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国際特許分類[H05B33/08]の内容

電気 (1,674,590) | 他に分類されない電気技術 (122,472) | 電気加熱;他に分類されない電気照明 (50,146) | エレクトロルミネッセンス光源 (27,371) | 細部 (7,361) | 特殊な用途に適しない回路装置 (585)

国際特許分類[H05B33/08]に分類される特許

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【課題】発光素子の温度を低コストで検出できる照明装置を提供する。
【解決手段】照明装置としての有機EL装置2は、第1面と第2面とを有する第1基板としての素子基板40と、素子基板40の第1面に設けられており、発光部14の周囲または発光部14が設けられた領域の少なくとも一部と平面的に重なる導電部45と、を備え、導電部45は、導電体を含み、発光部14の温度を検出する。 (もっと読む)


【課題】簡単な回路構成により、高効率、低ノイズで、色温度及び光量を容易に調整可能なLED点灯装置を提供する。
【解決手段】LED点灯装置110は、交流電圧を直流電圧に変換し、変換された直流電圧を出力する変換部(2、7)と、変換部(2、7)に並列接続された2つの定電流電源部であって、対応するLEDモジュール21、22が接続されると共に、制御を受けることによって制御に応じた大きさの直流の定電流をそれぞれ対応するLEDモジュール21、22に出力する2つの定電流電源部である第1降圧チョッパ回路12及び第2降圧チョッパ回路13と、第1降圧チョッパ回路12及び第2降圧チョッパ回路13を制御することにより、第1降圧チョッパ回路12及び第2降圧チョッパ回路13から対応するLEDモジュール21、22に出力される定電流値を制御する定電流制御部101とを備えた。 (もっと読む)


【課題】画素電極上に金属膜を形成して積層構造とする際に、1つのレジストマスクを用
いて、画素電極及び金属膜を形成することを課題とする。
【解決手段】画素電極となる導電膜と金属膜を積層させる。金属膜上に半透部を有する露
光マスクを用いて、膜厚の厚い領域と該領域よりも膜厚が薄い領域とを有するレジストパ
ターンを形成する。レジストパターンを用いて画素電極と、画素電極上の一部に接する金
属膜を形成する。以上により、1つのレジストマスクを用いて、画素電極及び金属膜を形
成することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】配線の凹凸差を緩和することが可能な構造の半導体装置を提供することを課題と
する。
【解決手段】第1の導電層と、第2の導電層と、第1の導電層及び第2の導電層の間に形
成されると共に、接続孔を有する絶縁層と、第1の導電層及び第2の導電層に接続すると
共に、少なくとも端部の一部が接続孔の内側に形成される第3の導電層と、を有する半導
体装置である。第2の導電層及び第3の導電層が接続する接続孔付近において、第3の導
電層が第1の絶縁層を介して第2の導電層に重畳せず、第3の導電層の端部が第1の絶縁
層上に形成されない。このため、第3の導電層の凹凸を低減することが可能である。 (もっと読む)


【課題】封止が確実にでき、また、基板スペースを有効活用することができる有機EL素子およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】制御基板2の上面側に陰極3が設けられ、陰極3上に発光部5が設けられ、発光部5の上側には陽極7が設けられ、また、制御基板2の下面側には、発光部5の発光を制御する制御素子8と、有機EL素子1の外部から電力を受け取る二次コイル9と、二次コイル9からの電流を整流する整流回路20と、陰極3にスルーホール11により接続されるランド10と、陽極端子15にスルーホール16を介して接続されるランド14と、制御素子8と各ランド10とを接続する配線12と、制御素子8と二次コイル9とを接続する配線13等が設けられて素子本体30が形成されている。素子本体30は、第一封止層17及び第二封止層18により完全に封止されている。 (もっと読む)


【課題】 デバイス性能の改善が可能なプリンタヘッドを提供する。
【解決手段】 絶縁基板と、前記絶縁基板上において、ライン状に配置された複数の陽極と、前記陽極上に配置された有機発光層と、前記有機発光層上に配置された陰極と、を備えた有機EL素子と、前記有機EL素子を駆動するための駆動回路と、を備え、前記駆動回路は、前記絶縁基板上に配置され、前記有機EL素子を挟んで対向配置された第1駆動回路及び第2駆動回路を有することを特徴とするプリンタヘッド。 (もっと読む)


【課題】トランジスタの作製工程を簡略化し、フォトマスクの枚数を従来よりも少なくするだけでなく、新たな工程を増やすことなく発光表示装置を作製することを目的とする。
【解決手段】トランジスタを構成する半導体層に真性または実質的に真性な高抵抗の酸化物半導体を使用することによって、個々のトランジスタに対して半導体層を島状に加工する工程を省くことができる。半導体層または半導体層の上層に形成した絶縁層を開口する工程において該半導体層の不要な部分を同時にエッチングし、フォトリソグラフィ工程を削減する。 (もっと読む)


【課題】カラー画像を表示する表示装置の開口率を高くする。
【解決手段】赤、緑、青の三色の画素R,G,Bを、行毎に、二つの赤色画素R,Rと二つの緑色画素G,Gと一つの青色画素Bとが同色の画素同士が隣り合わないように所定の順で並んだ配列順の繰り返しで配置する。 (もっと読む)


【課題】蓄電した電力によって電流を供給して発光素子を発光させるものにおいて、供給する電流を大きなものから小さなものに高速で切り替える。
【解決手段】入力電圧を定電流に変換して電力を蓄電する昇圧形定電流部50と、昇圧形定電流部50に蓄電された電力によって電流が供給されることにより定電流駆動する有機EL素子33a〜33cと、昇圧形定電流部50から有機EL素子33a〜33cに供給される電流の値を制御することによって有機EL素子33a〜33cの発光輝度を制御する制御部60とを有するものにおいて、昇圧形定電流部50に蓄電された電力を放電するための放電パス70を有し、発光する有機EL素子をその発光輝度が高輝度のものから低輝度のものに切り替える際、昇圧形定電流部50に蓄電された電力を放電パス70を介して放電する。 (もっと読む)


【課題】発光装置の品質向上を図る。
【解決手段】表示装置100の画素形成領域Rpxにおける配線交差領域Rxの近傍に、トランジスタTr11、Tr12を構成するゲート電極Tr11g、Tr12g、半導体膜SMC、チャネル保護膜BL、不純物半導体膜OHM、ソース電極Tr11s、Tr12s及びドレイン電極Tr11d、Tr12dと同じ材料からなる突起層PL11〜PL15、画素電極16と同じ材料からなる突起層PL16、電源ラインLaと同じ材料からなる突起層PL17等を積層して形成した突出部PLA、PLB、PLC、PLDを設けて、対向基板20が押圧された場合に、その押圧力が突出部PLA、PLB、PLC、PLDに集中させるようにすることで、配線交差領域Rxで交差している選択ラインLs、データラインLd、電源ラインLaに押圧力が加わることがないようにした。 (もっと読む)


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