国際特許分類[G03F7/004]の内容
物理学 (1,541,580) | 写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ (245,998) | フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置 (42,984) | フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化またはパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置 (38,375) | 感光材料 (22,284)
国際特許分類[G03F7/004]の下位に属する分類
アジド (15)
ジアゾニウム塩または化合物 (20)
キノンジアジド (829)
炭素―炭素三重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.アセチレン化合物 (3)
炭素―炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物 (5,469)
不溶性または特異的に親水性になる高分子化合物 (1,733)
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト (3,188)
クロム酸塩
銀塩 (43)
シリコン含有化合物 (806)
接着促進非高分子添加剤に特徴のある感光組成物 (35)
構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの (2,371)
国際特許分類[G03F7/004]に分類される特許
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着色感光性樹脂組成物、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ
【課題】塗膜を減圧乾燥したときの塗膜の表面欠陥や表面荒れを効果的に抑制することが可能な着色感光性樹脂組成物、その着色感光性樹脂組成物を用いて形成されたパターンを有するカラーフィルター、及びそのカラーフィルターを有する液晶表示ディスプレイを提供する。
【解決手段】本発明に係る着色感光性樹脂組成物は、光重合性化合物(A)、光重合開始剤(B)、着色剤(C)、及び溶剤(S)を含有する。溶剤(S)は、沸点が170℃未満である1種以上の低沸点溶剤(L)と、沸点が170℃以上180℃未満である1種以上の第1の高沸点溶剤(H1)と、沸点が180℃以上である1種以上の第2の高沸点溶剤(H2)とからなり、溶剤(S)中の低沸点溶剤(L)の割合は15質量%以上35質量%未満、第1の高沸点溶剤(H1)の割合は60〜85質量%、第2の高沸点溶剤(H2)の割合は0.1〜10質量%である。
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レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物
【課題】感度、解像性、リソグラフィー特性及びエッチング耐性に優れる高分子化合物、レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用により現像液に対する溶解性が変化し、(a5−0)で表される構成単位を有する高分子化合物を含む基材成分(A)及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物。(式(a5−0)中、Rは水素原子、アルキル基又はハロゲン化アルキル基である。R1は硫黄原子又は酸素原子である。R2は単結合又は2価の連結基である。Yは芳香族炭化水素基、又は多環式基を有する脂肪族炭化水素基である。)
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化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
【課題】優れたラインエッジラフネス(LER)を有するレジストパターンを得ることができる化合物、樹脂、レジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】式(I)で表される化合物、この化合物に由来する構造単位を有する樹脂及びこれを含むレジスト組成物。
[式中、R2はエチレン性二重結合を含む基;Wは2価の脂環式炭化水素基;T1は、単結合、2価の脂肪族炭化水素基等;T2は2価の脂肪族炭化水素基等]
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液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法
【課題】液浸露光時に於ける液浸液に対する後退接触角の更なる改善及びウォーターマーク欠陥の低減が可能な液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】(A)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂、及び、(D)下記一般式(S1)〜(S3)で表される群より選択される少なくとも1種の溶剤を全溶剤中3〜20質量%含有する混合溶剤、を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
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パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス
【課題】ラフネス性能、局所的なパターン寸法の均一性及び露光ラチチュードに優れ、かつ現像により形成されるパターン部が良好なドライエッチング耐性を有するパターン形成方法、及び、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】酸によって分解しカルボキシル基を生じる基を有する繰り返し単位(a1)を含む樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、該膜を露光する工程、及び、ヘテロ原子及び炭素原子を含み、且つ、炭素原子数が7以上の有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程を含み、繰り返し単位(a1)が、酸分解後のカルボキシル基を生じた際の該単位中に含まれる各原子の数を下式に代入し得られる値Xが0<X≦5であるパターン形成方法。X=(酸による分解後の繰り返し単位を構成する原子数の合計)/{(炭素原子の数)−(炭素原子でも水素原子でもない原子の数)}
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着色剤、着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子
【課題】着色剤として染料を用いた場合に、良好な電圧保持率、高いコントラスト及び高い耐熱性を両立できる着色層を形成することのできる着色組成物を提供すること。
【解決手段】次の成分(A)、(B)及び(C);(A)下記式(1)で表される染料を含む着色剤、(B)バインダー樹脂、及び(C)架橋剤を含有することを特徴とする着色組成物。
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着色樹脂組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機EL表示装置
【課題】本発明は、得られる画素の輝度を維持又は向上させつつ、スプレー現像における画素形成に優れた着色樹脂組成物を提供することを課題とする。
本発明はまた上記着色樹脂組成物を用いたカラーフィルタ、並びに高品質の液晶表示装置及び有機EL表示装置を提供することを課題とする。
【解決手段】(A)ハロゲン化金属フタロシアニン顔料、(B)黄色染料、(C)バインダー樹脂、(D)光重合開始成分及び(E)溶剤を含有し、
該(D)光重合開始成分が、特定の化合物を含有することを特徴とする、着色樹脂組成物。
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感光性着色組成物及びそれを用いたカラーフィルタ基板
【課題】積層フォトスペーサーの高さ制御のために体質顔料を含有した感光性着色組成物においても、剥離現像や保存安定性の悪化などを引き起こすことなく積層高さを所望の高さに制御できる、積層フォトスペーサーを有するカラーフィルタ基板に適用される感光性着色組成物と、それを用いたカラーフィルタ基板を提供する。
【解決手段】基板上にブラックマトリクス、複数色の着色画素、前記ブラックマトリクス上に前記着色画素を構成する感光性着色組成物を1色以上積層して形成された積層フォトスペーサーを有するカラーフィルタ基板に用いられる感光性着色組成物において、該感光性着色組成物の全固形分中に1〜10質量%の透明体質顔料を含有し、かつ、光重合性モノマーの分子量が1000〜1500の範囲である。
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パターン形成方法、積層レジストパターン、有機溶剤現像用の積層膜、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス
【課題】基板上の残渣を低減でき、良好な断面形状を有するパターン形成方法の提供。
【解決手段】(ア)基板上に第1の樹脂組成物(I)を用いて反射防止膜を形成する工程、(イ)前記反射防止膜上に、第2の樹脂組成物(II)を用いてレジスト膜を形成する工程、(ウ)前記積層膜を露光する工程、及び、(エ)前記露光された積層膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像して、ネガ型のパターンを形成する工程、を含む、パターン形成方法であって、前記第1の樹脂組成物(I)が、酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する第1の樹脂を含有し、前記第2の樹脂組成物(II)が、酸の作用により極性が増大して有機溶剤を含む現像液に対する溶解性が減少する第2の樹脂を含有し、(I)及び(II)の少なくとも一方が、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする。
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感光性樹脂組成物、カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法
【課題】高精細化したディスプレイパネル用カラーフィルタをフォトリソグラフィー法で製造する際に、着色層の平坦性を損なわない感光性樹脂組成物、それを用いたカラーフィルタ、及び表示ムラのないディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】顔料、透明樹脂、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー、光重合開始剤を含有した感光性樹脂組成物であって、(a)硬化後の表面硬度が、該表面に角錐型微小先端を有する圧子を20秒かけて5mNとなる荷重で押し込んだ時に、計測されるビッカース硬度(HV)が27から45(b)硬化後の膜の膨潤率が、下記式(1)で示される膨潤率で90%から110%を特徴とする感光性樹脂組成物。式(1)膨潤率(%)=(溶剤浸漬後の膜厚−溶剤浸漬前の膜厚)/溶剤浸漬前の膜厚×100(c)硬化後の算術平均粗さ(Ra)が、5nmから15nmであること。
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