ケーブル接続、ケーブル接続用の制御システム、およびケーブル接続を経て振動が第１の対象から第２の対象へと伝達されることを軽減する方法
【課題】課題の一つは、第１の対象から第２の対象への振動の伝播または伝達が軽減される、第１の対象と第２の対象との間のケーブル接続を提供することである。
【解決手段】第１の対象と第２の対象との間のケーブル接続は、ケーブルバンドルの一端が第１の対象に固定され、ケーブルバンドルの他端が第２の対象に固定された、１本または複数本のケーブルを含むケーブルバンドルと、ケーブルバンドルをケーブルバンドルの長さに沿った位置に保持するように構成されたケーブルバンドルホルダと、第２の対象に対するケーブルバンドルホルダの位置を制御するように構成された制御システムとを含んでいる。ケーブル接続のための制御システム、およびケーブル接続を介した振動の第１の対象から第２の対象への伝達を軽減する方法も提示される。
【解決手段】第１の対象と第２の対象との間のケーブル接続は、ケーブルバンドルの一端が第１の対象に固定され、ケーブルバンドルの他端が第２の対象に固定された、１本または複数本のケーブルを含むケーブルバンドルと、ケーブルバンドルをケーブルバンドルの長さに沿った位置に保持するように構成されたケーブルバンドルホルダと、第２の対象に対するケーブルバンドルホルダの位置を制御するように構成された制御システムとを含んでいる。ケーブル接続のための制御システム、およびケーブル接続を介した振動の第１の対象から第２の対象への伝達を軽減する方法も提示される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
［0001] 本発明はケーブル接続、ケーブル接続用の制御システム、およびケーブル接続を経て振動が第１の対象から第２の対象へと通過、または伝達されることを軽減する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
［0002] リソグラフィ装置は基板、通常は基板のターゲット部分に所望のパターンを付ける機械である。リソグラフィ装置は例えば集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。その場合は、ＩＣの個々の層上に形成される予定の回路パターンを生成するために、マスクまたはレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用してもよい。このパターンは基板（例えばシリコンウェハ）上のターゲット部分（例えば１つまたはいくつかのダイの一部を含む）へと転写可能である。パターンの転写は典型的には基板上の備えられる放射感応材料（レジスト）層への写像を介して行われる。一般に、単一の基板は連続的にパターン形成される隣接のターゲット部分のネットワークを含んでいる。公知のリソグラフィ装置は、パターン全体をターゲット部分に同時に曝すことによって各ターゲット部分が照射されるいわゆるステッパと、所定の方向（「スキャン」方向）で放射ビームを通してパターンをスキャンし、同時にこれと同期的に当該方向と平行に、または反平行に基板をスキャンすることによって各ターゲット部分が照射されるいわゆるスキャナとを含んでいる。パターンを基板上にインプリントすることによってパターンをパターニングデバイスから基板に転写することも可能である。
【０００３】
［0003] 従来のリソグラフィ装置は地面に支持されるベースフレームと、メトロフレームと呼ばれることが多い振動絶縁フレームとを含んでいる。メトロフレームは、メトロフレームをベースフレーム上に支持するエアマウントなどの振動絶縁マウントを使用してベースフレーム内の振動などの外部の影響から実質的に絶縁される。これらの絶縁マウントはベースフレームおよび／または絶縁フレーム自体によって誘発される振動を絶縁するように能動的に制御されてもよい。これらの後者の振動は例えばステージの動きまたはメトロフレーム上に配置された他の移動部品によって誘発されることがある。メトロフレーム上には投影システムが取り付けられる。メトロフレームは振動絶縁マウントで実質的に振動から絶縁されるので、投影の精度は大幅に高まる。
【０００４】
［0004] 従来のリソグラフィ装置では、ベースフレームとメトロフレームとの間にケーブル接続が備えられている。このようなケーブル接続はベースフレームからメトロフレームへと延びるケーブルバンドルを有している。ケーブルバンドルは典型的にはベースフレームとメトロフレームとの間に電気、圧縮空気、または圧縮流体用の接続を供給するために使用されるいくつかのケーブルを含んでいる。例えば電気接続をメトロフレーム上のある部品を付勢するために使用し、または電気接続を、例えばメトロフレーム上に配置されたセンサまたはアクチュエータとベースフレーム上の取り付けられた中央制御ユニットとの間で測定信号または制御信号を伝送するために使用してもよい。
【０００５】
［0005] ケーブルバンドルがベースフレームからメトロフレームへと振動を通し、または伝達することを防止するため、ケーブルバンドルは波形またはねじれて構成されるので、これらの振動はケーブルバンドルの可撓性によってある程度まで吸収される。
【０００６】
［0006] しかし、一般にますます多くのケーブルがベースフレームからメトロフレームへと案内される必要があるので、ケーブルバンドルの可撓性は低下し、その結果、振動が伝播、または伝達されやすくなる。他方では、リソグラフィ装置のオーバーレイおよび処理量の性能に関する基本的な要求によるメトロフレーム内での振動絶縁に対する要求が常に高まっている。
【０００７】
［0007] リソグラフィ装置では、波形のケーブルバンドルの剛性はメトロフレームをベースフレーム上に支持する振動絶縁エアマウントの剛性と同じ範囲にあってよい。その結果、ベースフレームの振動はメトロフレームを励振させ、メトロフレーム内により高いノイズレベルを生じるおそれがあり、その結果、レンズの振動が大きくなる。それが投影工程の精度に、ひいてはリソグラフィ装置のオーバーレイ性能に直接影響するので、そのことが好ましくないことは明確である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
［0008] 第１の対象から第２の対象への振動の伝播または伝達が軽減される、第１の対象と第２の対象との間のケーブル接続を提供することが望まれる。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
［0009] 本発明の実施形態によって、ケーブルバンドルの一端が第１の対象に固定され、ケーブルバンドルの他端が第２の対象に固定された、ある一定の長さの１本または複数本のケーブルのケーブルバンドルと、当前記ケーブルバンドルをケーブルバンドルの長さに沿った位置に保持するケーブルバンドルホルダと、第２の対象に対するケーブルバンドルホルダの位置を制御するように構成された制御システムとを含む、第１の対象と第２の対象との間のケーブル接続が提供される。
【００１０】
［0010] 本発明の実施形態によって、第１の対象と第２の対象との間のケーブルバンドルを第２の対象に対するケーブルバンドルの長さに沿った位置に保持するケーブルバンドルホルダの位置を制御するように構成された制御システムが提供され、この制御システムは、第２の対象に対するケーブルバンドルホルダの位置量を測定するように構成されたセンサと、ケーブルバンドルホルダを作動するように構成されたアクチュエータと、センサによって測定された位置量に基づいてアクチュエータに制御信号を供給するように構成されたコントローラユニットとを備えている。
【００１１】
［0011] 本発明の実施形態によって、第１の対象から第２の対象へと延在するケーブルバンドルを含むケーブル接続を経て振動が第１の対象から第２の対象へと伝播し、または伝達されることを軽減する方法であって、ケーブルバンドルをケーブルバンドルの長さに沿ったある位置に保持するケーブルバンドルホルダを備える工程と、第２の対象に対するケーブルバンドルホルダの位置量を測定し、センサによって測定された位置量に基づいて制御信号を供給し、ケーブルバンドルホルダを作動するように構成されたアクチュエータに制御信号を送ることによって、第２の対象に対するケーブルバンドルホルダの位置を制御する工程とを含む方法が提供される。
【００１２】
［0012] 本発明の別の実施形態によって、リソグラフィ装置であって、（ａ）放射ビームのコンディショニングを行うように構成された照明システムと、（ｂ）放射ビームをパターン形成してパターニングされた放射ビームを形成するように構成されたパターン形成装置を支持するように構成されたパターン支持体と、（ｃ）基板を支持するように構成された基板支持体と、（ｄ）パターニングされた放射ビームを基板上に投影するように構成された投影システムと、（ｅ）第１の対象と第２の対象との間のケーブルバンドルを第２の対象に対するケーブルバンドルの長さに沿った位置に保持するように配置されたケーブルバンドルホルダの位置を制御するように構成された制御システムであって、（ｉ）第２の対象に対するケーブルバンドルホルダの位置を判定するように構成されたセンサと、（ｉｉ）ケーブルバンドルホルダを移動するように構成されたアクチュエータと、（ｉｉｉ）センサによって判定された位置に基づいてアクチュエータを制御するように構成されたコントローラとを備える制御システムとを備えるリソグラフィ装置が提供される。
【００１３】
[0013] ここで本発明の実施形態を添付の概略図を参照して例示のためにのみ記載するが、図中、対応する参照符号は対応する部品を示す。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
[0018] 図１は本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示している。この装置は放射ビームＢ（例えば紫外光放射またはその他の放射線）をコンディショニングするように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持するように構成され、あるパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第１の位置決め装置ＰＭに接続された支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴと、基板（例えばレジストコートされたウェハ）を保持するように構成され、あるパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第２の位置決め装置ＰＷに接続された基板テーブル（例えばウェハテーブル）ＷＴと、放射ビームＢに付与されたパターンをパターニングデバイスＭＡによって基板Ｗのターゲット部分（例えば１つまたは複数のダイを含む）へと投影するように構成された投影システム（例えば屈折投影レンズ系）とを含んでいる。
【００１５】
[0019] 照明システムは放射線を方向づけ、成形し、または制御するための屈折、反射、磁気、電磁、静電またはその他の種類の光学部品、またはそれらのいずれかの組合せなどの様々な種類の光学部品を含んでよい。
【００１６】
[0020] 支持構造はパターニングデバイスの重さを支持、すなわち担持する。これはパターニングデバイスの向き、リソグラフィ装置の設計、および例えばパターニングデバイスが真空環境内に保持されるのか否かのようなその他の条件に依存してパターニングデバイスを保持する。支持構造はパターニングデバイスを支持するために機械的、真空、静電またはその他の固締技術を利用することができる。支持構造は必要に応じて固定または可動でよい、例えばフレームまたはテーブルでよい。支持構造はパターニングデバイスが例えば投影システムに対して所望の位置にあることを確実にすることができる。本明細書で用いられる用語「レチクル」または「マスク」はより一般的な用語である「パターニングデバイス」と同義であると見なしてよい。
【００１７】
[0021] 本明細書で用いられる用語「パターニングデバイス」は基板のターゲット部分内にパターンを作成する場合のような、放射ビームの断面にパターンを付与するために使用可能などのようなデバイスをも意味するものと広義に解釈されるものとする。放射ビームに付与されるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャまたはいわゆるアシストフィーチャを含んでいる場合には、基板のターゲット部分内の所望のパターンと正確に対応しないことがあることに留意されたい。一般に、放射ビームに付与されるパターンは集積回路などのターゲット部分内に生成されるデバイス内の特定の機能層に対応する。
【００１８】
[0022] パターニングデバイスは光透過性でも反射性でもよい。パターニングデバイスの例にはマスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルＬＣＤパネルが含まれる。マスクはリソグラフィの分野でよく知られており、バイナリ、ａｌｔｅｒｎａｔｉｎｇ位相シフト、および減衰位相シフトなどのマスクタイプ、ならびに様々なハイブリッドマスクタイプが含まれる。プログラマブルミラーアレイの例は小型ミラーのマトリクス配列を使用し、その各々を入り放射ビームを異なる方向に反射するように個々に傾倒可能である。傾倒されたミラーはミラーマトリクスによって反射される放射ビームにパターンを付与する。
【００１９】
[0023] 本明細書で用いられる用語「投影システム」は屈折、反射、カタディオプトリック、磁気、電磁および静電光学系、または使用される露光放射に適する、または液浸液の使用または真空の使用のようなその他の要因に適するそれらの組合せを含むどの種類の投影システムをも包括するものとして広義に解釈されるものとする。本明細書で用いられる用語「投影レンズ」はより一般的な用語である「投影システム」と同義であるものと見なしてよい。
【００２０】
[0024] 本明細書に示されるように、装置は（例えば透過マスクを使用する）透過型の装置である。あるいは、装置は（例えば上記のような種類のプログラマブルミラーアレイを使用する、または反射マスクを使用する）反射型の装置でもよい。
【００２１】
[0025] リソグラフィ装置は２つ（デュアルステージ）またはそれ以上の基板テーブル（および／または２つまたはそれ以上のマスクテーブル）を有する種類の装置でよい。このような「マルチステージ」機械では付加的なテーブルを並行して使用してもよく、または１つまたは複数の他のテーブルが露光用に使用されている間に、１つまたは複数のテーブルで準備工程が実行されてもよい。
【００２２】
[0026] リソグラフィ装置はさらに、投影システムと基板との間の空隙を満たすように、基板の少なくとも一部が例えば水のような屈折率が比較的高い液体で覆われることができる種類のものでもよい。リソグラフィ装置の別の空間、例えばマスクと投影システムとの間に液浸液を与えてもよい。液浸技術は投影システムの開口数を増大するためにこの分野でよく知られている。本明細書で用いられる用語「液浸」は、基板などの構造が液体中に浸されなければならないことを意味するのではなく、露光中に投影システムと基板との間に液体が存在することだけを意味するものである。
【００２３】
[0027] 図１を参照すると、イルミネータＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受ける。放射源とリソグラフィ装置とは、例えば放射源がエクサイマレーザーである場合は、別個のものでよい。このような場合は、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成するものとは見なされず、放射ビームは、例えば適宜の方向付けミラーおよび／またはビームエキスパンダを含むビームデリバリシステムＢＤを援用して放射源ＳＯからイルミネータＩＬへと送られる。別の場合は、例えば放射源が水銀ランプである場合は、放射源はリソグラフィ装置と一体の部品でもよい。放射源ＳＯとイルミネータＩＬとを、必要ならばビームデリバリシステムＢＤと共に放射システムと呼んでもよい。
【００２４】
[0028] イルミネータＩＬは放射ビームの角強度分布を調整するためのアジャスタＡＤを含んでいてもよい。一般に、少なくともイルミネータの瞳面内の強度分布の外側および／または内側半径範囲（一般にそれぞれσ−ｏｕｔｅｒおよびσ−ｉｎｎｅｒと呼ばれる）は調整可能である。加えて、イルミネータＩＬはインテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯなどの他の様々なコンポーネントを含んでいてもよい。放射ビームが断面に所望の均一性および強度分布を有するようにコンディショニングを行うためにイルミネータを使用してもよい。
【００２５】
[0029] 放射ビームＢは支持構造（例えばマスクテーブルＭＴ）上に支持されるパターニングデバイス（例えばマスクＭＡ）に入射し、パターニングデバイスによってパターン形成される。放射ビームＢはマスクＭＡを越えると、投影システムＰＳを通過し、それによってビームは基板Ｗのターゲット部分Ｃへと合焦される。第２の位置決め装置ＰＷおよび位置センサＩＦ（例えば干渉計デバイス、リニアエンコーダまたは容量センサ）を援用して、基板テーブルＷＴは例えば異なるターゲット部分Ｃを放射ビームＢの経路内に位置決めするように正確に移動されることができる。同様に、第１の位置決め装置ＰＭおよび別の位置センサ（図１には明示せず）は、例えばマスクライブラリからの機械的検索の後、またはスキャン中にマスクＭＡを放射ビームＢの経路に対して正確に位置決めするために利用可能である。一般に、マスクテーブルＭＴの移動は、第１の位置決め装置ＰＭの一部を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）を援用して実現されてもよい。同様に、基板テーブルＷＴの移動は、第２の位置決め装置ＰＷの一部を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使用して実現されてもよい。ステッパの場合は（スキャナとは異なり）、マスクテーブルＭＴはショートストロークアクチュエータのみに接続されてもよく、または固定されてもよい。マスクＭＡおよび基板ＷはマスクアラインメントマークＭ１、Ｍ２および基板アラインメントマークＰ１、Ｐ２を用いて位置合わせされてもよい。基板アラインメントマークは図示のように専用のターゲット部分を占めているが、ターゲット部分間のスペースに位置していてもよい（これらはスクライブレーンアラインメントマークとして知られている）。同様に、１つ以上のダイがマスクＭＡ上に設けられている状況で、マスクアラインメントマークはダイ間に位置していてもよい。
【００２６】
[0030] 図示した装置は以下のモードの少なくとも１つで使用可能である。
【００２７】
[0031] １．ステップモードでは、放射ビームに付与されるパターン全体が一度にターゲット部分Ｃに投影される間（すなわち単一の静的露光）、マスクテーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴは基本的に固定状態に保たれる。次に、基板テーブルＷＴは異なるターゲット部分Ｃを露光できるようにＸおよび／またはＹ方向にシフトされる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが単一の静的露光で結像されるターゲット部分Ｃのサイズを限定する。
【００２８】
[0032] ２．スキャンモードでは、放射ビームに付与されるパターンがターゲット部分Ｃに投影される間（すなわち単一の動的露光）、マスクテーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴは同期的にスキャンされる。マスクテーブルＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度と方向は投影システムＰＳの（縮小）拡大倍率および像反転特性によって決定されることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズが単一の動的露光でのターゲット部分の（非スキャン方向での）幅を限定し、一方、スキャン動作の長さがターゲット部分の（スキャン方向での）高さを決定する。
【００２９】
[0033] ３．別のモードでは、マスクテーブルＭＴはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に固定状態に保たれ、基板テーブルＷＴは放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Ｃに投影されている間に移動またはスキャンされる。このモードでは、一般にパルス放射源が使用され、基板テーブルＷＴの各々の移動の後、またはスキャン中の連続放射パルスの間に必要に応じてプログラマブルパターニングデバイスが更新される。この動作モードは、前述の種類のプログラマブルミラーアレイのようなプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に適応可能である。
【００３０】
[0034] 上記の使用モードまたはまったく異なる使用モードの組合せおよび／または変化形態を利用してもよい。
【００３１】
[0035] リソグラフィ装置の投影システムは、地面から、例えば工場の床から導入される機械的な振動などの投影システムに対する環境の影響を軽減するために、いわゆるメトロフレームまたは振動絶縁フレームに取り付けてもよい。メトロフレームはメトロフレームを振動絶縁マウント上に支持することによってこのような影響から絶縁される。能動的に制御できる振動絶縁マウントは、工場の床に支持されるベースフレーム上に配置される。このように、工場の床での振動またはベースフレームに伝播し、または伝達される振動は、メトロフレームが振動絶縁マウント上に支持されるのである程度まではメトロフレームを通過し、またはこれに伝達されることはない。しかし、ベースフレームとメトロフレームとの間にはケーブル接続が備えられることが多く、このケーブル接続も振動をベースフレームからメトロフレームへと伝播することがある。
【００３２】
[0036] 図２は従来のケーブル接続の側面図を示しており、このケーブル接続には全体的に参照番号２１が付されている。ケーブル接続２１はベースフレーム２３からメトロフレーム２４へと延びるケーブルバンドル２２を含んでいる。ケーブルバンドル２２はベースフレーム２３とメトロフレーム２４の双方に固定されているが、ベースフレーム２３および／またはメトロフレーム２４に沿ってさらに延びていてもよい。ケーブルバンドル２２は何本かのケーブルを含んでいる。ケーブルは例えばメトロフレームに直接、または間接的に取り付けられたある部品を付勢するために使用され、または測定信号または制御信号を伝送するために使用される電気ケーブルでよい。さらに、ケーブルは圧縮空気または液体を含むホースでもよい。メトロフレーム２４はいくつかの振動絶縁エアマウント２５を有するベースフレーム２３によって支持される。
【００３３】
[0037] 従来のケーブル接続２１のケーブルバンドル２２がベースフレーム２３からメトロフレーム２４へと振動を直接伝達することを避けるために、ケーブルバンドル２２はベースフレーム２３からメトロフレーム２４へと直線的に延びるのではなく、波形にまたは撚れ形に延びている。このようなケーブルバンドルの形状によって、ケーブルバンドル２２にはベースフレーム２３内の振動または運動がメトロフレーム２４から絶縁できるある程度のフレキシビリティが付与される。
【００３４】
[0038] しかし、この振動／運動の絶縁はある程度であるに過ぎない。リソグラフィ装置ではケーブルの本数および／またはサイズが大幅に増大しているので、さらに手段を講じないとフレキシビリティは低下し、その結果、ベースフレームの振動および／または運動がメトロフレーム４によって絶縁されにくくなることがある。その上、リソグラフィ装置の性能に対する要求が常に高まっているので、振動を絶縁しなければならない程度も高まっている。
【００３５】
[0039] ケーブルの量が増大し、振動絶縁マウントの性能も高まっているため、ケーブルバンドル２２の剛性がメトロフレーム２４を支持する振動絶縁マウント２５の剛性の範囲になっているので、ケーブルバンドルが波形または撚れ形であることによってもベースフレーム２３とメトロフレーム２４との間には充分な振動絶縁がなされないことがある。
【００３６】
[0040] 本発明の実施形態では、ベースフレーム２３からメトロフレーム２４への振動および／または運動の伝播または伝達がさらに軽減される制御システムを含むケーブル接続が提供される。
【００３７】
[0041] 図３は本発明の実施形態によるケーブル接続を示している。ケーブル接続１はケーブルをケーブルバンドルの長さに沿ったある位置に保持するケーブルバンドルホルダ６を含んでいる。この位置はベースフレーム３とメトロフレーム４との間に延びるケーブルバンドル２の長さに沿ったどの位置でもよいが、実際にはベースフレーム３とメトロフレーム４の双方からある一定の距離にある。図３の実施形態では、ケーブルバンドルホルダ６はケーブルバンドル２をケーブルバンドル２の長さの約半分の位置で保持する。
【００３８】
[0042] ケーブルバンドルホルダ６はベースフレーム３上に取り付けられたアクチュエータ７によって少なくともｘ方向に移動可能である。このように、ケーブルバンドルホルダ６をある方向に作動することによるアクチュエータ７の何らかの反力がベースフレーム３にかかる。アクチュエータ７はローレンツアクチュエータであるが、例えば電動アクチュエータ、空気圧または油圧アクチュエータなどの、ケーブルバンドルホルダ６を少なくともｘ方向に移動するために使用できる適宜のどの種類のアクチュエータでもよい。好ましくは、アクチュエータには剛性がない。すなわち図３のローレンツアクチュエータ７のようにベースフレーム３からの運動または振動をケーブルバンドルホルダ６に伝播または伝達することがあり得ない。
【００３９】
[0043] センサ８はケーブルバンドルホルダ６上に取り付けられている。このセンサ８は少なくともｘ方向でのメトロフレーム４に対するケーブルバンドルホルダ６の位置を測定するように構成されている。センサは容量形、誘導形、またはエンコーダ型センサ、またはその組合せなどの適宜のどの種類の位置センサでもよい。さらに、センサ８の位置測定に基づいてアクチュエータ７用の制御信号を供給可能なコントローラ９がベースフレーム３上に配置されている。
【００４０】
[0044] この制御システム、すなわちアクチュエータ７、センサ８およびコントローラ９によって、メトロフレーム４に対するケーブルバンドルホルダ６の位置を制御することが可能である。ケーブルバンドルホルダ６をメトロフレーム４に対してほぼ同じ位置に保持することによって、すなわちケーブルバンドルホルダがｘ方向へのメトロフレームの移動に追従することによって、メトロフレーム４とケーブルバンドルホルダ６との間に延びるケーブルバンドル２の部分の形状はほぼ変化せず、その結果、ケーブルバンドル６のこの部分によってメトロフレーム４にかかる力は変化しない。その結果、ベースフレーム３の移動によりケーブル接続に誘導されるｘ方向への力はケーブル接続によってメトロフレーム４にはほぼ伝播または伝達されることがない。
【００４１】
[0045] これに関して、ベースフレーム３とケーブルバンドルホルダ６との間のケーブルバンドルの力または形状の変化によって、ケーブルバンドルホルダ６とメトロフレーム４との間のケーブルバンドル２の形状が変化することを避けるため、ケーブルバンドル２がケーブルバンドルホルダ６によってしっかりと保持されることが有利である。
【００４２】
[0046] さらに、アクチュエータ７をベースフレーム３上に取り付けることによって、アクチュエータ７の反力がベースフレーム３にかかることが有利である。代替として、アクチュエータ７をリソグラフィ装置の別のいずれかの部分に取り付けてもよいが、好ましくはメトロフレーム４には取り付けないほうがよい。そうすると、反力がメトロフレームにかかり、ケーブル接続が何らかの振動をベースフレーム３からメトロフレーム４に伝播または伝達することを避けるために、メトロフレーム４に対するケーブルバンドルホルダ６の位置を制御することが困難になることがある。センサ８はこの実施形態ではケーブルバンドルホルダ６に取り付けられる。代替実施形態では、メトロフレーム４に対するケーブルバンドルホルダ６の位置を直接または間接的に測定可能な異なる位置に１つのセンサまたは２つ以上のセンサを備えてもよい。
【００４３】
[0047] コントローラ９は例えば、センサ８の測定に基づいてケーブルバンドルホルダ６を作動させるためにフィードフォワード経路を利用するフィードフォワードユニットを含んでいてもよい。センサ８はメトロフレーム４に対するケーブルバンドルホルダ６の位置を測定することができる。しかし、コントローラユニット９のフィードフォワード信号として、メトロフレーム４に対するケーブルバンドルホルダ６の速度または加速度を利用してもよい。この場合は、センサ８はメトロフレーム４に対するケーブルバンドルホルダ６の速度または加速度を判定する速度または加速度センサでよい。
【００４４】
[0048] コントローラ９はケーブルバンドルホルダ６をメトロフレーム４に対してほぼ同じ位置に保持するように構成されたフィードバックコントローラであってもよい。ある実施形態では、コントローラ９はフィードフォワードユニットとフィードバックコントローラの双方を含んでいる。ケーブルバンドルホルダ６をメトロフレームに対して１または複数の自由度でほぼ同じ位置に保持することができるその他のいずれかのコントローラを使用してもよい。
【００４５】
[0049] 図４は本発明の実施例によるケーブル接続の上面図を示している。このケーブル接続は図３のケーブル接続のすべての部品を含んでいる、それに加えて、図４の実施形態は第２のアクチュエータ７ａを含んでいる。アクチュエータ７ａはケーブルバンドルホルダ６をｙ方向に作動するように構成されている。さらに、センサ８はメトロフレーム４に対するケーブルバンドルホルダ６の位置をｘ方向とｙ方向の双方で測定するように構成されている。このセンサ８は例えば容量センサ（ｘ方向用）とエンコーダ形センサ（ｙ方向用）との組合せでよい。
【００４６】
[0050] この実施形態によって、ベースフレーム３のｘ方向での振動／移動の他に、ｙ方向での振動／移動がメトロフレーム４に伝達されることも避けることができる。したがって、ケーブルバンドルホルダ６の位置は、ケーブルバンドルホルダ６がメトロフレーム４に対してｘ方向およびｙ方向でほぼ同じ位置に留まるように制御される。その結果、ケーブルバンドルホルダ６はｘ方向およびｙ方向でのメトロフレーム４のどの動きにも追従する。
【００４７】
[0051] 代替実施形態では、ケーブルバンドルホルダ６の位置を３度またはそれ以上の自由度で制御可能なセンサ、アクチュエータおよびコントローラを含む制御システムを備えることも可能である。このような実施形態では、ケーブルバンドルホルダが対応する数の自由度でメトロフレームに追従することができる。
【００４８】
[0052] ケーブルバンドルの剛性が最大になる方向（単数または複数）にケーブルバンドルホルダ６の位置を制御するような制御システムを備えることが有利である。別の方向ではケーブルバンドルの剛性はエアマウント５の剛性と比較して比較的低いことがあるので、その方向（単数または複数）ではケーブル接続を介した振動の伝達を避けるためにケーブルバンドルの位置が制御される必要はない。
【００４９】
[0053] これまで本発明の実施形態による能動的なケーブル接続を、リソグラフィ装置のメトロフレームとベースフレームとの間に延びるケーブル接続に関して記載してきた。能動的なケーブル接続は、第１の対象から第２の対象への影響を低減することが望ましい、第１の対象と第２の対象との間のどのようなケーブル接続に使用してもよいことが当業者には明らかであろう。
【００５０】
[0054] 特に、本発明の実施形態による能動的なケーブル接続は、ロングストロークモジュールからの振動が、これらの２つの対象間の唯一の機械的接続であることがあるケーブル接続を介してショートストロークモジュールに伝播または伝達されることが望ましくないので、基板ステージまたはパターニングデバイスステージのロングストロークモジュールとショートストロークモジュールとの間のケーブル接続に使用できる。
【００５１】
[0055] 本明細書ではＩＣの製造でのリソグラフィ装置の使用について特に言及してきたが、本明細書に記載のリソグラフィ装置には集積光学系、磁気ドメインメモリ用のガイダンスおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどのような他の用途もあり得ることを理解されたい。このような代替用途の脈絡で、本明細書で用いられる用語「ウェハ」または「ダイ」はより一般的な用語である「基板」または「ターゲット部分」のそれぞれと同義であると見なしてもよいことを当業者は理解しよう。本明細書で言及される基板は露光の前または後に、例えばトラック（典型的には基板にレジスト層を与え、露光されたレジストを現像するツール）、メトロロジツールおよび／またはインスペクションツールで加工されてもよい。前記当する場合は、本明細書の開示は上記の、およびその他の基板加工ツールに適用されてもよい。さらに、基板は例えば多層ＩＣを作製するために２回以上加工されてもよいので、本明細書で使用される基板という用語は加工済みの複数の層を含む基板を意味することもある。
【００５２】
[0056] 本発明の実施形態の利用をこれまで光学リソグラフィの脈絡で言及してきたが、本発明を例えばインプリントリソグラフィのような他の用途に利用してもよく、また脈絡上許されれば、光学リソグラフィに限定されないことが理解されよう。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイスのトポグラフィが基板上に作製されるパターンを規定する。パターニングデバイスのトポグラフィは基板上に供給されるレジスト層へと刻印され、その後でレジストは電磁放射線、熱、圧力、またはそれらの組合せを与えることによって硬化される。パターニングデバイスがレジストから移動され、レジストが硬化された後、パターンが残される。
【００５３】
[0057] 本明細書で用いられる用語「放射線」および「ビーム」は（例えば波長が厳密に、またはおよそ３６５、２４８、１９３、１５７、または１２６ｎｍの）紫外光（ＵＶ）放射、および（例えば波長が５〜２０ｎｍの範囲の）極端紫外光（ＥＵＶ）、ならびにイオンビームまたは電子ビームなどの粒子ビームを含むすべての種類の電磁放射線を包括する。
【００５４】
[0058] 「レンズ」という用語は脈絡上許されれば、屈折、反射、磁気、電磁気および静電光学コンポーネントを含む様々な種類の光学コンポーネントのいずれか１つ、またはその組合せを意味し得る。
【００５５】
[0059] 本発明の特定の実施形態をこれまで記載してきたが、本発明は記載された以外にも実施できることが理解されよう。例えば、本発明は上記の開示された方法を記述する１つまたは複数の機械読み取り可能な命令シーケンスを含むコンピュータプログラム、またはこのようなコンピュータプログラムを内蔵したデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気ディスク、または光ディスク）の形態をとってもよい。
【００５６】
[0060] 上記の記載は例示のためであり、限定を意図するものではない。したがって、特許請求の範囲から離れることなく本発明の修正を行ってもよいことが当業者には明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】[0014]本発明の実施形態によるリソグラフィ装置を示す図面である。
【図２】[0015]従来のケーブル接続の概略側面図である。
【図３】[0016]本発明の実施形態による能動的ケーブル接続の概略側面図である。
【図４】[0017]本発明の別の実施形態による能動的ケーブル接続の概略上面図である。
【技術分野】
【０００１】
［0001] 本発明はケーブル接続、ケーブル接続用の制御システム、およびケーブル接続を経て振動が第１の対象から第２の対象へと通過、または伝達されることを軽減する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
［0002] リソグラフィ装置は基板、通常は基板のターゲット部分に所望のパターンを付ける機械である。リソグラフィ装置は例えば集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。その場合は、ＩＣの個々の層上に形成される予定の回路パターンを生成するために、マスクまたはレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用してもよい。このパターンは基板（例えばシリコンウェハ）上のターゲット部分（例えば１つまたはいくつかのダイの一部を含む）へと転写可能である。パターンの転写は典型的には基板上の備えられる放射感応材料（レジスト）層への写像を介して行われる。一般に、単一の基板は連続的にパターン形成される隣接のターゲット部分のネットワークを含んでいる。公知のリソグラフィ装置は、パターン全体をターゲット部分に同時に曝すことによって各ターゲット部分が照射されるいわゆるステッパと、所定の方向（「スキャン」方向）で放射ビームを通してパターンをスキャンし、同時にこれと同期的に当該方向と平行に、または反平行に基板をスキャンすることによって各ターゲット部分が照射されるいわゆるスキャナとを含んでいる。パターンを基板上にインプリントすることによってパターンをパターニングデバイスから基板に転写することも可能である。
【０００３】
［0003] 従来のリソグラフィ装置は地面に支持されるベースフレームと、メトロフレームと呼ばれることが多い振動絶縁フレームとを含んでいる。メトロフレームは、メトロフレームをベースフレーム上に支持するエアマウントなどの振動絶縁マウントを使用してベースフレーム内の振動などの外部の影響から実質的に絶縁される。これらの絶縁マウントはベースフレームおよび／または絶縁フレーム自体によって誘発される振動を絶縁するように能動的に制御されてもよい。これらの後者の振動は例えばステージの動きまたはメトロフレーム上に配置された他の移動部品によって誘発されることがある。メトロフレーム上には投影システムが取り付けられる。メトロフレームは振動絶縁マウントで実質的に振動から絶縁されるので、投影の精度は大幅に高まる。
【０００４】
［0004] 従来のリソグラフィ装置では、ベースフレームとメトロフレームとの間にケーブル接続が備えられている。このようなケーブル接続はベースフレームからメトロフレームへと延びるケーブルバンドルを有している。ケーブルバンドルは典型的にはベースフレームとメトロフレームとの間に電気、圧縮空気、または圧縮流体用の接続を供給するために使用されるいくつかのケーブルを含んでいる。例えば電気接続をメトロフレーム上のある部品を付勢するために使用し、または電気接続を、例えばメトロフレーム上に配置されたセンサまたはアクチュエータとベースフレーム上の取り付けられた中央制御ユニットとの間で測定信号または制御信号を伝送するために使用してもよい。
【０００５】
［0005] ケーブルバンドルがベースフレームからメトロフレームへと振動を通し、または伝達することを防止するため、ケーブルバンドルは波形またはねじれて構成されるので、これらの振動はケーブルバンドルの可撓性によってある程度まで吸収される。
【０００６】
［0006] しかし、一般にますます多くのケーブルがベースフレームからメトロフレームへと案内される必要があるので、ケーブルバンドルの可撓性は低下し、その結果、振動が伝播、または伝達されやすくなる。他方では、リソグラフィ装置のオーバーレイおよび処理量の性能に関する基本的な要求によるメトロフレーム内での振動絶縁に対する要求が常に高まっている。
【０００７】
［0007] リソグラフィ装置では、波形のケーブルバンドルの剛性はメトロフレームをベースフレーム上に支持する振動絶縁エアマウントの剛性と同じ範囲にあってよい。その結果、ベースフレームの振動はメトロフレームを励振させ、メトロフレーム内により高いノイズレベルを生じるおそれがあり、その結果、レンズの振動が大きくなる。それが投影工程の精度に、ひいてはリソグラフィ装置のオーバーレイ性能に直接影響するので、そのことが好ましくないことは明確である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
［0008] 第１の対象から第２の対象への振動の伝播または伝達が軽減される、第１の対象と第２の対象との間のケーブル接続を提供することが望まれる。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
［0009] 本発明の実施形態によって、ケーブルバンドルの一端が第１の対象に固定され、ケーブルバンドルの他端が第２の対象に固定された、ある一定の長さの１本または複数本のケーブルのケーブルバンドルと、当前記ケーブルバンドルをケーブルバンドルの長さに沿った位置に保持するケーブルバンドルホルダと、第２の対象に対するケーブルバンドルホルダの位置を制御するように構成された制御システムとを含む、第１の対象と第２の対象との間のケーブル接続が提供される。
【００１０】
［0010] 本発明の実施形態によって、第１の対象と第２の対象との間のケーブルバンドルを第２の対象に対するケーブルバンドルの長さに沿った位置に保持するケーブルバンドルホルダの位置を制御するように構成された制御システムが提供され、この制御システムは、第２の対象に対するケーブルバンドルホルダの位置量を測定するように構成されたセンサと、ケーブルバンドルホルダを作動するように構成されたアクチュエータと、センサによって測定された位置量に基づいてアクチュエータに制御信号を供給するように構成されたコントローラユニットとを備えている。
【００１１】
［0011] 本発明の実施形態によって、第１の対象から第２の対象へと延在するケーブルバンドルを含むケーブル接続を経て振動が第１の対象から第２の対象へと伝播し、または伝達されることを軽減する方法であって、ケーブルバンドルをケーブルバンドルの長さに沿ったある位置に保持するケーブルバンドルホルダを備える工程と、第２の対象に対するケーブルバンドルホルダの位置量を測定し、センサによって測定された位置量に基づいて制御信号を供給し、ケーブルバンドルホルダを作動するように構成されたアクチュエータに制御信号を送ることによって、第２の対象に対するケーブルバンドルホルダの位置を制御する工程とを含む方法が提供される。
【００１２】
［0012] 本発明の別の実施形態によって、リソグラフィ装置であって、（ａ）放射ビームのコンディショニングを行うように構成された照明システムと、（ｂ）放射ビームをパターン形成してパターニングされた放射ビームを形成するように構成されたパターン形成装置を支持するように構成されたパターン支持体と、（ｃ）基板を支持するように構成された基板支持体と、（ｄ）パターニングされた放射ビームを基板上に投影するように構成された投影システムと、（ｅ）第１の対象と第２の対象との間のケーブルバンドルを第２の対象に対するケーブルバンドルの長さに沿った位置に保持するように配置されたケーブルバンドルホルダの位置を制御するように構成された制御システムであって、（ｉ）第２の対象に対するケーブルバンドルホルダの位置を判定するように構成されたセンサと、（ｉｉ）ケーブルバンドルホルダを移動するように構成されたアクチュエータと、（ｉｉｉ）センサによって判定された位置に基づいてアクチュエータを制御するように構成されたコントローラとを備える制御システムとを備えるリソグラフィ装置が提供される。
【００１３】
[0013] ここで本発明の実施形態を添付の概略図を参照して例示のためにのみ記載するが、図中、対応する参照符号は対応する部品を示す。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
[0018] 図１は本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示している。この装置は放射ビームＢ（例えば紫外光放射またはその他の放射線）をコンディショニングするように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持するように構成され、あるパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第１の位置決め装置ＰＭに接続された支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴと、基板（例えばレジストコートされたウェハ）を保持するように構成され、あるパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第２の位置決め装置ＰＷに接続された基板テーブル（例えばウェハテーブル）ＷＴと、放射ビームＢに付与されたパターンをパターニングデバイスＭＡによって基板Ｗのターゲット部分（例えば１つまたは複数のダイを含む）へと投影するように構成された投影システム（例えば屈折投影レンズ系）とを含んでいる。
【００１５】
[0019] 照明システムは放射線を方向づけ、成形し、または制御するための屈折、反射、磁気、電磁、静電またはその他の種類の光学部品、またはそれらのいずれかの組合せなどの様々な種類の光学部品を含んでよい。
【００１６】
[0020] 支持構造はパターニングデバイスの重さを支持、すなわち担持する。これはパターニングデバイスの向き、リソグラフィ装置の設計、および例えばパターニングデバイスが真空環境内に保持されるのか否かのようなその他の条件に依存してパターニングデバイスを保持する。支持構造はパターニングデバイスを支持するために機械的、真空、静電またはその他の固締技術を利用することができる。支持構造は必要に応じて固定または可動でよい、例えばフレームまたはテーブルでよい。支持構造はパターニングデバイスが例えば投影システムに対して所望の位置にあることを確実にすることができる。本明細書で用いられる用語「レチクル」または「マスク」はより一般的な用語である「パターニングデバイス」と同義であると見なしてよい。
【００１７】
[0021] 本明細書で用いられる用語「パターニングデバイス」は基板のターゲット部分内にパターンを作成する場合のような、放射ビームの断面にパターンを付与するために使用可能などのようなデバイスをも意味するものと広義に解釈されるものとする。放射ビームに付与されるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャまたはいわゆるアシストフィーチャを含んでいる場合には、基板のターゲット部分内の所望のパターンと正確に対応しないことがあることに留意されたい。一般に、放射ビームに付与されるパターンは集積回路などのターゲット部分内に生成されるデバイス内の特定の機能層に対応する。
【００１８】
[0022] パターニングデバイスは光透過性でも反射性でもよい。パターニングデバイスの例にはマスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルＬＣＤパネルが含まれる。マスクはリソグラフィの分野でよく知られており、バイナリ、ａｌｔｅｒｎａｔｉｎｇ位相シフト、および減衰位相シフトなどのマスクタイプ、ならびに様々なハイブリッドマスクタイプが含まれる。プログラマブルミラーアレイの例は小型ミラーのマトリクス配列を使用し、その各々を入り放射ビームを異なる方向に反射するように個々に傾倒可能である。傾倒されたミラーはミラーマトリクスによって反射される放射ビームにパターンを付与する。
【００１９】
[0023] 本明細書で用いられる用語「投影システム」は屈折、反射、カタディオプトリック、磁気、電磁および静電光学系、または使用される露光放射に適する、または液浸液の使用または真空の使用のようなその他の要因に適するそれらの組合せを含むどの種類の投影システムをも包括するものとして広義に解釈されるものとする。本明細書で用いられる用語「投影レンズ」はより一般的な用語である「投影システム」と同義であるものと見なしてよい。
【００２０】
[0024] 本明細書に示されるように、装置は（例えば透過マスクを使用する）透過型の装置である。あるいは、装置は（例えば上記のような種類のプログラマブルミラーアレイを使用する、または反射マスクを使用する）反射型の装置でもよい。
【００２１】
[0025] リソグラフィ装置は２つ（デュアルステージ）またはそれ以上の基板テーブル（および／または２つまたはそれ以上のマスクテーブル）を有する種類の装置でよい。このような「マルチステージ」機械では付加的なテーブルを並行して使用してもよく、または１つまたは複数の他のテーブルが露光用に使用されている間に、１つまたは複数のテーブルで準備工程が実行されてもよい。
【００２２】
[0026] リソグラフィ装置はさらに、投影システムと基板との間の空隙を満たすように、基板の少なくとも一部が例えば水のような屈折率が比較的高い液体で覆われることができる種類のものでもよい。リソグラフィ装置の別の空間、例えばマスクと投影システムとの間に液浸液を与えてもよい。液浸技術は投影システムの開口数を増大するためにこの分野でよく知られている。本明細書で用いられる用語「液浸」は、基板などの構造が液体中に浸されなければならないことを意味するのではなく、露光中に投影システムと基板との間に液体が存在することだけを意味するものである。
【００２３】
[0027] 図１を参照すると、イルミネータＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受ける。放射源とリソグラフィ装置とは、例えば放射源がエクサイマレーザーである場合は、別個のものでよい。このような場合は、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成するものとは見なされず、放射ビームは、例えば適宜の方向付けミラーおよび／またはビームエキスパンダを含むビームデリバリシステムＢＤを援用して放射源ＳＯからイルミネータＩＬへと送られる。別の場合は、例えば放射源が水銀ランプである場合は、放射源はリソグラフィ装置と一体の部品でもよい。放射源ＳＯとイルミネータＩＬとを、必要ならばビームデリバリシステムＢＤと共に放射システムと呼んでもよい。
【００２４】
[0028] イルミネータＩＬは放射ビームの角強度分布を調整するためのアジャスタＡＤを含んでいてもよい。一般に、少なくともイルミネータの瞳面内の強度分布の外側および／または内側半径範囲（一般にそれぞれσ−ｏｕｔｅｒおよびσ−ｉｎｎｅｒと呼ばれる）は調整可能である。加えて、イルミネータＩＬはインテグレータＩＮおよびコンデンサＣＯなどの他の様々なコンポーネントを含んでいてもよい。放射ビームが断面に所望の均一性および強度分布を有するようにコンディショニングを行うためにイルミネータを使用してもよい。
【００２５】
[0029] 放射ビームＢは支持構造（例えばマスクテーブルＭＴ）上に支持されるパターニングデバイス（例えばマスクＭＡ）に入射し、パターニングデバイスによってパターン形成される。放射ビームＢはマスクＭＡを越えると、投影システムＰＳを通過し、それによってビームは基板Ｗのターゲット部分Ｃへと合焦される。第２の位置決め装置ＰＷおよび位置センサＩＦ（例えば干渉計デバイス、リニアエンコーダまたは容量センサ）を援用して、基板テーブルＷＴは例えば異なるターゲット部分Ｃを放射ビームＢの経路内に位置決めするように正確に移動されることができる。同様に、第１の位置決め装置ＰＭおよび別の位置センサ（図１には明示せず）は、例えばマスクライブラリからの機械的検索の後、またはスキャン中にマスクＭＡを放射ビームＢの経路に対して正確に位置決めするために利用可能である。一般に、マスクテーブルＭＴの移動は、第１の位置決め装置ＰＭの一部を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）を援用して実現されてもよい。同様に、基板テーブルＷＴの移動は、第２の位置決め装置ＰＷの一部を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使用して実現されてもよい。ステッパの場合は（スキャナとは異なり）、マスクテーブルＭＴはショートストロークアクチュエータのみに接続されてもよく、または固定されてもよい。マスクＭＡおよび基板ＷはマスクアラインメントマークＭ１、Ｍ２および基板アラインメントマークＰ１、Ｐ２を用いて位置合わせされてもよい。基板アラインメントマークは図示のように専用のターゲット部分を占めているが、ターゲット部分間のスペースに位置していてもよい（これらはスクライブレーンアラインメントマークとして知られている）。同様に、１つ以上のダイがマスクＭＡ上に設けられている状況で、マスクアラインメントマークはダイ間に位置していてもよい。
【００２６】
[0030] 図示した装置は以下のモードの少なくとも１つで使用可能である。
【００２７】
[0031] １．ステップモードでは、放射ビームに付与されるパターン全体が一度にターゲット部分Ｃに投影される間（すなわち単一の静的露光）、マスクテーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴは基本的に固定状態に保たれる。次に、基板テーブルＷＴは異なるターゲット部分Ｃを露光できるようにＸおよび／またはＹ方向にシフトされる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが単一の静的露光で結像されるターゲット部分Ｃのサイズを限定する。
【００２８】
[0032] ２．スキャンモードでは、放射ビームに付与されるパターンがターゲット部分Ｃに投影される間（すなわち単一の動的露光）、マスクテーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴは同期的にスキャンされる。マスクテーブルＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度と方向は投影システムＰＳの（縮小）拡大倍率および像反転特性によって決定されることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズが単一の動的露光でのターゲット部分の（非スキャン方向での）幅を限定し、一方、スキャン動作の長さがターゲット部分の（スキャン方向での）高さを決定する。
【００２９】
[0033] ３．別のモードでは、マスクテーブルＭＴはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に固定状態に保たれ、基板テーブルＷＴは放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Ｃに投影されている間に移動またはスキャンされる。このモードでは、一般にパルス放射源が使用され、基板テーブルＷＴの各々の移動の後、またはスキャン中の連続放射パルスの間に必要に応じてプログラマブルパターニングデバイスが更新される。この動作モードは、前述の種類のプログラマブルミラーアレイのようなプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に適応可能である。
【００３０】
[0034] 上記の使用モードまたはまったく異なる使用モードの組合せおよび／または変化形態を利用してもよい。
【００３１】
[0035] リソグラフィ装置の投影システムは、地面から、例えば工場の床から導入される機械的な振動などの投影システムに対する環境の影響を軽減するために、いわゆるメトロフレームまたは振動絶縁フレームに取り付けてもよい。メトロフレームはメトロフレームを振動絶縁マウント上に支持することによってこのような影響から絶縁される。能動的に制御できる振動絶縁マウントは、工場の床に支持されるベースフレーム上に配置される。このように、工場の床での振動またはベースフレームに伝播し、または伝達される振動は、メトロフレームが振動絶縁マウント上に支持されるのである程度まではメトロフレームを通過し、またはこれに伝達されることはない。しかし、ベースフレームとメトロフレームとの間にはケーブル接続が備えられることが多く、このケーブル接続も振動をベースフレームからメトロフレームへと伝播することがある。
【００３２】
[0036] 図２は従来のケーブル接続の側面図を示しており、このケーブル接続には全体的に参照番号２１が付されている。ケーブル接続２１はベースフレーム２３からメトロフレーム２４へと延びるケーブルバンドル２２を含んでいる。ケーブルバンドル２２はベースフレーム２３とメトロフレーム２４の双方に固定されているが、ベースフレーム２３および／またはメトロフレーム２４に沿ってさらに延びていてもよい。ケーブルバンドル２２は何本かのケーブルを含んでいる。ケーブルは例えばメトロフレームに直接、または間接的に取り付けられたある部品を付勢するために使用され、または測定信号または制御信号を伝送するために使用される電気ケーブルでよい。さらに、ケーブルは圧縮空気または液体を含むホースでもよい。メトロフレーム２４はいくつかの振動絶縁エアマウント２５を有するベースフレーム２３によって支持される。
【００３３】
[0037] 従来のケーブル接続２１のケーブルバンドル２２がベースフレーム２３からメトロフレーム２４へと振動を直接伝達することを避けるために、ケーブルバンドル２２はベースフレーム２３からメトロフレーム２４へと直線的に延びるのではなく、波形にまたは撚れ形に延びている。このようなケーブルバンドルの形状によって、ケーブルバンドル２２にはベースフレーム２３内の振動または運動がメトロフレーム２４から絶縁できるある程度のフレキシビリティが付与される。
【００３４】
[0038] しかし、この振動／運動の絶縁はある程度であるに過ぎない。リソグラフィ装置ではケーブルの本数および／またはサイズが大幅に増大しているので、さらに手段を講じないとフレキシビリティは低下し、その結果、ベースフレームの振動および／または運動がメトロフレーム４によって絶縁されにくくなることがある。その上、リソグラフィ装置の性能に対する要求が常に高まっているので、振動を絶縁しなければならない程度も高まっている。
【００３５】
[0039] ケーブルの量が増大し、振動絶縁マウントの性能も高まっているため、ケーブルバンドル２２の剛性がメトロフレーム２４を支持する振動絶縁マウント２５の剛性の範囲になっているので、ケーブルバンドルが波形または撚れ形であることによってもベースフレーム２３とメトロフレーム２４との間には充分な振動絶縁がなされないことがある。
【００３６】
[0040] 本発明の実施形態では、ベースフレーム２３からメトロフレーム２４への振動および／または運動の伝播または伝達がさらに軽減される制御システムを含むケーブル接続が提供される。
【００３７】
[0041] 図３は本発明の実施形態によるケーブル接続を示している。ケーブル接続１はケーブルをケーブルバンドルの長さに沿ったある位置に保持するケーブルバンドルホルダ６を含んでいる。この位置はベースフレーム３とメトロフレーム４との間に延びるケーブルバンドル２の長さに沿ったどの位置でもよいが、実際にはベースフレーム３とメトロフレーム４の双方からある一定の距離にある。図３の実施形態では、ケーブルバンドルホルダ６はケーブルバンドル２をケーブルバンドル２の長さの約半分の位置で保持する。
【００３８】
[0042] ケーブルバンドルホルダ６はベースフレーム３上に取り付けられたアクチュエータ７によって少なくともｘ方向に移動可能である。このように、ケーブルバンドルホルダ６をある方向に作動することによるアクチュエータ７の何らかの反力がベースフレーム３にかかる。アクチュエータ７はローレンツアクチュエータであるが、例えば電動アクチュエータ、空気圧または油圧アクチュエータなどの、ケーブルバンドルホルダ６を少なくともｘ方向に移動するために使用できる適宜のどの種類のアクチュエータでもよい。好ましくは、アクチュエータには剛性がない。すなわち図３のローレンツアクチュエータ７のようにベースフレーム３からの運動または振動をケーブルバンドルホルダ６に伝播または伝達することがあり得ない。
【００３９】
[0043] センサ８はケーブルバンドルホルダ６上に取り付けられている。このセンサ８は少なくともｘ方向でのメトロフレーム４に対するケーブルバンドルホルダ６の位置を測定するように構成されている。センサは容量形、誘導形、またはエンコーダ型センサ、またはその組合せなどの適宜のどの種類の位置センサでもよい。さらに、センサ８の位置測定に基づいてアクチュエータ７用の制御信号を供給可能なコントローラ９がベースフレーム３上に配置されている。
【００４０】
[0044] この制御システム、すなわちアクチュエータ７、センサ８およびコントローラ９によって、メトロフレーム４に対するケーブルバンドルホルダ６の位置を制御することが可能である。ケーブルバンドルホルダ６をメトロフレーム４に対してほぼ同じ位置に保持することによって、すなわちケーブルバンドルホルダがｘ方向へのメトロフレームの移動に追従することによって、メトロフレーム４とケーブルバンドルホルダ６との間に延びるケーブルバンドル２の部分の形状はほぼ変化せず、その結果、ケーブルバンドル６のこの部分によってメトロフレーム４にかかる力は変化しない。その結果、ベースフレーム３の移動によりケーブル接続に誘導されるｘ方向への力はケーブル接続によってメトロフレーム４にはほぼ伝播または伝達されることがない。
【００４１】
[0045] これに関して、ベースフレーム３とケーブルバンドルホルダ６との間のケーブルバンドルの力または形状の変化によって、ケーブルバンドルホルダ６とメトロフレーム４との間のケーブルバンドル２の形状が変化することを避けるため、ケーブルバンドル２がケーブルバンドルホルダ６によってしっかりと保持されることが有利である。
【００４２】
[0046] さらに、アクチュエータ７をベースフレーム３上に取り付けることによって、アクチュエータ７の反力がベースフレーム３にかかることが有利である。代替として、アクチュエータ７をリソグラフィ装置の別のいずれかの部分に取り付けてもよいが、好ましくはメトロフレーム４には取り付けないほうがよい。そうすると、反力がメトロフレームにかかり、ケーブル接続が何らかの振動をベースフレーム３からメトロフレーム４に伝播または伝達することを避けるために、メトロフレーム４に対するケーブルバンドルホルダ６の位置を制御することが困難になることがある。センサ８はこの実施形態ではケーブルバンドルホルダ６に取り付けられる。代替実施形態では、メトロフレーム４に対するケーブルバンドルホルダ６の位置を直接または間接的に測定可能な異なる位置に１つのセンサまたは２つ以上のセンサを備えてもよい。
【００４３】
[0047] コントローラ９は例えば、センサ８の測定に基づいてケーブルバンドルホルダ６を作動させるためにフィードフォワード経路を利用するフィードフォワードユニットを含んでいてもよい。センサ８はメトロフレーム４に対するケーブルバンドルホルダ６の位置を測定することができる。しかし、コントローラユニット９のフィードフォワード信号として、メトロフレーム４に対するケーブルバンドルホルダ６の速度または加速度を利用してもよい。この場合は、センサ８はメトロフレーム４に対するケーブルバンドルホルダ６の速度または加速度を判定する速度または加速度センサでよい。
【００４４】
[0048] コントローラ９はケーブルバンドルホルダ６をメトロフレーム４に対してほぼ同じ位置に保持するように構成されたフィードバックコントローラであってもよい。ある実施形態では、コントローラ９はフィードフォワードユニットとフィードバックコントローラの双方を含んでいる。ケーブルバンドルホルダ６をメトロフレームに対して１または複数の自由度でほぼ同じ位置に保持することができるその他のいずれかのコントローラを使用してもよい。
【００４５】
[0049] 図４は本発明の実施例によるケーブル接続の上面図を示している。このケーブル接続は図３のケーブル接続のすべての部品を含んでいる、それに加えて、図４の実施形態は第２のアクチュエータ７ａを含んでいる。アクチュエータ７ａはケーブルバンドルホルダ６をｙ方向に作動するように構成されている。さらに、センサ８はメトロフレーム４に対するケーブルバンドルホルダ６の位置をｘ方向とｙ方向の双方で測定するように構成されている。このセンサ８は例えば容量センサ（ｘ方向用）とエンコーダ形センサ（ｙ方向用）との組合せでよい。
【００４６】
[0050] この実施形態によって、ベースフレーム３のｘ方向での振動／移動の他に、ｙ方向での振動／移動がメトロフレーム４に伝達されることも避けることができる。したがって、ケーブルバンドルホルダ６の位置は、ケーブルバンドルホルダ６がメトロフレーム４に対してｘ方向およびｙ方向でほぼ同じ位置に留まるように制御される。その結果、ケーブルバンドルホルダ６はｘ方向およびｙ方向でのメトロフレーム４のどの動きにも追従する。
【００４７】
[0051] 代替実施形態では、ケーブルバンドルホルダ６の位置を３度またはそれ以上の自由度で制御可能なセンサ、アクチュエータおよびコントローラを含む制御システムを備えることも可能である。このような実施形態では、ケーブルバンドルホルダが対応する数の自由度でメトロフレームに追従することができる。
【００４８】
[0052] ケーブルバンドルの剛性が最大になる方向（単数または複数）にケーブルバンドルホルダ６の位置を制御するような制御システムを備えることが有利である。別の方向ではケーブルバンドルの剛性はエアマウント５の剛性と比較して比較的低いことがあるので、その方向（単数または複数）ではケーブル接続を介した振動の伝達を避けるためにケーブルバンドルの位置が制御される必要はない。
【００４９】
[0053] これまで本発明の実施形態による能動的なケーブル接続を、リソグラフィ装置のメトロフレームとベースフレームとの間に延びるケーブル接続に関して記載してきた。能動的なケーブル接続は、第１の対象から第２の対象への影響を低減することが望ましい、第１の対象と第２の対象との間のどのようなケーブル接続に使用してもよいことが当業者には明らかであろう。
【００５０】
[0054] 特に、本発明の実施形態による能動的なケーブル接続は、ロングストロークモジュールからの振動が、これらの２つの対象間の唯一の機械的接続であることがあるケーブル接続を介してショートストロークモジュールに伝播または伝達されることが望ましくないので、基板ステージまたはパターニングデバイスステージのロングストロークモジュールとショートストロークモジュールとの間のケーブル接続に使用できる。
【００５１】
[0055] 本明細書ではＩＣの製造でのリソグラフィ装置の使用について特に言及してきたが、本明細書に記載のリソグラフィ装置には集積光学系、磁気ドメインメモリ用のガイダンスおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどのような他の用途もあり得ることを理解されたい。このような代替用途の脈絡で、本明細書で用いられる用語「ウェハ」または「ダイ」はより一般的な用語である「基板」または「ターゲット部分」のそれぞれと同義であると見なしてもよいことを当業者は理解しよう。本明細書で言及される基板は露光の前または後に、例えばトラック（典型的には基板にレジスト層を与え、露光されたレジストを現像するツール）、メトロロジツールおよび／またはインスペクションツールで加工されてもよい。前記当する場合は、本明細書の開示は上記の、およびその他の基板加工ツールに適用されてもよい。さらに、基板は例えば多層ＩＣを作製するために２回以上加工されてもよいので、本明細書で使用される基板という用語は加工済みの複数の層を含む基板を意味することもある。
【００５２】
[0056] 本発明の実施形態の利用をこれまで光学リソグラフィの脈絡で言及してきたが、本発明を例えばインプリントリソグラフィのような他の用途に利用してもよく、また脈絡上許されれば、光学リソグラフィに限定されないことが理解されよう。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイスのトポグラフィが基板上に作製されるパターンを規定する。パターニングデバイスのトポグラフィは基板上に供給されるレジスト層へと刻印され、その後でレジストは電磁放射線、熱、圧力、またはそれらの組合せを与えることによって硬化される。パターニングデバイスがレジストから移動され、レジストが硬化された後、パターンが残される。
【００５３】
[0057] 本明細書で用いられる用語「放射線」および「ビーム」は（例えば波長が厳密に、またはおよそ３６５、２４８、１９３、１５７、または１２６ｎｍの）紫外光（ＵＶ）放射、および（例えば波長が５〜２０ｎｍの範囲の）極端紫外光（ＥＵＶ）、ならびにイオンビームまたは電子ビームなどの粒子ビームを含むすべての種類の電磁放射線を包括する。
【００５４】
[0058] 「レンズ」という用語は脈絡上許されれば、屈折、反射、磁気、電磁気および静電光学コンポーネントを含む様々な種類の光学コンポーネントのいずれか１つ、またはその組合せを意味し得る。
【００５５】
[0059] 本発明の特定の実施形態をこれまで記載してきたが、本発明は記載された以外にも実施できることが理解されよう。例えば、本発明は上記の開示された方法を記述する１つまたは複数の機械読み取り可能な命令シーケンスを含むコンピュータプログラム、またはこのようなコンピュータプログラムを内蔵したデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気ディスク、または光ディスク）の形態をとってもよい。
【００５６】
[0060] 上記の記載は例示のためであり、限定を意図するものではない。したがって、特許請求の範囲から離れることなく本発明の修正を行ってもよいことが当業者には明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】[0014]本発明の実施形態によるリソグラフィ装置を示す図面である。
【図２】[0015]従来のケーブル接続の概略側面図である。
【図３】[0016]本発明の実施形態による能動的ケーブル接続の概略側面図である。
【図４】[0017]本発明の別の実施形態による能動的ケーブル接続の概略上面図である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の対象と第２の対象との間のケーブル接続であって、
１本または複数本のケーブルを含むケーブルバンドルであって、前記ケーブルバンドルの一端が前記第１の対象に固定され、前記ケーブルバンドルの他端が前記第２の対象に固定された、ケーブルバンドルと、
前記ケーブルバンドルを前記ケーブルバンドルの長さに沿った位置に保持するように構成されたケーブルバンドルホルダと、
前記第２の対象に対する前記ケーブルバンドルホルダの位置を制御するように構成された制御システムと
を備えるケーブル接続。
【請求項２】
前記制御システムは、前記ケーブルバンドルホルダが前記第２の対象に対して少なくとも１自由度で実質的に同じ位置に留まるように前記ケーブルバンドルホルダの位置を制御するように構成される請求項１に記載のケーブル接続。
【請求項３】
前記制御システムは、
前記第２の対象に対する前記ケーブルバンドルホルダの位置量を測定するように構成されたセンサと、
前記ケーブルバンドルホルダを作動するように構成されたアクチュエータと、
前記センサによって測定された前記位置量に基づいて前記アクチュエータに制御信号を供給するように構成されたコントローラとを備える請求項１に記載のケーブル接続。
【請求項４】
前記コントローラはフィードフォワードユニットを備える請求項３に記載のケーブル接続。
【請求項５】
前記コントローラはフィードバック制御ユニットを備える請求項３に記載のケーブル接続。
【請求項６】
前記アクチュエータは前記第１の対象に取り付けられる請求項３に記載のケーブル接続。
【請求項７】
前記センサは第１の自由度で位置量を測定するように構成され、前記アクチュエータは第１の自由度で前記ケーブルホルダを作動するように構成される請求項３に記載のケーブル接続。
【請求項８】
前記センサまたは第２のセンサは第２の自由度で前記ケーブルバンドルホルダの位置量を測定するように構成され、前記アクチュエータまたは第２のアクチュエータは第２の自由度で前記ケーブルバンドルホルダを作動するようにさらに構成される請求項７に記載のケーブル接続。
【請求項９】
前記制御システムは前記第２の対象に対する前記ケーブルバンドルホルダの位置を２以上の自由度で制御するように構成される請求項１に記載のケーブル接続。
【請求項１０】
前記ケーブルバンドルホルダは前記ケーブルバンドルを固定的に保持するように構成される請求項１に記載のケーブル接続。
【請求項１１】
第１の対象と第２の対象との間に延在するケーブルバンドルを前記第２の対象に対する前記ケーブルバンドルの長さに沿った位置に保持するように配置されたケーブルバンドルホルダの位置を制御するように構成された制御システムであって、
前記第２の対象に対する前記ケーブルバンドルホルダの位置量を測定するように構成されたセンサと、
前記ケーブルバンドルホルダを作動するように構成されたアクチュエータと、
前記センサによって測定された前記位置量に基づいて前記アクチュエータに制御信号を供給するように構成されたコントローラと
を備える制御システム。
【請求項１２】
第１の対象と、第２の対象と、前記第１の対象と前記第２の対象との間に延在する請求項１に記載のケーブル接続とを備えるリソグラフィ装置。
【請求項１３】
前記第１の対象はベースフレームであり、前記第２の対象は振動絶縁フレームである請求項１２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１４】
前記振動絶縁フレームはメトロフレームである請求項１３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１５】
前記第１の対象は基板ステージのロングストロークモジュールであり、前記第２の対象は前記基板ステージのショートストロークモジュールである請求項１２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１６】
前記第１の対象はパターニングデバイスステージのロングストロークモジュールであり、前記第２の対象は前記パターニングデバイスステージのショートストロークモジュールである請求項１２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１７】
第１の対象から第２の対象へと延在するケーブルバンドルを含むケーブル接続を経て振動が前記第１の対象から前記第２の対象へと伝達されることを軽減する方法であって、
（ａ）ケーブルバンドルを前記ケーブルバンドルの長さに沿った位置に保持するように構成されたケーブルバンドルホルダを備えること、および、
（ｂ）（ｉ）前記第２の対象に対する前記ケーブルバンドルホルダの位置量を測定すること、
（ｉｉ）測定された前記位置量に基づいて制御信号を供給すること、
（ｉｉｉ）前記ケーブルバンドルホルダを作動するように構成されたアクチュエータに前記制御信号を送ること
によって、前記第２の対象に対する前記ケーブルバンドルホルダの位置を制御すること、
を含む方法。
【請求項１８】
前記制御工程は、前記ケーブルバンドルホルダを前記第２の対象に対して少なくとも１自由度で実質的に同じ位置に保持することを含む請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
（ａ）放射ビームのコンディショニングを行うように構成された照明システムと、
（ｂ）前記放射ビームをパターン形成してパターニングされた放射ビームを形成するように構成されたパターニングデバイスを支持するように構成されたパターン支持体と、
（ｃ）基板を支持するように構成された基板支持体と、
（ｄ）前記パターニングされた放射ビームを前記基板上に投影するように構成された投影システムと、
（ｅ）第１の対象と第２の対象との間のケーブルバンドルを前記第２の対象に対する前記ケーブルバンドルの長さに沿った位置に保持するように配置されたケーブルバンドルホルダの位置を制御するように構成された制御システムであって、
（ｉ）前記第２の対象に対する前記ケーブルバンドルホルダの位置を判定するように構成されたセンサと、
（ｉｉ）前記ケーブルバンドルホルダを移動するように構成されたアクチュエータと、
（ｉｉｉ）前記センサによって判定された位置に基づいて前記アクチュエータを制御するように構成されたコントローラとを備える制御システムと
を備えるリソグラフィ装置。
【請求項２０】
前記第１の対象は前記基板支持体のロングストロークモジュールであり、前記第２の対象は前記基板支持体のショートストロークモジュールである請求項１９に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２１】
前記第１の対象は前記パターン支持体のロングストロークモジュールであり、前記第２の対象は前記基板支持体のショートストロークモジュールである請求項１９に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１】
第１の対象と第２の対象との間のケーブル接続であって、
１本または複数本のケーブルを含むケーブルバンドルであって、前記ケーブルバンドルの一端が前記第１の対象に固定され、前記ケーブルバンドルの他端が前記第２の対象に固定された、ケーブルバンドルと、
前記ケーブルバンドルを前記ケーブルバンドルの長さに沿った位置に保持するように構成されたケーブルバンドルホルダと、
前記第２の対象に対する前記ケーブルバンドルホルダの位置を制御するように構成された制御システムと
を備えるケーブル接続。
【請求項２】
前記制御システムは、前記ケーブルバンドルホルダが前記第２の対象に対して少なくとも１自由度で実質的に同じ位置に留まるように前記ケーブルバンドルホルダの位置を制御するように構成される請求項１に記載のケーブル接続。
【請求項３】
前記制御システムは、
前記第２の対象に対する前記ケーブルバンドルホルダの位置量を測定するように構成されたセンサと、
前記ケーブルバンドルホルダを作動するように構成されたアクチュエータと、
前記センサによって測定された前記位置量に基づいて前記アクチュエータに制御信号を供給するように構成されたコントローラとを備える請求項１に記載のケーブル接続。
【請求項４】
前記コントローラはフィードフォワードユニットを備える請求項３に記載のケーブル接続。
【請求項５】
前記コントローラはフィードバック制御ユニットを備える請求項３に記載のケーブル接続。
【請求項６】
前記アクチュエータは前記第１の対象に取り付けられる請求項３に記載のケーブル接続。
【請求項７】
前記センサは第１の自由度で位置量を測定するように構成され、前記アクチュエータは第１の自由度で前記ケーブルホルダを作動するように構成される請求項３に記載のケーブル接続。
【請求項８】
前記センサまたは第２のセンサは第２の自由度で前記ケーブルバンドルホルダの位置量を測定するように構成され、前記アクチュエータまたは第２のアクチュエータは第２の自由度で前記ケーブルバンドルホルダを作動するようにさらに構成される請求項７に記載のケーブル接続。
【請求項９】
前記制御システムは前記第２の対象に対する前記ケーブルバンドルホルダの位置を２以上の自由度で制御するように構成される請求項１に記載のケーブル接続。
【請求項１０】
前記ケーブルバンドルホルダは前記ケーブルバンドルを固定的に保持するように構成される請求項１に記載のケーブル接続。
【請求項１１】
第１の対象と第２の対象との間に延在するケーブルバンドルを前記第２の対象に対する前記ケーブルバンドルの長さに沿った位置に保持するように配置されたケーブルバンドルホルダの位置を制御するように構成された制御システムであって、
前記第２の対象に対する前記ケーブルバンドルホルダの位置量を測定するように構成されたセンサと、
前記ケーブルバンドルホルダを作動するように構成されたアクチュエータと、
前記センサによって測定された前記位置量に基づいて前記アクチュエータに制御信号を供給するように構成されたコントローラと
を備える制御システム。
【請求項１２】
第１の対象と、第２の対象と、前記第１の対象と前記第２の対象との間に延在する請求項１に記載のケーブル接続とを備えるリソグラフィ装置。
【請求項１３】
前記第１の対象はベースフレームであり、前記第２の対象は振動絶縁フレームである請求項１２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１４】
前記振動絶縁フレームはメトロフレームである請求項１３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１５】
前記第１の対象は基板ステージのロングストロークモジュールであり、前記第２の対象は前記基板ステージのショートストロークモジュールである請求項１２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１６】
前記第１の対象はパターニングデバイスステージのロングストロークモジュールであり、前記第２の対象は前記パターニングデバイスステージのショートストロークモジュールである請求項１２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１７】
第１の対象から第２の対象へと延在するケーブルバンドルを含むケーブル接続を経て振動が前記第１の対象から前記第２の対象へと伝達されることを軽減する方法であって、
（ａ）ケーブルバンドルを前記ケーブルバンドルの長さに沿った位置に保持するように構成されたケーブルバンドルホルダを備えること、および、
（ｂ）（ｉ）前記第２の対象に対する前記ケーブルバンドルホルダの位置量を測定すること、
（ｉｉ）測定された前記位置量に基づいて制御信号を供給すること、
（ｉｉｉ）前記ケーブルバンドルホルダを作動するように構成されたアクチュエータに前記制御信号を送ること
によって、前記第２の対象に対する前記ケーブルバンドルホルダの位置を制御すること、
を含む方法。
【請求項１８】
前記制御工程は、前記ケーブルバンドルホルダを前記第２の対象に対して少なくとも１自由度で実質的に同じ位置に保持することを含む請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
（ａ）放射ビームのコンディショニングを行うように構成された照明システムと、
（ｂ）前記放射ビームをパターン形成してパターニングされた放射ビームを形成するように構成されたパターニングデバイスを支持するように構成されたパターン支持体と、
（ｃ）基板を支持するように構成された基板支持体と、
（ｄ）前記パターニングされた放射ビームを前記基板上に投影するように構成された投影システムと、
（ｅ）第１の対象と第２の対象との間のケーブルバンドルを前記第２の対象に対する前記ケーブルバンドルの長さに沿った位置に保持するように配置されたケーブルバンドルホルダの位置を制御するように構成された制御システムであって、
（ｉ）前記第２の対象に対する前記ケーブルバンドルホルダの位置を判定するように構成されたセンサと、
（ｉｉ）前記ケーブルバンドルホルダを移動するように構成されたアクチュエータと、
（ｉｉｉ）前記センサによって判定された位置に基づいて前記アクチュエータを制御するように構成されたコントローラとを備える制御システムと
を備えるリソグラフィ装置。
【請求項２０】
前記第１の対象は前記基板支持体のロングストロークモジュールであり、前記第２の対象は前記基板支持体のショートストロークモジュールである請求項１９に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２１】
前記第１の対象は前記パターン支持体のロングストロークモジュールであり、前記第２の対象は前記基板支持体のショートストロークモジュールである請求項１９に記載のリソグラフィ装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２００８−４２２０１（Ｐ２００８−４２２０１Ａ）
【公開日】平成２０年２月２１日（２００８．２．２１）
【国際特許分類】
【外国語出願】
【出願番号】特願２００７−２００６４９（Ｐ２００７−２００６４９）
【出願日】平成１９年８月１日（２００７．８．１）
【出願人】（５０４１５１８０４）エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． (1,856)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年２月２１日（２００８．２．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−２００６４９（Ｐ２００７−２００６４９）
【出願日】平成１９年８月１日（２００７．８．１）
【出願人】（５０４１５１８０４）エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． (1,856)
【Ｆターム（参考）】
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