【目的】 水性現像可能なフォトレジストに使用するための反射防止コーティングの提供。
【構成】 その下にあるフォトレジストの屈折率の平方根にほぼ等しい屈折率をもつフッ素を含有する、表面反射防止コーティングにより、水性現像可能なフォトレジスト組成物の高忠実度なパターン転写が達成され、このコーティングはフォトレジストの現像に際してとり除かれる。 （もっと読む）

【目的】 配線接続用スルーホールの形成方法に関し、スルーホール開口時にスルーホール側壁面及び底面に残留する有機ポリマーの除去を完全にして、配線層間接続のコンタクト抵抗の経時劣化を防止することをを目的とする。
【構成】 配線金属膜３上に設けられた絶縁膜４に該配線金属膜３面を表出するスルーホール７を形成するに際して、レジスト６をマスクにし、該絶縁膜に対し活性なエッチングガスによるドライエッチング手段により該絶縁膜４に該配線金属膜３面を表出するスルーホール７を形成する工程と、該レジスト６を、該配線金属３に対し活性なガスを含む酸素ガスによるプラズマエッチング手段により除去する工程を有するように構成する。 （もっと読む）

【目的】 スピンナーを備えた塗布装置のカップを回転させた場合にカップ内に乱流が生じないようにする。
【構成】 スピンナー装置の中空回転軸１２上端にインナーカップ２０の底板２１を固着し、この底板２１の上面周縁に環状の壁体２２を立設し、底板２１にはガラス基板と略相似形の台部２５を設け、この台部２５の中央には開口２６を形成し、また台部２５の上面外周にはガラス基板Ｗの下面周縁に当接する突条２７を形成し、この突条２７上面にシール２８を設けている。 （もっと読む）

【構成】 （1)下記一般式（Ｉ）で示されるジアゾニウム塩とアルカリ可溶性ポリマーとを含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
【化１】


式中、Ｒ¹ は炭素数３〜１８のアルキル基又は置換アルキル基を示し、Ｒ² は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、アルコキシ基、置換アルコキシ基、フェノキシ基、置換フェノキシ基又はハロゲン原子を示す。Ａは有機基をＸ^- は対アニオンを示す。ｎは１〜４の整数、ｍは１〜３の整数を示し、ｎ＋ｍ＝４である。
【効果】 高い感光性を有し、鮮明な画像形成が可能である。 （もっと読む）

【構成】 アルカリ可溶性ノボラック樹脂およびキノンジアジド化合物を含有する感光性樹脂組成物において、該アルカリ可溶性ノボラック樹脂の低分子量成分が除去されており、かつ、下記の構造式で表わされるフェノール類環状化合物を含有する感光性樹脂組成物およびこの塗膜を露光、現像するレジスト像の製造法。
【化１】


（Ｒ₁は水素、アルキル基またはアルコキシ基を表わし、Ｒ₂は水素、アルキル基、アルコキシ基またはフェニル基を表わし、Ｒ₁とＲ₂とは同一であってもよく、ｎは４〜８の整数を表わす）
【効果】 本発明の感光性樹脂組成物は、解像度、感度および耐熱性に優れ、高集積回路を作製するためのポジ型レジストに好適である。 （もっと読む）

【目的】ＡＬ及びＡＬ合金の単層または多層より成る配線層をドライエッチングした後、１００℃以下でレジストアッシングすることで、ドライエッチング中に形成される側壁保護膜の硬化を防止する。
【構成】ＡＬ合金エッチング後、９０℃で２０６のレジストを酸素（Ｏ₂）ガスとＣＨＦ₃ガスをプラズマ化して除去する。次に、酸素（Ｏ₂）ガスとメタノール（ＣＨ₃ＯＨ）ガスにより２０７の残留塩素を除去する。以上より、レジストアッシングの処理温度を９０℃にすることにより２０８の側壁保護膜の硬化を防止出来る。 （もっと読む）

【目的】 フォトマスクの裏面を数箇所で支持し、真空吸着で固定する方式のマスクホルダーでは、マスクの自重によるたわみや、マスク自体の持つ凹凸により、マスク上に形成されたパターンの位置はマスク上方からみたとき変化する。このため、パターン位置座標や長寸法の測定誤差が生じる。本発明は、このマスクのたわみや凹凸をなくすことのできるマスクホルダーを提供する。
【構成】 マスク３の裏面全体が密着される大きさの基準平面をもち、この平面内にマスク３を真空吸着するための吸着孔２を支持台１に複数個設けて、この基準平面にマスク３の裏面全体を密着させる構造を有するマスクホルダーである。 （もっと読む）

【目的】カップに付着した塗布液を、少量の洗浄液で均一にかつ短時間で効率よく洗浄除去でき、しかも装置の構造を簡素化する。
【構成】洗浄液供給ノズル４０から導入口３３を通じて洗浄治具３０内に洗浄液Ｌを供給すると共に、スピンチャック２０により洗浄治具３０を回転する。この回転による遠心力により洗浄液Ｌは貯留部３５に集まり、貯留部３５に形成された吐出孔３６より外カップ２３及び内カップ２４に向けて噴射する。 （もっと読む）

【目的】微細なパターニングにとって障害となる光の多重干渉を著しく低減し、製造の歩留まりの向上、および、より微細なパターンの形成に有効な方法を提供する。
【構成】フォトリソグラフィによってパターンを形成するにあたり、フォトレジスト表面に反射防止膜を形成して露光を行う方法であり、反射防止膜材料として非晶質含フッ素重合体を採用する。 （もっと読む）

【目的】 断面が長方形をなすフライアイレンズを用いた照明光学装置に於て、照明効率を高めるようにして、照明体の照度を高め得るようにした照明光学装置を提供する。
【構成】 光源の像を、略長方形の微小レンズ組み合わせてなるフライアイレンズを介してコンデンサレンズに入射させ、光源を、前記長方形の長辺方向に沿って設けられた複数の光源からなるものとする。 （もっと読む）