【課題】 カソード近傍に発生する異常放電を防止してパーティクルやスプラッシュの発生を抑制するためのイオンビーム源及びこれを備えた成膜装置を提供する。
【解決手段】 金属製の筐体に、カソードと、磁気ギャップと、前記筐体内に磁場を生じさせる磁場発生手段と、前記筐体内に反応性ガスを導入するための反応性ガス導入手段と、前記磁気ギャップの近傍に配置されるアノードとを備えるイオンビーム源であって、前記カソードを接地電位から電気的に絶縁したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の両面を平坦化できるコンパクトなイオンガン、これを備えたイオンビームエッチング装置、イオンビームエッチング設備、これらを用いたエッチング方法及び磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】イオンガン１０は、プラズマ発生源１４と、引き出し電極部１６と、を含み、引き出し電極部１６は、電極板３４、３６、３８におけるこれら電極板３４、３６、３８を横切る基準面１８の一方側の部分を含みこれらの部分が基準面１８における照射対象領域１８Ａに対向するように基準面１８に対して傾斜した第１の電極部２０と、電極板３４、３６、３８における基準面１８の他方側の部分を含みこれらの部分が基準面１８における照射対象領域１８Ａに対向するように基準面１８に対して傾斜した第２の電極部２２と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 基板に対する注入位置での長手方向（Ｙ方向）のイオンビーム電流密度分布の均一性を向上させることができるイオン注入装置を提供する。
【解決手段】 このイオン注入装置は、イオンビーム５０を発生するイオン源１００と、イオン源１００内でＹ方向に走査される電子ビームを放出する電子ビーム源Ｇｎと、それ用の電源１１４と、注入位置近傍におけるイオンビーム５０のＹ方向のビーム電流密度分布を測定するイオンビームモニタ８０と、制御装置９０とを備えている。制御装置９０は、モニタ８０からの測定データに基づいて電源１１４を制御することによって、モニタ８０で測定したビーム電流密度が大きいモニタ点に対応する位置での電子ビームの走査速度を大きくし、測定したビーム電流密度が小さいモニタ点に対応する位置での電子ビームの走査速度を小さくして、モニタ８０で測定されるＹ方向のビーム電流密度分布を均一化する機能を有している。 （もっと読む）

【課題】寿命の長いイオン銃を提供する。
【解決手段】プラズマを生成してイオンを発生させるイオン化室と、イオン化室のイオン引き出し口に備えられる複数の電極とを有して成るイオン銃において、複数の電極のうちの少なくとも２つの電極は、その２つの電極と絶縁しつつそれらを結合する軸材と、その軸材に貫通され２つの電極間に挟持されて自身の軸方向寸法によって電極間隔を決定する円筒形のインシュレータとを用いて相互に固定され、円筒形のインシュレータの外周には、インシュレータの軸方向寸法より短い第１の軸方向寸法を有し、内周面に第１の軸方向寸法より短い第２の軸方向寸法を有する凸条が軸廻りに周回して形成された筒型の絶縁体シールドスリーブが嵌められている。 （もっと読む）

【課題】冷却効率が高く、かつ溶融層により耐食性が優れ、冷却水の漏水の危険が少なく、冷却効率の高いイオン源電極を得ることにある。
【解決手段】熱膨張係数の小さい耐熱材料からなる平板１と冷却孔となる冷却溝２を設けた溝付き平板３とを接合した構造のイオン源電極において、平板１と溝付き平板３との接合面及び溝付き平板の溝２内部にこれらの平板と反応性の良い耐食性に優れた金属からなるバリヤ９，１０を形成し、これら平板及び溝付き平板の接合面をバリヤ９，１０を介して接合して一体化したものである。 （もっと読む）

【課題】 本発明はイオンビーム源装置において、引き出されたイオンによって空間電荷が形成され、引き出し電流密度が大きくなると、それに比例した大きな電場が発生し、その結果イオンビームが自己発散するような問題点を除去することを課題とする。
【解決手段】 メッシュ構造、あるいは１個ないし多数の孔を持った電極を用いて、プラズマ源からイオンを引き出すイオンビーム源装置において、プラズマ源とは反対のビーム引き出し方向から、光、あるいはＸ線を照射することにより、照射された電極背面から光電子を放出させて、電極孔から引き出されたイオンの空間電荷を中和して、イオンビームの発散を抑制することを特徴とするイオンビーム源装置である。 （もっと読む）

【課題】 注入位置でのリボン状イオンビームのＹ方向におけるビーム電流密度分布の均一性を高めることができるイオン注入装置を提供する。
【解決手段】 このイオン注入装置は、リボン状のイオンビーム４を発生させるイオン源２内に原料ガス３４を導入するものであってＹ方向に配列された複数のガス導入部３８と、それから導入する原料ガス３４の流量を調節する複数の流量調節器３６とを備えている。更に、イオンビーム４のＹ方向におけるビーム電流密度分布を測定するビーム測定器４６と、それによる測定情報に基づいて各流量調節器３６を制御して、注入位置でのイオンビーム４のＹ方向におけるビーム電流密度分布を均一化する制御装置５０とを備えている。 （もっと読む）

本発明は、アンテナ１１、高周波源１２を利用するプラズマ発生器１３の形をしているプラズマ源に関する。発生したプラズマはチャンバー１４に流入し、イオンはグリッド１５によりチャンバー１４から加速される。部材１６は、局所的な損失を生じさせ、局所的なプラズマ密度を減少させるためにチャンバー内に位置する。
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本発明は、ＲＦソース（１２）から駆動されるプラズマ発生器（１１）と、アクセラレータグリッド（１５）が横断して取り付けられている出口（１４）を有するプラズマまたはソースチャンバ（１３）とを備えるイオンガン（１０）に関する。アクセラレータグリッド（１５）は４つの個別のグリッドを備える。出口（１４）に最も近い第１のグリッド（１６）が直流源（１６ａ）によって正電圧に維持され、第２のグリッド（１７）が直流源（１７ａ）によって高い負電圧に維持される。第３のグリッド（１８）が、直流源（１８ａ）によって、第２のグリッド（１７）の負電圧よりも著しく低い負電圧に維持され、および、第４のグリッドが接地される。これらのグリッドを取り付ける手段も説明されている。
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【課題】 イオン源が分割構造の電極を有していても、ターゲットに対して均一性の良い処理を施すことができるイオンビーム照射装置を提供する。
【解決手段】 このイオンビーム照射装置は、イオンビームを引き出すイオン源と、それから引き出されたイオンビームの照射領域内でターゲット１４をｙ軸に沿う方向に移動させるターゲット駆動装置とを備えている。そして、イオン源の電極８を、ｙ軸に直交するｘ軸に沿う方向において複数の電極片８２に分割して構成し、かつ各分割部２２をｙ軸に対して斜めに配置している。 （もっと読む）