説明

国際特許分類[G03F7/004]の内容

国際特許分類[G03F7/004]の下位に属する分類

国際特許分類[G03F7/004]に分類される特許

91 - 100 / 7,772


【課題】光酸発生剤を用いずに、特定の部分をアルカリ溶液で溶解して除去した高分子膜の提供。
【解決手段】(A)窒素カチオンを有するオニウム塩と(B)アルカリ難溶性樹脂を含有する組成物を支持体の上に適用して膜を形成すること、および上記膜の表面の一部または全部に、プラズマを照射してプラズマ照射した部分をアルカリ溶液で溶解除去することを含む高分子膜の製造方法。 (もっと読む)


【課題】
感度、解像度及び密着性の全てを従来よりも十分に満足するレジストパターンを形成する感光性樹脂組成物及び感光性エレメント、並びにそれらを用いたレジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
上記目的を達成する本発明は、(A)特定のスチレン及びその誘導体から得られる2価の基10〜65質量部と、特定の(メタ)アクリル酸エステル及びその誘導体から得られる2価の基5〜55質量部と、(メタ)アクリル酸から得られる2価の基15〜50質量部とを有する100質量部のバインダーポリマー、(B)光重合性化合物、及び(C)光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物を提供する。 (もっと読む)


【課題】解像度、密着性及びレジスト形状がいずれも良好である感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の感光性樹脂組成物は、脂環状又は分岐状の基を有する(メタ)アクリル酸エステル化合物及び(メタ)アクリル酸に基づく構成単位を有し、分散度が1.6以下であるバインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含有する。 (もっと読む)


【課題】高感度という特性を有し、高染料濃度で薄膜化してもパターン形成性に優れ、染料の溶出がなく、また、生産性の高い染料含有硬化性組成物、並びに、これを使用したカラーフィルタおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】有機溶剤可溶性染料(A)、硬化剤(C)、および感光性化合物(D)を含有する染料含有硬化性組成物であって、全固形成分に対する前記有機溶剤可溶性染料(A)の含有量が45質量%以上であり、かつ、全固形成分に対する前記硬化剤(C)の含有量が20質量%以上55質量%以下であり、前記感光性化合物(D)が、光重合開始剤である2−(O−ベンゾイルオキシム)−1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−1,2−オクタンジオンであることを特徴とする染料含有硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタおよびその製造方法。 (もっと読む)


【課題】疎水性が高く液浸水への溶出が低く、酸拡散制御による、高解像性パターンプロファイルの構築。
【解決手段】(A)式(1−1)の化合物(B)式(1−2)で示される酸発生剤、(C)ベース樹脂、(D)有機溶剤を含有するArF液浸露光用化学増幅ポジ型レジスト材料。


(Arはアリール基。)


(R1はアルキル基、アルケニル基又はアラルキル基。R2は水素原子又はトリフルオロメチル基。Arはアリール基。) (もっと読む)


【課題】ラインエッジラフネスに優れたレジストパターンを製造し得るレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】フェノール性ヒドロキシ基を有する構造単位を有し、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂と、酸分解性基を有する酸発生剤と、両性イオン化合物とを含むレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】解像性に優れるレジストパターンを製造可能なレジスト組成物を提供する。
【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつ酸の作用により分解しアルカリ水溶液への溶解性が増大する樹脂と、酸発生剤と、式(I)で表される化合物とを含有するレジスト組成物。[式(I)中、環Hは、置換基を有していてもよい炭素数3〜20の芳香族複素環を表す。R、R、R及びRは、それぞれ独立に、炭素数1〜20のアルキル基を表す。]
(もっと読む)


【解決手段】ヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位含有高分子化合物及び酸発生剤又はヒドロキシ基が酸不安定基で置換された繰り返し単位と露光により酸を発生する繰り返し単位含有高分子化合物と、パーフルオロアルキルエーテルカルボン酸のスルホニウム塩又はヨードニウム塩と、有機溶剤とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後高エネルギー線でレジスト膜を露光し、加熱処理後有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得るパターン形成方法。
【効果】ヒドロキシ基の水素原子を酸不安定基で置換した繰り返し単位含有高分子化合物と酸発生剤とパーフルオロアルキルエーテルカルボン酸のオニウム塩を含むフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像におけるポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く、溶解コントラストが高い特徴を有する。 (もっと読む)


【課題】感光性フィルムで構成された絶縁層に露光及び現像工程によりチップ内臓のためのキャビティーが形成される埋め込み印刷回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は埋め込み印刷回路基板の製造方法に関するものであって、感光性組成物を含む絶縁層を提供する段階;前記絶縁層に露光及び現像工程によってキャビティーを形成する段階;キャビティーにチップを配置する段階;及びチップが配置された絶縁層上にメッキ層を形成し、メッキ層をエッチングしてパターンを形成する段階;を含む。 (もっと読む)


【課題】不飽和カルボン酸(a1)とエポキシ基含有不飽和化合物(a2)とを重合させた共重合体(A1)の分子量の増大を抑制できる樹脂組成物、当該樹脂組成物を含有する感光性樹脂組成物、当該感光性樹脂組成物から形成されたスペーサ、及び当該スペーサを備える表示装置を提供すること。
【解決手段】少なくとも不飽和カルボン酸(a1)とエポキシ基含有不飽和化合物(a2)とを重合させた共重合体(A1)を含むアルカリ可溶性樹脂(A)と、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを含む溶剤(S)とを含有する樹脂組成物に、下記式(1)で評される化合物を配合する。
(もっと読む)


91 - 100 / 7,772