【課題】効率的にイオンミリング加工を行えるイオンミリング装置を提供する。
【解決手段】プラズマを生成するプラズマ生成室１０と、プラズマ生成室１０に連通する処理室４０と、プラズマ生成室１０から処理室４０へイオンビームを引き出す複数の引き出し電極２０，２１，２２と、複数の引き出し電極２０，２１，２２から選択された一つの引き出し電極をプラズマ生成室１０の開口部１８に移動させるスライドテーブル３０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】熱による厚み方向への変形を防止する引き出し電極を備えたイオンミリング装置を提供する。
【解決手段】加速電極２０ａに形成され加速電極２０ａの取り付け位置を位置決めする基準穴２５ａと、加速電極２０ａに形成され加速電極２０ａの取り付け位置を案内する案内穴２６ａと、電極取り付け板に立設された基準穴２５ａと係合する加速電極保持軸４０と、電極取り付け板に立設された案内穴２６ａと係合する加速電極案内軸４１と、基準穴２５ａおよび案内穴２６ａの周囲を加速電極２０ａの厚み方向に押圧する圧縮コイルバネと、を有し、案内穴２６ａは基準穴２５ａの中心と加速電極２０ａの中心を結ぶ直線上に設けられ、直線に沿って長穴形状に形成されている。 （もっと読む）

【課題】 イオン源の引出し電極系を構成する電極の広い領域に亘って高速で堆積物を除去することができるクリーニング装置を提供する。
【解決手段】 引出し電極系１０の相対向する二つの電極１１、１２間にクリーニングガス４８を供給して当該電極間のガス圧をグロー放電を発生させるガス圧に保つクリーニングガス源４２等の手段と、両電極１１、１２間に直流電圧を印加してグロー放電８０を発生させるグロー放電電源６０とを備えている。かつ、所定時間内の電極１１、１２間の異常放電の発生回数Ｎを測定する異常放電測定器８４と、それで測定した異常放電の発生回数Ｎを用いてグロー放電電源６０の出力電流Ｉ_g を所定幅ずつ増減させる制御を行う電源制御器８６とを備えている。 （もっと読む）

【課題】電界の染み出し量を小さくして、イオン源より所望するイオンビームの引出しを容易に行うことのできるイオンビーム引出し用電極とこれを備えたイオン源を提供する。
【解決手段】イオン引出し用電極１は、中央に開口部３を有する電極枠体２と、開口部３内に少なくとも一方の端部が移動可能に支持されて、一方向に沿って互いに隙間を開けて並べられた複数のイオン引出し孔形成部材７とを有している。そして、イオン引出し孔形成部材７の少なくとも一つは、略棒状の本体部５と本体部５から延設された渡り部６とを有する構造体であって、１つのイオン引出し孔形成部材７を構成する渡り部６は隣りに配置された別のイオン引出し孔形成部材７に当接している。また、イオン源の構成としては、内部に陰極を備えたプラズマ容器に隣接して、上記のイオン引出し用電極１を少なくとも１枚以上備えている。 （もっと読む）

【課題】イオン電流量の低下を抑えつつ、原料ガスの使用量を低減させることが可能なイオン注入装置及びイオン注入方法を提供する。
【解決手段】イオン注入装置１０は、イオンビ−ムを引き出すイオン源１２と、半導体基板３０（ターゲット）にイオン注入を行う注入室２０と、注入室２０へガスを導入するガス導入部１１を備えている。そして、注入室２０へ導入されるガスは、原料ガスと不活性ガスとの混合ガスであり、原料ガスのみを注入室２０へ導入したときのイオン電流量が最大となる流量をＸａとしたときに、混合ガスの総流量が０．７Ｘａ以上、且つ、原料ガスの流量が０．４Ｘａ以上（原料ガスがＢＦ_３を主体として構成される場合は、原料ガスの流量が０．３Ｘａ以上）となるように設定されている。 （もっと読む）

【課題】
複数枚のスリット電極を有するイオン源において、電流量と制御性のバランスの取れたイオンビームの引出しを行う。
【解決手段】
この発明のイオン源１は、引出し電極系として複数枚のスリット電極７〜１０を有するイオン源１である。そして、スリット電極７〜１０は、開口部１５を有する電極枠体１４と開口部１５内に並設された複数本の電極棒１６とから構成されているとともに、イオン源１より発生されるイオンビーム２の進行方向に沿って最も上流側に位置するスリット電極５を構成する電極棒１６において、隣り合う電極棒１６間に形成されるスリット状開口部１７の形状がイオンビーム３の進行方向に沿って略テーパー状となるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】
スリット状開口部を形成する複数本の電極棒を交換する際の作業効率の改善されたスリット電極を提供する。
【解決手段】
この発明のスリット電極１は、開口部３を有する電極枠体２と、長手方向と交差する方向に沿って開口部３内に並設された複数本の電極棒５と、開口部３を挟んで各電極棒５の長手方向の端部を支持する複数の電極棒支持部７とを備えている。さらに、電極枠体２上に配置され、電極棒５が並設される方向に沿って複数の電極棒支持部７の上面を覆う蓋体６を備えていて、この蓋体６が電極棒支持部７の上面に配置された際、電極棒５の長手方向において電極棒支持部７に開放端部１３が形成されるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】マイクロ電子デバイスの製造に使用されるイオン注入装置の真空室やビームラインの構成部品からの残留物を洗浄する。
【解決手段】残留物を有効に除去するため、構成部品は、残留物を少なくとも部分的に除去するのに十分な時間の間かつ十分な条件下で、気相反応性のハロゲン化物組成物と接触させられる。気相反応性のハロゲン化物組成物は、残留物と選択的に反応し、一方で、真空室のイオン源領域の構成部品と反応しないように選択される。 （もっと読む）

【課題】 電極板と冷却管との接合性が良く、冷却効率が高く、かつ耐食性に優れ、長寿命のイオン源用電極を提供する。
【解決手段】 イオンビームを引出すための複数のビーム引出し孔がそれぞれ形成された複数の薄板1,2が重ね合わせ接合された電極本体部4と、薄板とは異なる金属材料からなり、電極本体部を一方側の端部から他方側の端部まで貫通し、さらに電極本体部の両端からそれぞれ延び出す延長部分を有する複数の冷却管3a,3b,3cと、薄板とは異なる金属材料からなり、冷却管の延長部分が内部を貫通するように電極本体部の両側にそれぞれ取り付けられ、冷却管との間隙がそれぞれシール溶接され、熱間静水圧処理により薄板と冷却管とが接合されて一体化した一対の端板7とを有する。 （もっと読む）

【課題】一定の加速電圧で処理対象物の厚さ方向全長に亘って均一なイオン濃度分布を得ることができる生産性のよいイオン注入法を提供する。
【解決手段】本発明は、減圧下で所定の処理ガスを導入してプラズマを形成し、このプラズマ中のイオンを引き出し、引き出したイオンを加速して処理対象物Ｗ内に注入するイオン注入法であって、処理ガスとして、Ｘ_ｍＹ_ｎ（式中、Ｘ及びＹを互いに異なる元素であって、その質量数が１、５〜４０の原子とし、ｍ＝１〜４、ｎ＝１〜１０とする）で表される分子の中から選択されるものを用いる。 （もっと読む）