためのローラー、及びメータリングローラーの少なくとものいずれかに、湿し水及び有機溶剤を含む水溶液の少なくともいずれかをスプレー供給する。
(iii)給水ローラーを回転させる。
(iv)水着けローラーを平版印刷版原版に接触させ、湿し水を供給する。
(v)平版印刷版原版にインキ着けローラーから印刷インキを供給し、印刷用紙を供給する。
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感光性組成物
【課題】高耐熱性、高透明性、耐クラック性、下地との密着性等に優れるのに加え、高誘電率を有し、アルカリ水溶液で現像することにより得られる高精細なパターニングされた膜の形成に有用な感光性組成物の提供。
【解決手段】下記一般式(1)で表されるシランと、下記一般式(2)で表されるシランとを含有するシラン混合物を加水分解および縮合させることによって得られるシロキサンポリマー(A)と、光酸発生剤(B)と、上記(A)及び(B)が可溶な溶剤(C)と、を含む感光性組成物。
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感光性導電性樹脂組成物、感光性導電性ペーストおよび導電体パターン
【課題】解像性および粘性に優れた感光性導電性樹脂組成物、感光性導電性ペーストおよび該ペーストを用いた導電体パターンを提供する。
【解決手段】本発明の感光性導電性樹脂組成物は、(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)光重合性モノマー、(C)オキシムエステル系光重合開始剤、(D)セルロース樹脂、および、(E)導電粉を含有する。
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