【課題】 プラズマ生成容器内のＹ方向におけるプラズマ密度を部分的に制御可能にして、リボン状イオンビームのＹ方向におけるビーム電流密度分布の均一性を良くすることや、所定の不均一な分布を実現可能にしたイオン源を提供する。
【解決手段】 このイオン源１０ｂは、Ｙ方向の寸法がＸ方向の寸法よりも大きいリボン状のイオンビーム２を発生させる。このイオン源１０ｂは、Ｙ方向に伸びたイオン引出し口１４を有するプラズマ生成容器１２と、プラズマ生成容器１２内のＸ方向の一方側にＹ方向に沿って複数段に配置された複数の陰極２０と、プラズマ生成容器１２内のＸ方向の他方側に陰極２０に対向させて配置された反射電極３２と、プラズマ生成容器１２内に、しかも複数の陰極２０を含む領域に、Ｘ方向に沿う磁界５０を発生させる電磁石４０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】投入電力の増大を抑制しつつ、寿命を向上可能なイオンドーピング装置用フィラメントおよびその製造方法、さらに当該イオンドーピング装置用フィラメントを備えたイオンドーピング装置を提供する。
【解決手段】フィラメント１１は、導電性を有するタングステン線からなり、当該タングステン線が直線状に延在する２つの直線部１２と、複数の直線部１２のうち、互いに隣接する直線部１２の端部を接続する接続部１３とを備えている。そして、直線部１２には、接続部１３よりもタングステン線が延びる方向に垂直な断面における断面積であるフィラメント断面積が大きい大径部１４が形成されている、 （もっと読む）

イオン注入機システムのイオン源のための、電子生成及び集束用溝を有する陰極、イオン源及び関連方法を開示する。一実施形態において、陰極は作業面に設けられた複数の電子生成及び集束用溝を有する。イオン源の反射電極も同様の構造にすることができる。
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【課題】イオンビーム照射開始直後から、安定した成膜を可能にした、プラズマ発生装置、成膜装置、該成膜装置に用いた液晶装置の製造方法、及ぶ該液晶装置を備えた電子機器を提供する。
【解決手段】放電室６内に所定のガスを導入すると共に放電室６の外周に設置したコイル７に高周波を通電してガスを放電させてプラズマを形成するプラズマ発生装置５である。放電室６の外側に、放電室６の内部を加熱する加熱手段Ｈを備えている。 （もっと読む）

【課題】メンテナンス時等において、固体ソースの酸化を防止することができる気化装置および気化装置を備えたイオン源装置を提供する。
【解決手段】気化装置１は、開口１１１が形成され、固体ソースＳを収容するとともに、内部で固体ソースＳが気化する収容部１１と、収容部１１内のガスを排出するための流路１２１Ｃが形成された排出部１２と、排出部１２が摺動するとともに、収容部１１の開口１１１に連通する孔１３１が形成され、収容部１１に接続された被摺動部１３とを備える。排出部１２の孔１３１内を摺動する摺動面１２１Ａには、流路１２１Ｃへのガスの導入口１２１Ｂが形成されている。排出部１２を収容部１１側に向けて摺動させた際には、導入口１２１Ｂを介して流路１２１Ｃと収容部１１内部とが連通し、排出部１２を収容部１１と反対方向に向けて摺動させた際には、導入口１２１Ｂが被摺動部１３の孔１３１の内面で閉鎖される。 （もっと読む）

【課題】 イオン源のプラズマ生成部内におけるプラズマ密度分布が均一でない場合でも、イオンビームのＹ方向におけるビーム電流密度分布の均一性を良くする。
【解決手段】 このイオン注入装置は、イオン源２の引出し電極１３をＹ方向において複数の引出し電極片３０に分割して構成している。かつ、プラズマ電極１２と各引出し電極片３０との間の電位差Ｖ_d を各引出し電極片３０ごとに独立して制御することができる引出し電源４２と、イオンビーム８のＹ方向のビーム電流密度分布を測定するビームモニタ５６と、ビームモニタ５６からの測定データに基づいて引出し電源４２を制御して、上記電位差Ｖ_d をそれぞれ制御することによって、ビームモニタ５６で測定するビーム電流密度分布を均一に近づける制御を行う制御装置６０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】大面積イオンビームにより大型の基板にイオン注入を行うことができ、イオンビームの均一性を制御可能であり、かつイオンビームによるスパッタの発生がなく、スパッタによる悪影響を防止することができるイオン注入装置を提供する。
【解決手段】内部にイオン源となるプラズマ１を発生させるプラズマ室１０と、プラズマ室に近接しプラズマからイオンビーム２を引き出す引出電極２０と、プラズマ室内に引出電極に対向して位置し引出電極によって引き出されたイオンビームのビーム軸と直交する断面形状を可変制御する可変スリット装置３０とを備える。 （もっと読む）

【課題】電子部品の断面を観察するための技術において、同一のイオン源から引き出したイオンビームを用いて、試料を加工し、試料の被加工部分の観察を可能にするイオンビーム加工・観察技術を提供する。
【解決手段】試料を加工するガスイオンビーム種と試料を観察するときのガスイオンビーム種を切り替えることが可能である装置とする。試料加工時のガスイオンビーム種と試料観察時のガスイオンビーム種との切り替えを実現するためのイオン源として、ガスボンベ５３、５４、ガス配管、ガス量調整バルブ５９、６０およびストップバルブ５７、５８とを備えた導入系統を少なくとも２系統備え、各々のガス系統において各々のガス量調整バルブにより真空容器内のガス圧力条件を各々設定でき、各々のガス系統のストップバルブの操作により真空容器内に導入するガスを切り替えることが可能であるイオン源とする。 （もっと読む）

【課題】イオン化室へのイオン供給量および生成するプラズマを不安定にせずに、イオン源の出口でのビームスポットを極小化して高輝度の集束イオンビームを発することができるイオン源を提供することである。
【解決手段】気体などのイオン化材料をイオン化室２に供給する供給部３と、供給されたイオン化材料をイオン化させてイオン化室２から引き出すための引き出し電極４を備えたイオン源１で、イオン化室２内の引き出し電極４の引き出し方向前方に、絶縁体からなる先細り形状のキャピラリ６を配置し、生成したイオンをこのキャピラリ６を通過させてイオン化室２から引き出すようにした。それによりイオン材料のイオン化室２への供給量が極小化することはないため、イオン供給量が不安定とならず、キャピラリ出口の径寸法の高輝度の集束イオンビームをイオン源から発することができる。 （もっと読む）

【課題】クラスターを効率的に生成しかつ所望する極性を有するクラスターを選択的に回収する方法と装置を提供する。
【解決手段】マグネトロンスパッタ法によるクラスター生成装置のクラスター生成室を構成する筒状体の少なくとも一部を電気的に浮かせることにより、その内壁面の全部または一部を、得ようとする極性を有するクラスターと同じ極性に帯電させる。 （もっと読む）