フィルタ及びそれを利用したプラズマディスプレイ装置
【課題】本発明は、外部から入射される光が最大限吸収及び遮断される外光遮断シートがパネルの前面に取り付けられるプラズマディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】プラズマディスプレイ装置は、プラズマディスプレイパネルと、前記パネルの前面に形成されるフィルタとを備え、前記フィルタは、ベース部１１０及び前記ベース部１１０上に形成される複数のパターン部（１２０ａ、１２０ｂ）が備えられる外光遮断シート１００を備え、前記外光遮断シート１００の第１領域に形成された互いに隣接した前記パターン部間の第１間隔は、前記外光遮断シート１００の第２領域に形成された互いに隣接した前記パターン部間の第２間隔と互いに異なることを特徴とする。
【解決手段】プラズマディスプレイ装置は、プラズマディスプレイパネルと、前記パネルの前面に形成されるフィルタとを備え、前記フィルタは、ベース部１１０及び前記ベース部１１０上に形成される複数のパターン部（１２０ａ、１２０ｂ）が備えられる外光遮断シート１００を備え、前記外光遮断シート１００の第１領域に形成された互いに隣接した前記パターン部間の第１間隔は、前記外光遮断シート１００の第２領域に形成された互いに隣接した前記パターン部間の第２間隔と互いに異なることを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイ装置に関し、特に、パネルの外部から入射される光をパネルで反射することを防止するために、外光を遮断及び吸収する外光遮断シートを備えるフィルタをパネルの前面に設置することによって、パネルの明室コントラストを向上させると共に、輝度が維持されるプラズマディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ、以下、「ＰＤＰ」と記す）とは、放電空間に設置された電極に所定の電圧を印加して放電を起こし、ガス放電時に発生するプラズマが蛍光体を励起させることによって、文字又はグラフィックを含む画像を表示する装置であって、大型化、軽量化及び平面薄型化が容易であり、上下左右に広い視野角を提供し、フルカラー及び高輝度を具現することができるという長所がある。
【０００３】
このようなＰＤＰは、ブラック（ｂｌａｃｋ）映像が具現されるとき、パネルの下板に露出している白色系統の蛍光体によって、外部光がＰＤＰのパネル前面で反射されることにより、ブラック映像が明るい系統の暗い色として認知されて、ＰＤＰの明室コントラストが低下するという問題がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、上述の問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、プラズマディスプレイパネルに入射される外部光を効果的に遮断して、光の反射を防止し、プラズマディスプレイパネルの明室コントラストを画期的に向上させると共に、パネルの輝度を改善する外光遮断シートを含んで備えられるプラズマディスプレイ装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の目的を達成すべく、本発明によるプラズマディスプレイ装置は、プラズマディスプレイパネルと、前記パネルの前面に形成されるフィルタとを備え、前記フィルタは、ベース部及び前記ベース部上に形成される複数のパターン部が備えられる外光遮断シートを備え、前記外光遮断シートの第１領域に形成された互いに隣接した前記パターン部間の第１間隔は、前記外光遮断シートの第２領域に形成された互いに隣接した前記パターン部間の第２間隔と互いに異なることを特徴とする。
【０００６】
前記第１間隔又は第２間隔は、前記パターン部の終端から隣接したパターン部の終端までの間隔である、又は、前記パターン部の中心から隣接したパターン部の中心までの間隔であることが好ましい。
【０００７】
前記第１領域に形成されたパターン部の幅は、前記第２領域に形成されたパターン部の幅と異なる、又は、前記第２領域に形成されたパターン部の幅より大きいことが好ましい。
【０００８】
前記第１領域に形成されたパターン部の幅は、前記第２領域に形成されたパターン部の幅より１．５倍〜４倍大きいことが好ましく、さらに、前記第１間隔が、前記第２間隔より小さい、又は、前記第１間隔が、前記第２間隔の０．７０倍〜０．９９倍であることが好ましい。
【０００９】
前記第１領域は、前記外光遮断シートの全面を３等分したとき、中央に位置する領域であり、前記第２領域は、前記外光遮断シートの全面を３等分したとき、エッジに位置する領域であることが好ましい。
【００１０】
外部光の反射を防止するＡＲ層と、前記パネルから放射される近赤外線を遮断するＮＩＲ遮蔽層と、電磁波を遮断するＥＭＩ遮蔽層のうち、少なくとも１つがさらに備えられることが好ましい。
【００１１】
前記パターン部は、上段より下段の幅がより大きい断面形状を有し、前記パターン部の下段はパネル側に配置され、上段は外光が入射される側に配置されることが好ましい。
【００１２】
前記外光遮断シートの厚さは、前記パターン部の高さの１．０１倍〜２．２５倍、または、１．０１倍〜１．５倍であることが好ましい。
【００１３】
前記パターン部の屈折率は、前記ベース部の屈折率より小さいことが好ましい。
【００１４】
本発明によるさらに他のプラズマディスプレイ装置は、プラズマディスプレイパネルと、前記パネルの前面に形成されるフィルタとを備え、前記フィルタは、ベース部及び前記ベース部上に形成される複数のパターン部が備えられる外光遮断シートを備え、前記外光遮断シートの第１領域に形成されたパターン部の幅は、前記外光遮断シートの第２領域に形成されたパターン部の幅と互いに異なることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のプラズマディスプレイ装置によれば、外光遮断シートを備えることにより、プラズマディスプレイパネルに入射される外部光を効果的に遮断して、光の反射を防止し、プラズマディスプレイパネルの明室コントラストを画期的に向上させると共に、パネルの輝度を改善するという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の好ましい実施の形態を、添付した図１〜図１１を参照して詳細に説明する。但し、本発明に係るプラズマディスプレイ装置は、本明細書に記載された実施の形態に限定されず、多数の実施の形態が存在する。
【００１７】
図１は、本発明に係るプラズマディスプレイパネルに対する一実施の形態を斜視図で示すものである。
【００１８】
図１に示すように、プラズマディスプレイパネルは、上部基板１０上に形成される維持電極対であるスキャン電極１１及びサステイン電極１２と、下部基板２０上に形成されるアドレス電極２２とを備える。
【００１９】
維持電極対１１、１２それぞれは、通常、インジウムスズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）で形成された透明電極１１ａ、１２ａと、銀（Ａｇ）、クロム（Ｃｒ）などの金属又はクロム／銅／クロム（Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒ）の積層型又はクロム／アルミニウム／クロム（Ｃｒ／Ａｌ／Ｃｒ）の積層型で形成することができるバス電極１１ｂ、１２ｂを備えて構成される。このとき、バス電極１１ｂ、１２ｂは、透明電極１１ａ、１２ａ上に形成され、抵抗の高い透明電極１１ａ、１２ａにより電圧降下を低減する機能を果たす。
【００２０】
一方、本発明の一実施の形態によれば、維持電極対１１、１２は、透明電極１１ａ、１２ａとバス電極１１ｂ、１２ｂとが積層された構造だけでなく、透明電極１１ａ、１２ａなしにバス電極１１ｂ、１２ｂのみでも構成することができる。このような構造は、透明電極１１ａ、１２ａを使用しないため、パネルの製造単価を下げることができるという長所がある。このような構造に用いられるバス電極１１ｂ、１２ｂは、上に列挙した材料の他に、感光性材料など、多様な材料を利用することができる。
【００２１】
また、ＰＤＰには、上部基板１０の外部で発生する外部光を吸収して、外部光の反射を低減する光遮断の機能、及び上部基板１０の純度（ピュリティ、ｐｕｒｉｔｙ）とＰＤＰのコントラストを向上させる機能を果たすブラックマトリックス（Ｂｌａｃｋ Ｍａｔｒｉｘ、ＢＭ）が形成される。
【００２２】
本発明の一実施の形態に係るブラックマトリックスは、上部基板１０に形成されるが、隔壁２１と重なる位置に形成される第１ブラックマトリックス１５と、透明電極１１ａ、１２ａとバス電極１１ｂ、１２ｂとの間に形成される第２ブラックマトリックス１１ｃ、１２ｃで構成することができる。ここで、第１ブラックマトリックス１５とブラック層又はブラック電極層とも呼ばれる第２ブラックマトリックス１１ｃ、１２ｃは、形成過程で同時に形成されて、物理的に接続されても良く、同時に形成されずに、物理的に接続されなくても良い。
【００２３】
また、物理的に接続されて形成される場合、第１ブラックマトリックス１５と第２ブラックマトリックス１１ｃ、１２ｃを同じ材質で形成するが、物理的に分離されて形成される場合には、他の材質で形成することができる。
【００２４】
スキャン電極１１とサステイン電極１２がそれぞれ形成された上部基板１０には、上部誘電体層１３と保護層１４が積層される。上部誘電体層１３には、放電により発生した荷電粒子が蓄積され、維持電極対１１、１２を保護する機能を果たすことができる。保護層１４は、ガス放電時に発生する荷電粒子のスパッタリングから上部誘電体層１３を保護し、２次電子の放出効率を高めるようにする。
【００２５】
一方、アドレス電極２２は、スキャン電極１１及びサステイン電極１２と交差する方向に形成される。アドレス電極２２が形成された下部基板２０上には、下部誘電体層２４と隔壁２１が形成される。
【００２６】
下部誘電体層２４と隔壁２１の表面には、ガス放電時に発生した紫外線により発光して、可視光を発生させる蛍光体２３が塗布される。
【００２７】
隔壁２１は、アドレス電極２２と並んだ方向に形成された縦隔壁２１ａと、アドレス電極２２と交差する方向に形成された横隔壁２１ｂとで構成され、放電セルを物理的に区分し、放電により生成された紫外線と可視光が、隣接した放電セルに漏れるのを防止する。
【００２８】
本発明の一実施の形態では、図１に示す隔壁２１の構造だけでなく、多様な形状の隔壁２１の構造も可能である。例えば、縦隔壁２１ａと横隔壁２１ｂの高さが異なる不均一な隔壁構造（差等隔壁構造）、縦隔壁２１ａ又は横隔壁２１ｂのうち、少なくとも１つ以上に排気通路として使用可能なチャネルが形成されたチャネル型隔壁構造、縦隔壁２１ａ又は横隔壁２１ｂのうち、何れか１つ以上に溝（Ｈｏｌｌｏｗ）が形成された溝型隔壁構造などが可能である。
【００２９】
ここで、不均一な隔壁構造である場合には、横隔壁２１ｂの高さが高いことがさらに好ましく、チャネル型隔壁構造や溝型隔壁構造である場合には、横隔壁２１ｂにチャネルが形成されるか、又は溝が形成されることが好ましい。
【００３０】
一方、本発明の一実施の形態では、Ｒ、Ｇ及びＢ放電セルそれぞれが同じ線上に配列されるものと図示及び説明されているが、他の形状に配列することもできる。例えば、Ｒ、Ｇ及びＢ放電セルが三角状に配列されるデルタタイプの配列も可能であり、放電セルの形状も、四角状だけでなく、五角形、六角形などの多様な多角形状も可能である。
【００３１】
図２は、プラズマディスプレイパネルの電極配置に関する一実施の形態を示すものである。
【００３２】
図２に示すように、プラズマディスプレイパネルを構成する複数の放電セルは、マトリックス状に配置されることが好ましい。複数の放電セル１５は、各々スキャン電極Ｙ１〜Ｙｎ、サステイン電極Ｚ１〜Ｚｎ及びアドレス電極Ｘ１〜Ｘｎの交差部に位置する。
【００３３】
また、複数のスキャン電極Ｙ１〜Ｙｎそれぞれは、スキャン駆動部４０により順次駆動され、複数のサステイン電極Ｚ１〜Ｚｎは、サステイン駆動部６０から供給されるサステイン信号を受けて、共通的に駆動される。さらに、複数のアドレス電極Ｘ１〜Ｘｎは、アドレス駆動部５０からスキャン信号と同期化されたデータ信号が供給される。
【００３４】
一方、図２に示す電極配置及び駆動方法は、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの一実施の形態に過ぎないので、本発明は、図２に示すプラズマディスプレイパネルの電極配置及び駆動方法に限定されない。例えば、スキャン電極Ｙ１〜Ｙｎを第１スキャン電極群、第２スキャン電極群に分けてそれぞれ順次に駆動信号を印加するデュアルスキャン方式も可能である。また、アドレス電極Ｘ１〜Ｘｎ、をパネルの中央部分で上下に分割して駆動することもできる。
【００３５】
図３は、プラズマディスプレイ装置において、画像の１フレームが複数のサブフィールドに時分割駆動される方法に関する一実施の形態を示す図である。
【００３６】
図３に示すように、単位フレームは、画像の階調を表現するために、所定個数、例えば８個のサブフィールドＳＦ１，．．．，ＳＦ８に時分割駆動することができる。また、各サブフィールドＳＦ１，．．．，ＳＦ８は、リセット期間（図示せず）、アドレス期間Ａ１，．．．，Ａ８及びサステイン期間Ｓ１，．．．，Ｓ８に分割される。
【００３７】
各アドレス期間Ａ１，．．．，Ａ８では、アドレス電極（Ｘ）にデータ信号が印加され、各スキャン電極（Ｙ）には、これに相応するスキャンパルスが順次印加される。それぞれのサステイン期間Ｓ１，．．．，Ｓ８では、スキャン電極（Ｙ）とサステイン電極（Ｚ）にサステインパルスが交互に印加されて、アドレス期間Ａ１，．．．，Ａ８から選択された放電セルでサステイン放電を起こす。
【００３８】
プラズマディスプレイパネルの輝度は、単位フレームに占めるサステイン期間Ｓ１，．．．，Ｓ８内のサステイン放電の回数に比例する。１画像を形成する１つのフレームが８個のサブフィールドと２５６階調で表現される場合に、各サブフィールドには、順に１、２、４、８、１６、３２、６４、１２８の割合で互いに異なるサステインパルスの数を割り当てることができる。又は、１３３階調の輝度を得るためには、サブフィールド１区間、サブフィールド３区間、及びサブフィールド８区間において、セルをアドレッシングしてサステイン放電を発生させる。
【００３９】
一方、各サブフィールドに割り当てられるサステイン放電回数は、サブフィールドの加重値に応じて可変的に決定することができる。すなわち、図３では、１フレームを８個のサブフィールドに分割する場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されず、１フレームを形成するサブフィールドの数を設計仕様により多様に変形することができる。例えば、１フレームを１２又は１６サブフィールドのように、８サブフィールド以上又は以下に分割して、プラズマディスプレイパネルを駆動させることができる。
【００４０】
また、各サブフィールドに割り当てられるサステイン放電回数は、ガンマ特性やパネル特性を考慮して、多様に変形できる。例えば、サブフィールド４に割り当てられた階調度を８から６に下げ、サブフィールド６に割り当てられた階調度を３２から３４に上げることができる。
【００４１】
図４は、本発明に係る外光遮断シートの構造に対する第１の実施の形態を示す図である。
【００４２】
図４に示すように、本発明の外光遮断シート１００は、ベース部１１０とベース部１１０上に一列に形成された複数のパターン部１２０ａ、１２０ｂを含んで構成される。このような外光遮断シート１００の厚さは、パターン部１２０ａ、１２０ｂの高さと光の透過率を考慮して、２０μｍ〜２５０μｍの範囲に形成されることが好ましい。
【００４３】
ベース部１１０は、所定の屈折率を有する透明なプラスチック材質で形成される。例えば、紫外線（ＵＶ）硬化方式で形成される樹脂を使用することが最も好ましいが、ガラスなどのように、透明かつ薄型化が可能な材質であれば、何でも使用できる。
【００４４】
パターン部１２０ａ、１２０ｂは、ベース部１１０の間に所定の間隔に形成される。このとき、パターン部１２０ａ、１２０ｂは、隣接した他のパターン部１２０ａ、１０２ｂと所定の間隔を有する。すなわち、製造工程での容易性を考慮して、互いに隣接したパターン部１２０ａ、１２０ｂを一定の間隔を有して形成することができるが、画面全体の輝度を均一するためには、画面で輝度が落ちる領域には、互いに隣接したパターン部の間隔を比較的広く形成することが好ましい。
【００４５】
これにより、パネルの前面に取り付けられる外光遮断シート１００を上下に３等方し、上側及び下側のエッジである外郭領域１００ｂと画面の中央に位置する中心領域１００ａとに区分する。このとき、外光遮断シート１００の中心領域１００ａに形成されるパターン部１２０ａの幅Ｐ１と外郭領域１００ｂに形成されるパターン部１２０ｂの幅Ｐ２は、互いに異なるように形成することが好ましい。このとき、互いに隣接したパターン部１２０ａ、１２０ｂ間の間隔は、実質的に同一に形成する。この場合、比較的輝度の高い画面の中心領域は、幅の小さなパターン部１２０ａが形成され、比較的輝度の低い画面の外郭領域には、幅の大きいパターン部１２０ｂが形成されて、画面全体の輝度性が均一になり、これにより、画質が改善されると共に、明室コントラストが改善される。このとき、パターン部１２０ａ、１２０の幅Ｐ１、Ｐ２は、パターン部の上段より大きい下段と実質的に同じである。
【００４６】
図５Ａ〜図５Ｂは、本発明に係る外光遮断シートの第１の実施の形態に関する断面構造を示す図である。
【００４７】
図５Ａ〜図５Ｂに示すように、外光遮断シート１００の中心領域１００ａには、パターン部１２０ａが第１幅Ｐ１で形成され、外光遮断シート１００の外郭領域１００ｂには、パターン部１２０ｂが第２幅Ｐ２で形成される。
【００４８】
このとき、パターン部１２０ａ、１２０ｂの第１幅Ｐ１は、第２幅Ｐ２の１．５倍〜４倍であることが好ましい。この場合、画面全体で比較的輝度率の低い外郭領域１００ｂと中心領域１００ａの輝度率が均一になる。
【００４９】
一方、本発明の第１の実施の形態では、外光遮断シート１００の中心領域１００ａと外郭領域１００ｂそれぞれに形成されたパターン部１２０ａ、１２０ｂの幅が同様に示されているが、中心領域１００ａ内から外郭領域１００ｂ側に行くほど、パターン部１２０ａの幅をますます減少するように形成することができ、互いに異なるパターン部の幅を有する中心領域１００ａと外郭領域１００ｂそれぞれにおいて複数のパターン部のうち、少なくとも１つの幅が異なるように形成することができる。
【００５０】
このような外光遮断シート１００を含むフィルタは、外光が入射される方向又は使用者側Ａにパターン部の上段が位置するようにし、パネル側Ｂにパターン部の下段ｂが位置するようにすることが好ましい。
【００５１】
また、外光遮断シートの構造についてさらに詳細に説明すると、外光遮断シートの厚さ（Ｔ）が２０μｍ〜２５０μｍであるとき、製造工程が容易であり、適切な光透過率を有することができる。パネルから放出される光が円滑に透過されるようにし、外部から入射される光が屈折して、パターン部１２０に効果的に吸収及び遮断されるようにし、シートの堅固性を確保するために、外光遮断シートの厚さ（Ｔ）を１００μｍ〜１８０μｍに形成することができる。
【００５２】
また、外光遮断シートに備えられるパターン部の高さｈが８０μｍ〜１７０μｍであるとき、パターン部の製造が最も容易であり、外光遮断シートの適切な開口率を確保することができ、外光遮断効果及びパネルから放出される光の反射効果を最大化することができる。
【００５３】
このようなパターン部の高さｈは、外光遮断シートの厚さ（Ｔ）に応じて可変できる。一般に、パネルに入射されて明室コントラストの低下に影響を及ぼす外光は、主にパネルの位置より上側に位置するようになるので、パネルに入射される外光を効果的に遮断するために、パターン部の高さｈは、外光遮断シートの厚さ（Ｔ）に対して一定比率の範囲内の値を有することが好ましい。
【００５４】
図５Ａに示すように、パターン部の高さ（ｈ）が増加するほど、パターン部の上段部分のベース部の厚さが薄くなって、絶縁破壊が発生することになり、パターン部の高さｈが減少するほど、一定範囲内の角度を有する外光がパネルに入射されて、正しく外光が遮断されない。
【００５５】
次の表１は、外光遮断シートの厚さ（Ｔ）とパターン部の高さ（ｈ）に応じて外光遮断シートの絶縁破壊及び外光遮断効果を実験した結果である。
【００５６】
【表１】
【００５７】
表１を参照すると、外光遮断シートの厚さ（Ｔ）が１２０μｍである場合、パターン部の高さ（ｈ）が１２０μｍ以上に形成されると、パターン部が絶縁破壊される恐れがあるため、製品の不良率が増加し得る。パターン部の高さ（ｈ）が１１５μｍ以下に形成されると、パターン部が絶縁破壊される恐れがないため、外光遮断シートの不良率を減少させることができる。しかしながら、パターン部の高さ（ｈ）を７５μｍ以下で形成するときには、パターン部により外部光が遮断される効率が減少し、５０μｍ以下に形成される場合には、外光がパネルに入射する。
【００５８】
外光遮断シートの厚さ（Ｔ）がパターン部高さ（ｈ）の１．０１倍〜２．２５倍であるとき、パターン部の上段部分の絶縁破壊を防止することができ、外光がパネルに入射されることを防止できる。また、絶縁破壊及び外光のパネル入射を防止すると共に、パネルから放出される光の反射率を増加させ、視野角を十分に確保するためには、外光遮断シートの厚さ（Ｔ）がパターン部の高さ（ｈ）の１．０１倍〜１．５倍であればよい。
【００５９】
図６は、本発明に係る外光遮断シートの構造に対する第２の実施の形態を示す図であり、図７Ａ〜図７Ｂは、本発明に係る外光遮断シートの第２の実施の形態に関する断面構造を示す図である。図６〜図７Ｂに示す外光遮断シートの構造のうち、図４〜図５Ｂに示した図と共に記述された内容と同一内容に関する説明は省略する。
【００６０】
図６に示すように、本発明の第２の実施の形態に係る外光遮断シート２００は、ベース部２１０とパターン部２２０を含んで構成される。本発明の第２の実施の形態に係る外光遮断シート２００は、外光遮断シート２００の前面中心領域２００ａと外郭領域２００ｂそれぞれに形成される互いに隣接したパターン部２２０間の間隔が互いに異なるように形成される。これに関する説明を、図７Ａ〜図７Ｂを参照して説明する。
【００６１】
外光遮断シート２００の中心領域２００ａには、互いに隣接したパターン部２２０間の第１間隔Ｐ３を有し、外光遮断シート２００の外郭領域２００ｂには、互いに隣接したパターン部２２０が第２間隔Ｐ４を有する。このとき、中心領域２００ａ及び外郭領域２００ｂに形成されるパターン部２２０の幅は、実質的に互いに同じである。また、互いに隣接したパターン部２２０の第１間隔Ｐ３は、第２間隔Ｐ４の０．７０倍〜０．９９倍の範囲に形成されることが好ましい。その場合、外光遮断シート２００の中心領域２００ａに形成されるパターン部２２０間の間隔Ｐ３より外郭領域２００ｂに形成されるパターン部２２０間の間隔Ｐ４を大きくすることにより、画面の輝度が均一になり、明室コントラストを向上させることができる。
【００６２】
一方、本発明の第２の実施の形態では、外光遮断シートを中心領域と外郭領域に３等分して、外光遮断シートの構造を説明したが、外光遮断シートの中心から上、下に行くほど、互いに隣接したパターン部間の間隔が増加及び互いに異なるように形成することができる。また、図６〜図７Ｂでは、パターン部の線幅が全て同一に形成されているが、複数のパターン部のうち、少なくとも何れか１つは、その線幅が異なるように形成することもできる。
【００６３】
図８は、本発明に係る外光遮断シート構造に関する一実施の形態を示す図である。
【００６４】
図８に示すように、本発明に係る外光遮断シート３００は、ベース部３１０とパターン部３２０を備え、外光遮断シート３００の中心領域に形成されるパターン部３２０間の間隔が外郭領域に形成されるパターン部間の間隔より狭く、パターン部３２０の幅は、実質的に同一である。また、パネル内部に形成されるブラックマトリックス又はブラック層、バス電極、隔壁などと、パターン部３２０の干渉により発生するモアレ（Ｍｏｉｒｅ）現象を防止するために、外光遮断シート３００の横方向に水平線を基準として、０．５度〜１５度傾いた形状にパターン部３２０を形成する。
【００６５】
一方、図８において、パターン部の幅は同一であり、パターン部間の間隔が異なるように形成されたが、これに限定されず、パターン部の幅が異なるように形成することもでき、パターン部の幅と互いに隣接したパターン部間の間隔が同時に異なるように形成することもできる。
【００６６】
また、モアレ現象とは、似た格子形状のパターンが重なりながら発生する低周波のパターンを意味し、例えば、蚊帳を重ねて置いたときに見える波紋パターンのようなものである。このようなモアレ現象は、外光遮断シートの上段又は下段とパターン部のなす角度のみでなく、パターン部の幅と実質的に同じパターン部の下段幅とパネルの内部に形成されるバス電極の幅及び縦隔壁の幅と関連性がある。
【００６７】
次の表２は、外光遮断シートのパターン部の下段幅とパネルの上部基板に形成されるバス電極幅の比率に応じて、モアレ現象の発生の有無及び外光の遮断効果を実験した結果であって、バス電極の幅が９０μｍである場合である。
【００６８】
【表２】
【００６９】
表２を参照すれば、パターン部の下段の幅がバス電極幅の０．２倍〜０．５倍であるとき、モアレ現象の発生を減少させ、パネルに入射される外光を減少させることができる。また、モアレ現象の発生を防止し外光を効果的に遮断すると同時に、パネル光の放出のための開口率を確保するためには、パターン部の下段の幅がバス電極幅の０．２５倍〜０．４倍であることが好ましい。
【００７０】
次の表３は、外光遮断シートのパターン部の下段幅とパネルの下部基板に形成される縦隔壁の幅の比率に応じて、モアレ現象の発生の有無及び外光の遮断効果を実験した結果であって、縦隔壁の幅が５０μｍである場合である。
【００７１】
【表３】
【００７２】
表３を参照すれば、パターン部の下段の幅が縦隔壁幅の０．３倍〜０．８倍であるとき、モアレ現象の発生を減少させ、パネルに入射される外光を減少させることができる。また、モアレ現象の発生を防止し、外光を効果的に遮断すると同時に、パネル光の放出のための開口率を確保するためには、パターン部の下段の幅が縦隔壁幅の０．４倍〜０．６５倍であることが好ましい。
【００７３】
図９Ａ〜図９Ｃは、本発明に係る外光遮断シートのパターン部形状に応じた実施の形態を示す図である。
【００７４】
本発明に係る外光遮断シートに含まれたパターン部の断面形状は、上記のように、二等辺三角形をなすことが最も好ましいが、その他の可能な形状を図９Ａ〜図９Ｃを参照して説明する。パターン部４１０ａ、４１０ｂ、４１０ｃは、ベース部４２０ａ、４２０ｂ、４２０ｃより暗い物質で形成されて、光吸収の機能を有する。この場合、外部から入射される光を効果的に遮断し、パターン部に吸収されるようにする。また、パターン部の光吸収機能を上昇させるために、光吸収物質を添加して形成することもできる。また、パターン部４１０ａ、４１０ｂ、４１０ｃをなす物質として、ベース部４２０ａ、４２０ｂ、４２０ｃより屈折率が小さな物質が用いられ、パネルから放出される光がベース部４２０ａ、４２０ｂ、４２０ｃと、パターン部４１０ａ、４１０ｂ、４１０ｃの界面で全反射されて、ユーザＡ側に効率的に放出し、外部から入射される光は、パネル内部に入射されないように遮断する。
【００７５】
このように、外部Ａから入射される光は屈折されて、パターン部４１０ａ、４１０ｂ、４１０ｃにより遮断されるようにし、パネル側Ｂから放出される光は、効果的に透過させるために、パターン部４１０ａ、４１０ｂ、４１０ｃの下段ｂは、上段ａより広く形成されることが最も好ましい。これにより、パターン部４１０ａ、４１０ｂ、４１０ｃの上段幅ａは、５μｍ以下に形成されることが好ましく、パターン部４１０ａ、４１０ｂ、４１０ｃの下段幅ｂは、１０μｍ〜５０μｍの範囲に形成されることができる。外光遮断機能を極大化してＰＤＰの明室コントラストを画期的に改善するために、パターン部の上段幅ａは、０．１μｍに、パターン部の下段幅ｂは、１８μｍ〜３５μｍに形成されることが最も好ましい。
【００７６】
また、パターン部は、上段幅ａ、下段幅ｂ及び傾斜面の形態に応じて異なる形状に形成することができる。まず、図９Ａ及び図９Ｃに示すように、パターン部４１０ａ、４１０ｃの傾斜面を曲線で形成することができ、図９Ｂ及び図９Ｃに示すように、パターン部４１０ｂ、４１０ｃの上段幅ａを広くして形成することもできる。
【００７７】
図１０Ａ〜図１０Ｄは、本発明に係る外光遮断シートの積層構造に関する実施の形態を示す断面図である。
【００７８】
まず、図１０Ａを参照すると、本発明の外光遮断シート５００は、ＡＲ／ＮＩＲシート５１０、ＥＭＩ遮蔽シート５２０、外光遮断層５３０を含んで備えられる。
【００７９】
ＡＲ／ＮＩＲシート５１０は、透明なプラスチック材質からなるベースシート５１３の前面に、外部から入射される光が反射することを防止してグレア現象を減少させる機能のある反射防止（ＡＲ；Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）層５１１が取り付けられ、後面には、パネルから放射される近赤外線を遮蔽して、リモコンなどのように赤外線を利用して伝達される信号が正常に伝達され得るようにする近赤外（ＮＩＲ；Ｎｅａｒ−Ｉｎｆｒａｒｅｄ）遮蔽層５１２が取り付けられる。
【００８０】
ＥＭＩ遮蔽シート５２０は、透明なプラスチック材質からなるベースシート５２２の前面に、電磁妨害（ＥＭＩ；Ｅｌｅｃｔｒｏ ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ）を遮蔽して、パネルから放射されるＥＭＩが外部に放出されるのを防止するＥＭＩ遮蔽層５２１が取り付けられる。このとき、通常、ＥＭＩ遮蔽層５２１は、導電性を有する物質を利用してメッシュ（Ｍｅｓｈ）構造で形成され、接地が円滑になるように、画像が表示されない非有効領域には、導電性物質が全体的に塗布される。
【００８１】
通常、外部光源は、室内や外部においてユーザの頭上に存在する場合が最も多い。このような外部光を効果的に遮断してＰＤＰのブラック映像をさらに暗く表現され得るようにする外光遮断層５３０が取り付けられる。
【００８２】
このようなＡＲ／ＮＩＲシート５１０、ＥＭＩ遮蔽シート５２０、外光遮断層５３０間には、粘着剤５４０が層をなしており、それぞれのシート及びＰＤＰの前面に堅固に取り付けられるようにする。また、それぞれのシートに含まれるベースシートの材質は、外光遮断シートの製作の容易性を考慮して、実質的に同じ材質を使用することが好ましい。
【００８３】
一方、図１０Ａでは、ＡＲ／ＮＩＲシート５１０、ＥＭＩ遮蔽シート５２０、外光遮断層５３０の順に積層されているが、図１０Ｂに示すように、ＡＲ／ＮＩＲシート５１０、外光遮断層５３０、ＥＭＩ遮蔽シート５２０の順に積層することができる。すなわち、各シート／層の積層順序は、当業者によって変更可能である。また、それぞれのシートのうちの少なくともいずれかの層を省略することもできる。
【００８４】
また、外光遮断シート６００は、図１０Ｃ〜図１０Ｄに示すように、パネルから入射される光の色温度及び輝度特性を改善させる光特性シート６２０を含んで形成することもできる。このとき、光特性シート６２０は、透明なプラスチック材質からなるベースシート６２２と、当該ベースシート６２２の前面又は後面に積層された所定の染料と粘着剤からなる光特性層６２１で構成される。
【００８５】
一方、図１０Ａ〜図１０Ｄに示すそれぞれのシートに含まれているベースシートのうち、少なくとも１つのベースシートを省略することもでき、プラスチック材質ではない堅固なガラスが用いられて、パネルを保護する機能を向上させることもできる。
【００８６】
図１１は、本発明に係るプラズマディスプレイ装置の構造に対する一実施の形態を示す図である。
【００８７】
図１１に示すように、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの前面には、フィルタ１００が形成されることが好ましく、フィルタ１００には、外光遮断シート、反射防止（ＡＲ；Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）シート、近赤外（ＮＩＲ；Ｎｅａｒ−Ｉｎｆｒａｒｅｄ）遮蔽シート、電磁妨害（ＥＭＩ；Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｍａｇｍｅｔｉｃ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ）遮蔽シート、光特性シートなどを含むことができる。
【００８８】
フィルタ１００とパネルとの間に１０μｍ〜３０μｍの厚さを有する粘着剤が層をなしてパネルとフィルタ１００との取り付けを容易にすると共に、接着性を高めることができる。また、外部圧力などから前記パネルを保護するために、フィルタ１００と前記パネルとの間に粘着層を３０μｍ〜１２０μｍの厚さで形成することができる。
【００８９】
上述した本発明の好ましい実施の形態は、例示の目的のために開示されたものであり、本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で、様々な置換、変形、及び変更が可能であり、このような置換、変更などは、特許請求の範囲に属するものである。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】プラズマディスプレイパネル構造に関する一実施の形態を示す斜視図である。
【図２】プラズマディスプレイパネルの電極配置に関する一実施の形態を示す図である。
【図３】プラズマディスプレイ装置において、画像の１フレームが複数のサブフィールドに時分割駆動される方法に関する一実施の形態を示す図である。
【図４】本発明に係る外光遮断シートの構造に関する第１の実施の形態を示す図である。
【図５Ａ】本発明に係る外光遮断シートの第１の実施の形態に関する断面構造を示す図である。
【図５Ｂ】本発明に係る外光遮断シートの第１の実施の形態に関する断面構造を示す図である。
【図６】本発明に係る外光遮断シートの構造に関する第２の実施の形態を示す図である。
【図７Ａ】本発明に係る外光遮断シートの第２の実施の形態に関する断面構造を示す図である。
【図７Ｂ】本発明に係る外光遮断シートの第２の実施の形態に関する断面構造を示す図である。
【図８】本発明に係る外光遮断シートの前面構造に関する一実施の形態を示す図である。
【図９Ａ】本発明に係る外光遮断シートのパターン部に関する実施の形態を示す図である。
【図９Ｂ】本発明に係る外光遮断シートのパターン部に関する実施の形態を示す図である。
【図９Ｃ】本発明に係る外光遮断シートのパターン部に対する実施の形態を示す図である。
【図１０Ａ】本発明に係るフィルタの積層構造に関する実施の形態を示す断面図である。
【図１０Ｂ】本発明に係るフィルタの積層構造に関する実施の形態を示す断面図である。
【図１０Ｃ】本発明に係るフィルタの積層構造に関する実施の形態を示す断面図である。
【図１０Ｄ】本発明に係るフィルタの積層構造に関する実施の形態を示す断面図である。
【図１１】本発明に係るプラズマディスプレイ装置の構造に関する一実施の形態を示す図である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイ装置に関し、特に、パネルの外部から入射される光をパネルで反射することを防止するために、外光を遮断及び吸収する外光遮断シートを備えるフィルタをパネルの前面に設置することによって、パネルの明室コントラストを向上させると共に、輝度が維持されるプラズマディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ、以下、「ＰＤＰ」と記す）とは、放電空間に設置された電極に所定の電圧を印加して放電を起こし、ガス放電時に発生するプラズマが蛍光体を励起させることによって、文字又はグラフィックを含む画像を表示する装置であって、大型化、軽量化及び平面薄型化が容易であり、上下左右に広い視野角を提供し、フルカラー及び高輝度を具現することができるという長所がある。
【０００３】
このようなＰＤＰは、ブラック（ｂｌａｃｋ）映像が具現されるとき、パネルの下板に露出している白色系統の蛍光体によって、外部光がＰＤＰのパネル前面で反射されることにより、ブラック映像が明るい系統の暗い色として認知されて、ＰＤＰの明室コントラストが低下するという問題がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、上述の問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、プラズマディスプレイパネルに入射される外部光を効果的に遮断して、光の反射を防止し、プラズマディスプレイパネルの明室コントラストを画期的に向上させると共に、パネルの輝度を改善する外光遮断シートを含んで備えられるプラズマディスプレイ装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の目的を達成すべく、本発明によるプラズマディスプレイ装置は、プラズマディスプレイパネルと、前記パネルの前面に形成されるフィルタとを備え、前記フィルタは、ベース部及び前記ベース部上に形成される複数のパターン部が備えられる外光遮断シートを備え、前記外光遮断シートの第１領域に形成された互いに隣接した前記パターン部間の第１間隔は、前記外光遮断シートの第２領域に形成された互いに隣接した前記パターン部間の第２間隔と互いに異なることを特徴とする。
【０００６】
前記第１間隔又は第２間隔は、前記パターン部の終端から隣接したパターン部の終端までの間隔である、又は、前記パターン部の中心から隣接したパターン部の中心までの間隔であることが好ましい。
【０００７】
前記第１領域に形成されたパターン部の幅は、前記第２領域に形成されたパターン部の幅と異なる、又は、前記第２領域に形成されたパターン部の幅より大きいことが好ましい。
【０００８】
前記第１領域に形成されたパターン部の幅は、前記第２領域に形成されたパターン部の幅より１．５倍〜４倍大きいことが好ましく、さらに、前記第１間隔が、前記第２間隔より小さい、又は、前記第１間隔が、前記第２間隔の０．７０倍〜０．９９倍であることが好ましい。
【０００９】
前記第１領域は、前記外光遮断シートの全面を３等分したとき、中央に位置する領域であり、前記第２領域は、前記外光遮断シートの全面を３等分したとき、エッジに位置する領域であることが好ましい。
【００１０】
外部光の反射を防止するＡＲ層と、前記パネルから放射される近赤外線を遮断するＮＩＲ遮蔽層と、電磁波を遮断するＥＭＩ遮蔽層のうち、少なくとも１つがさらに備えられることが好ましい。
【００１１】
前記パターン部は、上段より下段の幅がより大きい断面形状を有し、前記パターン部の下段はパネル側に配置され、上段は外光が入射される側に配置されることが好ましい。
【００１２】
前記外光遮断シートの厚さは、前記パターン部の高さの１．０１倍〜２．２５倍、または、１．０１倍〜１．５倍であることが好ましい。
【００１３】
前記パターン部の屈折率は、前記ベース部の屈折率より小さいことが好ましい。
【００１４】
本発明によるさらに他のプラズマディスプレイ装置は、プラズマディスプレイパネルと、前記パネルの前面に形成されるフィルタとを備え、前記フィルタは、ベース部及び前記ベース部上に形成される複数のパターン部が備えられる外光遮断シートを備え、前記外光遮断シートの第１領域に形成されたパターン部の幅は、前記外光遮断シートの第２領域に形成されたパターン部の幅と互いに異なることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のプラズマディスプレイ装置によれば、外光遮断シートを備えることにより、プラズマディスプレイパネルに入射される外部光を効果的に遮断して、光の反射を防止し、プラズマディスプレイパネルの明室コントラストを画期的に向上させると共に、パネルの輝度を改善するという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の好ましい実施の形態を、添付した図１〜図１１を参照して詳細に説明する。但し、本発明に係るプラズマディスプレイ装置は、本明細書に記載された実施の形態に限定されず、多数の実施の形態が存在する。
【００１７】
図１は、本発明に係るプラズマディスプレイパネルに対する一実施の形態を斜視図で示すものである。
【００１８】
図１に示すように、プラズマディスプレイパネルは、上部基板１０上に形成される維持電極対であるスキャン電極１１及びサステイン電極１２と、下部基板２０上に形成されるアドレス電極２２とを備える。
【００１９】
維持電極対１１、１２それぞれは、通常、インジウムスズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）で形成された透明電極１１ａ、１２ａと、銀（Ａｇ）、クロム（Ｃｒ）などの金属又はクロム／銅／クロム（Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒ）の積層型又はクロム／アルミニウム／クロム（Ｃｒ／Ａｌ／Ｃｒ）の積層型で形成することができるバス電極１１ｂ、１２ｂを備えて構成される。このとき、バス電極１１ｂ、１２ｂは、透明電極１１ａ、１２ａ上に形成され、抵抗の高い透明電極１１ａ、１２ａにより電圧降下を低減する機能を果たす。
【００２０】
一方、本発明の一実施の形態によれば、維持電極対１１、１２は、透明電極１１ａ、１２ａとバス電極１１ｂ、１２ｂとが積層された構造だけでなく、透明電極１１ａ、１２ａなしにバス電極１１ｂ、１２ｂのみでも構成することができる。このような構造は、透明電極１１ａ、１２ａを使用しないため、パネルの製造単価を下げることができるという長所がある。このような構造に用いられるバス電極１１ｂ、１２ｂは、上に列挙した材料の他に、感光性材料など、多様な材料を利用することができる。
【００２１】
また、ＰＤＰには、上部基板１０の外部で発生する外部光を吸収して、外部光の反射を低減する光遮断の機能、及び上部基板１０の純度（ピュリティ、ｐｕｒｉｔｙ）とＰＤＰのコントラストを向上させる機能を果たすブラックマトリックス（Ｂｌａｃｋ Ｍａｔｒｉｘ、ＢＭ）が形成される。
【００２２】
本発明の一実施の形態に係るブラックマトリックスは、上部基板１０に形成されるが、隔壁２１と重なる位置に形成される第１ブラックマトリックス１５と、透明電極１１ａ、１２ａとバス電極１１ｂ、１２ｂとの間に形成される第２ブラックマトリックス１１ｃ、１２ｃで構成することができる。ここで、第１ブラックマトリックス１５とブラック層又はブラック電極層とも呼ばれる第２ブラックマトリックス１１ｃ、１２ｃは、形成過程で同時に形成されて、物理的に接続されても良く、同時に形成されずに、物理的に接続されなくても良い。
【００２３】
また、物理的に接続されて形成される場合、第１ブラックマトリックス１５と第２ブラックマトリックス１１ｃ、１２ｃを同じ材質で形成するが、物理的に分離されて形成される場合には、他の材質で形成することができる。
【００２４】
スキャン電極１１とサステイン電極１２がそれぞれ形成された上部基板１０には、上部誘電体層１３と保護層１４が積層される。上部誘電体層１３には、放電により発生した荷電粒子が蓄積され、維持電極対１１、１２を保護する機能を果たすことができる。保護層１４は、ガス放電時に発生する荷電粒子のスパッタリングから上部誘電体層１３を保護し、２次電子の放出効率を高めるようにする。
【００２５】
一方、アドレス電極２２は、スキャン電極１１及びサステイン電極１２と交差する方向に形成される。アドレス電極２２が形成された下部基板２０上には、下部誘電体層２４と隔壁２１が形成される。
【００２６】
下部誘電体層２４と隔壁２１の表面には、ガス放電時に発生した紫外線により発光して、可視光を発生させる蛍光体２３が塗布される。
【００２７】
隔壁２１は、アドレス電極２２と並んだ方向に形成された縦隔壁２１ａと、アドレス電極２２と交差する方向に形成された横隔壁２１ｂとで構成され、放電セルを物理的に区分し、放電により生成された紫外線と可視光が、隣接した放電セルに漏れるのを防止する。
【００２８】
本発明の一実施の形態では、図１に示す隔壁２１の構造だけでなく、多様な形状の隔壁２１の構造も可能である。例えば、縦隔壁２１ａと横隔壁２１ｂの高さが異なる不均一な隔壁構造（差等隔壁構造）、縦隔壁２１ａ又は横隔壁２１ｂのうち、少なくとも１つ以上に排気通路として使用可能なチャネルが形成されたチャネル型隔壁構造、縦隔壁２１ａ又は横隔壁２１ｂのうち、何れか１つ以上に溝（Ｈｏｌｌｏｗ）が形成された溝型隔壁構造などが可能である。
【００２９】
ここで、不均一な隔壁構造である場合には、横隔壁２１ｂの高さが高いことがさらに好ましく、チャネル型隔壁構造や溝型隔壁構造である場合には、横隔壁２１ｂにチャネルが形成されるか、又は溝が形成されることが好ましい。
【００３０】
一方、本発明の一実施の形態では、Ｒ、Ｇ及びＢ放電セルそれぞれが同じ線上に配列されるものと図示及び説明されているが、他の形状に配列することもできる。例えば、Ｒ、Ｇ及びＢ放電セルが三角状に配列されるデルタタイプの配列も可能であり、放電セルの形状も、四角状だけでなく、五角形、六角形などの多様な多角形状も可能である。
【００３１】
図２は、プラズマディスプレイパネルの電極配置に関する一実施の形態を示すものである。
【００３２】
図２に示すように、プラズマディスプレイパネルを構成する複数の放電セルは、マトリックス状に配置されることが好ましい。複数の放電セル１５は、各々スキャン電極Ｙ１〜Ｙｎ、サステイン電極Ｚ１〜Ｚｎ及びアドレス電極Ｘ１〜Ｘｎの交差部に位置する。
【００３３】
また、複数のスキャン電極Ｙ１〜Ｙｎそれぞれは、スキャン駆動部４０により順次駆動され、複数のサステイン電極Ｚ１〜Ｚｎは、サステイン駆動部６０から供給されるサステイン信号を受けて、共通的に駆動される。さらに、複数のアドレス電極Ｘ１〜Ｘｎは、アドレス駆動部５０からスキャン信号と同期化されたデータ信号が供給される。
【００３４】
一方、図２に示す電極配置及び駆動方法は、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの一実施の形態に過ぎないので、本発明は、図２に示すプラズマディスプレイパネルの電極配置及び駆動方法に限定されない。例えば、スキャン電極Ｙ１〜Ｙｎを第１スキャン電極群、第２スキャン電極群に分けてそれぞれ順次に駆動信号を印加するデュアルスキャン方式も可能である。また、アドレス電極Ｘ１〜Ｘｎ、をパネルの中央部分で上下に分割して駆動することもできる。
【００３５】
図３は、プラズマディスプレイ装置において、画像の１フレームが複数のサブフィールドに時分割駆動される方法に関する一実施の形態を示す図である。
【００３６】
図３に示すように、単位フレームは、画像の階調を表現するために、所定個数、例えば８個のサブフィールドＳＦ１，．．．，ＳＦ８に時分割駆動することができる。また、各サブフィールドＳＦ１，．．．，ＳＦ８は、リセット期間（図示せず）、アドレス期間Ａ１，．．．，Ａ８及びサステイン期間Ｓ１，．．．，Ｓ８に分割される。
【００３７】
各アドレス期間Ａ１，．．．，Ａ８では、アドレス電極（Ｘ）にデータ信号が印加され、各スキャン電極（Ｙ）には、これに相応するスキャンパルスが順次印加される。それぞれのサステイン期間Ｓ１，．．．，Ｓ８では、スキャン電極（Ｙ）とサステイン電極（Ｚ）にサステインパルスが交互に印加されて、アドレス期間Ａ１，．．．，Ａ８から選択された放電セルでサステイン放電を起こす。
【００３８】
プラズマディスプレイパネルの輝度は、単位フレームに占めるサステイン期間Ｓ１，．．．，Ｓ８内のサステイン放電の回数に比例する。１画像を形成する１つのフレームが８個のサブフィールドと２５６階調で表現される場合に、各サブフィールドには、順に１、２、４、８、１６、３２、６４、１２８の割合で互いに異なるサステインパルスの数を割り当てることができる。又は、１３３階調の輝度を得るためには、サブフィールド１区間、サブフィールド３区間、及びサブフィールド８区間において、セルをアドレッシングしてサステイン放電を発生させる。
【００３９】
一方、各サブフィールドに割り当てられるサステイン放電回数は、サブフィールドの加重値に応じて可変的に決定することができる。すなわち、図３では、１フレームを８個のサブフィールドに分割する場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されず、１フレームを形成するサブフィールドの数を設計仕様により多様に変形することができる。例えば、１フレームを１２又は１６サブフィールドのように、８サブフィールド以上又は以下に分割して、プラズマディスプレイパネルを駆動させることができる。
【００４０】
また、各サブフィールドに割り当てられるサステイン放電回数は、ガンマ特性やパネル特性を考慮して、多様に変形できる。例えば、サブフィールド４に割り当てられた階調度を８から６に下げ、サブフィールド６に割り当てられた階調度を３２から３４に上げることができる。
【００４１】
図４は、本発明に係る外光遮断シートの構造に対する第１の実施の形態を示す図である。
【００４２】
図４に示すように、本発明の外光遮断シート１００は、ベース部１１０とベース部１１０上に一列に形成された複数のパターン部１２０ａ、１２０ｂを含んで構成される。このような外光遮断シート１００の厚さは、パターン部１２０ａ、１２０ｂの高さと光の透過率を考慮して、２０μｍ〜２５０μｍの範囲に形成されることが好ましい。
【００４３】
ベース部１１０は、所定の屈折率を有する透明なプラスチック材質で形成される。例えば、紫外線（ＵＶ）硬化方式で形成される樹脂を使用することが最も好ましいが、ガラスなどのように、透明かつ薄型化が可能な材質であれば、何でも使用できる。
【００４４】
パターン部１２０ａ、１２０ｂは、ベース部１１０の間に所定の間隔に形成される。このとき、パターン部１２０ａ、１２０ｂは、隣接した他のパターン部１２０ａ、１０２ｂと所定の間隔を有する。すなわち、製造工程での容易性を考慮して、互いに隣接したパターン部１２０ａ、１２０ｂを一定の間隔を有して形成することができるが、画面全体の輝度を均一するためには、画面で輝度が落ちる領域には、互いに隣接したパターン部の間隔を比較的広く形成することが好ましい。
【００４５】
これにより、パネルの前面に取り付けられる外光遮断シート１００を上下に３等方し、上側及び下側のエッジである外郭領域１００ｂと画面の中央に位置する中心領域１００ａとに区分する。このとき、外光遮断シート１００の中心領域１００ａに形成されるパターン部１２０ａの幅Ｐ１と外郭領域１００ｂに形成されるパターン部１２０ｂの幅Ｐ２は、互いに異なるように形成することが好ましい。このとき、互いに隣接したパターン部１２０ａ、１２０ｂ間の間隔は、実質的に同一に形成する。この場合、比較的輝度の高い画面の中心領域は、幅の小さなパターン部１２０ａが形成され、比較的輝度の低い画面の外郭領域には、幅の大きいパターン部１２０ｂが形成されて、画面全体の輝度性が均一になり、これにより、画質が改善されると共に、明室コントラストが改善される。このとき、パターン部１２０ａ、１２０の幅Ｐ１、Ｐ２は、パターン部の上段より大きい下段と実質的に同じである。
【００４６】
図５Ａ〜図５Ｂは、本発明に係る外光遮断シートの第１の実施の形態に関する断面構造を示す図である。
【００４７】
図５Ａ〜図５Ｂに示すように、外光遮断シート１００の中心領域１００ａには、パターン部１２０ａが第１幅Ｐ１で形成され、外光遮断シート１００の外郭領域１００ｂには、パターン部１２０ｂが第２幅Ｐ２で形成される。
【００４８】
このとき、パターン部１２０ａ、１２０ｂの第１幅Ｐ１は、第２幅Ｐ２の１．５倍〜４倍であることが好ましい。この場合、画面全体で比較的輝度率の低い外郭領域１００ｂと中心領域１００ａの輝度率が均一になる。
【００４９】
一方、本発明の第１の実施の形態では、外光遮断シート１００の中心領域１００ａと外郭領域１００ｂそれぞれに形成されたパターン部１２０ａ、１２０ｂの幅が同様に示されているが、中心領域１００ａ内から外郭領域１００ｂ側に行くほど、パターン部１２０ａの幅をますます減少するように形成することができ、互いに異なるパターン部の幅を有する中心領域１００ａと外郭領域１００ｂそれぞれにおいて複数のパターン部のうち、少なくとも１つの幅が異なるように形成することができる。
【００５０】
このような外光遮断シート１００を含むフィルタは、外光が入射される方向又は使用者側Ａにパターン部の上段が位置するようにし、パネル側Ｂにパターン部の下段ｂが位置するようにすることが好ましい。
【００５１】
また、外光遮断シートの構造についてさらに詳細に説明すると、外光遮断シートの厚さ（Ｔ）が２０μｍ〜２５０μｍであるとき、製造工程が容易であり、適切な光透過率を有することができる。パネルから放出される光が円滑に透過されるようにし、外部から入射される光が屈折して、パターン部１２０に効果的に吸収及び遮断されるようにし、シートの堅固性を確保するために、外光遮断シートの厚さ（Ｔ）を１００μｍ〜１８０μｍに形成することができる。
【００５２】
また、外光遮断シートに備えられるパターン部の高さｈが８０μｍ〜１７０μｍであるとき、パターン部の製造が最も容易であり、外光遮断シートの適切な開口率を確保することができ、外光遮断効果及びパネルから放出される光の反射効果を最大化することができる。
【００５３】
このようなパターン部の高さｈは、外光遮断シートの厚さ（Ｔ）に応じて可変できる。一般に、パネルに入射されて明室コントラストの低下に影響を及ぼす外光は、主にパネルの位置より上側に位置するようになるので、パネルに入射される外光を効果的に遮断するために、パターン部の高さｈは、外光遮断シートの厚さ（Ｔ）に対して一定比率の範囲内の値を有することが好ましい。
【００５４】
図５Ａに示すように、パターン部の高さ（ｈ）が増加するほど、パターン部の上段部分のベース部の厚さが薄くなって、絶縁破壊が発生することになり、パターン部の高さｈが減少するほど、一定範囲内の角度を有する外光がパネルに入射されて、正しく外光が遮断されない。
【００５５】
次の表１は、外光遮断シートの厚さ（Ｔ）とパターン部の高さ（ｈ）に応じて外光遮断シートの絶縁破壊及び外光遮断効果を実験した結果である。
【００５６】
【表１】
【００５７】
表１を参照すると、外光遮断シートの厚さ（Ｔ）が１２０μｍである場合、パターン部の高さ（ｈ）が１２０μｍ以上に形成されると、パターン部が絶縁破壊される恐れがあるため、製品の不良率が増加し得る。パターン部の高さ（ｈ）が１１５μｍ以下に形成されると、パターン部が絶縁破壊される恐れがないため、外光遮断シートの不良率を減少させることができる。しかしながら、パターン部の高さ（ｈ）を７５μｍ以下で形成するときには、パターン部により外部光が遮断される効率が減少し、５０μｍ以下に形成される場合には、外光がパネルに入射する。
【００５８】
外光遮断シートの厚さ（Ｔ）がパターン部高さ（ｈ）の１．０１倍〜２．２５倍であるとき、パターン部の上段部分の絶縁破壊を防止することができ、外光がパネルに入射されることを防止できる。また、絶縁破壊及び外光のパネル入射を防止すると共に、パネルから放出される光の反射率を増加させ、視野角を十分に確保するためには、外光遮断シートの厚さ（Ｔ）がパターン部の高さ（ｈ）の１．０１倍〜１．５倍であればよい。
【００５９】
図６は、本発明に係る外光遮断シートの構造に対する第２の実施の形態を示す図であり、図７Ａ〜図７Ｂは、本発明に係る外光遮断シートの第２の実施の形態に関する断面構造を示す図である。図６〜図７Ｂに示す外光遮断シートの構造のうち、図４〜図５Ｂに示した図と共に記述された内容と同一内容に関する説明は省略する。
【００６０】
図６に示すように、本発明の第２の実施の形態に係る外光遮断シート２００は、ベース部２１０とパターン部２２０を含んで構成される。本発明の第２の実施の形態に係る外光遮断シート２００は、外光遮断シート２００の前面中心領域２００ａと外郭領域２００ｂそれぞれに形成される互いに隣接したパターン部２２０間の間隔が互いに異なるように形成される。これに関する説明を、図７Ａ〜図７Ｂを参照して説明する。
【００６１】
外光遮断シート２００の中心領域２００ａには、互いに隣接したパターン部２２０間の第１間隔Ｐ３を有し、外光遮断シート２００の外郭領域２００ｂには、互いに隣接したパターン部２２０が第２間隔Ｐ４を有する。このとき、中心領域２００ａ及び外郭領域２００ｂに形成されるパターン部２２０の幅は、実質的に互いに同じである。また、互いに隣接したパターン部２２０の第１間隔Ｐ３は、第２間隔Ｐ４の０．７０倍〜０．９９倍の範囲に形成されることが好ましい。その場合、外光遮断シート２００の中心領域２００ａに形成されるパターン部２２０間の間隔Ｐ３より外郭領域２００ｂに形成されるパターン部２２０間の間隔Ｐ４を大きくすることにより、画面の輝度が均一になり、明室コントラストを向上させることができる。
【００６２】
一方、本発明の第２の実施の形態では、外光遮断シートを中心領域と外郭領域に３等分して、外光遮断シートの構造を説明したが、外光遮断シートの中心から上、下に行くほど、互いに隣接したパターン部間の間隔が増加及び互いに異なるように形成することができる。また、図６〜図７Ｂでは、パターン部の線幅が全て同一に形成されているが、複数のパターン部のうち、少なくとも何れか１つは、その線幅が異なるように形成することもできる。
【００６３】
図８は、本発明に係る外光遮断シート構造に関する一実施の形態を示す図である。
【００６４】
図８に示すように、本発明に係る外光遮断シート３００は、ベース部３１０とパターン部３２０を備え、外光遮断シート３００の中心領域に形成されるパターン部３２０間の間隔が外郭領域に形成されるパターン部間の間隔より狭く、パターン部３２０の幅は、実質的に同一である。また、パネル内部に形成されるブラックマトリックス又はブラック層、バス電極、隔壁などと、パターン部３２０の干渉により発生するモアレ（Ｍｏｉｒｅ）現象を防止するために、外光遮断シート３００の横方向に水平線を基準として、０．５度〜１５度傾いた形状にパターン部３２０を形成する。
【００６５】
一方、図８において、パターン部の幅は同一であり、パターン部間の間隔が異なるように形成されたが、これに限定されず、パターン部の幅が異なるように形成することもでき、パターン部の幅と互いに隣接したパターン部間の間隔が同時に異なるように形成することもできる。
【００６６】
また、モアレ現象とは、似た格子形状のパターンが重なりながら発生する低周波のパターンを意味し、例えば、蚊帳を重ねて置いたときに見える波紋パターンのようなものである。このようなモアレ現象は、外光遮断シートの上段又は下段とパターン部のなす角度のみでなく、パターン部の幅と実質的に同じパターン部の下段幅とパネルの内部に形成されるバス電極の幅及び縦隔壁の幅と関連性がある。
【００６７】
次の表２は、外光遮断シートのパターン部の下段幅とパネルの上部基板に形成されるバス電極幅の比率に応じて、モアレ現象の発生の有無及び外光の遮断効果を実験した結果であって、バス電極の幅が９０μｍである場合である。
【００６８】
【表２】
【００６９】
表２を参照すれば、パターン部の下段の幅がバス電極幅の０．２倍〜０．５倍であるとき、モアレ現象の発生を減少させ、パネルに入射される外光を減少させることができる。また、モアレ現象の発生を防止し外光を効果的に遮断すると同時に、パネル光の放出のための開口率を確保するためには、パターン部の下段の幅がバス電極幅の０．２５倍〜０．４倍であることが好ましい。
【００７０】
次の表３は、外光遮断シートのパターン部の下段幅とパネルの下部基板に形成される縦隔壁の幅の比率に応じて、モアレ現象の発生の有無及び外光の遮断効果を実験した結果であって、縦隔壁の幅が５０μｍである場合である。
【００７１】
【表３】
【００７２】
表３を参照すれば、パターン部の下段の幅が縦隔壁幅の０．３倍〜０．８倍であるとき、モアレ現象の発生を減少させ、パネルに入射される外光を減少させることができる。また、モアレ現象の発生を防止し、外光を効果的に遮断すると同時に、パネル光の放出のための開口率を確保するためには、パターン部の下段の幅が縦隔壁幅の０．４倍〜０．６５倍であることが好ましい。
【００７３】
図９Ａ〜図９Ｃは、本発明に係る外光遮断シートのパターン部形状に応じた実施の形態を示す図である。
【００７４】
本発明に係る外光遮断シートに含まれたパターン部の断面形状は、上記のように、二等辺三角形をなすことが最も好ましいが、その他の可能な形状を図９Ａ〜図９Ｃを参照して説明する。パターン部４１０ａ、４１０ｂ、４１０ｃは、ベース部４２０ａ、４２０ｂ、４２０ｃより暗い物質で形成されて、光吸収の機能を有する。この場合、外部から入射される光を効果的に遮断し、パターン部に吸収されるようにする。また、パターン部の光吸収機能を上昇させるために、光吸収物質を添加して形成することもできる。また、パターン部４１０ａ、４１０ｂ、４１０ｃをなす物質として、ベース部４２０ａ、４２０ｂ、４２０ｃより屈折率が小さな物質が用いられ、パネルから放出される光がベース部４２０ａ、４２０ｂ、４２０ｃと、パターン部４１０ａ、４１０ｂ、４１０ｃの界面で全反射されて、ユーザＡ側に効率的に放出し、外部から入射される光は、パネル内部に入射されないように遮断する。
【００７５】
このように、外部Ａから入射される光は屈折されて、パターン部４１０ａ、４１０ｂ、４１０ｃにより遮断されるようにし、パネル側Ｂから放出される光は、効果的に透過させるために、パターン部４１０ａ、４１０ｂ、４１０ｃの下段ｂは、上段ａより広く形成されることが最も好ましい。これにより、パターン部４１０ａ、４１０ｂ、４１０ｃの上段幅ａは、５μｍ以下に形成されることが好ましく、パターン部４１０ａ、４１０ｂ、４１０ｃの下段幅ｂは、１０μｍ〜５０μｍの範囲に形成されることができる。外光遮断機能を極大化してＰＤＰの明室コントラストを画期的に改善するために、パターン部の上段幅ａは、０．１μｍに、パターン部の下段幅ｂは、１８μｍ〜３５μｍに形成されることが最も好ましい。
【００７６】
また、パターン部は、上段幅ａ、下段幅ｂ及び傾斜面の形態に応じて異なる形状に形成することができる。まず、図９Ａ及び図９Ｃに示すように、パターン部４１０ａ、４１０ｃの傾斜面を曲線で形成することができ、図９Ｂ及び図９Ｃに示すように、パターン部４１０ｂ、４１０ｃの上段幅ａを広くして形成することもできる。
【００７７】
図１０Ａ〜図１０Ｄは、本発明に係る外光遮断シートの積層構造に関する実施の形態を示す断面図である。
【００７８】
まず、図１０Ａを参照すると、本発明の外光遮断シート５００は、ＡＲ／ＮＩＲシート５１０、ＥＭＩ遮蔽シート５２０、外光遮断層５３０を含んで備えられる。
【００７９】
ＡＲ／ＮＩＲシート５１０は、透明なプラスチック材質からなるベースシート５１３の前面に、外部から入射される光が反射することを防止してグレア現象を減少させる機能のある反射防止（ＡＲ；Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）層５１１が取り付けられ、後面には、パネルから放射される近赤外線を遮蔽して、リモコンなどのように赤外線を利用して伝達される信号が正常に伝達され得るようにする近赤外（ＮＩＲ；Ｎｅａｒ−Ｉｎｆｒａｒｅｄ）遮蔽層５１２が取り付けられる。
【００８０】
ＥＭＩ遮蔽シート５２０は、透明なプラスチック材質からなるベースシート５２２の前面に、電磁妨害（ＥＭＩ；Ｅｌｅｃｔｒｏ ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ）を遮蔽して、パネルから放射されるＥＭＩが外部に放出されるのを防止するＥＭＩ遮蔽層５２１が取り付けられる。このとき、通常、ＥＭＩ遮蔽層５２１は、導電性を有する物質を利用してメッシュ（Ｍｅｓｈ）構造で形成され、接地が円滑になるように、画像が表示されない非有効領域には、導電性物質が全体的に塗布される。
【００８１】
通常、外部光源は、室内や外部においてユーザの頭上に存在する場合が最も多い。このような外部光を効果的に遮断してＰＤＰのブラック映像をさらに暗く表現され得るようにする外光遮断層５３０が取り付けられる。
【００８２】
このようなＡＲ／ＮＩＲシート５１０、ＥＭＩ遮蔽シート５２０、外光遮断層５３０間には、粘着剤５４０が層をなしており、それぞれのシート及びＰＤＰの前面に堅固に取り付けられるようにする。また、それぞれのシートに含まれるベースシートの材質は、外光遮断シートの製作の容易性を考慮して、実質的に同じ材質を使用することが好ましい。
【００８３】
一方、図１０Ａでは、ＡＲ／ＮＩＲシート５１０、ＥＭＩ遮蔽シート５２０、外光遮断層５３０の順に積層されているが、図１０Ｂに示すように、ＡＲ／ＮＩＲシート５１０、外光遮断層５３０、ＥＭＩ遮蔽シート５２０の順に積層することができる。すなわち、各シート／層の積層順序は、当業者によって変更可能である。また、それぞれのシートのうちの少なくともいずれかの層を省略することもできる。
【００８４】
また、外光遮断シート６００は、図１０Ｃ〜図１０Ｄに示すように、パネルから入射される光の色温度及び輝度特性を改善させる光特性シート６２０を含んで形成することもできる。このとき、光特性シート６２０は、透明なプラスチック材質からなるベースシート６２２と、当該ベースシート６２２の前面又は後面に積層された所定の染料と粘着剤からなる光特性層６２１で構成される。
【００８５】
一方、図１０Ａ〜図１０Ｄに示すそれぞれのシートに含まれているベースシートのうち、少なくとも１つのベースシートを省略することもでき、プラスチック材質ではない堅固なガラスが用いられて、パネルを保護する機能を向上させることもできる。
【００８６】
図１１は、本発明に係るプラズマディスプレイ装置の構造に対する一実施の形態を示す図である。
【００８７】
図１１に示すように、本発明に係るプラズマディスプレイパネルの前面には、フィルタ１００が形成されることが好ましく、フィルタ１００には、外光遮断シート、反射防止（ＡＲ；Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）シート、近赤外（ＮＩＲ；Ｎｅａｒ−Ｉｎｆｒａｒｅｄ）遮蔽シート、電磁妨害（ＥＭＩ；Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｍａｇｍｅｔｉｃ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ）遮蔽シート、光特性シートなどを含むことができる。
【００８８】
フィルタ１００とパネルとの間に１０μｍ〜３０μｍの厚さを有する粘着剤が層をなしてパネルとフィルタ１００との取り付けを容易にすると共に、接着性を高めることができる。また、外部圧力などから前記パネルを保護するために、フィルタ１００と前記パネルとの間に粘着層を３０μｍ〜１２０μｍの厚さで形成することができる。
【００８９】
上述した本発明の好ましい実施の形態は、例示の目的のために開示されたものであり、本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で、様々な置換、変形、及び変更が可能であり、このような置換、変更などは、特許請求の範囲に属するものである。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】プラズマディスプレイパネル構造に関する一実施の形態を示す斜視図である。
【図２】プラズマディスプレイパネルの電極配置に関する一実施の形態を示す図である。
【図３】プラズマディスプレイ装置において、画像の１フレームが複数のサブフィールドに時分割駆動される方法に関する一実施の形態を示す図である。
【図４】本発明に係る外光遮断シートの構造に関する第１の実施の形態を示す図である。
【図５Ａ】本発明に係る外光遮断シートの第１の実施の形態に関する断面構造を示す図である。
【図５Ｂ】本発明に係る外光遮断シートの第１の実施の形態に関する断面構造を示す図である。
【図６】本発明に係る外光遮断シートの構造に関する第２の実施の形態を示す図である。
【図７Ａ】本発明に係る外光遮断シートの第２の実施の形態に関する断面構造を示す図である。
【図７Ｂ】本発明に係る外光遮断シートの第２の実施の形態に関する断面構造を示す図である。
【図８】本発明に係る外光遮断シートの前面構造に関する一実施の形態を示す図である。
【図９Ａ】本発明に係る外光遮断シートのパターン部に関する実施の形態を示す図である。
【図９Ｂ】本発明に係る外光遮断シートのパターン部に関する実施の形態を示す図である。
【図９Ｃ】本発明に係る外光遮断シートのパターン部に対する実施の形態を示す図である。
【図１０Ａ】本発明に係るフィルタの積層構造に関する実施の形態を示す断面図である。
【図１０Ｂ】本発明に係るフィルタの積層構造に関する実施の形態を示す断面図である。
【図１０Ｃ】本発明に係るフィルタの積層構造に関する実施の形態を示す断面図である。
【図１０Ｄ】本発明に係るフィルタの積層構造に関する実施の形態を示す断面図である。
【図１１】本発明に係るプラズマディスプレイ装置の構造に関する一実施の形態を示す図である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマディスプレイパネルと、
前記パネルの前面に形成されるフィルタとを備え、
前記フィルタは、ベース部及び前記ベース部上に形成される複数のパターン部が備えられる外光遮断シートを備え、
前記外光遮断シートの第１領域に形成された互いに隣接した前記パターン部間の第１間隔は、前記外光遮断シートの第２領域に形成された互いに隣接した前記パターン部間の第２間隔と互いに異なることを特徴とするプラズマディスプレイ装置。
【請求項２】
前記第１間隔又は第２間隔は、前記パターン部の終端から隣接したパターン部の終端までの間隔であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項３】
前記第１間隔又は第２間隔は、前記パターン部の中心から隣接したパターン部の中心までの間隔であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項４】
前記第１領域に形成されたパターン部の幅は、前記第２領域に形成されたパターン部の幅と異なることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項５】
前記第１領域に形成されたパターン部の幅は、前記第２領域に形成されたパターン部の幅より大きいことを特徴とする請求項４に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項６】
前記第１領域に形成されたパターン部の幅は、前記第２領域に形成されたパターン部の幅より１．５倍〜４倍大きいことを特徴とする請求項４に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項７】
前記第１間隔は、前記第２間隔より小さいことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項８】
前記第１間隔は、前記第２間隔の０．７０倍〜０．９９倍であることを特徴とする請求項７に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項９】
前記第１領域は、前記外光遮断シートの全面を３等分したとき、中央に位置する領域であり、前記第２領域は、前記外光遮断シートの全面を３等分したとき、エッジに位置する領域であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１０】
外部光の反射を防止するＡＲ層と、
前記パネルから放射される近赤外線を遮断するＮＩＲ遮蔽層と、
電磁波を遮断するＥＭＩ遮蔽層のうち、少なくとも１つがさらに備えられることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１１】
前記パターン部は、上段より下段の幅がより大きい断面形状を有し、前記パターン部の下段はパネル側に配置され、上段は外光が入射される側に配置されることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１２】
前記外光遮断シートの厚さは、前記パターン部の高さの１．０１倍〜２．２５倍であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１３】
前記外光遮断シートの厚さは、前記パターン部の高さの１．０１倍〜１．５倍であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１４】
前記パターン部の屈折率は、前記ベース部の屈折率より小さいことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１】
プラズマディスプレイパネルと、
前記パネルの前面に形成されるフィルタとを備え、
前記フィルタは、ベース部及び前記ベース部上に形成される複数のパターン部が備えられる外光遮断シートを備え、
前記外光遮断シートの第１領域に形成された互いに隣接した前記パターン部間の第１間隔は、前記外光遮断シートの第２領域に形成された互いに隣接した前記パターン部間の第２間隔と互いに異なることを特徴とするプラズマディスプレイ装置。
【請求項２】
前記第１間隔又は第２間隔は、前記パターン部の終端から隣接したパターン部の終端までの間隔であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項３】
前記第１間隔又は第２間隔は、前記パターン部の中心から隣接したパターン部の中心までの間隔であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項４】
前記第１領域に形成されたパターン部の幅は、前記第２領域に形成されたパターン部の幅と異なることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項５】
前記第１領域に形成されたパターン部の幅は、前記第２領域に形成されたパターン部の幅より大きいことを特徴とする請求項４に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項６】
前記第１領域に形成されたパターン部の幅は、前記第２領域に形成されたパターン部の幅より１．５倍〜４倍大きいことを特徴とする請求項４に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項７】
前記第１間隔は、前記第２間隔より小さいことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項８】
前記第１間隔は、前記第２間隔の０．７０倍〜０．９９倍であることを特徴とする請求項７に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項９】
前記第１領域は、前記外光遮断シートの全面を３等分したとき、中央に位置する領域であり、前記第２領域は、前記外光遮断シートの全面を３等分したとき、エッジに位置する領域であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１０】
外部光の反射を防止するＡＲ層と、
前記パネルから放射される近赤外線を遮断するＮＩＲ遮蔽層と、
電磁波を遮断するＥＭＩ遮蔽層のうち、少なくとも１つがさらに備えられることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１１】
前記パターン部は、上段より下段の幅がより大きい断面形状を有し、前記パターン部の下段はパネル側に配置され、上段は外光が入射される側に配置されることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１２】
前記外光遮断シートの厚さは、前記パターン部の高さの１．０１倍〜２．２５倍であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１３】
前記外光遮断シートの厚さは、前記パターン部の高さの１．０１倍〜１．５倍であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【請求項１４】
前記パターン部の屈折率は、前記ベース部の屈折率より小さいことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイ装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５Ａ】
【図５Ｂ】
【図６】
【図７Ａ】
【図７Ｂ】
【図８】
【図９Ａ】
【図９Ｂ】
【図９Ｃ】
【図１０Ａ】
【図１０Ｂ】
【図１０Ｃ】
【図１０Ｄ】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５Ａ】
【図５Ｂ】
【図６】
【図７Ａ】
【図７Ｂ】
【図８】
【図９Ａ】
【図９Ｂ】
【図９Ｃ】
【図１０Ａ】
【図１０Ｂ】
【図１０Ｃ】
【図１０Ｄ】
【図１１】
【公開番号】特開２００８−２０８８２（Ｐ２００８−２０８８２Ａ）
【公開日】平成２０年１月３１日（２００８．１．３１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−４４１５９（Ｐ２００７−４４１５９）
【出願日】平成１９年２月２３日（２００７．２．２３）
【出願人】（５０２０３２１０５）エルジー エレクトロニクス インコーポレイティド (2,269)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年１月３１日（２００８．１．３１）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年２月２３日（２００７．２．２３）
【出願人】（５０２０３２１０５）エルジー エレクトロニクス インコーポレイティド (2,269)
【Ｆターム（参考）】
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