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国際特許分類[H01J27/02]の内容

電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 電子管または放電ランプ (32,215) | イオンビーム管 (482) | イオン源;イオン銃 (482)

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【課題】 イオン源の引出し電極系を構成する電極の広い領域に亘って高速で堆積物を除去することができるクリーニング方法を提供する。
【解決手段】 イオン源2のプラズマ生成部4にイオン化ガスを導入してイオンビームを引き出す代わりに、引出し電極系10を構成する第1電極11と第2電極12との間にクリーニングガス48を供給して、第1電極11と第2電極12との間のガス圧を、イオンビーム引き出し時のガス圧よりも高く保った状態で、第1電極11と第2電極12との間にグロー放電用電源60から電圧を印加して、両電極11、12間にクリーニングガス48のグロー放電80を発生させる。 (もっと読む)


【課題】イオン液体を含有する溶液をエレクトロスプレー法により気相中に放出させることを用いるイオンビーム発生装置において、イオン液体は蒸気圧がほとんど無いため、真空中でも揮発せず、真空容器中にイオン液体が蓄積してしまうという課題があり、また、二次イオン質量分析(SIMS)用の一次イオンビーム源として応用する場合には、二次イオンの生成量の増大が課題となっており、前記課題を解決できる装置及び方法を提供する。
【解決手段】不揮発性であるイオン液体とは別に、揮発性を有する別の液体をも、エレクトロスプレー用細管(キャピラリー)に供給し、両成分からなるイオンビームを生成することにより、真空容器中に蓄積するイオン液体の総量を低下させることができ、また、二次イオン生成量も増大できる。 (もっと読む)


【課題】サイクロトロンが用いられるイオンビーム生成装置を小型化する。
【解決手段】図1の右側には、中心軸方向の磁場の強度を、図1の左側に示された構成に対応させて示す。サイクロトロン50からECRイオン源(イオン源)20までの磁場の強度が連続的に一定値以上に保たれている(零とならない)点である。Wienフィルター30やECRイオン源20においては磁場が利用されるため、それぞれにはコイルが用いられているが、これらにおいて用いられる磁場は、これらのコイルによって生成された磁場とサイクロトロンの磁場が重畳した磁場となっている。すなわち、このイオンビーム生成方法においては、ECRイオン源20からサイクロトロン50に至るまでのイオンビームが通過する経路の中心軸方向において、連続的に分布する磁場を形成する。各構成要素における軸方向の磁場強度を微調整するためにもソレノイドコイル41は使用される。 (もっと読む)


【課題】イオンビーム源装置においてイオンビームの発散を抑制し効率を著しく向上させことができる電荷中和装置を提供する。
【解決手段】メッシュ構造、あるいは1個ないし多数の孔を持った電極を用いて、プラズマ源容器内のプラズマ源からイオンを引き出すイオンビーム源装置において、プラズマ源とは反対のビーム引き出し方向から、一様で制御された電子ビームを照射することにより、照射された電極面から二次電子を放出させて、電極孔から引き出されたイオンの空間電荷を中和して、イオンビームの発散を抑制することを特徴とする電荷中和装置。 (もっと読む)


【課題】材料ガスの効率的な使用を可能とするイオン注入装置を提供する。
【解決手段】イオンソースチャンバ2内のアークチャンバ3内に導入された材料ガスをイオン化し、イオン化したイオンを半導体基板に注入する際に、前記イオンソースチャンバ2内のガスを真空ポンプ20によって排気する。排気されたガスの一部は廃棄ガス流路31を介して除害装置21に導き、無害化して大気放出する。残りは環流ガス流路33を介して前記イオンソースチャンバ2に戻して再使用する。 (もっと読む)


【課題】内包フラーレンの製造などに用いられる接触電離方式のプラズマ源は、タングステン製の平坦な円板状加熱金属体にイオン生成対象の金属蒸気を噴射して金属イオンを発生していたが、イオン化確率が小さく、十分なイオン電流がとれないという問題があった。
【解決手段】イオン生成対象の金属蒸気に加熱金属体上で光を照射し金属原子における電子を励起することにした。加熱金属体の材料として、仕事関数の大きいRe、Os、又はIrを用いることにした。さらに、加熱金属体の表面を凹凸状に加工することにより、イオン化確率を高め、大きなイオン電流の取り出しが可能になった。 (もっと読む)


【課題】 イオン源の引出し電極系を構成する電極の広い領域に亘って高速で堆積物を除去することができるクリーニング方法を提供する。
【解決手段】 イオン源2のプラズマ生成部4にイオン化ガスを導入してイオンビームを引き出す代わりに、引出し電極系10を構成する第1電極11と第2電極12との間にクリーニングガス48を供給して、第1電極11と第2電極12との間のガス圧を、イオンビーム引き出し時のガス圧よりも高く保った状態で、第1電極11と第2電極12との間にグロー放電用電源60から電圧を印加して、両電極11、12間にクリーニングガス48のグロー放電80を発生させる。 (もっと読む)


【課題】 マクロンの供給量を精確に制御することができ、かつ、マクロンにダイヤモンド等の絶縁性物質(半絶縁性物質を含む)を使用した場合でもターゲットに多量のマクロンを照射できるマクロン加速装置の電極構造を提供すること。
【解決手段】 マクロン加速装置のマクロン供給機構Sを、前記ベース板Bの裏側に固定され、かつ、筒壁に微粒子の投入口11を有する円筒電極1と;この円筒電極1の内側に固定され、かつ、投入口11の下方からベース板Bに向けて下方に傾斜した樋型のスロープ部21を有する浮遊電極2とを含んで構成し、
前記円筒電極1の投入口11から筒内部に投入された微粒子が、前記浮遊電極2のスロープ部21上を滑り落ちてベース板Bの近傍に落下するようにした。 (もっと読む)


イオン注入システムのイオン源の性能および寿命が向上する、イオン注入システムおよび方法であって、そのような向上を得るために有効な、同位体濃縮されたドーパント材料を使用することによる、またはドーパント材料と補給ガスとを使用することによるイオン注入システムおよび方法。 (もっと読む)


【課題】グリッド・アセンブリ内の熱ひずみが小さいイオンビーム発生器を提供すること。
【解決手段】放電チャンバの側壁(1A)、取付けプラットホーム(40)および抽出グリッド電極アセンブリ(20)の熱膨張係数α、αおよびαが、α>α≧αの関係を有するように選択される。たとえば、放電チャンバ側壁の材料はステンレス鋼またはアルミニウムであり、グリッドの材料はMo、WまたはCであり、また、プラットホームの材料はTiまたはMoである。 (もっと読む)


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