フレーク状粒子を調製するためのプロセス
本発明は、面平行な小板を生成するためのプロセスであって、：
ａ）水に溶かし得る分離剤Ｉをキャリヤー上に付着させ、分離剤層を生成する工程と、
ｂ）水に溶かし得ない分離剤ＩＩを工程ａ）の分離剤層上に蒸着させる工程と、
ｃ）少なくとも一つの生成物層を工程ｂ）の分離剤層上に蒸着させる工程と、
ｄ）水に溶かし得ない分離剤ＩＩを工程ｃ）の生成物層上に蒸着させる工程と、
ｅ）工程ａ）の分離剤層を水中に溶解させ、少なくとも一つの生成物層が、側部表面を除く上部表面および下部表面を分離剤ＩＩで覆われている面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程と、
ｆ）工程ｂ）およびｄ）の分離剤層を溶剤中に溶解させ、少なくとも一つの層を含む生成物が面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程と
を含むプロセスに関する。
ａ）水に溶かし得る分離剤Ｉをキャリヤー上に付着させ、分離剤層を生成する工程と、
ｂ）水に溶かし得ない分離剤ＩＩを工程ａ）の分離剤層上に蒸着させる工程と、
ｃ）少なくとも一つの生成物層を工程ｂ）の分離剤層上に蒸着させる工程と、
ｄ）水に溶かし得ない分離剤ＩＩを工程ｃ）の生成物層上に蒸着させる工程と、
ｅ）工程ａ）の分離剤層を水中に溶解させ、少なくとも一つの生成物層が、側部表面を除く上部表面および下部表面を分離剤ＩＩで覆われている面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程と、
ｆ）工程ｂ）およびｄ）の分離剤層を溶剤中に溶解させ、少なくとも一つの層を含む生成物が面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程と
を含むプロセスに関する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、面平行な小板を生成するためのプロセスであって、：
ａ）水に溶かし得る分離剤Ｉをキャリヤー上に付着させ、分離剤層を生成する工程と、
ｂ）水に溶かし得ない分離剤ＩＩを工程ａ）の分離剤層上に蒸着させる工程と、
ｃ）少なくとも一つの生成物層を工程ｂ）の分離剤層上に蒸着させる工程と、
ｄ）水に溶かし得ない分離剤ＩＩを工程ｃ）の生成物層上に蒸着させる工程と、
ｅ）工程ａ）の分離剤層を水中に溶解させ、少なくとも一つの生成物層が、側部表面を除く上部表面および下部表面を分離剤ＩＩで覆われている面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程と、
ｆ）工程ｂ）およびｄ）の分離剤層を溶剤中に溶解させ、少なくとも一つの層を含む生成物が面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程と
を含むプロセスに関する。
【０００２】
ＰＶＤ（物理蒸着）により、ＳｉＯまたはＳｉＯ２保護層を上に蒸着させたアルミニウムフレークは、公知である。
【０００３】
国際公開公報第００／６９９７５号には、
（ａ）誘電体材料、たとえば、一酸化ケイ素または二酸化ケイ素の層と、
（ｂ）金属、たとえば、アルミニウムの層と、
（ｃ）誘電体材料、たとえば、一酸化ケイ素または二酸化ケイ素の層と、を含むアルミニウムフレークが開示されている。誘電体の層の厚さは、金属の光学的特性が有意な影響を受けないような厚さ、すなわち１０〜２０nmの範囲にある。
【０００４】
米国特許第Ａ−６，０１３，３７０号には、
（ａ）誘電体材料、たとえば、二酸化ケイ素の層と、
（ｂ）金属、たとえば、アルミニウムの層と、
（ｃ）誘電体材料、たとえば、二酸化ケイ素の層と、を含むアルミニウムフレークが開示されている。誘電体の層の厚さは、金属の光学的特性が有意な影響を受けないような厚さ、すなわち５０〜２００nmの範囲にある。
【０００５】
国際公開公報第００／２４９４６号の実施例２において、ＳｉＯ被覆アルミニウムフレークの製造が記載されている。記載によると、ＳｉＯ保護層の厚さは１５nm以下である。
【０００６】
不連続的な多工程方法は、偽造に対する紙幣の安全性を高めるために使用されるものなど、光学的に可変である顔料小板の生成に使用される（欧州特許第Ａ−２２７４２３号）。米国特許第Ｂ−５，２７８，５９０号が類似の方法を記載している。米国特許第Ｂ−４，１６８，９８５号（Venis）、米国特許第Ｂ−３，１２３，４８９号（Bolomeyら）および米国特許第Ｂ−５，１５６，７２０号（Rosenfeld）では、使用される分離剤が無機塩であり、これらの塩が後続の工程で溶剤として水を使用して溶解される結果、生成物層が水性懸濁液中にフレークの形態で存在する。
【０００７】
国際公開公報第９９／６５６１８号（Ｋｉｔｔｌｅｒ）によると、ワックス状の物質を蒸発させた後、同じ真空下で、生成物層を蒸着またはスパッタリングする。通例は回転する円筒であるキャリヤーを数多く輪転させた後、ｎ枚の層（ワックス／金属）の配列を掻き落とす。さらなる工程において、真空装置の外側で、集めたペーストからワックスを溶剤によって洗い流す。いずれの場合も、続いて再加工または廃棄する必要がある大量の溶剤が生成物の洗浄に必要である。
【０００８】
ＰＶＤ方法によるそのような層のための有機物質の蒸発性に関する例は、米国特許第Ｂ−６，１０１，３１６号（Nagashimaら）、ドイツ特許第Ａ−２７０６３９２号（米国特許第Ｂ−４２６８５４１号、Ikedaら）、ドイツ特許第Ａ−２００９０８０号（米国特許第Ｂ−３６７８８８８号、Daviesら）および米国特許第Ｂ−３５４７６８３号（Williams、Hayes）に記載されている。
【０００９】
これらの刊行物によると、付加ポリマーおよび縮合ポリマー、シリコーン樹脂、フタロシアニン染料ならびに天然物質、たとえばコロホニーを蒸発させる。ＰＶＤ方法を使用して有機ポリマー層を生成するさらなる方法が米国特許第Ｂ−５，４４０，４４６号（Ｓｈａｗ）に記載されており、そこでは液体モノマーを蒸発させ、冷却したローラー上を通過する膜キャリヤー上で濡れ形態で凝縮させ、同じローラー上で、電子線照射により直ちに重合させることにより、固体膜を形成する。その後、金属層、通例はアルミニウムを蒸着させる。
【００１０】
米国特許第Ｂ−４，３８２，９８５号は、フルオロアルキルアクリレートモノマーのプラズマ重合による基材へのポリマー膜の付着を開示している。米国特許第Ｂ−５，９０４，９５８号から、真空方法によって有機モノマーを基材に付着させ、その後、重合を実施することが公知である。日本特許第１１−１４０６２６Ａ号（公開特許公報英文抄録）から、トリアジンモノマーの薄い膜を、たとえば真空法により、基材に塗布した後、重合を実施することが公知である。
【００１１】
これらすべての方法の目的は、堅く密着した保護層を生成することである。溶剤中での急速な溶解は好ましくなく、損傷をもたらすことさえある。
【００１２】
ドイツ特許第Ａ−１９９３３２３０号およびドイツ特許第Ａ−１９９３５１８１号（Moosheimerら）は、好ましくは水溶性である有機モノマー、特にトリアジンモノマーを含む剥離層または保護層を開示している。このような層は、温水を使用することにより、溶解させて除くことができるが、生成物から取り除くのが困難であるため、本発明による方法には好適ではない。
【００１３】
米国特許第３６９７０７０号は、不溶性である樹脂担持型の平面反射金属フレークを記載している。不溶性である樹脂担持型の平面反射金属フレークを生成するには、まずポリエチレンテレフタレート膜を剥離被覆で表面加工し、剥離被覆を乾燥させ、その上に不溶性樹脂を付着させ、樹脂層を乾燥させ、アルミニウム膜を不溶性樹脂膜に蒸着させ、不溶性樹脂をアルミニウム層に付着させ、樹脂層を乾燥させ、剥離層をアセトン中に溶解する。樹脂は、堅く密着した保護層として機能する。
【００１４】
国際公開公報第０３０４６２４５号は、気化した高分子剥離被覆層および蒸着した金属層の交互に並ぶ層を真空下で付着させ、順に多層構造を作り上げることを含む、金属フレークを作製するためのプロセスを記載している。高分子剥離被覆を有機溶剤中に溶解させることにより、多層構造が基材から取り除かれ、単一層の金属フレークが得られる。
【００１５】
国際公開公報第０２／０９４９４５号（Weinert）は、面平行な小板を生成するための方法であって、：
ａ）大気圧力を下回る圧力においてキャリヤーに分離剤を蒸着させ、分離剤層を生成する工程と、
ｂ）大気圧力を下回る圧力において少なくとも一つの生成物層を分離剤層に蒸着させる工程と、
ｃ）分離剤層を溶剤中に溶解させ、少なくとも一つの生成物層が面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程と
を含み、分離剤がアントラセン、アントラキノン、アセトアミドフェノール、アセチルサリチル酸、ショウノウ酸無水物、ベンズイミダゾール、ベンゼン−１，２，４−トリカルボン酸、ビフェニール−２，２−ジカルボン酸、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ジヒドロキシアントラキノン、ヒダントイン、３−ヒドロキシ安息香酸、８−ヒドロキシキノリン−５−スルホン酸一水和物、４−ヒドロキシクマリン、７−ヒドロキシクマリン、３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、イソフタル酸、４，４−メチレン−ビス−３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、ナフタレン−１，８−ジカルボン酸無水物、フタルイミドおよびそのカリウム塩、フェノールフタレイン、フェノチアジン、サッカリンおよびその塩、テトラフェニルメタン、トリフェニレン、トリフェニルメタノールならびにこれらの物質の少なくとも二つの混合物からなる群より選択される方法に関する。
【００１６】
米国特許第２００５１６１６７８号は、ＰＶＤ方法で生成する生成物であって、２０〜２０００nmの厚さと１mm未満の小さい寸法とを有する薄い面平行な構造からなる生成物を記載している。生成は、蒸発器を通過するキャリヤー上に亜酸化ケイ素を縮合させることで実施する。キャリヤーは、亜酸化ケイ素を縮合させる前に、ＰＶＤ方法で、溶解することができる無機または有機分離剤で前被覆する。
【００１７】
米国特許第３６９７０７０号は、少なくとも０．０１mil（０．２５４μm）の厚さを有する比較的不溶性の樹脂性膜で両面を表面加工した金属膜を使用することにより、担持され、より平面となるフレークを記載している。担持された金属膜が分割され、フレークが形成されると、フレークはより平坦となり、その表面において光を反射する部分が拡大し、より小さい量での使用が可能となる。アルミニウムフレークの生成では、担持、たとえばポリエチレンテレフタレート（Ｍｙｌａｒ）は、溶解することができるポリマー層剥離被覆で順番に被覆され、この第一の被覆は、その後の有機溶剤による処理に際してＭｙｌａｒ担持から簡単に脱離させることができる。次に、溶解度が制限されたポリマーの層を塗布し、強制乾燥させ、その塗布のために用いられた溶剤を取り除く。次に、アルミニウム膜を特に蒸着によって塗布する。次に、溶解度が制限されたポリマー層のさらなる層を塗布し、強制乾燥させ、一方を金属膜の表面上の層として比較的不溶性であるポリマーの二つの層のサンドイッチを形成する。担持、剥離被覆およびサンドイッチまたは積層の複合物を、剥離被覆を溶解させる溶剤（好ましくは、所望に応じて加熱することができるアセトン）の槽を通過させると、サンドイッチはＭｙｌａｒ担持から離れる。これにより、有機溶剤中で部分的に分割したサンドイッチのスラリーが提供され、このスラリーを攪拌機で攪拌し、離層することなくサンドイッチをさらに分割し、望ましいサイズのフレークとする。
【００１８】
国際公開公報第２００４０５２９９９号は、（Ａ１）ＳｉＯｚからなる層と、（Ｂ）層（Ａ１）上のアルミニウムからなる層と、（Ａ２）層（Ｂ）上のＳｉＯｚからなる層とを含み、ここで０．７０≦ｚ≦２．０である、アルミニウムフレークに関する。ＳｉＯｙ被覆アルミニウムフレークは、：
ａ）分離剤をキャリヤーに蒸着させ、分離剤層を生成する工程と、
ｂ）ＳｉＯｙ層を分離剤層に蒸着させる工程と、
ｃ）Ａｌ層をＳｉＯｙ層に蒸着させる工程と、
ｄ）ＳｉＯｙ層をＡｌ層に蒸着させる工程と、
ｅ）分離剤層を溶剤中に溶解させる工程と、
ｆ）ＳｉＯｙ被覆アルミニウムフレークを溶剤から分離し、ここで０．７０≦ｙ≦１．９５、好ましくは１．０≦ｙ≦１．８０、もっとも好ましくは１．１０≦ｙ≦１．８０である工程と
を含むプロセスによって得ることができる。
【００１９】
国際公開公報第２００４０６５２９５号は、多孔性材料を生成するためのプロセスであって、：
ａ）分離剤をキャリヤーに蒸着させ、分離剤層を生成する工程と、
ｂ）材料および分離剤を同時に分離剤層（ａ）に蒸着させる工程と、
ｃ）材料を分離剤から分離する工程と
を含むプロセスに関する。このプロセスは、厚さの高い均一性のおよび／または高い有効表面積を有する多孔性の無機材料もしくはナノ粒子を含有するマトリックス材料を生成するのに好適である。
【００２０】
国際公開公報第０６／０２１５２８号は、本発明よりも早く優先日を享受するが、本発明の後に公開されるものであり、面平行な小板を生成するためのプロセスであって、：
ａ）キャリヤーに分離剤を蒸着させ、分離剤層を生成する工程と、
ｂ）少なくとも一つの生成物層を分離剤層に蒸着させる工程と、
ｃ）分離剤層を溶剤中に溶解させ、少なくとも一つの生成物層が面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程と
を含み、分離剤がアントラセン、アントラキノン、アセトアミドフェノール、アセチルサリチル酸、ショウノウ酸無水物、ベンズイミダゾール、ベンゼン−１，２，４−トリカルボン酸、ビフェニール−２，２−ジカルボン酸、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ジヒドロキシアントラキノン、ヒダントイン、３−ヒドロキシ安息香酸、８−ヒドロキシキノリン−５−スルホン酸一水和物、４−ヒドロキシクマリン、７−ヒドロキシクマリン、３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、イソフタル酸、４，４−メチレン−ビス−３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、ナフタレン−１，８−ジカルボン酸無水物、フタルイミドおよびそのカリウム塩、フェノールフタレイン、フェノチアジン、サッカリンおよびその塩、テトラフェニルメタン、トリフェニレン、トリフェニルメタノールならびにこれらの物質の少なくとも二つの混合物、特にペンタエリスリトール（Ｃ（ＣＨ２ＯＨ）４）、トリメシン酸（＝１，３，５ベンゼントリカルボン酸）、ＤＬ−アラニン、ＤＬ−バリン、２，６−ジアミノプリン、アスコルビン酸、１，３，５−ベンゼントリカルボン酸、ｏ−アセチルサリチル酸、ジフェン酸、テレフタル酸、ピロガロール、シアヌル酸、ヘキサメチルテトラミン（ウロトロピン）、フマル酸および４−アセチル安息香酸ならびにこれらの物質の少なくとも二つの混合物からなる群より選択されるプロセスに関する。
【００２１】
したがって、本発明の課題は、ＰＶＤ方法を使用して優れた表面特性を有する面平行な小板を生成するための、先に言及した先行技術に対して実質的に改良された方法を提供することである。前記の目標は、水に溶かし得る分離剤Ｉと、水に溶かし得ない分離剤ＩＩとを組み合わせて使用することによって解決される。このように、分離剤Ｉを水中に溶解させることにより、Ａｌ／分離剤ＩＩフレークを基材から取り除くことができ、分離剤ＩＩにより、Ａｌフレークを水の作用から保護する。アルミニウムフレークは、分離剤ＩＩを不活性溶剤中に溶解させることで剥離することができる。
【００２２】
したがって、本発明は、面平行な小板を生成するためのプロセスであって、：
ａ）水に溶かし得る分離剤Ｉをキャリヤーに付着させ、分離剤層を生成する工程と、
ｂ）水に溶かし得ない分離剤ＩＩを工程ａ）の分離剤層に蒸着させる工程と、
ｃ）少なくとも一つの生成物層を工程ｂ）の分離剤層に蒸着させる工程と、
ｄ）水に溶かし得ない分離剤ＩＩを工程ｃ）の生成物層に蒸着させる工程と、
ｅ）工程ａ）の分離剤層を水中に溶解させ、少なくとも一つの生成物層が、側部表面を除く上部表面および下部表面が分離剤ＩＩで覆われている面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程と、
ｆ）工程ｂ）およびｄ）の分離剤層を溶剤中に溶解させ、少なくとも一つの層を含む生成物が面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程と
を含むプロセスに関する。
【００２３】
本発明によると、「分離剤層を溶剤中に溶解させる」という文言は、分離剤層が溶剤中に溶解することができるか、または溶かし得ることを意味する。
【００２４】
分離剤が有機分離剤である場合、真空下で昇華可能であり、５０〜６００℃の間、特にほぼ１５０℃よりも高い、とりわけ２００℃よりも高い、もっとも好ましくは２５０〜５００℃の間に融点を有しているべきである。分離剤を真空下（圧力が≦１＊１０−３mbar）で昇華させて得られる層は、分離剤ＩまたはＩＩとしての使用に応じ、有機溶剤中または水中のいずれかに溶解することができるべきである。
【００２５】
分離剤ＩＩは、水中に溶解することができないＵＶ硬化ポリマー（米国特許第Ａ−５９０４９５８号）であることができる。隣接する三つの蒸発器を連続して設置し、ポリマー組成物を得ることができる。第一および第三の蒸発器は、硬化後に不溶性となるモノマーを供給する。第二の蒸発器は、続けて、簡単に溶解させることができるモノマーを供給する。
【００２６】
加えて、有機分離剤は、下記の条件を満たすべきである。
【００２７】
このプロセスを使用し、分離剤Ｉ上に分離剤ＩＩおよび生成物の交互に並ぶ層［分離剤Ｉ／（分離剤ＩＩ、生成物）ｎ／分離剤ＩＩを膨大な数にわたって調製することができ、ここで、ｎは分離剤ＩＩおよび生成物の繰り返しの数であり、１〜１５０を好ましい範囲とする。原則としてさらなる繰り返しが可能であり、繰り返しnの最大数は、分離剤Ｉの接着力によって画定される。
【００２８】
それらは、２５℃で蒸気圧が１０−３Pa未満（＜０．１Paの真空において室温で自己蒸発せずに材料を使用可能とするための基本的な要件）である固体で非重合性の有機化合物である。
【００２９】
分離剤層は、場合により塩基の存在下で水中に急速に溶解することができ、または工業用溶剤、たとえば、例としてエタノール、イソプロパノール、ブタノール、酢酸エチル、ペトロリウムスピリット、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、トリクロロエチレンもしくは１，２−ジクロロエタン中に急速に溶解することができる。
【００３０】
分離剤は、その融点未満では、蒸気圧が１０〜１０００Paである。その結果、本発明による分離剤を使用することにより、物質の三重点未満で昇華的蒸発が起こり、技術的に不都合なスパッター形成が避けられる。
【００３１】
その上、好ましい分離剤は、１０００Pa未満の真空において熱安定性が高い。
【００３２】
加えて、これらの物質はアモルファス形態で凝縮する。これは、分離剤層に蒸着される高反射性の金属層を得るのに重要である。
【００３３】
原則として、分離剤ＩおよびＩＩは、浸漬、転造、注入または溶射によって塗布することができるが、好ましくは物理蒸着によって塗布する。
【００３４】
分離剤Ｉは、アントラセン、アントラキノン、アセトアミドフェノール、アセチルサリチル酸、ショウノウ酸無水物、ベンズイミダゾール、ベンゼン−１，２，４−トリカルボン酸、ビフェニル−２，２−ジカルボン酸、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ジヒドロキシアントラキノン、ヒダントイン、３−ヒドロキシ安息香酸、８−ヒドロキシキノリン−５−スルホン酸一水和物、４−ヒドロキシクマリン、７−ヒドロキシクマリン、３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、イソフタル酸、４，４−メチレン−ビス−３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、ナフタレン−１，８−ジカルボン酸無水物、フタルイミドおよびそのカリウム塩、フェノールフタレイン、フェノチアジン、サッカリンおよびその塩、テトラフェニルメタン、トリフェニレン、トリフェニルメタノールならびにこれらの物質の少なくとも二つの混合物、特にペンタエリスリトール（Ｃ（ＣＨ２ＯＨ）４）、トリメシン酸（＝１，３，５ベンゼントリカルボン酸）、ＤＬ−アラニン、ＤＬ−バリン、２，６−ジアミノプリン、アスコルビン酸、１，３，５−ベンゼントリカルボン酸、ｏ−アセチルサリチル酸、ジフェン酸、テレフタル酸、ピロガロール、シアヌル酸、ヘキサメチルテトラミン（ウロトロピン）、フマル酸および４−アセチル安息香酸ならびにこれらの物質の少なくとも二つの混合物から選択される。
【００３５】
水に溶解することができる好ましい有機分離剤の例は、シアヌル酸、特にペンタエリスリトール、トリメシン酸（＝１，３，５ベンゼントリカルボン酸）、ＤＬ−アラニン、ＤＬ−バリン、２，６−ジアミノプリン、アスコルビン酸、１，３，５−ベンゼントリカルボン酸、ｏ−アセチルサリチル酸、ジフェン酸、テレフタル酸、ピロガロール、ヘキサメチルテトラミン（ウロトロピン）、フマル酸および４−アセチル安息香酸ならびにこれらの物質の少なくとも二つの混合物である。１，３，５−ベンゼントリカルボン酸、テレフタル酸、ヘキサメチルテトラミン（ウロトロピン）および４−アセチル安息香酸が特に好ましく、ペンタエリスリトールがもっとも好ましい。場合により、ｐＨを増加させる、例として塩基を添加することにより、分離剤の溶解度を改良することができる。
【００３６】
分離剤ＩＩは、ポリマー、特に溶解することができる部分的に硬化したポリマー、たとえば国際公開公報第００／２４９４６号に記載のスチレン樹脂、たとえばＤｏｗ６８５Ｄ押出グレードスチレン樹脂および米国特許第Ｂ−５９４５１７４号、米国特許第Ｂ−６０１０７５１号または米国特許第Ｂ−５８７７８９５号に記載のアクリレート、たとえば２−フェノキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレートおよびラウリルアクリレート、ジセチレングリコールジアクリレート（ｄｉｃｅｔｙｌｅｎｅ ｇｌｙｃｏｌ ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ）、ネオペンチルグリコールジアクリレートおよびポリエチレングリコールジアクリレート（ＰＥＧＤＡ）またはテトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレートおよびペンタエリスリトールトリアクリレート、イソブチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレートおよび２−フェノキシエチルアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレートおよび１，６−ヘキサンジオールジメタクリレートならびにこれらの化合物の混合物、アダマンタンおよびアダマンタンの誘導体、たとえば１−シアノアダマンタン、１−アダマンタンカルボン酸、１−ヒドロキシアダマンタン、２−ヒドロキシアダマンタン、２−オキソアダマンタン、ジフェン酸、７−ヒドロキシクマリン、ベンゾグアナミン（２，４，６−ジアミノ−４−フェニル−１，３，５−トリアジン）、フェロセン、ショウノウおよび誘導体、アントラセン、９，１０−アントラキノンおよびピロメリット酸二無水物から選択される。非高分子有機分離剤は、高分子分離剤に対して好ましい。
【００３７】
ベンズイミダゾール、ジヒドロキシアントラキノン、４−ヒドロキシクマリン、７−ヒドロキシクマリンおよびこれらの物質の少なくとも二つの混合物は、分離剤ＩＩとして好適であり、アセトアミドフェノール、アントラセン、アントラキノン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、フェノールフタレイン、テトラフェニルメタン、トリフェニレン、トリフェニルメタノールおよびこれらの物質の少なくとも二つの混合物は、分離剤ＩＩとして特に好適である。
【００３８】
生成物層は、真空下で昇華可能である任意の材料からなることができ、本発明のプロセスによって加工することができる。生成物層は、材料の混合物からなることができる（国際公開公報第０４／０６５４９２号を参照されたい）。物理蒸着（ＰＶＤ）によって付着させる生成物は、一つを上回る層、例として二つ、三つまたは五つの層から構成することができる（国際公開公報第０４／０５２９９９号）。本発明の好ましい実施態様では、プロセスの生成物は、場合によりさらなる層を含む面平行な金属小板であるか、または場合によりさらなる層を含む、「高い」もしくは「低い」屈折率を有する誘電体材料の面平行な小板である。
【００３９】
金属の例は、Ａｌ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｖ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｗ、Ｈｆ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｄまたはその合金、たとえばクロム−ニッケル、鉄−ニッケル、鉄−クロムおよびニッケル−コバルトであり、Ｃｕ，Ａｇ，ＴｉもしくはＡｌまたはその合金が好ましく、Ａｌまたはその合金がもっとも好ましい。一つを上回る層を含む生成物の例を後に示す。「高い」または「低い」屈折率を有し、真空下で昇華可能である誘電体材料の例を後に記載する。ＭｇＦ２フレークが好ましい。ＳｉＯｚフレークがもっとも好ましい。本発明の好ましい実施態様では、分離剤ＩＩおよび生成物の複数の層を交互に付着させ、各生成物層の上部表面および下部表面を分離剤ＩＩの層で覆う。分離剤ＩＩは、多層スタック内で変化する（分離剤層Ｉ上の分離剤層ＩＩがその後の分離剤層ＩＩと異なる）ことができるが、好ましくはすべての層で同じである。
【００４０】
工程ｅ）で得られる面平行な小板の前駆体は新規である。したがって、本発明は、面平行な小板の前駆体であって、：
（Ａ１）水中に溶かし得ない分離剤ＩＩからなる層と、
（Ｂ）層（Ａ１）上の少なくとも一つの生成物層と、
（Ａ２）層（Ｂ）上の分離剤ＩＩからなる層と
を含む面平行な小板の前駆体にも関する。面平行な小板の前駆体は、分離剤Ｉ上の分離剤ＩＩおよび生成物の膨大な数の交互に並ぶ層を含むことができる。本発明の面平行な小板の前駆体は、生成物層の下部および上部表面が分離剤ＩＩの連続層で覆われ、生成物層、たとえば、例としてＡｌ層が水の作用から保護されることを特徴とする。
【００４１】
分離剤層（Ａ１）および（Ａ２）の層厚さは、２０〜５００nm、特に５０〜３００nmである。具体的に好ましい実施態様では、５０〜２５０nmである。
【００４２】
本発明の好ましい実施態様では、生成物層は、金属、特にＡｌ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｖ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｗ、Ｈｆ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｄもしくはその合金、特にＡｌ、Ｃｕ、ＡｇもしくはＴｉ；またはＳｉＯｙからなり，ここで０．７０≦ｙ≦１．９５、好ましくは１．０≦ｚ≦１．８、もっとも好ましくは１．０≦ｚ≦１．６である。
【００４３】
面平行な小板の前駆体は、面平行な小板を生成するために使用することができる。
【００４４】
Ａｌフレーク、ＳｉＯｚ被覆アルミニウムフレークおよびＳｉＯｚフレークに基づいて本発明をより詳細に例示するが、これらに限定されるものではない。
【００４５】
具体的に好ましい実施態様では、本発明のプロセスを使用してアルミニウムフレークを調製する。
ａ）水中に溶かし得る分離剤Ｉをキャリヤーに付着させ、分離剤層を生成する工程、
ｂ）水中に溶かし得ない分離剤ＩＩを工程ａ）の分離剤層に蒸着させる工程、
ｃ）アルミニウム層を工程ｂ）の分離剤層に蒸着させる工程、
ｄ）水中に溶かし得ない分離剤層ＩＩを工程ｃ）のアルミニウム層に蒸着させる工程、
ｅ）工程ａ）の分離剤層を水中に溶解させ、アルミニウム層が、側部表面を除く上部表面および下部表面が分離剤ＩＩで覆われている面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程、および
ｆ）工程ｂ）およびｄ）の分離剤層を溶剤中に溶解させ、アルミニウムが面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程。
【００４６】
分離剤ＩＩは、好ましくは、有機溶剤に容易に溶解することができ、かつアルミニウムと反応しない分離剤である。
【表１】
【００４７】
基材上の第一層、たとえばドラム、バンドまたはポリマーホイルは、ペンタエリスリトール（または相当する層）であり、水に溶解することができる。ペンタエリスリトール層の上部に直接接する層は、先に列挙した水に溶解することができない有機化合物だけでなく、米国特許第４３８２９８５号、米国特許第５９４５１７４号および米国特許第５４４０４４６号で言及されているアクリレートからも作製することができる。分離剤ＩＩは、ペンタエリスリトールの表面を可能な限り良好に湿潤すべきであり、可能であれば、ある程度の水平化効果を備える、すなわち表面を円滑にすべきである。
【００４８】
本発明の好ましい実施態様では、分離剤Ｉがペンタエリスリトールであり、分離剤ＩＩが（モノ、ジ、トリもしくはテトラ）アクリレートまたはメタクリレートである。このようなアクリレートは、一方ではペンタエリスリトール層を湿潤し、他方ではＡｌが蒸着される第一境界面を水平化する。多層スタックを生成する場合、その後の分離剤層ＩＩは、分離剤層ＩＩの第一層と異なることができる。その後の分離剤層ＩＩは、異なるアクリレートもしくは（メタ）アクリレートまたは先の表の有機化合物であることができ、下記の層構造となる。
【表２】
【００４９】
Ａｌ／メタクリレートまたは有機化合物層の数は、第一の水に溶解することができるペンタエリスリトール層の破壊限界によって画定される。
【００５０】
先に言及したプロセスは、高い面平行度と、平均厚さの±１０％、好ましくは±５％の領域において画定される厚さとを有するアルミニウムフレークを提供にする。
【００５１】
アルミニウムフレークは、少なくとも２μm、特に２〜２０μm、より特には３〜１５μm、もっとも好ましくは５〜１５μmの平均直径を有する。アルミニウムフレークの厚さは、一般的に１０〜１５０nm、特に１０〜１００nm、さらに特には３０〜６０nmである。
【００５２】
さらなる層をアルミニウム基材に塗布することにより、このようなアルミニウムフレークをさらに加工し、光学的に可変である特性を有する顔料を得ることができる。
【００５３】
アルミニウムフレークの表面全体をＦｅ２Ｏ３で被覆することができ、ここで、Ｆｅ２Ｏ３は、好ましくは１０〜５０nmの厚さを有するか、またはアルミニウムフレークをＳｉＯ２（厚さ＝２５０〜７００nm）およびＦｅ２Ｏ３（厚さ＝１０〜４０nm）の層で連続的に被覆することができる。
【００５４】
好ましい実施態様では、本発明は、アルミニウム（アルミニウム）フレークの面平行な小板であって、：
（Ａ１）ＳｉＯｚからなる層と、
（Ｂ）層（Ａ１）上のアルミニウムからなる層と、
（Ａ２）層（Ｂ）上のＳｉＯｚからなる層と
を含み、ここで０．７０≦ｚ≦２．０である面平行な小板を生成するためのプロセスに関する。前記の実施態様において、工程ｃ）は、三つの部分的な工程ｃ１）、ｃ２）およびｃ３）として：
ｃ１）ＳｉＯｙ層を分離剤層に蒸着させる工程と、
ｃ２）Ａｌ層をＳｉＯｙ層に蒸着させる工程と、
ｃ３）ＳｉＯｙ層をＡｌ層に蒸着させる工程と
に分類される。
【００５５】
工程ｅ）で得られる面平行な小板の前駆体は、新規である。したがって、本発明は、面平行な小板の前駆体であって、：
（Ａ１）水中に溶かし得ない分離剤ＩＩからなる層と、
（Ｂ）層（Ａ１）上の生成物層、たとえばアルミニウム層と、
（Ａ２）層（Ｂ）上の分離剤ＩＩからなる層と
を含む面平行な小板の前駆体、特にアルミニウムフレークであって、：
（Ａ１）水中に溶かし得ない分離剤ＩＩからなる層と、
（Ｂ１）層（Ａ１）上のＳｉＯｚからなる層と、
（Ｂ）層（Ｂ１）上のアルミニウムからなる層と、
（Ｂ２）層（Ｂ）上のＳｉＯｚからなる層と、
（Ａ２）層（Ｂ２）上の分離剤ＩＩからなる層と
を含み、ここで０．７０≦ｚ≦２．０であるアルミニウムフレークに関する。
【００５６】
ＳｉＯｚ層の層厚さは、１０〜５０nm、好ましくは２０〜３０nmまたは５０〜１００nmであり、好ましい範囲内であれば同じ厚さである必要はない。
【００５７】
アルミニウムからなる層（Ｂ）の層厚さは、一般的には１０〜１００nm、好ましくは３０〜５０nmである。
【００５８】
さらなる好ましい態様では、アルミニウムからなる層（Ｂ）の層厚さは、４０〜１５０nm、好ましくはほぼ１００nmであり、ＳｉＯｚ層（Ａ１）および（Ａ２）の層厚さは、５０〜２００nm、特にほぼ１００nmである。
【００５９】
耐侯安定性および耐光堅牢度を高めるため、２００℃を上回り、好ましくは４００℃を上回りかつ６００℃を下回る温度で、空気またはもう一つの酸素含有ガスを用いて、０．７０≦ｙ≦１．８であるＳｉＯｙ層を酸化するか、またはＳｉＯｚ層に変換することができる。例として、酸素含有雰囲気中で数時間にわたって≦５００℃で加熱することにより、ＳｉＯｙ（ｙ＝１）で被覆されたアルミニウムフレークをＳｉＯｚ（ｚ＝１．４０〜２．００）で被覆されたアルミニウムフレークに変換することができる。このプロセスでは、ＳｉＯｙ全体がＳｉＯ２に変換されるわけではない場合、ＳｉＯ２層がＳｉＯｙ層の表面に形成され、アルミニウム層に向かうにつれてｙが漸減する。
【００６０】
そのため、本発明のさらなる好ましい実施態様は、アルミニウムフレークであって、：
（Ａ１）水中に溶かし得ない分離剤ＩＩからなる層と、
（Ｃ１）ＳｉＯ２からなる層と、
（Ｂ１）層（Ｃ１）上のＳｉＯｙからなる層と、
（Ｂ）層（Ａ１）上のアルミニウムからなる層と、
（Ｂ２）層（Ｂ）上のＳｉＯｙからなる層と、
（Ｃ２）層（Ａ２）上のＳｉＯ２からなる層と、
（Ａ１）分離剤ＩＩからなる層と
を含み、ここで０．７０≦ｙ＜１．９５、好ましくは１．０≦ｙ≦１．８、もっとも好ましくは１．４≦ｙ≦１．８であるアルミニウムフレークに関する。
【００６１】
アルミニウムからなる層（Ｂ）の層厚さは、一般的には１０〜１００nm、好ましくは３０〜５０nmである。
【００６２】
ＳｉＯｙからなる層（Ｂ１）、ＳｉＯ２からなる層（Ｃ１）、ＳｉＯｙからなる層（Ｂ２）およびＳｉＯ２からなる層（Ｃ２）の層厚さは、アルミニウムフレークが最終生成物である場合、１０〜５０nm、好ましくは２０〜３０nm、または５０〜２００nmであり、アルミニウムフレークが干渉顔料の中間物である場合、２００〜５００nmである。
【００６３】
仕上がったアルミニウムフレークに後被覆または後処理を施すことも可能であり、これにより、光安定性、耐侯安定性、および化学安定性がさらに増加し、または顔料の取り扱い、特に各種媒体への混和が促進される。例として、欧州特許第Ａ−４７７４３３号、欧州特許第Ａ−８２６７４５号または欧州特許第Ａ−１０８４１９８号に記載されているプロセスが、後処理または後被覆として好適である。
【００６４】
さらなる層で被覆することにより、アルミニウムフレークをさらに干渉顔料に変換することができる。このような顔料の基本的な構造が、例として、欧州特許第Ａ−５７１８３６号、欧州特許第Ａ−７０８１５４号、欧州特許第Ａ−７６８３４３号、欧州特許第Ａ−１０２５１６８号および国際公開公報第００／３４３９５号に記載されている。
【００６５】
水性組成物中でアルミニウムフレーク（フレーク形態のアルミニウム）を使用することができるようにするには、これらの顔料を水による腐食から保護する必要がある。R.BesoldのAluminiumpigmente fuer waussrige Beschichtungen-Widerspruch oder Wirklichkeit?, Farbe+Lack 97 (1991)311〜314によると、アルミニウム顔料の安定化のための多数の手順が公知であり、これらは下記の二つの群に分類することができる。
−顔料表面への腐食防止剤の吸着
−リン酸エステル：ドイツ特許第Ａ−３０２００７３号、欧州特許第Ａ−１７０４７４号、欧州特許第Ａ−１３３６４４号、米国特許第Ａ−４，５６５，７１６号、米国特許第Ａ−４，８０８，２３１号、
−リン酸塩および亜リン酸塩：米国特許第Ａ−４，５６５，７１６号、米国特許第Ａ−４，８０８，２３１号、欧州特許第Ａ−２４０３６７号、
−バナジウム酸塩：欧州特許第Ａ−３０５５６０号、欧州特許第Ａ−１０４０７５号、
−クロム酸塩：米国特許第Ａ−２，９０４，５２３号、米国特許第Ａ−４，６９３，７５４号、欧州特許第Ａ−２５９５９２号、
−二量体酸：ドイツ特許第Ａ−３００２１７５号、および
−連続無機保護層による顔料の封入
−ＳｉＯ２：米国特許第Ａ−２，８８５，３６６号、米国特許第Ａ−３，９５４，４９６号、
−Ｆｅ２Ｏ３：ドイツ特許第Ａ−３００３３５２号、
−ＴｉＯ２：ドイツ特許第Ａ−３８１３３３５号、
または有機保護層による顔料の封入
−ドイツ特許第Ａ−３６３０３５６号、ドイツ特許第Ａ−３１４７１７７号、欧州特許第Ａ−４７７４３３号、特にリン酸で改質された樹脂：欧州特許第Ａ−１７０４７４号、カナダ特許第Ａ−１，２７３，７３３号、オーストリア特許第Ａ−３７２６９６号、ドイツ特許第Ａ−３８０７５８８号、欧州特許第Ａ−３１９９７１号。
【００６６】
アルミニウムフレークは、実質的に平行である二つの面を有するアルミニウムコアを有し、この面間の距離がコアの最短軸であり、側部面ではない平行な面が酸化ケイ素で被覆される。さらに、酸化ケイ素で被覆されたアルミニウムフレークは、２μm〜５mmの長さ、２μm〜２mmの幅および３０〜８００nmの厚さを有し、長さと厚さの比率は少なくとも２：１である。アルミニウムフレークは、１〜６０μm、好ましくは２〜４０μm、もっとも好ましくは５〜２０μmの長さおよび幅を有することが好ましい。長さと厚さの比率は、およそ２：１〜およそ８００：１である。長さと幅の比率は、３：１〜１：１である。
【００６７】
酸化ケイ素／アルミニウムフレークは、均一な形状ではない。それにもかかわらず、簡潔にするため、フレークが「直径」を有していると表現する。酸化ケイ素／アルミニウムフレークは、高い面平行度を有し、かつ平均厚さの±１０％、特に±５％の範囲で画定される厚さを有する。酸化ケイ素／アルミニウムフレークは、３０〜８００nm、とりわけ７０〜１１０nmの厚さを有する。現在のところ、フレークの直径は、好ましくはおよそ２〜４０μm、より好ましくはおよそ５〜２０μmの範囲であることが好ましい。このため、本発明のフレークのアスペクト比率は、およそ４０〜２９０という好ましい範囲に収まる。
【００６８】
特に好ましい態様では、酸化ケイ素／金属基材に基づく干渉顔料は、「高い」屈折率、すなわちおよそ１．６５を上回る、好ましくはおよそ２．０を上回る、もっとも好ましくはおよそ２．２を上回る屈折率を有する誘電体材料のさらなる層を含み、この層が酸化ケイ素／金属基材の表面全体に塗布される。このような誘電体材料の例は、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、炭素、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）、酸化セリウム（ＣｅＯ２）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）、酸化ユウロピウム（Ｅｕ２Ｏ３）、酸化鉄、たとえば酸化鉄（ＩＩ）／酸化鉄（ＩＩＩ）（Ｆｅ３Ｏ４）および酸化鉄（ＩＩＩ）（Ｆｅ２Ｏ３）、窒化ハフニウム（ＨｆＮ）、炭化ハフニウム（ＨｆＣ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化ネオジム（Ｎｄ２Ｏ３）、酸化プラセオジム（Ｐｒ６Ｏ１１）、酸化サマリウム（Ｓｍ２Ｏ３）、三酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ３）、一酸化ケイ素（ＳｉＯ）、三酸化セレン（Ｓｅ２Ｏ３）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、三酸化タングステン（ＷＯ３）またはこれらの組み合わせである。誘電体材料は、好ましくは金属酸化物である。金属酸化物は、吸収特性を有する、または有さない単一の酸化物または酸化物の混合物、例としてＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、Ｃｒ２Ｏ３、チタン酸鉄、酸化鉄水和物、亜酸化チタンもしくはＺｎＯであることが可能であり、ＴｉＯ２が特に好ましい。ＴｉＯ２層の上部に、屈折率が低い金属酸化物の層を塗布することができる。使用することができる好適な低屈折率誘電体材料の限定されない例としては、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）および金属フッ化物、たとえばフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ３）、フッ化セリウム（ＣｅＦ３）、フッ化ランタン（ＬａＦ３）、フッ化アルミニウムナトリウム（Ｎａ３ＡｌＦ６もしくはＮａ５Ａｌ３Ｆ１４など）、フッ化ネオジム（ＮｄＦ３）、フッ化サマリウム（ＳｍＦ３）、フッ化バリウム（ＢａＦ２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）ならびにこれらの組み合わせ、またはおよそ１．６５以下の屈折率を有する他の任意の低屈折率材料が含まれる。例として、有機モノマーおよびポリマーを低率材料として利用することができ、これらの材料としては、ジエンまたはアルケン、たとえばアクリレート（メタクリレートなど）、ペルフルオロアルケンのポリマー、ポリテトラフルオロエチレン（ＴＥＦＬＯＮ（登録商標））、フッ素化エチレンプロピレン（ＦＥＰ）のポリマー、パリレン、ｐ−キシレン、これらの組み合わせ等が含まれる。また、上記の材料としては、その開示が参照により本明細書に組み入れられる米国特許第５，８７７，８９５号または欧州特許第Ａ−７３３，９１９号に記載されている方法によって付着させることができる、蒸発、凝縮、架橋結合された透明なアクリレート層が含まれる。ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＡｌＯＯＨ、Ｂ２Ｏ３またはこれらの混合物が好ましい。ＳｉＯ２がもっとも好ましい。
【００６９】
金属酸化物層は、ＣＶＤ（chemical vapour deposition：化学蒸着）または湿式化学被覆によって塗布することができる。金属酸化物層は、水蒸気の存在下（分子量が比較的低い金属酸化物、たとえば磁鉄鉱）または酸素および必要に応じて水蒸気の存在下（酸化ニッケルおよび酸化コバルトなど）における金属カルボニルの分解によって得ることができる。金属酸化物層は、特に、金属カルボニル（鉄ペンタカルボニル、ヘキサカルボニルクロムなど；欧州特許第Ａ−４５ ８５１号）の酸化的気相分解によって、金属アルコラート（チタンならびにジルコニウムテトラ−ｎ−および−イソ−プロパノラートなど；ドイツ特許第Ａ−４１ ４０ ９００号）もしくは金属ハロゲン化物（四塩化チタンなど；欧州特許第Ａ−３３８ ４２８号）の加水気相分解によって、オルガニルスズ化合物（特にアルキルスズ化合物、たとえばテトラブチルスズおよびテトラメチルスズ；ドイツ特許第Ａ−４４ ０３ ６７８号）の酸化的分解によって、または欧州特許第Ａ−６６８ ３２９号に記載さているオルガニルケイ素化合物（特に、ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシアセトキシシラン）の気相加水の方法によって塗布され、被覆作業を流動床反応器において実施することが可能である（欧州特許第Ａ−０４５ ８５１号および欧州特許第Ａ−１０６ ２３５号）。
【００７０】
ドイツ特許第Ａ−４２ ３６ ３３２号、欧州特許第Ａ−６７８ ５６１号および欧州特許第Ａ−８２６ ７４５号に記載さている不動態化方法にしたがい、金属の酸化物−ハロゲン化物（ＣｒＯ２Ｃｌ２、ＶＯＣｌ３など）、特に酸ハロゲン化リン（ＰＯＣｌ３など）、リン酸およびホスホン酸エステル（亜リン酸ジメチル、亜リン酸トリメチル、亜リン酸ジエチルおよび亜リン酸トリエチルなど）ならびにアミノ基を含有するオルガニルケイ素化合物（３−アミノプロピルトリエトキシシランおよび３−アミノプロピルトリメトキシシランなど）の加水気相分解または酸化的気相分解により、リン酸塩、クロム酸塩および／またはバナジウム酸塩を含有する金属酸化物層ならびにリン酸塩およびＳｉＯ２を含有する金属酸化物層を塗布することができる。
【００７１】
ジルコニウム、チタン、鉄および亜鉛の金属酸化物、これらの金属の酸化物水和物、チタン酸鉄、亜酸化チタンまたはこれらの混合物の層を湿式化学方法による沈殿によって塗布することが好ましく、適宜、金属酸化物を還元することが可能である。湿式化学被覆の場合、真珠光沢顔料の生成用に開発された湿式化学被覆方法を使用することができる。これらの湿式化学被覆方法は、例として、ドイツ特許第Ａ−１４ ６７ ４６８号、ドイツ特許第Ａ−１９ ５９ ９８８号，ドイツ特許第Ａ−２０ ０９ ５６６号、ドイツ特許第Ａ−２２ １４ ５４５号、ドイツ特許第Ａ−２２ １５ １９１号、ドイツ特許第Ａ−２２ ４４ ２９８号、ドイツ特許第Ａ−２３ １３ ３３１号、ドイツ特許第Ａ−２５ ２２ ５７２号、ドイツ特許第Ａ−３１ ３７ ８０８号、ドイツ特許第Ａ−３１ ３７ ８０９号、ドイツ特許第Ａ−３１ ５１ ３４３号、ドイツ特許第Ａ−３１ ５１ ３５４号、ドイツ特許第Ａ−３１ ５１ ３５５号、ドイツ特許第Ａ−３２ １１ ６０２号およびドイツ特許第Ａ−３２ ３５ ０１７号、ドイツ特許第１９５ ９９ ８８号、国際公開公報第９３／０８２３７号、国際公開公報第９８／５３００１号ならびに国際公開公報第０３／６５５８号に記載されている。
【００７２】
屈折率が高い金属酸化物は、好ましくはＴｉＯ２および／または酸化鉄であり、屈折率が低い金属酸化物は、好ましくはＳｉＯ２である。ＴｉＯ２の層は、ルチル型またはアナターゼ型であることができ、ルチル型が好ましい。例として、欧州特許第Ａ−７３５，１１４号、ドイツ特許第Ａ−３４３３６５７号、ドイツ特許第Ａ−４１２５１３４号、欧州特許第Ａ−３３２０７１号、欧州特許第Ａ−７０７，０５０号または国際公開公報第９３／１９１３１号に記載されている、アンモニア、水素、炭化水素蒸気もしくはこれらの混合物または金属粉末といった公知の手段によってＴｉＯ２層を還元することもできる。
【００７３】
例として、ドイツ特許第Ａ−１９５ ０１ ３０７号に記載されている方法と同様に、適宜、有機溶剤および塩基触媒の存在下でソルゲルプロセスによって一つ以上の金属酸エステルの制御加水分解を行い、金属酸化物層を生成することにより、金属酸化物層を得ることも可能である。
【００７４】
ＴｉＯ２層の厚さは、一般的に５〜１００nmの範囲である。
【００７５】
適宜、ＳｉＯ２（保護）層を二酸化チタン層の上部に塗布することができる。
【００７６】
例として、米国特許第Ｂ−６，５２４，３８１号に記載されているプラズマアシスト真空法（振動コンベヤー、回転ドラムコーター、揺動ドラムコーターおよび自由落下室を使用）により、高い屈折率を有する金属酸化物の層の代わりに、米国特許第Ｂ−６，５２４，３８１号の材料、たとえばダイヤモンド状炭素およびアモルファス炭素をＳｉＯｚ被覆金属基材に付着させることができる。
【００７７】
酸化ケイ素／アルミニウム基材をベースとする面平行な構造（顔料）は、その表面に、炭素層、特に、５〜１５０nm、特に２０〜７０nm、より特には３０〜７０nmの厚さを有するダイヤモンド状炭素層を有する。
【００７８】
「ダイヤモンド状ネットワーク」（ＤＬＮ）という用語は、炭素から構成されるアモルファス膜または被覆、ならびに場合により、水素、窒素、酸素、フッ素、ケイ素、硫黄、チタンおよび銅からなる群から選択される一つ以上の追加的な成分を含むアモルファス膜または被覆を指す。ダイヤモンド状ネットワークは、約３０〜１００の原子百分率を有する炭素を含み、場合により追加的な成分が残りをなす。
【００７９】
炭素層の厚さは、一般的には５〜１５０nm、好ましくは３０〜７０nmである。
【００８０】
さらに、ＳｉＯｚ被覆アルミニウムフレークは、欧州特許第Ａ−０ ９８２ ３７６号に記載されているように、窒素ドープ炭素層で被覆することができる。欧州特許第Ａ−０ ９８２ ３７６号に記載されているプロセスは、：
（ａ）酸化ケイ素で被覆されたアルミニウムフレークを液体中に懸濁させる工程と、
（ｂ）適宜、表面改質剤および／または重合触媒を添加する工程と、
（ｃ）工程（ｂ）の前または後に、窒素および炭素原子を含む一つ以上のポリマーまたはこのようなポリマーを形成することができる一つ以上のモノマーを添加する工程と、
（ｄ）フレークの表面に高分子被覆を形成する工程と、
（ｅ）被覆されたフレークを単離する工程と、
（ｆ）被覆されたフレークを気体雰囲気中で１００〜６００℃の温度に加熱する工程と
を含む。
【００８１】
ポリマーは、ポリピロール、ポリアミド、ポリアニリン、ポリウレタン、ニトリルゴムまたはメラミンホルムアルデヒド樹脂、好ましくはポリアクリロ二トリルであることができ、モノマーは、ピロール誘導体、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、クロトニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミドまたはクロトナミド、好ましくはアクリロニトリル、メタクリロニトリルまたはクロトニトリル、もっとも好ましくはアクリロニトリルである。
【００８２】
好ましくは、フレークを工程（ｆ）において酸素含有雰囲気中でまず１００℃〜３００℃に加熱し、次に不活性ガス雰囲気中で２００〜６００℃に加熱する。
【００８３】
窒素ドープ炭素層の厚さは、一般的には１０〜１５０nm、好ましくは３０〜７０nmである。
【００８４】
ＳｉＯｚ被覆アルミニウムフレークに基づく干渉顔料は、本発明のプロセスによって利用可能であり、または本発明のプロセスによって得られるＳｉＯｚ被覆アルミニウムフレークをさらなる層で被覆することによって利用可能である（上記を参照されたい）。このような顔料は、好ましくは、Ｃ／Ｘ／Ａｌ／Ｘ／Ｃ、Ａｌ／Ｘ／Ａｌ／Ｘ／Ａｌ、Ｃｒ（５〜４０nm）／Ｘ（１００〜６００nm）／Ａｌ（５０〜１００nm）／Ｘ（１００〜６００nm）／Ｃｒ（５〜４０nm）、ＭｏＳ２／Ｘ／Ａｌ／Ｘ／ＭｏＳ２、Ｆｅ２Ｏ３／Ｘ／Ａｌ／Ｘ／Ｆｅ２Ｏ３という層構造を有し、ここでＸはＳｉＯｚであり、０．７０≦ｚ≦２．０、好ましくは１．０≦ｚ≦２．０、もっとも好ましくは１．４≦ｚ≦２．０である。
【００８５】
もう一つの実施態様では、本発明は、酸化ケイ素（またはアルミナ）膜で被覆された金属、特にアルミニウムのコアを含むフレーク状（小板状）の顔料に関し、基材がその表面全体にわたって、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化鉄、酸化スズ、酸化亜鉛および酸化セリウムから選択される酸化金属で被覆され、半透明の薄い金属膜でさらに被覆され、この顔料はカラーフロップ効果を呈する。
【００８６】
ＳｉＯｚ／Ａｌ／ＳｉＯｚフレークを「基材」として使用する場合、ＳｉＯｚ層は、アルミニウムコアの側部表面ではなく、アルミニウムコアの上部および下部表面上に施される。シリカまたはアルミナの層がゾルゲルプロセスによって塗布される場合、アルミニウムフレークの表面全体がシリカまたはアルミナの保護層で被覆される。ゾルゲル方法は、有機金属化合物等の溶液の加水分解および重縮合を通してゾルを形成した後、それをゲル化することを含む。次に、生成されたゲルを加熱し、金属酸化物を形成する。有機金属化合物としては、シリコンメトキシド、シリコンエトキシド、シリコンプロポキシドなど、たとえばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシランなど、およびアルミニウムメトキシド、アルミニウムエトキシド、アルミニウムポロポキシドなど、たとえば、例としてトリメトキシアルミン酸塩、トリエトキシアルミン酸塩、トリプロポキシアルミン酸塩などが含まれる。保護膜の量は、保護膜で被覆される金属（コア）の０．１〜１０重量％であることができる。
【００８７】
好ましくは、フレーク状基材の表面全体を金属酸化物で被覆し、金属酸化物で被覆されたフレーク状顔料の表面全体を半透明の薄い金属で被覆する。金属酸化物の被覆を塗布するには、ゾルゲル方法も好ましい。例として、二酸化チタン膜を形成する場合、使用する有機金属化合物は、チタンテトラアルコキシド、たとえばチタンテトラメトキシド、チタンテトラエトキシド、チタンテトラブトキシドなどであることができる。酸化ジルコニウム膜を形成する場合は、ジルコニウムテトラアルコキシド、たとえばジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトラポロポキシド、ジルコニウムテトラブトキシドなどが使用可能である。酸化セリウム膜を形成する場合は、セリウムテトラアルコキシド、たとえばセリウムテトラメトキシド、セリウムテトラプロポキシドなどが使用可能である。酸化スズ膜を形成する場合は、オクチル酸スズ、ジブチルスズジラウレート、ジオクチル酸化スズなどが使用可能である。
【００８８】
半透明の薄い金属膜は、５０nm未満の厚さを有する。半透明の薄い金属膜は、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ａｇ、Ａｕおよびこれらの合金から選択される一つ以上の金属から形成される。合金の例は、Ｎｉ−Ｃｏ、Ｎｉ−ＦｅまたはＣｏ−Ｆｅである。金属酸化物被覆の厚さは、９０〜３６０nmである。半透明の薄い金属膜は、好ましくは、活性化のために前処理を必要としない化学めっき方法によって塗布される（色材協会誌（「色材協会」）６９（６）、３７０〜３７７（１９９６年））。これにおいては、アセチルアセトナート金属錯体が有機溶剤中で還元され、その結果、錯体から生じる金属で基材がめっきされる。例として、極性非プロトン性溶剤であるジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）中で還元剤としてビス（アセチルアセトナート）ニッケル（ＩＩ）およびヒドラジンを使用し、このめっき法にしたがって、金属酸化物で被覆されたフレーク状顔料基材上にニッケル膜を形成する場合、高密度のニッケル膜を基材上に形成することができる。本発明の前記態様においては、Ｎｉ／ＴｉＯ２／ＳｉＯｚまたはＮｉ／ＴｉＯ２／ＳｉＯ２のアルミニウムフレークが好ましい。
【００８９】
アルミニウムフレークは、公知のアルミニウムフレークについて慣例的である応用で使用することができる。本発明によるアルミニウムフレークの使用として言及することができる例は、塗料、静電被覆、インクジェット印刷、化粧品、被覆、印刷インク、プラスチック材料、セラミックおよびガラスの艶出しならびにセキュリティ印刷である。
【００９０】
ＳｉＯｚ被覆アルミニウムフレークに基づいて本発明のプロセスをより詳細に例示するが、これらに限定されるものではない。
【００９１】
分離剤Ｉは、アントラセン、アントラキノン、アセトアミドフェノール、アセチルサリチル酸、ショウノウ酸無水物、ベンズイミダゾール、ベンゼン−１，２，４−トリカルボン酸、ビフェニル−２，２−ジカルボン酸、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ジヒドロキシアントラキノン、ヒダントイン、３−ヒドロキシ安息香酸、８−ヒドロキシキノリン−５−スルホン酸一水和物、４−ヒドロキシクマリン、７−ヒドロキシクマリン、３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、イソフタル酸、４，４−メチレン−ビス−３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、ナフタレン−１，８−ジカルボン酸無水物、フタルイミドおよびそのカリウム塩、フェノールフタレイン、フェノチアジン、サッカリンおよびその塩、テトラフェニルメタン、トリフェニレン、トリフェニルメタノールならびにこれらの物質の少なくとも二つの混合物、特に、ペンタエリスリトール（Ｃ（ＣＨ２ＯＨ）４）、トリメシン酸（＝１，３，５ベンゼントリカルボン酸）、ＤＬ−アラニン、ＤＬ−バリン、２，６−ジアミノプリン、アスコルビン酸、１，３，５−ベンゼントリカルボン酸、ｏ−アセチルサリチル酸、ジフェン酸、テレフタル酸、ピロガロール、シアヌル酸、ヘキサメチルテトラミン（ウロトロピン）、フマル酸および４−アセチル安息香酸ならびにこれらの物質の少なくとも二つの混合物から選択される。
【００９２】
分離剤Ｉは、好ましくは水中に溶解することができるペンタエリスリトールである。
【００９３】
分離剤ＩＩは、ポリマー、特に溶解することができる部分的に硬化するポリマー、アダマンタン、ジフェン酸、７−ヒドロキシクマリン、ベンゾグアナミン（２，４，６−ジアミノ−４−フェニル−１，３，５−トリアジン）、フェロセン、ショウノウおよび誘導体、アントラセン、ナフタレン−１，８−ジカルボン酸無水物、９，１０−アントラキノンならびにピロメリット酸二無水物から選択される。
【００９４】
ポリマーの例は、国際公開公報第００／２４９４６号に記載のスチレン樹脂、たとえばＤｏｗ ６８５Ｄ押出グレードスチレン樹脂ならびに米国特許第Ｂ−５９４５１７４号、米国特許第Ｂ−６０１０７５１号または米国特許Ｂ−５８７７８９５号に記載のアクリレート、たとえば２−フェノキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレートおよびラウリルアクリレート、ジアセチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレートおよびポリエチレングリコールジアクリレート（ＰＥＧＤＡ）もしくはテトラエチレングリコールジアクリラート、トリメチロールプロパントリアクリレートおよびペンタエリスリトールトリアクリレート、イソブチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレートおよび２−フェノキシエチルアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレートおよび１，６−ヘキサンジオールジメタクリレートならびにこれらの化合物の混合物である。
【００９５】
ＳｉＯｚ層（Ｂ１）および（Ｂ２）の層厚さは、１０〜５０nm、特に２０〜３０nmである。
【００９６】
アルミニウムからなる層（Ｂ）の層厚さは、１０〜１００nm、好ましくは３０〜５０nmである。
【００９７】
ＳｉＯｙ被覆アルミニウムフレークは、基本的に、例として米国特許第Ｂ−６，２７０，８４０号、国際公開公報第００／１８９７８号、国際公開公報第０２／０９０６１３号、国際公開公報第０３／９０６１３号に記載されているプロセスによって得ることができる。本発明のプロセスは、分離剤Ｉを分離剤ＩＩと組み合わせて使用することを特徴とする。
【００９８】
酸化ケイ素層（ＳｉＯｙ）は、好ましくは、１３００℃を上回る温度でのＳｉとＳｉＯ２との混合物の反応によって蒸発器中で生成される一酸化ケイ素蒸気から形成される。０．７０≦ｙ≦０．９９であるＳｉＯｙ層は、好ましくは、最大で２０重量％の量のケイ素を含有する一酸化ケイ素を、１３００℃を上回る温度で蒸発させることによって形成される。
【００９９】
Ａｌは、１０００℃を上回る温度で蒸発させる。
【０１００】
工程ｂ）〜ｄ）における蒸着は、好ましくは０．５Pa未満の真空下で実施する。工程ｅ）における分離剤層の溶解は、好ましくは１〜５×１０４Pa、特に６００〜１０４Pa、より特には１０３〜５×１０３Paの範囲の圧力下で実施する。
【０１０１】
ＳｉＯｙ層は、例としてドイツ特許第４３ ４２ ５７４ Ｃ１号および米国特許第Ａ−６ ２０２ ５９１号に記載されている蒸発器中で、好ましくはケイ素および石英（ＳｉＯ２）微粉末の化学量論的混合物を、高真空下で１３００℃を上回る温度に加熱することで得られる。反応生成物は、一酸化ケイ素ガスであり、真空下で、通過するキャリヤーに直接導き、そこでＳｉＯとして凝縮させる。非化学量論的混合物を使用することもできる。蒸発器は、ＳｉとＳｉＯ２との混合物、ＳｉＯｙまたはその混合物を含む装入物を含有し、相互に反応する物質（ＳｉおよびＳｉＯ２）の粒子サイズは、有利には０．３mm未満である。ＳｉとＳｉＯ２との重量比率は、有利には０．１５：１〜０．７５：１（重量部）の範囲であり、好ましくは化学量論的混合物が存在する。蒸発器内に存在するＳｉＯｙが直接蒸発する。ＳｉおよびＳｉＯ２が１３００℃を上回る温度で反応し、一酸化ケイ素蒸気を形成する。
【０１０２】
工程ｅ）およびｆ）は、通例、工程ａ）〜ｄ）における圧力よりも高く、かつ大気圧力よりも低い圧力で実施する。
【０１０３】
可動キャリヤーは、一つ以上のディスク、円筒または軸を中心として回転する他の回転対称体（国際公開公報第０１／２５５００号および米国特許第Ｂ−６，３７６，０１８号を参照されたい）からなることができ、好ましくは高分子被覆された、もしくはされない一つ以上の連続金属ベルトまたは一つ以上のポリイミドもしくはポリエチレンテレフタレートベルト（米国特許第Ｂ−６，２７０，８４０号）からなる。
【０１０４】
アルミニウムまたはＳｉＯｙ被覆アルミニウムフレークは、好ましくは洗い落としおよびその後のろ過、沈降、遠心分離、デカンテーションまたは蒸発によって分離剤ＩおよびＩＩの溶剤から分離される。
【０１０５】
複数の分離剤ＩＩ層および生成物層を、好ましくは、可動キャリヤーに対し、互いに一つおきの順に真空で蒸着させることができ、その後、工程ｅ）にしたがって溶解によって取り除く。
【０１０６】
さらに、溶剤に含有される溶解分離剤ＩＩを洗い落とした後、ＳｉＯｙ被覆アルミニウムフレークを溶剤とともに凍結し、その後、凍結乾燥プロセスを行い、その間に三重点を下回る昇華の結果として溶剤が分離し、乾燥したフレークが個々の面平行な構造の形態で後に残留する。
【０１０７】
凝縮した亜酸化ケイ素は、０．９５≦ｙ≦１．８、好ましくはおよそ１．０≦ｙ≦１．６の式ＳｉＯｙに対応し、１未満のｙ値は、蒸発器材料中の過剰なケイ素によって得られる。超高真空下を除き、数１０−２Paの工業用の真空中では、蒸発したＳｉＯは、常に、１≦ｙ≦１．８、特に１．１≦ｙ≦１．６のＳｉＯｙとして凝縮するが、それは、表面からガスが放出する結果、蒸発温度で容易に反応するＳｉＯと反応する水蒸気を高真空装置が常に微量含有するからである。
【０１０８】
詳細には、分離剤Ｉ、例としてペンタエリスリトールに続いて、分離剤ＩＩ、例としてアダマンタン、亜酸化ケイ素（ＳｉＯｙ）、Ａｌおよび分離剤ＩＩ、例としてアダマンタンが、連続してキャリヤーに蒸着され、このキャリヤーは、０．５Pa未満、特に０．０５Pa未満の真空下で蒸発器を通過する連続金属ベルトであることができる。分離剤の蒸着厚さは、約２０〜５００nm、好ましくは５０から３００nm、もっとも好ましくは５０〜１００nmであり、ＳｉＯの蒸着厚さは、生成物の使用目的に応じて１０〜５００nmであり、アルミニウムの蒸着厚さは１０〜１００nm、特に３０〜５０nmである。さらなる過程において、閉じてループを形成するベルト形態のキャリヤーが、公知の構成の動的真空封止室（米国特許第６，２７０，８４０号を参照されたい）を通り抜け、１〜５×１０４Paの圧力、好ましくは６００〜１０９Paの圧力、特に１０３〜５×１０３Paの圧力の領域に入り、そこで分離槽と接触する。分離剤Ｉの溶解に使用される水の温度は、その蒸気圧力が指示される圧力範囲に収まるように選択すべきである。機械的補助により、分離剤Ｉの層が急速に溶解し、面平行な小板の前駆体の層がフレークに分割され、次にフレークが水中で懸濁形態となる。
【０１０９】
次に、面平行な小板の前駆体構造と、分離剤が溶解している溶剤とを含む、両方の場合において得られる懸濁液を、公知の技術にしたがうさらなる作業で分離させる。そのために、面平行な小板構造をまず水中で濃縮させ、溶解した分離剤を洗い落とすために新鮮な水で数回にわたってすすぎ洗いする。次に、いまだに湿っている固体の形態の生成物を、ろ過、沈降、遠心分離、デカンテーションまたは蒸発によって分離させ、乾燥させる。
【０１１０】
次に、面平行な小板の前駆体構造を第二分離槽に接触させ、面平行な小板の前駆体構造にいまだに密着している分離剤ＩＩ、例としてアダマンタンを有機溶剤、例としてトルエンまたはベンゼンに溶解させる。次に、面平行な小板の前駆体構造と、分離剤が溶解している溶剤とを含む、両方の場合において得られる懸濁液を、公知の技術にしたがうさらなる作業で分離させる。そのために、面平行な小板構造をまず溶剤中で濃縮させ、溶解した分離剤を洗い落とすために新鮮な溶剤で数回にわたってすすぎ洗いする。次に、いまだに湿っている固体の形態の生成物を、ろ過、沈降、遠心分離、デカンテーションまたは蒸発によって分離させ、乾燥させる。
【０１１１】
大気圧力での洗い落とし後の面平行な構造の分離は、約５０%の固形分に濃縮されている懸濁液を凍結させ、公知の手法において約−１０℃および５０Paの圧力で冷凍乾燥を施すことにより、適度な条件下で実施することができる。乾燥した物質が生成物として残留する。
【０１１２】
場合により、ＳｉＯｙ被覆アルミニウムフレークに酸化的熱処理を施すことができる。例として、２００℃を上回る、好ましくは４００℃を上回る、特に４００〜６００℃の温度で、遊離した材料の形態で存在する、または流動層にある小板に空気またはいくらか他の酸素含有ガスを通過させることができる。
【０１１３】
顔料サイズへの膜の断片の粉砕は、例として、液状媒体において高速攪拌機を使用して、または断片の乾燥後に回転分級器を有するエアジェットミルにおいて、超音波手段または機械的手段によって行うことができる。顔料の粉砕を液状媒体において実施するのか、または乾燥状態で実施するのかに応じて、粉砕手順中または粉砕手順後にアルミニウム顔料の金属自由表面の不動態化が先に言及したプロセスの一つによって実施される。
【０１１４】
アルミニウムフレークまたは顔料に後被覆または後処理を施すことも可能であり、これにより、光安定性、耐侯安定性および化学安定性がさらに増加し、または顔料の取り扱い、特に各種媒体への混和が促進される。例として、欧州特許第Ａ−１０８４１９８号、欧州特許第Ａ−８２６７４５号、ドイツ特許第Ａ−２２ １５ １９１号、ドイツ特許第Ａ−３１ ５１ ３５４号、ドイツ特許第Ａ−３２ ３５ ０１７号またはドイツ特許第Ａ−３３ ３４ ５９８号に記載されているプロセスが、後処理または後被覆として好適である。
【０１１５】
適宜、ＳｉＯ２保護層を施すことができ、そのためにソーダ水ガラス溶液を計量し、およそ５０〜１００℃、特に７０〜８０℃に加熱されている、被覆される材料の懸濁液に添加するという方法を使用することができる。同時に１０%の塩酸を添加することにより、ｐＨを４〜１０、好ましくは６．５〜８．５に維持する。水ガラス溶液の添加後、３０分間にわたって攪拌を実施する。
【０１１６】
顔料の際立った特徴は、非常に均一な厚さを有することである。
【０１１７】
「０．７０≦ｚ≦２．０であるＳｉＯｚ」という用語は、酸化ケイ素層の平均値におけるケイ素に対する酸素のモル比率が０．７０〜２．０であることを意味する。酸化ケイ素層の組成は、ＥＳＣＡ（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ ｆｏｒ ｃｈｅｍｉｃａｌ ａｎａｌｙｓｉｓ：Ｘ線電子分光法）によって特定することができる。酸化ケイ素基材のケイ素および酸素の化学量論は、ＲＢＳ（Ｒｕｔｈｅｒｆｏｒｄ−Ｂａｃｋｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ：ラザフォード後方散乱）によって特定することができる。
【０１１８】
「０．７０≦ｙ≦１．９５であるＳｉＯｙ」という用語は、酸化ケイ素層の平均値におけるケイ素に対する酸素のモル比率が０．７０〜１．９５であることを意味する。酸化ケイ素層の組成は、ＥＳＣＡ（electron spectroscopy for chemical analysis：Ｘ線電子分光法）によって特定することができる。酸化ケイ素基材のケイ素および酸素の化学量論は、ＲＢＳ（Rutherford-Backscattering：ラザフォード後方散乱）によって特定することができる。
【０１１９】
本発明によると、「アルミニウム」という用語は、アルミニウムおよびアルミニウムの合金を含む。アルミニウムの合金は、例として、ウルマンの工業化学百科事典第四版（ヴァインハイム（Weinheim）のVerlag Chemie社）第七巻２８１〜２９２ページのG.Wassermannに記載されている。特に好適であるのは、国際公開公報第００／１２６３４号の１０〜１２ページに記載されている腐食安定性アルミニウム合金であり、これには、アルミニウムの他に、２０重量%未満、好ましくは１０重量%未満の量のケイ素、マグネシウム、マンガン、銅、亜鉛、ニッケル、バナジウム、鉛、アンチモン、スズ、カドミウム、ビスマス、チタン、クロムおよび／または鉄が含まれる。
【０１２０】
本発明の実施態様では、米国特許第Ａ−４，３２１，０８７号に記載されている装置および方法は、面平行な構造の調製のために使用される。前記実施態様は、アルミニウムフレークに基づいて記載されているが、これらに限定されるものではない。
【０１２１】
不連続的なプロセスでは、必要な場合、表面被覆（使用される典型的な樹脂系は、アクリル、セルロース系、ビニル樹脂などである）を被覆または印刷技術（好ましくは輪転グラビアまたはフレキソ）によって少なくともキャリヤーシートの側に塗布する。好適なキャリヤーは、ポリエステル、ポリオレフィンまたは他の一般的な材料からなる膜である。
【０１２２】
被覆された膜は、次に、典型的なＰＶＤ（物理蒸着）プロセスにおいて、分離剤Ｉ、ＩＩ、アルミニウム層および分離剤ＩＩの層が続いて剥離被覆上に蒸着されるロールコーターを通過する。
【０１２３】
付着させるアルミニウムの厚さは、最終的な顔料の望ましい特性を得るために重大である。通例、厚さは、３０〜５０nmの間で調節される。５０nmを超える厚さでは、顔料の配向性が負の作用を受け、顔料の端部における散乱効果が増加する。両方の効果は、輝度、不透過度およびフロップに対して負の影響力を有する。
【０１２４】
３０nmに満たない厚さでは、アルミニウムは透明になり、顔料の取り扱いは、より高い凝集傾向によってさらに困難である。
【０１２５】
次工程において、金属化膜が第一の溶剤タンク（脱離器）を通り抜けると、分離剤Ｉが水中に溶解し、アルミニウムおよび分離剤ＩＩの層が粗い前駆体フレークとして取り除かれる。
【０１２６】
アルミニウム前駆体フレークは、好ましくは洗い落としおよびその後のろ過、沈降、遠心分離、デカンテーションまたは蒸発により、分離剤の溶剤から分離される。
【０１２７】
アルミニウム前駆体フレークの分離剤ＩＩを適当な溶剤中に溶解させ、アルミニウムフレークを好ましくは洗い落としおよびその後のろ過、沈降、遠心分離、デカンテーションまたは蒸発によって分離剤の溶剤から分離させる。あるいは、アルミニウム粒子を洗浄し、所望の場合、普通は１０〜２０%の顔料を含有する分散物に濃縮する。次に、粒子を激しい攪拌または超音波処理によってサイジングする。
【０１２８】
分離剤Ｉは、好ましくは水中に溶解することができるペンタエリスリトールである。分離剤ＩＩは、好ましくはトルエンに溶解することができるアダマンタンである。
【０１２９】
本発明の好ましい実施態様では、米国特許第Ｂ−６，２７０，８４０号に記載の装置は、面平行な構造の調製のために使用される。前記実施態様は、ＳｉＯｙフレークに基づいて記載されているが、これらに限定されるものではない。
【０１３０】
ＳｉＯｙフレークは、原則として、：
ａ）水に溶かし得る分離剤Ｉをキャリヤーに付着させ、分離剤層を生成する工程と、
ｂ）水に溶かし得ない分離剤ＩＩを工程ａ）の分離剤層に蒸着させる工程と、
ｃ）ＳｉＯｙ層を工程ｂ）の分離剤層に蒸着する工程と、
ｄ）水に溶かし得ない分離剤ＩＩを工程ｃ）の生成物層に蒸着させる工程と、
ｅ）工程ａ）の分離剤層を水中に溶解させ、ＳｉＯｙ層が、側部表面を除く上部表面および下部表面が分離剤Ｉで覆われている面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程と、
ｆ）工程ｂ）およびｄ）の分離剤層を溶剤中に溶解させ、ＳｉＯｙが面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程と
を含むプロセスによって調製することができる。
【０１３１】
前記実施態様にしたがうと、分離剤Ｉ、例としてペンタエリスリトールに続いて、分離剤ＩＩの層、例としてアダマンタンおよび一酸化ケイ素（ＳｉＯ）を、蒸発器を経由して０．５Pa未満の真空下を通過させながら、連続（金属）ベルトであるキャリヤーに蒸着させる。生成物の使用目的に応じて、蒸着される分離剤ＩおよびＩＩの厚さは、およそ５０nm、特に５０〜３００nmであり、ＳｉＯの厚さは、２０〜２０００nmである。
【０１３２】
ＳｉＯ蒸着の場合、１００nmを超える層厚さは膜キャリヤーの実質的な加熱を生じさせ、それがプラスチック膜のガラス転移温度を超えるならば、軟化および熱劣化を生じさせる。そのため、このような負荷に耐える金属キャリヤーを使用することが有利であるとわかった。
【０１３３】
超高真空下を除き、数１０−２Paの技術的な真空中では、蒸発したＳｉＯは、常に、１≦ｙ＜１．８、特に１．１＜ｙ＜１．８のＳｉＯｙとして凝縮するが、それは、表面からガスが放出する結果、蒸発温度で容易に反応するＳｉＯと反応する水蒸気を高真空装置が常に微量含有するからである。
【０１３４】
さらなる過程において、閉じてループを形成するベルト形態のキャリヤー（米国特許第６２７０８４０号を参照されたい）が、公知である様式の構成の動的真空封止室を通り抜け、１〜５×１０４Paの圧力、好ましくは６００〜１０４Paの圧力、特に１０３〜５×１０３Paの圧力の領域に入り、そこで溶解槽に浸される。溶剤（水）の温度は、その蒸気圧力が指示される圧力範囲に収まるように選択すべきである。機械的補助により、分離剤Ｉの層が急速に溶解し、「生成物」層が面平行な小板の前駆体（生成物および分離剤ＩＩからなるフレーク）に分割され、次にフレークが溶剤中において懸濁形態で存在する。さらなる過程において、ベルトを乾燥させ、いまだにそれに密着している不純物を除去する。それは、第二の動的真空封止室群を通り抜けて蒸発室に戻り、そこで分離剤およびＳｉＯの生成物層の被覆プロセスが繰り返される。
【０１３５】
次に、生成物前駆体構造と、分離剤Ｉが溶解している溶剤とを含む、両方の場合において存在する懸濁液を、公知の技術にしたがうさらなる作業で分離させる。そのために、生成物前駆体構造をまず液体中で濃縮させ、溶解した分離剤Ｉを洗い落とすために新鮮な溶剤で数回にわたってすすぎ洗いする。次に、いまだに湿っている固体の形態の生成物前駆体をろ過、沈降、遠心分離、デカンテーションまたは蒸発によって分離させる。
【０１３６】
生成物前駆体は、第二の分離剤を適当な溶剤、例としてトルエンまたはベンゼンに溶解させることにより、ＳｉＯｙフレークに変換する。ＳｉＯｙフレークをまず液体中で濃縮させ、溶解した分離剤ＩＩを洗い落とすために新鮮な溶剤で数回にわたってすすぎ洗いする。次に、いまだに湿っている固体の形態のＳｉＯｙフレークをろ過、沈降、遠心分離、デカンテーションまたは蒸発によって分離させる。
【０１３７】
次に、乾燥後、生成物に酸化的熱処理を施すことができる。このために、公知の方法が利用可能である。２００℃を超える、好ましくは４００℃を超える、特に５００〜１０００℃の温度で、遊離した材料の形態で存在する、または流動層にあるＳｉＯｙ（ｙは、蒸着条件に応じて１〜およそ１．８である）の面平行な構造に空気またはいくらか他の酸素含有ガスを通過させる。次に、生成物を破砕または空気篩によって所望の粒子サイズにし、さらなる使用のために送り出すことができる。
【０１３８】
ＳｉＯｙの面平行な構造の生成では、変形態様が可能である。
【０１３９】
蒸発区域中、いくつかの分離剤および生成物蒸発器をベルトの走行方向に一列に並べることが可能である。この手段により、装置の点でほとんど追加の出費なしに、ＳＩ＋ＳＩＩ＋Ｐ＋ＳＩＩ＋Ｐ＋ＳＩＩ（ＳＩは分離剤Ｉの層であり、ＳＩＩは分離剤ＩＩの層であり、Ｐは生成物層である）の連続層が得られる。蒸発器の数が倍になり、ベルト速度が同じであれば、二倍の量の生成物が得られる。
【０１４０】
真空中において１３００℃を超える温度、好ましくは１３００℃〜１６００℃でケイ素と二酸化ケイ素とが反応し、
Ｓｉ＋ＳｉＯ２→２ＳｉＯ
によってケイ素と二酸化ケイ素から生成される一酸化ケイ素を、本発明にしたがってＳｉＯの蒸発と組み合わせる。このために特別に設定された蒸発器では、ケイ素および石英微粉末の好ましくは化学量論的な混合物を、例として、高真空下でおよそ１４５０℃まで加熱する。反応生成物は、一酸化ケイ素ガスである。一酸化ケイ素を収集し、後の段階でそれを蒸発させるために破砕する代りに、真空中での化学反応から生じる一酸化ケイ素蒸気を、通過するキャリヤーに直接導き、そこでＳｉＯｙとして凝縮させる。そのため、別工程でＳｉＯを別に生成することは不要である。非化学量論的混合物を使用することも可能である。しかし、反応後、ＳｉＯ２またはＳｉいずれかの残渣が残る。
【０１４１】
本発明によると、蒸発器は、ＳｉとＳｉＯ２との混合物、ＳｉＯｙまたはその混合物を含む装入物を含有し、相互に反応する物質（ＳｉおよびＳｉＯ２）の粒子サイズは、有利には０．３mm未満である。ＳｉとＳｉＯ２との重量比率は、有利には０．１５：１〜０．７５：１（重量部）の範囲であり、好ましくは化学量論的混合物が存在する。ＳｉＯｙの量は、実際の要件にしたがって選択することができる。蒸発器中に存在するＳｉＯｙは、直接蒸発する。ＳｉとＳｉＯ２とは、１３００℃を超える温度で反応し、一酸化ケイ素蒸気を形成する。面平行な構造の表面積に対する厚さの比率は、好ましくは０．０１μm-1未満である。キャリヤー上に凝縮した分離剤は、真空中で蒸発可能な水溶性の無機塩または真空中で蒸発可能な溶解することができる有機物質であることができる。
【０１４２】
本発明によると、工程ｅ）およびｆ）は、工程ａ）〜ｄ）における圧力よりも高く、かつ大気圧力よりも低い圧力で実施する。
【０１４３】
可動キャリヤーは、好ましくは、ポリマーで被覆された、もしくは被覆されない一つ以上の連続金属ベルトまたは一つ以上のポリイミドもしくはポリエチレンテレフタレートのベルトを含む。
【０１４４】
本発明の好ましい実施態様によると、交互に連続する複数の分離剤層および亜酸化ケイ素層は、真空中において可動キャリヤー上に蒸着させた後、凝縮した分離剤層の溶解によって除去する。ＳｉＯｙの面平行な構造は、好ましくは洗い落としおよびその後のろ過、沈降、遠心分離、デカンテーションまたは蒸発によって分離剤の溶剤から分離させる。
【０１４５】
可動キャリヤー上で凝縮した亜酸化ケイ素は、１≦ｙ≦１．８、好ましくは１．１≦ｙ≦１．６の式ＳｉＯｙに対応する。蒸発器材料中の過剰なケイ素を使用することにより、ｙ＝０．９５を最小として１未満のｙ値を得ることも可能である。
【０１４６】
本明細書において先に記載した生成方法では、好ましくは、酸化ケイ素の面平行な構造に光学吸収特性を提供する目的をもって、さらなる蒸発性物質、たとえば有機顔料、特に金属または金属酸化物を亜酸化ケイ素と混ぜ合わせ、この混ぜ合わせは固体相で行うか、または蒸気相において第二のソースからの蒸発によって行うことが可能である。
【０１４７】
生成物単独の代わりに、ＳｉＯｙおよび分離剤ＩＩを同時に分離剤層ＩＩ上に蒸着させ、多孔性のＳｉＯｙフレークを得ることができる（詳細は、国際公開公報第０４／０６５２９５号を参照されたい）。
【０１４８】
多孔性のＳｉＯｙフレークは、分離剤ＩＩ層上にＳｉＯｙ／分離剤ＩＩの混合層を付着させることで生成される。混合層中の分離剤ＩＩの量を制御することにより、ＳｉＯｙフレークの多孔性は、単純な手法で制御することができる。
【０１４９】
概して、混合層は、ＳｉＯｙおよび分離剤ＩＩの総重量をベースとして１〜６０重量%の量の分離剤ＩＩを含有する。
【０１５０】
ＳｉＯｙフレークを無酸素雰囲気中、すなわちアルゴンまたはヘリウム雰囲気中または１３Pa（１０−１Torr）未満の真空中において、４００℃を超える温度、特に４００〜１１００℃の温度で加熱する場合、「ケイ素／酸化ケイ素」フレークが得られる（詳細は、国際公開公報第０３／１０６５６９号を参照されたい）。
【０１５１】
無酸素雰囲気中でＳｉＯｙ粒子を加熱することにより、ＳｉＯｙにおけるＳｉＯ２およびＳｉが不均衡化すると仮定する。
ＳｉＯｙ→（ｙ／ｙ＋ａ）ＳｉＯｙ＋ａ＋（１−ｙ／ｙ＋ａ）Ｓｉ
この不均衡化において、（１−（ｙ／ｙ＋ａ））Ｓｉを含有するＳｉＯｙ＋ａフレークが形成され、ここで０．７０≦ｙ≦１．８、特に０．７０≦ｙ≦０．９９または１≦ｙ≦１．８、０．０５≦ａ≦１．３０であり、ｙとａとの和は２または２未満である。
【０１５２】
０．７０≦ｙ≦１．９５、特に０．７０≦ｙ≦１．８０、とりわけ１．０≦ｙ≦１．８であるＳｉＯｙフレークは、反応性中心を含む。「反応性中心」という用語は、ＳｉＯｙフレーク内に少なくとも一つのＳｉ−Ｓｉ群、好ましくは複数のＳｉ−Ｓｉ群、すなわち[ＳｉＯ４−ｘＳｉｘ]成分（ｘ＞１）が存在することを意味する。反応ＳｉＯｙフレークは、例として、Ｓｉ−Ｓｉ群を切断することができる機能群を有する化合物と反応させ、化合物を化学的にＳｉＯｙフレークに結合させることができる（詳細は、国際公開公報第０６／０１０７２０号を参照されたい）。
【０１５３】
ｙ＞１．０であるＳｉＯｙは、酸素の存在下でＳｉＯを蒸発させて得ることができる。蒸発中、成長するＳｉＯｙ層に紫外線を照射すると、基本的に吸収を免れる層を得ることができる（ドイツ特許第Ａ−１６２１２１４号）。純酸素雰囲気中でのＳｉＯのいわゆる「反応性蒸着」により、可視領域においては吸収せず、５５０nmで１．５５の屈折率を有するＳｉＯ１．５層を得ることが可能である（Ｅ．Ｒｉｔｔｅｒ、Ｊ．Ｖａｃ．Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．３（１９６６年）２２５）。
【０１５４】
ＳｉＯｙフレークは、流動層において、少なくとも２００℃、特に４００℃を上回る温度で、好ましくは遊離した材料の形態において、酸素含有ガス、例として空気を使用して酸化するか、または好ましくは５００〜１０００℃の範囲の温度で酸化炎内に導入し、面平行な構造のＳｉＯｚを形成することができる（国際公開公報第０３／０６８８６８号）。
【０１５５】
ＳｉＯｚフレークは、例として、さらなる層を塗布することでさらに加工し、干渉顔料を得ることができる。
【０１５６】
このような顔料の粒子は、一般的に、２μm〜５mmの長さ、２μm〜２mmの幅および２０nm〜２μmの厚さを有し、長さと厚さの比率が２：１であって、これらの粒子は、０．７０≦ｚ≦２．０、特に１．１≦ｚ≦２．０、もっとも好ましくは１．４≦ｚ≦２．０であるＳｉＯｚのコアを含み、このコアは実質的に平行な二つの面を有しており、それらの面間の距離はコアの最短軸（厚さ）であり、このような顔料は、（ａ）高い屈折率を有する材料、特に金属酸化物を含み、または顔料は（ａ）（薄い半透明の）金属層を含む。
【０１５７】
半透明の金属層に好適な金属は、例として、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ａｌ、Ｃｕ、Ａｇ、ＡｕまたはＮｉである。半透明の金属層は、通常、５〜２５nm、特に５〜１５nmの厚さを有する。ＳｉＯｚ基材は、平行な表面の一方にのみ金属層を有することができるが、好ましくは、金属層は、基材の平行な表面の両方に存在する。
【０１５８】
半透明の金属層が望ましい場合、金属層の厚さは、一般的には５〜２５nm、特に５〜１５nmである。
【０１５９】
金属的な外観を有する顔料が望ましい場合、金属層の厚さは＞２５nm〜１００nm、好ましくは３０〜５０nmである。有色金属効果を有する顔料が望ましい場合、有色または無色の金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物および／または金属の追加的な層を付着させることができる。これらの層は透明または半透明である。屈折率が高い層と屈折率が低い層とが交互に並ぶか、または一つの層が存在し、その層内で屈折率が徐々に変わることが好ましい。追加的な被覆によって耐候性を増加させることが可能であり、これにより同時に、バインダー系への最適な適応がもたらされる（欧州特許第Ａ−２６８９１８号および欧州特許第Ａ−６３２１０９号）。
【０１６０】
本発明の好ましい実施態様では、干渉顔料は、本明細書においておよそ１．６５を上回る屈折率として定義される「高い」屈折率を有する材料と、場合により、本明細書においておよそ１．６５以下の屈折率として定義される「低い」屈折率を有する材料とを含む。利用することができるさまざまな（誘電体）材料としては、無機材料、たとえば金属酸化物、金属亜酸化物、金属フッ化物、金属酸ハロゲン化物、金属硫化物、金属カルコゲニド、金属窒化物、金属酸窒化物、金属炭化物およびこれらの組み合わせ等ならびに有機誘導体材料が含まれる。これらの材料は容易に利用可能であり、物理蒸着もしくは化学蒸着プロセスまたは湿式化学被覆プロセスによって簡単に塗布することができる。
【０１６１】
特に好ましい実施態様では、酸化ケイ素基材に基づく干渉顔料は、「高い」屈折率、換言すればおよそ１．６５を上回る屈折率、好ましくはおよそ２．０を上回る屈折率、もっとも好ましくは約２．２を上回る屈折率を有する誘電体材料のさらなる層を含み、この層がケイ素／酸化ケイ素基材の表面全体に塗布される。このような誘電体材料の例は、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、炭素、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）、酸化セリウム（ＣｅＯ２）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）、酸化ユウロピウム（Ｅｕ２Ｏ３）、酸化鉄、たとえば酸化鉄（ＩＩ）／酸化鉄（ＩＩＩ）（Ｆｅ３Ｏ４）および酸化鉄（ＩＩＩ）（Ｆｅ２Ｏ３）、窒化ハフニウム（ＨｆＮ）、炭化ハフニウム（ＨｆＣ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化ネオジム（Ｎｄ２Ｏ３）、酸化プラセオジム（Ｐｒ６Ｏ１１）、酸化サマリウム（Ｓｍ２Ｏ３）、三酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ３）、一酸化ケイ素（ＳｉＯ）、三酸化セレン（Ｓｅ２Ｏ３）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、三酸化タングステン（ＷＯ３）またはこれらの組み合わせである。誘電体材料は、好ましくは金属酸化物である。金属酸化物は、吸収特性を有する、または有さない単一の酸化物または酸化物の混合物、例としてＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、Ｃｒ２Ｏ３、ＣｅＯ２またはＺｎＯであることが可能であり、ＴｉＯ２が特に好ましい。
【０１６２】
ＴｉＯ２層の上部に屈折率が低い金属酸化物、たとえばＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＡｌＯＯＨ、Ｂ２Ｏ３またはこれらの組み合わせ、好ましくはＳｉＯ２を塗布し、場合により、後者の層の上部にさらにＴｉＯ２層を塗布することにより、色がより濃い顔料およびより透明な顔料を得ることが可能である（欧州特許第Ａ−８９２８３２号、欧州特許第Ａ−７５３５４５号、国際公開公報第９３／０８２３７号、国際公開公報第９８／５３０１１号、国際公開公報第９８１２２６６号、国際公開公報第９８３８２５４号、国際公開公報第９９／２０６９５号、国際公開公報第００／４２１１１号および欧州特許第Ａ−１２１３３３０号）。使用することができる好適な低屈折率誘電体材料の限定されない例としては、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）および金属フッ化物、たとえばフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ３）、フッ化セリウム（ＣｅＦ３）、フッ化ランタン（ＬａＦ３）、フッ化アルミニウムナトリウム（Ｎａ３ＡｌＦ６またはＮａ５Ａｌ３Ｆ１４など）、フッ化ネオジム（ＮｄＦ３）、フッ化サマリウム（ＳｍＦ３）、フッ化バリウム（ＢａＦ２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）ならびにこれらの組み合わせ、またはおよそ１．６５以下の屈折率を有する他の任意の低屈折率材料が含まれる。例として、有機モノマーおよびポリマーを低率材料として利用することができ、これらの材料としては、ジエンまたはアルケン、たとえばアクリレート（メタクリレートなど）、ペルフルオロアルケンのポリマー、ポリテトラフルオロエチレン（ＴＥＦＬＯＮ（登録商標））、フッ素化エチレンプロピレン（ＦＥＰ）のポリマー、パリレン、ｐ−キシレン、これらの組み合わせ等が含まれる。また、上記の材料には、その開示が参照により本明細書に組み入れられる米国特許第５，８７７，８９５号に記載されている方法によって付着させることができる、蒸発、凝縮および架橋結合された透明なアクリレート層が含まれる。
【０１６３】
したがって、好ましい干渉顔料は、（ａ）屈折率が高い金属酸化物に加え、（ｂ）屈折率が低い金属酸化物を含み、ここで両方の屈折率の差は少なくとも０．１である。
【０１６４】
指示された順序で湿式化学方法によって被覆された酸化ケイ素（ＳｉＯｚ）基材に基づく顔料が特に好ましく、その順序とは、：
ＴｉＯ２（基材：酸化ケイ素、層：ＴｉＯ２、好ましくはルチル型）、（ＳｎＯ２）ＴｉＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、ＴｉＦｅ２Ｏ５、Ｃｒ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ｓｎ（Ｓｂ）Ｏ２、ＢｉＯＣｌ、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｅ２Ｓ３、ＭｏＳ２、Ｆｅ２Ｏ３・ＴｉＯ２（基材：酸化ケイ素、Ｆｅ２Ｏ３とＴｉＯ２との混合層）、ＴｉＯ２／Ｆｅ２Ｏ３（基材：酸化ケイ素、第一層：ＴｉＯ２、第二層：Ｆｅ２Ｏ３）、ＴｉＯ２／ベルリンブルー、ＴｉＯ２／Ｃｒ２Ｏ３またはＴｉＯ２／ＦｅＴｉＯ３
である。概して、層厚さの範囲は１〜１０００nm、好ましくは１〜３００nmである。
【０１６５】
もう一つの具体的に好ましい実施態様では、本発明は、高屈折率および低屈折率の交互に並ぶ少なくとも三つの層、たとえばＴｉＯ２／ＳｉＯ２／ＴｉＯ２、（ＳｎＯ２）ＴｉＯ２／ＳｉＯ２／ＴｉＯ２、ＴｉＯ２／ＳｉＯ２／ＴｉＯ２／ＳｉＯ２／ＴｉＯ２またはＴｉＯ２／ＳｉＯ２／Ｆｅ２Ｏ３を含む干渉顔料に関する。好ましくは、この層構造は、：
（Ａ）１．６５を上回る屈折率を有する被覆、
（Ｂ）≦１．６５の屈折率を有する被覆、
（Ｃ）１．６５を上回る屈折率を有する被覆、及び
（Ｄ）場合により、外側の保護層と
である。
【０１６６】
ベース基材上の高屈折率および低屈折率の個々の層の厚さは、顔料の光学的特性にとって必須である。個々の層、特に金属酸化物層の厚さは、使用分野によって異なり、一般的には１０〜１０００nm、好ましくは１５〜８００nm、具体的には２０〜６００nmである。
【０１６７】
層（Ａ）の厚さは、１０〜５５０ｎｍ、好ましくは１５〜４００ｎｍ、具体的には２０〜３５０ｎｍである。層（Ｂ）の厚さは、１０〜１０００ｎｍ、好ましくは２０〜８００ｎｍ、具体的には３０〜６００ｎｍである。層（Ｃ）の厚さは、１０〜５５０ｎｍ、好ましくは１５〜４００ｎｍ、具体的には２０〜３５０ｎｍである。
【０１６８】
層（Ａ）にとって具体的に好適な材料は、金属酸化物、金属硫化物または金属酸化物混合物、たとえばＴｉＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、ＴｉＦｅ２Ｏ５、Ｆｅ３Ｏ４、ＢｉＯＣｌ、ＣｏＯ、Ｃｏ３Ｏ４、Ｃｒ２Ｏ３、ＶＯ２、Ｖ２Ｏ３、Ｓｎ（Ｓｂ）Ｏ２、ＳｎＯ２、ＺｒＯ２、チタン酸鉄、酸化鉄水和物、亜酸化チタン（２〜＜４未満の酸化状態を有する還元チタン種）、バナジウム酸ビスマス、アルミン酸コバルトであり、これらの化合物同士または他の金属酸化物との混合物または混合相でもある。金属硫化物被覆は、好ましくは、スズ、銀、ランタン、希土類金属、好ましくはセリウム、クロム、モリブデン、タングステン、鉄、コバルトおよび／またはニッケルの硫化物から選択される。
【０１６９】
層（Ｂ）にとって具体的に好適な材料は、金属酸化物または対応する酸化物水和物、たとえばＳｉＯ２、ＭｇＦ２、Ａｌ２Ｏ３、ＡｌＯＯＨ、Ｂ２Ｏ３またはこれらの混合物、好ましくはＳｉＯ２である。
【０１７０】
層（Ｃ）にとって具体的に好適な材料は、無色または有色の金属酸化物、たとえばＴｉＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、ＴｉＦｅ２Ｏ５、Ｆｅ３Ｏ４、ＢｉＯＣｌ、ＣｏＯ、Ｃｏ３Ｏ４、Ｃｒ２Ｏ３、ＶＯ２、Ｖ２Ｏ３、Ｓｎ（Ｓｂ）Ｏ２、ＳｎＯ２、ＺｒＯ２、チタン酸鉄、酸化鉄水和物、亜酸化チタン（２〜＜４の酸化状態を有する還元チタン種）、バナジウム酸ビスマス、アルミン酸コバルトであり、これらの化合物同士または他の金属酸化物との混合物または混合相でもある。また、ＴｉＯ２層は、吸収材料、たとえば炭素、選択的に吸収する着色剤、選択的に吸収する金属カチオンを含むこともでき、吸収材料で被覆する、または部分的に還元することができる。
【０１７１】
吸収または非吸収材料の中間層は、層（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）の間に存在することができる。中間層の厚さは、１〜５０ｎｍ、好ましくは１〜４０ｎｍ、具体的には１〜３０ｎｍである。
【０１７２】
この実施態様では、好ましい干渉顔料は下記の層構造を有する。
【表３】
【０１７３】
顔料は、薄いＳｉＯｚフレークの厚さが精密に画定され、その表面が平滑であることを特徴とする。
【０１７４】
ジルコニウム、チタン、鉄および亜鉛の金属酸化物、これらの金属の酸化物水和物、チタン酸鉄、亜酸化チタンまたはこれらの混合物は、好ましくは湿式化学方法による沈殿によって塗布し、適宜、金属酸化物を還元することが可能である。金属酸化物の層は、好ましくは湿式化学被覆で塗布し、真珠光沢顔料の生成用に開発された湿式化学被覆方法を使用することができる。これらの湿式化学被覆は、例として、ドイツ特許第Ａ−１４ ６７ ４６８号、ドイツ特許第Ａ−１９ ５９ ９８８号，ドイツ特許第Ａ−２０ ０９ ５６６号、ドイツ特許第Ａ−２２ １４ ５４５号、ドイツ特許第Ａ−２２ １５ １９１号、ドイツ特許第Ａ−２２ ４４ ２９８号、ドイツ特許第Ａ−２３ １３ ３３１号、ドイツ特許第Ａ−２５ ２２ ５７２号、ドイツ特許第Ａ−３１ ３７ ８０８号、ドイツ特許第Ａ−３１ ３７ ８０９号、ドイツ特許第Ａ−３１ ５１ ３４３号、ドイツ特許第Ａ−３１ ５１ ３５４号、ドイツ特許第Ａ−３１ ５１ ３５５号、ドイツ特許第Ａ−３２ １１ ６０２号およびドイツ特許第Ａ−３２ ３５ ０１７号、ドイツ特許第１９５ ９９ ８８号、国際公開公報第９３／０８２３７号、国際公開公報第９８／５３００１号ならびに国際公開公報第０３／６５５８号に記載されている。
【０１７５】
屈折率が高い金属酸化物は、好ましくはＴｉＯ２および／または酸化鉄であり、屈折率が低い金属酸化物は、好ましくはＳｉＯ２である。ＴｉＯ２の層は、ルチル型またはアナターゼ型であることができ、ルチル型が好ましい。例として、欧州特許第Ａ−７３５，１１４号、ドイツ特許第Ａ−３４３３６５７号、ドイツ特許第Ａ−４１２５１３４号、欧州特許第Ａ−３３２０７１号、欧州特許第Ａ−７０７，０５０号または国際公開公報第９３／１９１３１号に記載されている、アンモニア、水素、炭化水素蒸気もしくはこれらの混合物または金属粉末といった公知の手段によってＴｉＯ２層を還元することもできる。
【０１７６】
例として、ドイツ特許第Ａ−１９５ ０１ ３０７号に記載されている方法と同様に、適宜、有機溶剤および塩基触媒の存在下でソルゲルプロセスによって一つ以上の金属酸エステルの制御加水分解を行い、金属酸化物層を生成することにより、金属酸化物層を得ることも可能である。好適な塩基触媒は、例として、アミン、たとえばトリエチルアミン、エチレンジアミン、トリブチルアミン、ジメチルエタノールアミンおよびメトキシプロピルアミンである。有機溶剤は、水混和性溶剤、たとえばＣ１−４アルコール、特にイソプロパノールである。
【０１７７】
あるいは、流動層において、少なくとも４００℃、特に４００℃を上回る温度、好ましくは９００℃〜１１００℃の温度で、好ましくは遊離した材料の形態において、無酸素雰囲気中、たとえば、例としてアルゴンおよび／もしくはヘリウムまたは１３Pa（１０−１Torr）未満の真空下でＳｉＯｙフレークを加熱し、ケイ素／酸化ケイ素フレークを形成することができる。ＳｉＯｚの代わりに、ケイ素／酸化ケイ素フレークをエフェクト顔料の基材として使用することができる（国際公開公報第０３／１０６５６９号）。
【０１７８】
あるいは、本発明のプロセスを使用して、国際公開公報第０４／０６５２９５号に記載されている多孔性のＳｉＯｚフレークを生成することができる。
【０１７９】
本発明のプロセスを使用することにより、（国際公開公報第０３／１０６５６９号）に記載されている顔料であって、：
（ａ２）無酸素雰囲気中で４００℃を上回る温度でＳｉＯ０．７０〜０．９９層を加熱することで得ることが可能なケイ素／酸化ケイ素層と、
（ｂ２）無酸素雰囲気中で４００℃を上回る温度でＳｉＯ１．００〜１．８層を加熱することで得ることが可能なケイ素／酸化ケイ素層と、
（ｃ２）無酸素雰囲気中で４００℃を上回る温度でＳｉＯ０．７０〜０．９９層を加熱することで得ることが可能なケイ素／酸化ケイ素層と、
場合によりさらなる層とをこの順序で含む顔料を調製することができる。
【０１８０】
ＳｉＯ１．００〜１．８層は、好ましくは、１３００℃を上回る温度でのＳｉとＳｉＯ２との混合物の反応によって蒸発器内で生成される一酸化ケイ素蒸気から形成される。
【０１８１】
ＳｉＯ０．７０〜０．９９層は、好ましくは、最大で２０重量%の量のケイ素を含有する一酸化ケイ素を、１３００℃を上回る温度で蒸発させることで形成される。
【０１８２】
例として、≦１．６の屈折率を有する無機誘電体（たとえばＳｉＯ２、ＳｉＯ（ＯＨ）２等）の、２〜２５０ｎｍの厚さ（好ましくは１０〜１００ｎｍの厚さ）の追加的な保護層によって耐候性を増加させることが可能である。
【０１８３】
層（ｂ２）の厚さは、一般的には５０〜４００ｎｍ、特に５０〜３００ｎｍである。
【０１８４】
層（ａ２）および（ｃ２）の厚さは、一般的には５０〜２００ｎｍ、特に５０〜１００ｎｍである。
【０１８５】
加えて、空気またはいくらか他の酸素含有ガス中で２００℃を上回る温度、好ましくは４００℃を上回る温度、特に５００〜１０００℃の温度でフレークに酸化的加熱処理を施すことができる。
【０１８６】
近似した手法において、：
（ａ３）無酸素雰囲気中で４００℃を上回る温度でＳｉＯ１．００〜１．８層を加熱することで得ることが可能なケイ素／酸化ケイ素層と、
（ｂ３）無酸素雰囲気中で４００℃を上回る温度でＳｉＯ０．７０〜０．９９層を加熱することで得ることが可能なケイ素／酸化ケイ素層と、
（ｃ３）無酸素雰囲気中で４００℃を上回る温度でＳｉＯ１．００〜１．８層を加熱することで得ることが可能なケイ素／酸化ケイ素層と、
場合によりさらなる層（層（ｂ２）の厚さは一般的には５０〜４００ｎｍ、特に１００〜３００ｎｍであり、層（ａ３）および（ｃ３）の厚さは一般的には５０〜２００ｎｍ、特に５０〜１００ｎｍである）とをこの順序で含む顔料が利用可能である。
【０１８７】
数１０−２Paの工業用真空下で（Ｓｉ／ＳｉＯ２またはＳｉＯ／Ｓｉの代わりに）Ｓｉを蒸発させると、酸素含有量が０．７０未満の酸化ケイ素、換言すると０．０３≦ｘ≦０．６９、特に０．０５≦ｘ≦０．５０、とりわけ０．１０≦ｘ≦０．３０であるＳｉＯｘを得ることができる（国際公開公報第０３／０７６５２０号）。
【０１８８】
したがって、さらなる好ましい態様では、顔料は、：
（ａ４）無酸素雰囲気中で４００℃を上回る温度でＳｉＯ０．０３〜０．６９層を加熱することで得ることができるケイ素／酸化ケイ素層と、
（ｂ４）無酸素雰囲気中で４００℃を上回る温度でＳｉＯ１．００〜１．８層を加熱することで得ることができるケイ素／酸化ケイ素層と、
（ｃ４）無酸素雰囲気中で４００℃を上回る温度でＳｉＯ０．０３〜０．６９層を加熱することで得ることができるケイ素／酸化ケイ素層と、
場合によりさらなる層とをこの順序で含むか、
または、顔料は、：
（ａ５）無酸素雰囲気中で４００℃を上回る温度でＳｉＯ０．０３〜０．６９層を加熱することで得ることができるケイ素／酸化ケイ素層と、
（ｂ５）無酸素雰囲気中で４００℃を上回る温度でＳｉＯ０．７０〜０．９９層を加熱することで得ることができるケイ素／酸化ケイ素層と、
（ｃ５）無酸素雰囲気中で４００℃を上回る温度でＳｉＯ０．０３〜０．６９層を加熱することで得ることができるケイ素／酸化ケイ素層と、
場合によりさらなる層とをこの順序で含む。
【０１８９】
酸素の存在下で１５０〜５００℃、好ましくは１７５〜３００℃で加熱すると、予想外の結果として、約２０ｎｍの厚さなど、非常に薄い二酸化ケイ素表層が生成され、これは、ＳｉＯ２／（ａ４）／（ｂ４）／（ｃ４）／ＳｉＯ２またはＳｉＯ２／（ａ５）／（ｂ５）／（ｃ５）／ＳｉＯ２という層順序を有する構造を生成するための非常に好都合な方法である。
【０１９０】
本発明は、塗料、織物、インクジェット印刷、化粧品、印刷インク、プラスチック材料、被覆、特に自動車仕上げ、セラミックおよびガラスの艶出しならびにセキュリティ印刷における、本発明によるＳｉＯｚフレークをベースとする顔料の使用にも関する（例として、国際公開公報第０４／０３５６９３号を参照されたい）。
【０１９１】
加えて、米国特許第６３７６０１８号および国際公開公報第０１／０２５５００号に記載されている装置は、原則として、面平行な構造の生成に使用することができる。
【０１９２】
このような装置は、本発明のプロセスに適応され、：
軸を中に回転可能であり、真空室内に配設される硬いキャリヤーと、
少なくとも一つの生成物層によって前記キャリヤーの部分的表面を被覆するための手段と、
前記生成物層を塗布する前に、分離剤ＩおよびＩＩの層で前記キャリヤーを被覆するための手段と、
前記分離剤Ｉの層を溶解させ、面平行な小板の前駆物質を生成することにより、前記キャリヤーの前記部分的表面から前記生成物層を脱離させるための手段とを含み、
前記被覆手段と前記脱離手段との間における前記部分的表面の移動が前記キャリヤーの回転を通して行われる。
【０１９３】
好ましくは、前記キャリヤーを真空室内に配設し、二つの圧力段階を設けるための中間分離を、前記の生成物および分離剤層で被覆するための手段と脱離手段との間に提供する。
【０１９４】
キャリヤーは、開放された、または閉じられた硬い回転対称体を含む。
【０１９５】
キャリヤーは、共通の軸またはいくつかの軸を中心に回転する、開放された、または閉じられたいくつかの硬い回転対称体を含むか、または、キャリヤーは、前記被覆手段によって少なくとも一つを両面被覆することができるいくつかの平行なディスクを含む。
【０１９６】
前記実施態様では、面平行な小板を生成するためのプロセスは、；
Ｉ）軸を中心に回転可能であり、真空室内に配設される硬いキャリヤーの部分的表面を、その後、分離剤Ｉの層、分離剤ＩＩの層、少なくとも一つの生成物層および分離剤ＩＩの層で被覆する工程と、
ＩＩ）工程Ｉ）の後、前記キャリヤーの回転を通して前記部分的表面を移動させる工程と、
ＩＩＩ）工程ＩＩ）の後、分離剤Ｉの層を溶解させ、面平行な小板の前駆物質を生成することを通し、前記真空室内に配設される前記キャリヤーの前記部部的表面から前記生成物層を脱離させる工程と
を含む。
【０１９７】
分離ＩＩを好適な溶剤に溶解させることにより、面平行な小板の前駆物質を面平行な小板に変換する。
【０１９８】
工程Ｉ）〜ＩＩＩ）は、好ましくは前記キャリヤーの一回転中に実行する。
【０１９９】
工程Ｉ）、ＩＩ）およびＩＩＩ）は、好ましくは、前記キャリヤーの同じ角速度において前記キャリヤーの異なる部分的表面上で連続的かつ同時に実行する。
【０２００】
分離剤ＩおよびＩＩは、原則として、浸漬、転造、注入または溶射によって塗布することができるが、好ましくは物理蒸着によって塗布する。
【０２０１】
有利には、工程Ｉ）において表面被覆をキャリヤーの部分的表面に塗布することができ、場合により、キャリヤーの冷却を通してキャリヤー上で層を凝固させる。その後、分離剤Ｉ、ＩＩおよび生成物の層を高真空中で蒸着させた後、工程ＩＩＩ）において前記表面被覆を溶融させると、分離剤Ｉ、ＩＩおよびその上に配設された生成物の追加的な層が脱落し、フレークとなる。
【０２０２】
表面被覆は、好ましくは、安価な冷却手段、たとえば水冷却および単純な冷凍機器によって簡単に得られる温度において固体である。分離剤および生成物の層の付着中に表面被覆が溶融することのないよう、表面被覆は、比較的高い十分な融点を有するべきである。プロセスに固有な条件について、表面被覆は、化学的に不活性であるべきである。詳しくは、表面被覆は、表面被覆に付着する薄い膜の層と反応するべきではない。表面被覆は、容易に分離させることができるよう、穏やかな温度で容易に溶融するべきである。
【０２０３】
好ましくは、表面材料は、薄い膜の粒子に負の影響を及ぼさない好都合な溶剤に対して可溶性である。好ましい表面材料は、オレフィン材料、たとえば高精製ワックスから作製される。好ましくは、ワックスは、最終的な融点よりもおよそ２０℃高い初期の融点を有する。本明細書で使用する「ワックス」という用語は、パラフィンワックス、微結晶ワックス、ポリエチレンワックスおよび類似の特性を有する他の類似の材料を含むものとする。本発明において有効であることが確認されている特定の材料は、精製パラフィンワックスとして指定されるＲＯＢＷＡＸ２６００、ＲＯＢＷＡＸ２５２１、ＲＯＢＷＡＸ２４２１、ＲＯＢＷＡＸ２３５１およびＲＯＢＷＡＸ２２７１であり、すべてペンシルバニア州ハーバーフォード（Ｈａｖｅｒｆｏｒｄ）のＣ．Ｊ．Ｒｏｂｅｒｔｓｏｎ Ｃｏ．Ｉｎｃ．によって販売されている。
【０２０４】
分離剤Ｉの層を溶解させる代わりに、ドラムの表面に隣接して置かれたナイフの刃を使用し、薄い膜の構造を掻き落とすことができる。
【０２０５】
装置を変更することなく、プロセスを使用して、分離剤Ｉ上に分離ＩＩおよび生成物の交互に並ぶ層を膨大な数にわたって調製することができる［分離剤Ｉ／（分離剤ＩＩ、生成物）ｎ／分離剤ＩＩ、ここでｎは分離ＩＩおよび生成物の繰り返し数であり、好ましい範囲は１〜１５０である。原則として、さらなる繰り返しが可能であり、最大の繰り返し数ｎは、分離剤Ｉの接着力によって画定される。
【０２０６】
まず、蒸発器を使用して分離剤Ｉを蒸着させる。分離剤ＩＩおよび生成物の蒸発器を密閉型バッフルで閉じる。
【０２０７】
次に、二つの異なる蒸発器を使用して分離剤ＩＩおよび生成物を蒸着させる。分離剤Ｉの蒸発器を密閉型バッフルで閉じる。
【０２０８】
次に、分離剤ＩおよびＩＩならびに生成物の蒸発器を密閉型バッフルで閉じ、水中で分離剤Ｉを溶解させることにより、フレークを回転可能体から分離させる。
【０２０９】
蒸発区域中、いくつかの分離剤および生成物蒸発器を回転可能体の走行方向に一列に並べることが可能である。この手段により、装置の点でほとんど追加的な出費なしに、ＳＩ＋ＳＩＩ＋Ｐ＋ＳＩＩ＋Ｐ＋ＳＩＩ（ＳＩは分離剤Ｉの層であり、ＳＩＩは分離剤ＩＩの層であり、Ｐは生成物層である）の連続層が得られる。
【０２１０】
もう一つの好ましい実施態様では、本発明は、回折顔料フレークの生成に関する。回折顔料フレークは、その表面上に形成される回折構造を有する単一または複数の層を含む。複数層のフレークは、反射コア層の対向する両側部に対称のスタック化被覆構造を有するか、または反射コア層の周囲を封止被覆して形成することができる。回折顔料フレークは、その上に多様な回折構造を載せ、選択された光学効果を生成するように形成することができる。具体的には、回折顔料フレークは、その製作上、高度な光学効果を提供する物理および微小機械性質と共に特定の回折表面微細構造を有する。フレーク上の回折構造は、光学干渉パターン、たとえば回折格子またはホログラフィー像パターンであることができる。所望の光学効果に応じて、最適な回折効果を有するフレークの生成に好適な格子状微細構造が選択される。回折および反射光学素子を正しく組み合わせることにより、このような光学効果を設け、例として、見る人の位置が変わるにつれて変化し、きらめく、強力で目立つ光学効果を生成する。例として、顔料フレークは、広範な光学効果を設ける高頻度回折格子微細構造、たとえば１mm当たりの格子線数（ln／mm）がおよそ１１００を超える回折格子パターンを含むことができる。換言すると、この回折効果は、可視光波長領域の外側、たとえば紫外線（ＵＶ）波長領域または赤外線（ＩＲ）波長領域においてのみ知覚可能である。この隠れたフィーチャは、ＵＶまたはＩＲ波長領域のみで優先的に回折効果を設ける格子を使用することで生成される。例として、法線入射において、およそ２５００ln／mmを上回る格子頻度を有するフレークは、およそ１００nm〜およそ４００nmの波長領域においてのみ知覚可能な回折効果を生成する。このため、このような回折フレークの存在を迅速かつ正確に検知するように従来型のＵＶ検知装置を構成することができるが、一方で人間の肉眼では、この回折構造の存在を検知することはできない。
【０２１１】
回折フレークは、およそ５００nm〜およそ２ミクロン（２，０００nm）、好ましくはおよそ５００nm〜およそ１４００nm（１．４ミクロン）の物理厚さを有するように形成することができる。フレーク上の回折構造の線頻度は、好ましくはおよそ１，２００ln／mmを上回り、これにより、法線入射から少なくともおよそ６０度まで、法線入射において照らされるときに、一次または高次の回折ビームにおける可視光波長領域に対応する光が、高次の回折ビームにおける同じ波長領域から実質的に角度分離されるようになる。回折構造は、少なくともおよそ１，４００ln／mmの頻度とおよそ１６０nmを上回る溝深さとを有する線形ブレーズされた（すなわち鋸歯形状）格子であるか、または少なくともおよそ２，０００ln／mmの頻度とおよそ１６０nmを上回る溝深さとを有する線形正弦格子であることができる。
【０２１２】
回折フレークの一つの好ましい実施態様では、透明な誘電体材料、たとえばフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）およびＳｉＯｚを第一層および第三層として付着させ、不透明な第二（内側）アルミニウム層を覆う補強保護層を形成することができる。ＭｇＦ２またはＳｉＯｚ層は、好ましくはそれぞれおよそ２５０nm〜およそ４５０nmの厚さであり、アルミニウム層は、好ましくはおよそ８０nm〜およそ１６０nmの厚さである。回折フレークは、約１，４００nm未満、好ましくはおよそ５００nm〜およそ９００nmの合計厚さを有する。
【０２１３】
回折構造は、フレークの主表面の一方または両方の少なくとも一部の上に形成される。フレーク上の回折構造は、少なくともおよそ１，４００ln／mmの格子と少なくともおよそ１５０nmの格子深さとを有する回折格子パターンであることができる。好ましくは、回折格子パターンは、およそ１４００〜およそ３５００ln／mmの格子とおよそ１５０nm〜およそ２３０nmの格子深さとを有することができ、より好ましくは、この回折格子パターンは、およそ１４００〜およそ１７００ln／mmの格子とおよそ１６０nm〜およそ２２０nmの格子深さとを有することができる。
【０２１４】
回折フレークが単一層からなる場合、反射材料を使用して前記層を形成することができる。現在のところ好ましい反射材料としては、さまざまな金属または金属合金が含まれ、その理由として、金属または金属合金は反射率が高く、かつ使用し易いことがあるが、非金属反射材料を使用することもできる。好適な金属性材料の限定されない例としては、アルミニウム、銀、銅、金、白金、スズ、チタン、パラジウム、ニッケル、コバルト、ロジウム、ニオブ、クロムおよびこれらの化合物、組み合わせまたは合金が含まれる。単一層からなるフレークは、およそ５００nm〜およそ１４００nm、好ましくはおよそ７００nm〜およそ１２００nmの物理厚さを有することができる。
【０２１５】
もう一つの好ましい実施態様では、回折金属フレークは、厚さが２０〜６０nmであり、回折格子がcm当たりでおよそ５，０００〜およそ１１，０００の溝を有する単一層からなる。
【０２１６】
回折フレークは、中央の反射体層および対向する誘電体層を含み、反射体層の少なくとも一つの側部表面ではない反射体層の対向する主表面上において、一般的に対称的な薄い膜の構造を有する三層設計を有することができる。反射体層は、単一層フレークについて前述したものと同じ反射材料から構成することができる。誘電体層は、さまざまな誘電体、たとえばおよそ１．６５以下の屈折率、好ましくはおよそ１．５以下の屈折率を有するものから構成することができる。好適な誘電体材料の限定されない例としては、フッ化マグネシウム、ＳｉＯｚ、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、フッ化アルミニウム、フッ化セリウム、フッ化ランタン、フッ化ネオジム、フッ化サマリウム、フッ化バリウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウムおよびこれらの組み合わせが含まれる。反射体層は、およそ４０nm〜およそ２００nm、好ましくはおよそ８０nm〜およそ１６０nmの物理厚さを有することができる。誘電体層は、それぞれおよそ１ミクロン以下、好ましくはおよそ２００nm〜およそ６００nm、より好ましくはおよそ２５０nm〜およそ４５０nmの物理厚さを有することができる。
【０２１７】
回折フレークを製作するための方法では、分離剤層、反射体層および場合により誘電体層を、その表面に回折格子を有する（可動）キャリヤーに、所望のフレーク構成にしたがって順次的な手法で付着させる。回折フレークは、分離剤を好適な溶剤中に溶解させることで分離させる。キャリヤーは、型押し金属キャリヤー、たとえば金属ベルト、回転ディスクまたは円筒であることができる。回折格子はエッチングによって生成することができる。金属の代わりに、耐熱プラスチック、たとえばＣａｐｔｏｎ（登録商標）を使用することができる。
【０２１８】
本発明は、塗料、織物（例として、国際公開公報第０４／０３５９１１号を参照されたい）、インクジェット印刷（例として、国際公開公報第０４／０３５６８４号を参照されたい）、化粧品（例として、国際公開公報第０４／０２０５３０号を参照されたい）、印刷インク、プラスチック材料、被覆、特に自動車仕上げ、セラミックおよびガラスの艶出しならびにセキュリティ印刷における、本発明によるアルミニウムフレークをベースとする顔料の使用にも関する。
【０２１９】
アルミニウムコア上に存在する層がＰＶＤによって塗布される場合、これらの層は、コアの平行面上のみに存在し、側部面上には存在しない。（さらなる）層を湿式化学沈殿によって塗布する場合、これらの層はフレークの表面全体を覆う。
【０２２０】
次の実施例は本発明を例示するものであって、本発明の範囲を限定するものではない。別段の指示がない限り、百分率および部はそれぞれ重量百分率および重量部である。
【０２２１】
実施例
【０２２２】
実施例１
【０２２３】
１０−５mbarの真空下の真空室内において、下記の工程を行う。
ａ）ペンタエリスリトールの３００nmの層を１．２m2の研磨されたステンレス鋼基材上に昇華させる。
ｂ）ピロメリット酸二無水物（ＣＡＳ［８９−３２−７］）の３００nmの層をペンタエリスリトール層上に昇華させる。
ｃ）Ａｌの４０nmの層をピロメリット酸二無水物層上に蒸発させる。
ｄ）工程２）および３）を８回にわたって繰り返す。
ｅ）最終的に、ピロメリット酸二無水物の３００nmの層を最後のＡｌ層上に昇華させる。
【０２２４】
ステンレス鋼基材を真空室から取り除く。ペンタエリスリトール層を水中に溶解させ、Ａｌ／ピロメリット酸二無水物の多層フレークを集める（スラリー）。スラリーの水をエタノールで置換し、ピロメリット酸二無水物を溶解させ、エタノールを酢酸エチルで代替した後、酸化に対して安定な光輝Ａｌフレークを得る。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、面平行な小板を生成するためのプロセスであって、：
ａ）水に溶かし得る分離剤Ｉをキャリヤー上に付着させ、分離剤層を生成する工程と、
ｂ）水に溶かし得ない分離剤ＩＩを工程ａ）の分離剤層上に蒸着させる工程と、
ｃ）少なくとも一つの生成物層を工程ｂ）の分離剤層上に蒸着させる工程と、
ｄ）水に溶かし得ない分離剤ＩＩを工程ｃ）の生成物層上に蒸着させる工程と、
ｅ）工程ａ）の分離剤層を水中に溶解させ、少なくとも一つの生成物層が、側部表面を除く上部表面および下部表面を分離剤ＩＩで覆われている面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程と、
ｆ）工程ｂ）およびｄ）の分離剤層を溶剤中に溶解させ、少なくとも一つの層を含む生成物が面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程と
を含むプロセスに関する。
【０００２】
ＰＶＤ（物理蒸着）により、ＳｉＯまたはＳｉＯ２保護層を上に蒸着させたアルミニウムフレークは、公知である。
【０００３】
国際公開公報第００／６９９７５号には、
（ａ）誘電体材料、たとえば、一酸化ケイ素または二酸化ケイ素の層と、
（ｂ）金属、たとえば、アルミニウムの層と、
（ｃ）誘電体材料、たとえば、一酸化ケイ素または二酸化ケイ素の層と、を含むアルミニウムフレークが開示されている。誘電体の層の厚さは、金属の光学的特性が有意な影響を受けないような厚さ、すなわち１０〜２０nmの範囲にある。
【０００４】
米国特許第Ａ−６，０１３，３７０号には、
（ａ）誘電体材料、たとえば、二酸化ケイ素の層と、
（ｂ）金属、たとえば、アルミニウムの層と、
（ｃ）誘電体材料、たとえば、二酸化ケイ素の層と、を含むアルミニウムフレークが開示されている。誘電体の層の厚さは、金属の光学的特性が有意な影響を受けないような厚さ、すなわち５０〜２００nmの範囲にある。
【０００５】
国際公開公報第００／２４９４６号の実施例２において、ＳｉＯ被覆アルミニウムフレークの製造が記載されている。記載によると、ＳｉＯ保護層の厚さは１５nm以下である。
【０００６】
不連続的な多工程方法は、偽造に対する紙幣の安全性を高めるために使用されるものなど、光学的に可変である顔料小板の生成に使用される（欧州特許第Ａ−２２７４２３号）。米国特許第Ｂ−５，２７８，５９０号が類似の方法を記載している。米国特許第Ｂ−４，１６８，９８５号（Venis）、米国特許第Ｂ−３，１２３，４８９号（Bolomeyら）および米国特許第Ｂ−５，１５６，７２０号（Rosenfeld）では、使用される分離剤が無機塩であり、これらの塩が後続の工程で溶剤として水を使用して溶解される結果、生成物層が水性懸濁液中にフレークの形態で存在する。
【０００７】
国際公開公報第９９／６５６１８号（Ｋｉｔｔｌｅｒ）によると、ワックス状の物質を蒸発させた後、同じ真空下で、生成物層を蒸着またはスパッタリングする。通例は回転する円筒であるキャリヤーを数多く輪転させた後、ｎ枚の層（ワックス／金属）の配列を掻き落とす。さらなる工程において、真空装置の外側で、集めたペーストからワックスを溶剤によって洗い流す。いずれの場合も、続いて再加工または廃棄する必要がある大量の溶剤が生成物の洗浄に必要である。
【０００８】
ＰＶＤ方法によるそのような層のための有機物質の蒸発性に関する例は、米国特許第Ｂ−６，１０１，３１６号（Nagashimaら）、ドイツ特許第Ａ−２７０６３９２号（米国特許第Ｂ−４２６８５４１号、Ikedaら）、ドイツ特許第Ａ−２００９０８０号（米国特許第Ｂ−３６７８８８８号、Daviesら）および米国特許第Ｂ−３５４７６８３号（Williams、Hayes）に記載されている。
【０００９】
これらの刊行物によると、付加ポリマーおよび縮合ポリマー、シリコーン樹脂、フタロシアニン染料ならびに天然物質、たとえばコロホニーを蒸発させる。ＰＶＤ方法を使用して有機ポリマー層を生成するさらなる方法が米国特許第Ｂ−５，４４０，４４６号（Ｓｈａｗ）に記載されており、そこでは液体モノマーを蒸発させ、冷却したローラー上を通過する膜キャリヤー上で濡れ形態で凝縮させ、同じローラー上で、電子線照射により直ちに重合させることにより、固体膜を形成する。その後、金属層、通例はアルミニウムを蒸着させる。
【００１０】
米国特許第Ｂ−４，３８２，９８５号は、フルオロアルキルアクリレートモノマーのプラズマ重合による基材へのポリマー膜の付着を開示している。米国特許第Ｂ−５，９０４，９５８号から、真空方法によって有機モノマーを基材に付着させ、その後、重合を実施することが公知である。日本特許第１１−１４０６２６Ａ号（公開特許公報英文抄録）から、トリアジンモノマーの薄い膜を、たとえば真空法により、基材に塗布した後、重合を実施することが公知である。
【００１１】
これらすべての方法の目的は、堅く密着した保護層を生成することである。溶剤中での急速な溶解は好ましくなく、損傷をもたらすことさえある。
【００１２】
ドイツ特許第Ａ−１９９３３２３０号およびドイツ特許第Ａ−１９９３５１８１号（Moosheimerら）は、好ましくは水溶性である有機モノマー、特にトリアジンモノマーを含む剥離層または保護層を開示している。このような層は、温水を使用することにより、溶解させて除くことができるが、生成物から取り除くのが困難であるため、本発明による方法には好適ではない。
【００１３】
米国特許第３６９７０７０号は、不溶性である樹脂担持型の平面反射金属フレークを記載している。不溶性である樹脂担持型の平面反射金属フレークを生成するには、まずポリエチレンテレフタレート膜を剥離被覆で表面加工し、剥離被覆を乾燥させ、その上に不溶性樹脂を付着させ、樹脂層を乾燥させ、アルミニウム膜を不溶性樹脂膜に蒸着させ、不溶性樹脂をアルミニウム層に付着させ、樹脂層を乾燥させ、剥離層をアセトン中に溶解する。樹脂は、堅く密着した保護層として機能する。
【００１４】
国際公開公報第０３０４６２４５号は、気化した高分子剥離被覆層および蒸着した金属層の交互に並ぶ層を真空下で付着させ、順に多層構造を作り上げることを含む、金属フレークを作製するためのプロセスを記載している。高分子剥離被覆を有機溶剤中に溶解させることにより、多層構造が基材から取り除かれ、単一層の金属フレークが得られる。
【００１５】
国際公開公報第０２／０９４９４５号（Weinert）は、面平行な小板を生成するための方法であって、：
ａ）大気圧力を下回る圧力においてキャリヤーに分離剤を蒸着させ、分離剤層を生成する工程と、
ｂ）大気圧力を下回る圧力において少なくとも一つの生成物層を分離剤層に蒸着させる工程と、
ｃ）分離剤層を溶剤中に溶解させ、少なくとも一つの生成物層が面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程と
を含み、分離剤がアントラセン、アントラキノン、アセトアミドフェノール、アセチルサリチル酸、ショウノウ酸無水物、ベンズイミダゾール、ベンゼン−１，２，４−トリカルボン酸、ビフェニール−２，２−ジカルボン酸、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ジヒドロキシアントラキノン、ヒダントイン、３−ヒドロキシ安息香酸、８−ヒドロキシキノリン−５−スルホン酸一水和物、４−ヒドロキシクマリン、７−ヒドロキシクマリン、３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、イソフタル酸、４，４−メチレン−ビス−３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、ナフタレン−１，８−ジカルボン酸無水物、フタルイミドおよびそのカリウム塩、フェノールフタレイン、フェノチアジン、サッカリンおよびその塩、テトラフェニルメタン、トリフェニレン、トリフェニルメタノールならびにこれらの物質の少なくとも二つの混合物からなる群より選択される方法に関する。
【００１６】
米国特許第２００５１６１６７８号は、ＰＶＤ方法で生成する生成物であって、２０〜２０００nmの厚さと１mm未満の小さい寸法とを有する薄い面平行な構造からなる生成物を記載している。生成は、蒸発器を通過するキャリヤー上に亜酸化ケイ素を縮合させることで実施する。キャリヤーは、亜酸化ケイ素を縮合させる前に、ＰＶＤ方法で、溶解することができる無機または有機分離剤で前被覆する。
【００１７】
米国特許第３６９７０７０号は、少なくとも０．０１mil（０．２５４μm）の厚さを有する比較的不溶性の樹脂性膜で両面を表面加工した金属膜を使用することにより、担持され、より平面となるフレークを記載している。担持された金属膜が分割され、フレークが形成されると、フレークはより平坦となり、その表面において光を反射する部分が拡大し、より小さい量での使用が可能となる。アルミニウムフレークの生成では、担持、たとえばポリエチレンテレフタレート（Ｍｙｌａｒ）は、溶解することができるポリマー層剥離被覆で順番に被覆され、この第一の被覆は、その後の有機溶剤による処理に際してＭｙｌａｒ担持から簡単に脱離させることができる。次に、溶解度が制限されたポリマーの層を塗布し、強制乾燥させ、その塗布のために用いられた溶剤を取り除く。次に、アルミニウム膜を特に蒸着によって塗布する。次に、溶解度が制限されたポリマー層のさらなる層を塗布し、強制乾燥させ、一方を金属膜の表面上の層として比較的不溶性であるポリマーの二つの層のサンドイッチを形成する。担持、剥離被覆およびサンドイッチまたは積層の複合物を、剥離被覆を溶解させる溶剤（好ましくは、所望に応じて加熱することができるアセトン）の槽を通過させると、サンドイッチはＭｙｌａｒ担持から離れる。これにより、有機溶剤中で部分的に分割したサンドイッチのスラリーが提供され、このスラリーを攪拌機で攪拌し、離層することなくサンドイッチをさらに分割し、望ましいサイズのフレークとする。
【００１８】
国際公開公報第２００４０５２９９９号は、（Ａ１）ＳｉＯｚからなる層と、（Ｂ）層（Ａ１）上のアルミニウムからなる層と、（Ａ２）層（Ｂ）上のＳｉＯｚからなる層とを含み、ここで０．７０≦ｚ≦２．０である、アルミニウムフレークに関する。ＳｉＯｙ被覆アルミニウムフレークは、：
ａ）分離剤をキャリヤーに蒸着させ、分離剤層を生成する工程と、
ｂ）ＳｉＯｙ層を分離剤層に蒸着させる工程と、
ｃ）Ａｌ層をＳｉＯｙ層に蒸着させる工程と、
ｄ）ＳｉＯｙ層をＡｌ層に蒸着させる工程と、
ｅ）分離剤層を溶剤中に溶解させる工程と、
ｆ）ＳｉＯｙ被覆アルミニウムフレークを溶剤から分離し、ここで０．７０≦ｙ≦１．９５、好ましくは１．０≦ｙ≦１．８０、もっとも好ましくは１．１０≦ｙ≦１．８０である工程と
を含むプロセスによって得ることができる。
【００１９】
国際公開公報第２００４０６５２９５号は、多孔性材料を生成するためのプロセスであって、：
ａ）分離剤をキャリヤーに蒸着させ、分離剤層を生成する工程と、
ｂ）材料および分離剤を同時に分離剤層（ａ）に蒸着させる工程と、
ｃ）材料を分離剤から分離する工程と
を含むプロセスに関する。このプロセスは、厚さの高い均一性のおよび／または高い有効表面積を有する多孔性の無機材料もしくはナノ粒子を含有するマトリックス材料を生成するのに好適である。
【００２０】
国際公開公報第０６／０２１５２８号は、本発明よりも早く優先日を享受するが、本発明の後に公開されるものであり、面平行な小板を生成するためのプロセスであって、：
ａ）キャリヤーに分離剤を蒸着させ、分離剤層を生成する工程と、
ｂ）少なくとも一つの生成物層を分離剤層に蒸着させる工程と、
ｃ）分離剤層を溶剤中に溶解させ、少なくとも一つの生成物層が面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程と
を含み、分離剤がアントラセン、アントラキノン、アセトアミドフェノール、アセチルサリチル酸、ショウノウ酸無水物、ベンズイミダゾール、ベンゼン−１，２，４−トリカルボン酸、ビフェニール−２，２−ジカルボン酸、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ジヒドロキシアントラキノン、ヒダントイン、３−ヒドロキシ安息香酸、８−ヒドロキシキノリン−５−スルホン酸一水和物、４−ヒドロキシクマリン、７−ヒドロキシクマリン、３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、イソフタル酸、４，４−メチレン−ビス−３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、ナフタレン−１，８−ジカルボン酸無水物、フタルイミドおよびそのカリウム塩、フェノールフタレイン、フェノチアジン、サッカリンおよびその塩、テトラフェニルメタン、トリフェニレン、トリフェニルメタノールならびにこれらの物質の少なくとも二つの混合物、特にペンタエリスリトール（Ｃ（ＣＨ２ＯＨ）４）、トリメシン酸（＝１，３，５ベンゼントリカルボン酸）、ＤＬ−アラニン、ＤＬ−バリン、２，６−ジアミノプリン、アスコルビン酸、１，３，５−ベンゼントリカルボン酸、ｏ−アセチルサリチル酸、ジフェン酸、テレフタル酸、ピロガロール、シアヌル酸、ヘキサメチルテトラミン（ウロトロピン）、フマル酸および４−アセチル安息香酸ならびにこれらの物質の少なくとも二つの混合物からなる群より選択されるプロセスに関する。
【００２１】
したがって、本発明の課題は、ＰＶＤ方法を使用して優れた表面特性を有する面平行な小板を生成するための、先に言及した先行技術に対して実質的に改良された方法を提供することである。前記の目標は、水に溶かし得る分離剤Ｉと、水に溶かし得ない分離剤ＩＩとを組み合わせて使用することによって解決される。このように、分離剤Ｉを水中に溶解させることにより、Ａｌ／分離剤ＩＩフレークを基材から取り除くことができ、分離剤ＩＩにより、Ａｌフレークを水の作用から保護する。アルミニウムフレークは、分離剤ＩＩを不活性溶剤中に溶解させることで剥離することができる。
【００２２】
したがって、本発明は、面平行な小板を生成するためのプロセスであって、：
ａ）水に溶かし得る分離剤Ｉをキャリヤーに付着させ、分離剤層を生成する工程と、
ｂ）水に溶かし得ない分離剤ＩＩを工程ａ）の分離剤層に蒸着させる工程と、
ｃ）少なくとも一つの生成物層を工程ｂ）の分離剤層に蒸着させる工程と、
ｄ）水に溶かし得ない分離剤ＩＩを工程ｃ）の生成物層に蒸着させる工程と、
ｅ）工程ａ）の分離剤層を水中に溶解させ、少なくとも一つの生成物層が、側部表面を除く上部表面および下部表面が分離剤ＩＩで覆われている面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程と、
ｆ）工程ｂ）およびｄ）の分離剤層を溶剤中に溶解させ、少なくとも一つの層を含む生成物が面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程と
を含むプロセスに関する。
【００２３】
本発明によると、「分離剤層を溶剤中に溶解させる」という文言は、分離剤層が溶剤中に溶解することができるか、または溶かし得ることを意味する。
【００２４】
分離剤が有機分離剤である場合、真空下で昇華可能であり、５０〜６００℃の間、特にほぼ１５０℃よりも高い、とりわけ２００℃よりも高い、もっとも好ましくは２５０〜５００℃の間に融点を有しているべきである。分離剤を真空下（圧力が≦１＊１０−３mbar）で昇華させて得られる層は、分離剤ＩまたはＩＩとしての使用に応じ、有機溶剤中または水中のいずれかに溶解することができるべきである。
【００２５】
分離剤ＩＩは、水中に溶解することができないＵＶ硬化ポリマー（米国特許第Ａ−５９０４９５８号）であることができる。隣接する三つの蒸発器を連続して設置し、ポリマー組成物を得ることができる。第一および第三の蒸発器は、硬化後に不溶性となるモノマーを供給する。第二の蒸発器は、続けて、簡単に溶解させることができるモノマーを供給する。
【００２６】
加えて、有機分離剤は、下記の条件を満たすべきである。
【００２７】
このプロセスを使用し、分離剤Ｉ上に分離剤ＩＩおよび生成物の交互に並ぶ層［分離剤Ｉ／（分離剤ＩＩ、生成物）ｎ／分離剤ＩＩを膨大な数にわたって調製することができ、ここで、ｎは分離剤ＩＩおよび生成物の繰り返しの数であり、１〜１５０を好ましい範囲とする。原則としてさらなる繰り返しが可能であり、繰り返しnの最大数は、分離剤Ｉの接着力によって画定される。
【００２８】
それらは、２５℃で蒸気圧が１０−３Pa未満（＜０．１Paの真空において室温で自己蒸発せずに材料を使用可能とするための基本的な要件）である固体で非重合性の有機化合物である。
【００２９】
分離剤層は、場合により塩基の存在下で水中に急速に溶解することができ、または工業用溶剤、たとえば、例としてエタノール、イソプロパノール、ブタノール、酢酸エチル、ペトロリウムスピリット、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、トリクロロエチレンもしくは１，２−ジクロロエタン中に急速に溶解することができる。
【００３０】
分離剤は、その融点未満では、蒸気圧が１０〜１０００Paである。その結果、本発明による分離剤を使用することにより、物質の三重点未満で昇華的蒸発が起こり、技術的に不都合なスパッター形成が避けられる。
【００３１】
その上、好ましい分離剤は、１０００Pa未満の真空において熱安定性が高い。
【００３２】
加えて、これらの物質はアモルファス形態で凝縮する。これは、分離剤層に蒸着される高反射性の金属層を得るのに重要である。
【００３３】
原則として、分離剤ＩおよびＩＩは、浸漬、転造、注入または溶射によって塗布することができるが、好ましくは物理蒸着によって塗布する。
【００３４】
分離剤Ｉは、アントラセン、アントラキノン、アセトアミドフェノール、アセチルサリチル酸、ショウノウ酸無水物、ベンズイミダゾール、ベンゼン−１，２，４−トリカルボン酸、ビフェニル−２，２−ジカルボン酸、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ジヒドロキシアントラキノン、ヒダントイン、３−ヒドロキシ安息香酸、８−ヒドロキシキノリン−５−スルホン酸一水和物、４−ヒドロキシクマリン、７−ヒドロキシクマリン、３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、イソフタル酸、４，４−メチレン−ビス−３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、ナフタレン−１，８−ジカルボン酸無水物、フタルイミドおよびそのカリウム塩、フェノールフタレイン、フェノチアジン、サッカリンおよびその塩、テトラフェニルメタン、トリフェニレン、トリフェニルメタノールならびにこれらの物質の少なくとも二つの混合物、特にペンタエリスリトール（Ｃ（ＣＨ２ＯＨ）４）、トリメシン酸（＝１，３，５ベンゼントリカルボン酸）、ＤＬ−アラニン、ＤＬ−バリン、２，６−ジアミノプリン、アスコルビン酸、１，３，５−ベンゼントリカルボン酸、ｏ−アセチルサリチル酸、ジフェン酸、テレフタル酸、ピロガロール、シアヌル酸、ヘキサメチルテトラミン（ウロトロピン）、フマル酸および４−アセチル安息香酸ならびにこれらの物質の少なくとも二つの混合物から選択される。
【００３５】
水に溶解することができる好ましい有機分離剤の例は、シアヌル酸、特にペンタエリスリトール、トリメシン酸（＝１，３，５ベンゼントリカルボン酸）、ＤＬ−アラニン、ＤＬ−バリン、２，６−ジアミノプリン、アスコルビン酸、１，３，５−ベンゼントリカルボン酸、ｏ−アセチルサリチル酸、ジフェン酸、テレフタル酸、ピロガロール、ヘキサメチルテトラミン（ウロトロピン）、フマル酸および４−アセチル安息香酸ならびにこれらの物質の少なくとも二つの混合物である。１，３，５−ベンゼントリカルボン酸、テレフタル酸、ヘキサメチルテトラミン（ウロトロピン）および４−アセチル安息香酸が特に好ましく、ペンタエリスリトールがもっとも好ましい。場合により、ｐＨを増加させる、例として塩基を添加することにより、分離剤の溶解度を改良することができる。
【００３６】
分離剤ＩＩは、ポリマー、特に溶解することができる部分的に硬化したポリマー、たとえば国際公開公報第００／２４９４６号に記載のスチレン樹脂、たとえばＤｏｗ６８５Ｄ押出グレードスチレン樹脂および米国特許第Ｂ−５９４５１７４号、米国特許第Ｂ−６０１０７５１号または米国特許第Ｂ−５８７７８９５号に記載のアクリレート、たとえば２−フェノキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレートおよびラウリルアクリレート、ジセチレングリコールジアクリレート（ｄｉｃｅｔｙｌｅｎｅ ｇｌｙｃｏｌ ｄｉａｃｒｙｌａｔｅ）、ネオペンチルグリコールジアクリレートおよびポリエチレングリコールジアクリレート（ＰＥＧＤＡ）またはテトラエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレートおよびペンタエリスリトールトリアクリレート、イソブチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレートおよび２−フェノキシエチルアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレートおよび１，６−ヘキサンジオールジメタクリレートならびにこれらの化合物の混合物、アダマンタンおよびアダマンタンの誘導体、たとえば１−シアノアダマンタン、１−アダマンタンカルボン酸、１−ヒドロキシアダマンタン、２−ヒドロキシアダマンタン、２−オキソアダマンタン、ジフェン酸、７−ヒドロキシクマリン、ベンゾグアナミン（２，４，６−ジアミノ−４−フェニル−１，３，５−トリアジン）、フェロセン、ショウノウおよび誘導体、アントラセン、９，１０−アントラキノンおよびピロメリット酸二無水物から選択される。非高分子有機分離剤は、高分子分離剤に対して好ましい。
【００３７】
ベンズイミダゾール、ジヒドロキシアントラキノン、４−ヒドロキシクマリン、７−ヒドロキシクマリンおよびこれらの物質の少なくとも二つの混合物は、分離剤ＩＩとして好適であり、アセトアミドフェノール、アントラセン、アントラキノン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、フェノールフタレイン、テトラフェニルメタン、トリフェニレン、トリフェニルメタノールおよびこれらの物質の少なくとも二つの混合物は、分離剤ＩＩとして特に好適である。
【００３８】
生成物層は、真空下で昇華可能である任意の材料からなることができ、本発明のプロセスによって加工することができる。生成物層は、材料の混合物からなることができる（国際公開公報第０４／０６５４９２号を参照されたい）。物理蒸着（ＰＶＤ）によって付着させる生成物は、一つを上回る層、例として二つ、三つまたは五つの層から構成することができる（国際公開公報第０４／０５２９９９号）。本発明の好ましい実施態様では、プロセスの生成物は、場合によりさらなる層を含む面平行な金属小板であるか、または場合によりさらなる層を含む、「高い」もしくは「低い」屈折率を有する誘電体材料の面平行な小板である。
【００３９】
金属の例は、Ａｌ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｖ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｗ、Ｈｆ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｄまたはその合金、たとえばクロム−ニッケル、鉄−ニッケル、鉄−クロムおよびニッケル−コバルトであり、Ｃｕ，Ａｇ，ＴｉもしくはＡｌまたはその合金が好ましく、Ａｌまたはその合金がもっとも好ましい。一つを上回る層を含む生成物の例を後に示す。「高い」または「低い」屈折率を有し、真空下で昇華可能である誘電体材料の例を後に記載する。ＭｇＦ２フレークが好ましい。ＳｉＯｚフレークがもっとも好ましい。本発明の好ましい実施態様では、分離剤ＩＩおよび生成物の複数の層を交互に付着させ、各生成物層の上部表面および下部表面を分離剤ＩＩの層で覆う。分離剤ＩＩは、多層スタック内で変化する（分離剤層Ｉ上の分離剤層ＩＩがその後の分離剤層ＩＩと異なる）ことができるが、好ましくはすべての層で同じである。
【００４０】
工程ｅ）で得られる面平行な小板の前駆体は新規である。したがって、本発明は、面平行な小板の前駆体であって、：
（Ａ１）水中に溶かし得ない分離剤ＩＩからなる層と、
（Ｂ）層（Ａ１）上の少なくとも一つの生成物層と、
（Ａ２）層（Ｂ）上の分離剤ＩＩからなる層と
を含む面平行な小板の前駆体にも関する。面平行な小板の前駆体は、分離剤Ｉ上の分離剤ＩＩおよび生成物の膨大な数の交互に並ぶ層を含むことができる。本発明の面平行な小板の前駆体は、生成物層の下部および上部表面が分離剤ＩＩの連続層で覆われ、生成物層、たとえば、例としてＡｌ層が水の作用から保護されることを特徴とする。
【００４１】
分離剤層（Ａ１）および（Ａ２）の層厚さは、２０〜５００nm、特に５０〜３００nmである。具体的に好ましい実施態様では、５０〜２５０nmである。
【００４２】
本発明の好ましい実施態様では、生成物層は、金属、特にＡｌ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｖ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｗ、Ｈｆ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｄもしくはその合金、特にＡｌ、Ｃｕ、ＡｇもしくはＴｉ；またはＳｉＯｙからなり，ここで０．７０≦ｙ≦１．９５、好ましくは１．０≦ｚ≦１．８、もっとも好ましくは１．０≦ｚ≦１．６である。
【００４３】
面平行な小板の前駆体は、面平行な小板を生成するために使用することができる。
【００４４】
Ａｌフレーク、ＳｉＯｚ被覆アルミニウムフレークおよびＳｉＯｚフレークに基づいて本発明をより詳細に例示するが、これらに限定されるものではない。
【００４５】
具体的に好ましい実施態様では、本発明のプロセスを使用してアルミニウムフレークを調製する。
ａ）水中に溶かし得る分離剤Ｉをキャリヤーに付着させ、分離剤層を生成する工程、
ｂ）水中に溶かし得ない分離剤ＩＩを工程ａ）の分離剤層に蒸着させる工程、
ｃ）アルミニウム層を工程ｂ）の分離剤層に蒸着させる工程、
ｄ）水中に溶かし得ない分離剤層ＩＩを工程ｃ）のアルミニウム層に蒸着させる工程、
ｅ）工程ａ）の分離剤層を水中に溶解させ、アルミニウム層が、側部表面を除く上部表面および下部表面が分離剤ＩＩで覆われている面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程、および
ｆ）工程ｂ）およびｄ）の分離剤層を溶剤中に溶解させ、アルミニウムが面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程。
【００４６】
分離剤ＩＩは、好ましくは、有機溶剤に容易に溶解することができ、かつアルミニウムと反応しない分離剤である。
【表１】
【００４７】
基材上の第一層、たとえばドラム、バンドまたはポリマーホイルは、ペンタエリスリトール（または相当する層）であり、水に溶解することができる。ペンタエリスリトール層の上部に直接接する層は、先に列挙した水に溶解することができない有機化合物だけでなく、米国特許第４３８２９８５号、米国特許第５９４５１７４号および米国特許第５４４０４４６号で言及されているアクリレートからも作製することができる。分離剤ＩＩは、ペンタエリスリトールの表面を可能な限り良好に湿潤すべきであり、可能であれば、ある程度の水平化効果を備える、すなわち表面を円滑にすべきである。
【００４８】
本発明の好ましい実施態様では、分離剤Ｉがペンタエリスリトールであり、分離剤ＩＩが（モノ、ジ、トリもしくはテトラ）アクリレートまたはメタクリレートである。このようなアクリレートは、一方ではペンタエリスリトール層を湿潤し、他方ではＡｌが蒸着される第一境界面を水平化する。多層スタックを生成する場合、その後の分離剤層ＩＩは、分離剤層ＩＩの第一層と異なることができる。その後の分離剤層ＩＩは、異なるアクリレートもしくは（メタ）アクリレートまたは先の表の有機化合物であることができ、下記の層構造となる。
【表２】
【００４９】
Ａｌ／メタクリレートまたは有機化合物層の数は、第一の水に溶解することができるペンタエリスリトール層の破壊限界によって画定される。
【００５０】
先に言及したプロセスは、高い面平行度と、平均厚さの±１０％、好ましくは±５％の領域において画定される厚さとを有するアルミニウムフレークを提供にする。
【００５１】
アルミニウムフレークは、少なくとも２μm、特に２〜２０μm、より特には３〜１５μm、もっとも好ましくは５〜１５μmの平均直径を有する。アルミニウムフレークの厚さは、一般的に１０〜１５０nm、特に１０〜１００nm、さらに特には３０〜６０nmである。
【００５２】
さらなる層をアルミニウム基材に塗布することにより、このようなアルミニウムフレークをさらに加工し、光学的に可変である特性を有する顔料を得ることができる。
【００５３】
アルミニウムフレークの表面全体をＦｅ２Ｏ３で被覆することができ、ここで、Ｆｅ２Ｏ３は、好ましくは１０〜５０nmの厚さを有するか、またはアルミニウムフレークをＳｉＯ２（厚さ＝２５０〜７００nm）およびＦｅ２Ｏ３（厚さ＝１０〜４０nm）の層で連続的に被覆することができる。
【００５４】
好ましい実施態様では、本発明は、アルミニウム（アルミニウム）フレークの面平行な小板であって、：
（Ａ１）ＳｉＯｚからなる層と、
（Ｂ）層（Ａ１）上のアルミニウムからなる層と、
（Ａ２）層（Ｂ）上のＳｉＯｚからなる層と
を含み、ここで０．７０≦ｚ≦２．０である面平行な小板を生成するためのプロセスに関する。前記の実施態様において、工程ｃ）は、三つの部分的な工程ｃ１）、ｃ２）およびｃ３）として：
ｃ１）ＳｉＯｙ層を分離剤層に蒸着させる工程と、
ｃ２）Ａｌ層をＳｉＯｙ層に蒸着させる工程と、
ｃ３）ＳｉＯｙ層をＡｌ層に蒸着させる工程と
に分類される。
【００５５】
工程ｅ）で得られる面平行な小板の前駆体は、新規である。したがって、本発明は、面平行な小板の前駆体であって、：
（Ａ１）水中に溶かし得ない分離剤ＩＩからなる層と、
（Ｂ）層（Ａ１）上の生成物層、たとえばアルミニウム層と、
（Ａ２）層（Ｂ）上の分離剤ＩＩからなる層と
を含む面平行な小板の前駆体、特にアルミニウムフレークであって、：
（Ａ１）水中に溶かし得ない分離剤ＩＩからなる層と、
（Ｂ１）層（Ａ１）上のＳｉＯｚからなる層と、
（Ｂ）層（Ｂ１）上のアルミニウムからなる層と、
（Ｂ２）層（Ｂ）上のＳｉＯｚからなる層と、
（Ａ２）層（Ｂ２）上の分離剤ＩＩからなる層と
を含み、ここで０．７０≦ｚ≦２．０であるアルミニウムフレークに関する。
【００５６】
ＳｉＯｚ層の層厚さは、１０〜５０nm、好ましくは２０〜３０nmまたは５０〜１００nmであり、好ましい範囲内であれば同じ厚さである必要はない。
【００５７】
アルミニウムからなる層（Ｂ）の層厚さは、一般的には１０〜１００nm、好ましくは３０〜５０nmである。
【００５８】
さらなる好ましい態様では、アルミニウムからなる層（Ｂ）の層厚さは、４０〜１５０nm、好ましくはほぼ１００nmであり、ＳｉＯｚ層（Ａ１）および（Ａ２）の層厚さは、５０〜２００nm、特にほぼ１００nmである。
【００５９】
耐侯安定性および耐光堅牢度を高めるため、２００℃を上回り、好ましくは４００℃を上回りかつ６００℃を下回る温度で、空気またはもう一つの酸素含有ガスを用いて、０．７０≦ｙ≦１．８であるＳｉＯｙ層を酸化するか、またはＳｉＯｚ層に変換することができる。例として、酸素含有雰囲気中で数時間にわたって≦５００℃で加熱することにより、ＳｉＯｙ（ｙ＝１）で被覆されたアルミニウムフレークをＳｉＯｚ（ｚ＝１．４０〜２．００）で被覆されたアルミニウムフレークに変換することができる。このプロセスでは、ＳｉＯｙ全体がＳｉＯ２に変換されるわけではない場合、ＳｉＯ２層がＳｉＯｙ層の表面に形成され、アルミニウム層に向かうにつれてｙが漸減する。
【００６０】
そのため、本発明のさらなる好ましい実施態様は、アルミニウムフレークであって、：
（Ａ１）水中に溶かし得ない分離剤ＩＩからなる層と、
（Ｃ１）ＳｉＯ２からなる層と、
（Ｂ１）層（Ｃ１）上のＳｉＯｙからなる層と、
（Ｂ）層（Ａ１）上のアルミニウムからなる層と、
（Ｂ２）層（Ｂ）上のＳｉＯｙからなる層と、
（Ｃ２）層（Ａ２）上のＳｉＯ２からなる層と、
（Ａ１）分離剤ＩＩからなる層と
を含み、ここで０．７０≦ｙ＜１．９５、好ましくは１．０≦ｙ≦１．８、もっとも好ましくは１．４≦ｙ≦１．８であるアルミニウムフレークに関する。
【００６１】
アルミニウムからなる層（Ｂ）の層厚さは、一般的には１０〜１００nm、好ましくは３０〜５０nmである。
【００６２】
ＳｉＯｙからなる層（Ｂ１）、ＳｉＯ２からなる層（Ｃ１）、ＳｉＯｙからなる層（Ｂ２）およびＳｉＯ２からなる層（Ｃ２）の層厚さは、アルミニウムフレークが最終生成物である場合、１０〜５０nm、好ましくは２０〜３０nm、または５０〜２００nmであり、アルミニウムフレークが干渉顔料の中間物である場合、２００〜５００nmである。
【００６３】
仕上がったアルミニウムフレークに後被覆または後処理を施すことも可能であり、これにより、光安定性、耐侯安定性、および化学安定性がさらに増加し、または顔料の取り扱い、特に各種媒体への混和が促進される。例として、欧州特許第Ａ−４７７４３３号、欧州特許第Ａ−８２６７４５号または欧州特許第Ａ−１０８４１９８号に記載されているプロセスが、後処理または後被覆として好適である。
【００６４】
さらなる層で被覆することにより、アルミニウムフレークをさらに干渉顔料に変換することができる。このような顔料の基本的な構造が、例として、欧州特許第Ａ−５７１８３６号、欧州特許第Ａ−７０８１５４号、欧州特許第Ａ−７６８３４３号、欧州特許第Ａ−１０２５１６８号および国際公開公報第００／３４３９５号に記載されている。
【００６５】
水性組成物中でアルミニウムフレーク（フレーク形態のアルミニウム）を使用することができるようにするには、これらの顔料を水による腐食から保護する必要がある。R.BesoldのAluminiumpigmente fuer waussrige Beschichtungen-Widerspruch oder Wirklichkeit?, Farbe+Lack 97 (1991)311〜314によると、アルミニウム顔料の安定化のための多数の手順が公知であり、これらは下記の二つの群に分類することができる。
−顔料表面への腐食防止剤の吸着
−リン酸エステル：ドイツ特許第Ａ−３０２００７３号、欧州特許第Ａ−１７０４７４号、欧州特許第Ａ−１３３６４４号、米国特許第Ａ−４，５６５，７１６号、米国特許第Ａ−４，８０８，２３１号、
−リン酸塩および亜リン酸塩：米国特許第Ａ−４，５６５，７１６号、米国特許第Ａ−４，８０８，２３１号、欧州特許第Ａ−２４０３６７号、
−バナジウム酸塩：欧州特許第Ａ−３０５５６０号、欧州特許第Ａ−１０４０７５号、
−クロム酸塩：米国特許第Ａ−２，９０４，５２３号、米国特許第Ａ−４，６９３，７５４号、欧州特許第Ａ−２５９５９２号、
−二量体酸：ドイツ特許第Ａ−３００２１７５号、および
−連続無機保護層による顔料の封入
−ＳｉＯ２：米国特許第Ａ−２，８８５，３６６号、米国特許第Ａ−３，９５４，４９６号、
−Ｆｅ２Ｏ３：ドイツ特許第Ａ−３００３３５２号、
−ＴｉＯ２：ドイツ特許第Ａ−３８１３３３５号、
または有機保護層による顔料の封入
−ドイツ特許第Ａ−３６３０３５６号、ドイツ特許第Ａ−３１４７１７７号、欧州特許第Ａ−４７７４３３号、特にリン酸で改質された樹脂：欧州特許第Ａ−１７０４７４号、カナダ特許第Ａ−１，２７３，７３３号、オーストリア特許第Ａ−３７２６９６号、ドイツ特許第Ａ−３８０７５８８号、欧州特許第Ａ−３１９９７１号。
【００６６】
アルミニウムフレークは、実質的に平行である二つの面を有するアルミニウムコアを有し、この面間の距離がコアの最短軸であり、側部面ではない平行な面が酸化ケイ素で被覆される。さらに、酸化ケイ素で被覆されたアルミニウムフレークは、２μm〜５mmの長さ、２μm〜２mmの幅および３０〜８００nmの厚さを有し、長さと厚さの比率は少なくとも２：１である。アルミニウムフレークは、１〜６０μm、好ましくは２〜４０μm、もっとも好ましくは５〜２０μmの長さおよび幅を有することが好ましい。長さと厚さの比率は、およそ２：１〜およそ８００：１である。長さと幅の比率は、３：１〜１：１である。
【００６７】
酸化ケイ素／アルミニウムフレークは、均一な形状ではない。それにもかかわらず、簡潔にするため、フレークが「直径」を有していると表現する。酸化ケイ素／アルミニウムフレークは、高い面平行度を有し、かつ平均厚さの±１０％、特に±５％の範囲で画定される厚さを有する。酸化ケイ素／アルミニウムフレークは、３０〜８００nm、とりわけ７０〜１１０nmの厚さを有する。現在のところ、フレークの直径は、好ましくはおよそ２〜４０μm、より好ましくはおよそ５〜２０μmの範囲であることが好ましい。このため、本発明のフレークのアスペクト比率は、およそ４０〜２９０という好ましい範囲に収まる。
【００６８】
特に好ましい態様では、酸化ケイ素／金属基材に基づく干渉顔料は、「高い」屈折率、すなわちおよそ１．６５を上回る、好ましくはおよそ２．０を上回る、もっとも好ましくはおよそ２．２を上回る屈折率を有する誘電体材料のさらなる層を含み、この層が酸化ケイ素／金属基材の表面全体に塗布される。このような誘電体材料の例は、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、炭素、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）、酸化セリウム（ＣｅＯ２）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）、酸化ユウロピウム（Ｅｕ２Ｏ３）、酸化鉄、たとえば酸化鉄（ＩＩ）／酸化鉄（ＩＩＩ）（Ｆｅ３Ｏ４）および酸化鉄（ＩＩＩ）（Ｆｅ２Ｏ３）、窒化ハフニウム（ＨｆＮ）、炭化ハフニウム（ＨｆＣ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化ネオジム（Ｎｄ２Ｏ３）、酸化プラセオジム（Ｐｒ６Ｏ１１）、酸化サマリウム（Ｓｍ２Ｏ３）、三酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ３）、一酸化ケイ素（ＳｉＯ）、三酸化セレン（Ｓｅ２Ｏ３）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、三酸化タングステン（ＷＯ３）またはこれらの組み合わせである。誘電体材料は、好ましくは金属酸化物である。金属酸化物は、吸収特性を有する、または有さない単一の酸化物または酸化物の混合物、例としてＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、Ｃｒ２Ｏ３、チタン酸鉄、酸化鉄水和物、亜酸化チタンもしくはＺｎＯであることが可能であり、ＴｉＯ２が特に好ましい。ＴｉＯ２層の上部に、屈折率が低い金属酸化物の層を塗布することができる。使用することができる好適な低屈折率誘電体材料の限定されない例としては、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）および金属フッ化物、たとえばフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ３）、フッ化セリウム（ＣｅＦ３）、フッ化ランタン（ＬａＦ３）、フッ化アルミニウムナトリウム（Ｎａ３ＡｌＦ６もしくはＮａ５Ａｌ３Ｆ１４など）、フッ化ネオジム（ＮｄＦ３）、フッ化サマリウム（ＳｍＦ３）、フッ化バリウム（ＢａＦ２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）ならびにこれらの組み合わせ、またはおよそ１．６５以下の屈折率を有する他の任意の低屈折率材料が含まれる。例として、有機モノマーおよびポリマーを低率材料として利用することができ、これらの材料としては、ジエンまたはアルケン、たとえばアクリレート（メタクリレートなど）、ペルフルオロアルケンのポリマー、ポリテトラフルオロエチレン（ＴＥＦＬＯＮ（登録商標））、フッ素化エチレンプロピレン（ＦＥＰ）のポリマー、パリレン、ｐ−キシレン、これらの組み合わせ等が含まれる。また、上記の材料としては、その開示が参照により本明細書に組み入れられる米国特許第５，８７７，８９５号または欧州特許第Ａ−７３３，９１９号に記載されている方法によって付着させることができる、蒸発、凝縮、架橋結合された透明なアクリレート層が含まれる。ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＡｌＯＯＨ、Ｂ２Ｏ３またはこれらの混合物が好ましい。ＳｉＯ２がもっとも好ましい。
【００６９】
金属酸化物層は、ＣＶＤ（chemical vapour deposition：化学蒸着）または湿式化学被覆によって塗布することができる。金属酸化物層は、水蒸気の存在下（分子量が比較的低い金属酸化物、たとえば磁鉄鉱）または酸素および必要に応じて水蒸気の存在下（酸化ニッケルおよび酸化コバルトなど）における金属カルボニルの分解によって得ることができる。金属酸化物層は、特に、金属カルボニル（鉄ペンタカルボニル、ヘキサカルボニルクロムなど；欧州特許第Ａ−４５ ８５１号）の酸化的気相分解によって、金属アルコラート（チタンならびにジルコニウムテトラ−ｎ−および−イソ−プロパノラートなど；ドイツ特許第Ａ−４１ ４０ ９００号）もしくは金属ハロゲン化物（四塩化チタンなど；欧州特許第Ａ−３３８ ４２８号）の加水気相分解によって、オルガニルスズ化合物（特にアルキルスズ化合物、たとえばテトラブチルスズおよびテトラメチルスズ；ドイツ特許第Ａ−４４ ０３ ６７８号）の酸化的分解によって、または欧州特許第Ａ−６６８ ３２９号に記載さているオルガニルケイ素化合物（特に、ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシアセトキシシラン）の気相加水の方法によって塗布され、被覆作業を流動床反応器において実施することが可能である（欧州特許第Ａ−０４５ ８５１号および欧州特許第Ａ−１０６ ２３５号）。
【００７０】
ドイツ特許第Ａ−４２ ３６ ３３２号、欧州特許第Ａ−６７８ ５６１号および欧州特許第Ａ−８２６ ７４５号に記載さている不動態化方法にしたがい、金属の酸化物−ハロゲン化物（ＣｒＯ２Ｃｌ２、ＶＯＣｌ３など）、特に酸ハロゲン化リン（ＰＯＣｌ３など）、リン酸およびホスホン酸エステル（亜リン酸ジメチル、亜リン酸トリメチル、亜リン酸ジエチルおよび亜リン酸トリエチルなど）ならびにアミノ基を含有するオルガニルケイ素化合物（３−アミノプロピルトリエトキシシランおよび３−アミノプロピルトリメトキシシランなど）の加水気相分解または酸化的気相分解により、リン酸塩、クロム酸塩および／またはバナジウム酸塩を含有する金属酸化物層ならびにリン酸塩およびＳｉＯ２を含有する金属酸化物層を塗布することができる。
【００７１】
ジルコニウム、チタン、鉄および亜鉛の金属酸化物、これらの金属の酸化物水和物、チタン酸鉄、亜酸化チタンまたはこれらの混合物の層を湿式化学方法による沈殿によって塗布することが好ましく、適宜、金属酸化物を還元することが可能である。湿式化学被覆の場合、真珠光沢顔料の生成用に開発された湿式化学被覆方法を使用することができる。これらの湿式化学被覆方法は、例として、ドイツ特許第Ａ−１４ ６７ ４６８号、ドイツ特許第Ａ−１９ ５９ ９８８号，ドイツ特許第Ａ−２０ ０９ ５６６号、ドイツ特許第Ａ−２２ １４ ５４５号、ドイツ特許第Ａ−２２ １５ １９１号、ドイツ特許第Ａ−２２ ４４ ２９８号、ドイツ特許第Ａ−２３ １３ ３３１号、ドイツ特許第Ａ−２５ ２２ ５７２号、ドイツ特許第Ａ−３１ ３７ ８０８号、ドイツ特許第Ａ−３１ ３７ ８０９号、ドイツ特許第Ａ−３１ ５１ ３４３号、ドイツ特許第Ａ−３１ ５１ ３５４号、ドイツ特許第Ａ−３１ ５１ ３５５号、ドイツ特許第Ａ−３２ １１ ６０２号およびドイツ特許第Ａ−３２ ３５ ０１７号、ドイツ特許第１９５ ９９ ８８号、国際公開公報第９３／０８２３７号、国際公開公報第９８／５３００１号ならびに国際公開公報第０３／６５５８号に記載されている。
【００７２】
屈折率が高い金属酸化物は、好ましくはＴｉＯ２および／または酸化鉄であり、屈折率が低い金属酸化物は、好ましくはＳｉＯ２である。ＴｉＯ２の層は、ルチル型またはアナターゼ型であることができ、ルチル型が好ましい。例として、欧州特許第Ａ−７３５，１１４号、ドイツ特許第Ａ−３４３３６５７号、ドイツ特許第Ａ−４１２５１３４号、欧州特許第Ａ−３３２０７１号、欧州特許第Ａ−７０７，０５０号または国際公開公報第９３／１９１３１号に記載されている、アンモニア、水素、炭化水素蒸気もしくはこれらの混合物または金属粉末といった公知の手段によってＴｉＯ２層を還元することもできる。
【００７３】
例として、ドイツ特許第Ａ−１９５ ０１ ３０７号に記載されている方法と同様に、適宜、有機溶剤および塩基触媒の存在下でソルゲルプロセスによって一つ以上の金属酸エステルの制御加水分解を行い、金属酸化物層を生成することにより、金属酸化物層を得ることも可能である。
【００７４】
ＴｉＯ２層の厚さは、一般的に５〜１００nmの範囲である。
【００７５】
適宜、ＳｉＯ２（保護）層を二酸化チタン層の上部に塗布することができる。
【００７６】
例として、米国特許第Ｂ−６，５２４，３８１号に記載されているプラズマアシスト真空法（振動コンベヤー、回転ドラムコーター、揺動ドラムコーターおよび自由落下室を使用）により、高い屈折率を有する金属酸化物の層の代わりに、米国特許第Ｂ−６，５２４，３８１号の材料、たとえばダイヤモンド状炭素およびアモルファス炭素をＳｉＯｚ被覆金属基材に付着させることができる。
【００７７】
酸化ケイ素／アルミニウム基材をベースとする面平行な構造（顔料）は、その表面に、炭素層、特に、５〜１５０nm、特に２０〜７０nm、より特には３０〜７０nmの厚さを有するダイヤモンド状炭素層を有する。
【００７８】
「ダイヤモンド状ネットワーク」（ＤＬＮ）という用語は、炭素から構成されるアモルファス膜または被覆、ならびに場合により、水素、窒素、酸素、フッ素、ケイ素、硫黄、チタンおよび銅からなる群から選択される一つ以上の追加的な成分を含むアモルファス膜または被覆を指す。ダイヤモンド状ネットワークは、約３０〜１００の原子百分率を有する炭素を含み、場合により追加的な成分が残りをなす。
【００７９】
炭素層の厚さは、一般的には５〜１５０nm、好ましくは３０〜７０nmである。
【００８０】
さらに、ＳｉＯｚ被覆アルミニウムフレークは、欧州特許第Ａ−０ ９８２ ３７６号に記載されているように、窒素ドープ炭素層で被覆することができる。欧州特許第Ａ−０ ９８２ ３７６号に記載されているプロセスは、：
（ａ）酸化ケイ素で被覆されたアルミニウムフレークを液体中に懸濁させる工程と、
（ｂ）適宜、表面改質剤および／または重合触媒を添加する工程と、
（ｃ）工程（ｂ）の前または後に、窒素および炭素原子を含む一つ以上のポリマーまたはこのようなポリマーを形成することができる一つ以上のモノマーを添加する工程と、
（ｄ）フレークの表面に高分子被覆を形成する工程と、
（ｅ）被覆されたフレークを単離する工程と、
（ｆ）被覆されたフレークを気体雰囲気中で１００〜６００℃の温度に加熱する工程と
を含む。
【００８１】
ポリマーは、ポリピロール、ポリアミド、ポリアニリン、ポリウレタン、ニトリルゴムまたはメラミンホルムアルデヒド樹脂、好ましくはポリアクリロ二トリルであることができ、モノマーは、ピロール誘導体、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、クロトニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミドまたはクロトナミド、好ましくはアクリロニトリル、メタクリロニトリルまたはクロトニトリル、もっとも好ましくはアクリロニトリルである。
【００８２】
好ましくは、フレークを工程（ｆ）において酸素含有雰囲気中でまず１００℃〜３００℃に加熱し、次に不活性ガス雰囲気中で２００〜６００℃に加熱する。
【００８３】
窒素ドープ炭素層の厚さは、一般的には１０〜１５０nm、好ましくは３０〜７０nmである。
【００８４】
ＳｉＯｚ被覆アルミニウムフレークに基づく干渉顔料は、本発明のプロセスによって利用可能であり、または本発明のプロセスによって得られるＳｉＯｚ被覆アルミニウムフレークをさらなる層で被覆することによって利用可能である（上記を参照されたい）。このような顔料は、好ましくは、Ｃ／Ｘ／Ａｌ／Ｘ／Ｃ、Ａｌ／Ｘ／Ａｌ／Ｘ／Ａｌ、Ｃｒ（５〜４０nm）／Ｘ（１００〜６００nm）／Ａｌ（５０〜１００nm）／Ｘ（１００〜６００nm）／Ｃｒ（５〜４０nm）、ＭｏＳ２／Ｘ／Ａｌ／Ｘ／ＭｏＳ２、Ｆｅ２Ｏ３／Ｘ／Ａｌ／Ｘ／Ｆｅ２Ｏ３という層構造を有し、ここでＸはＳｉＯｚであり、０．７０≦ｚ≦２．０、好ましくは１．０≦ｚ≦２．０、もっとも好ましくは１．４≦ｚ≦２．０である。
【００８５】
もう一つの実施態様では、本発明は、酸化ケイ素（またはアルミナ）膜で被覆された金属、特にアルミニウムのコアを含むフレーク状（小板状）の顔料に関し、基材がその表面全体にわたって、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化鉄、酸化スズ、酸化亜鉛および酸化セリウムから選択される酸化金属で被覆され、半透明の薄い金属膜でさらに被覆され、この顔料はカラーフロップ効果を呈する。
【００８６】
ＳｉＯｚ／Ａｌ／ＳｉＯｚフレークを「基材」として使用する場合、ＳｉＯｚ層は、アルミニウムコアの側部表面ではなく、アルミニウムコアの上部および下部表面上に施される。シリカまたはアルミナの層がゾルゲルプロセスによって塗布される場合、アルミニウムフレークの表面全体がシリカまたはアルミナの保護層で被覆される。ゾルゲル方法は、有機金属化合物等の溶液の加水分解および重縮合を通してゾルを形成した後、それをゲル化することを含む。次に、生成されたゲルを加熱し、金属酸化物を形成する。有機金属化合物としては、シリコンメトキシド、シリコンエトキシド、シリコンプロポキシドなど、たとえばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシランなど、およびアルミニウムメトキシド、アルミニウムエトキシド、アルミニウムポロポキシドなど、たとえば、例としてトリメトキシアルミン酸塩、トリエトキシアルミン酸塩、トリプロポキシアルミン酸塩などが含まれる。保護膜の量は、保護膜で被覆される金属（コア）の０．１〜１０重量％であることができる。
【００８７】
好ましくは、フレーク状基材の表面全体を金属酸化物で被覆し、金属酸化物で被覆されたフレーク状顔料の表面全体を半透明の薄い金属で被覆する。金属酸化物の被覆を塗布するには、ゾルゲル方法も好ましい。例として、二酸化チタン膜を形成する場合、使用する有機金属化合物は、チタンテトラアルコキシド、たとえばチタンテトラメトキシド、チタンテトラエトキシド、チタンテトラブトキシドなどであることができる。酸化ジルコニウム膜を形成する場合は、ジルコニウムテトラアルコキシド、たとえばジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトラポロポキシド、ジルコニウムテトラブトキシドなどが使用可能である。酸化セリウム膜を形成する場合は、セリウムテトラアルコキシド、たとえばセリウムテトラメトキシド、セリウムテトラプロポキシドなどが使用可能である。酸化スズ膜を形成する場合は、オクチル酸スズ、ジブチルスズジラウレート、ジオクチル酸化スズなどが使用可能である。
【００８８】
半透明の薄い金属膜は、５０nm未満の厚さを有する。半透明の薄い金属膜は、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ａｇ、Ａｕおよびこれらの合金から選択される一つ以上の金属から形成される。合金の例は、Ｎｉ−Ｃｏ、Ｎｉ−ＦｅまたはＣｏ−Ｆｅである。金属酸化物被覆の厚さは、９０〜３６０nmである。半透明の薄い金属膜は、好ましくは、活性化のために前処理を必要としない化学めっき方法によって塗布される（色材協会誌（「色材協会」）６９（６）、３７０〜３７７（１９９６年））。これにおいては、アセチルアセトナート金属錯体が有機溶剤中で還元され、その結果、錯体から生じる金属で基材がめっきされる。例として、極性非プロトン性溶剤であるジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）中で還元剤としてビス（アセチルアセトナート）ニッケル（ＩＩ）およびヒドラジンを使用し、このめっき法にしたがって、金属酸化物で被覆されたフレーク状顔料基材上にニッケル膜を形成する場合、高密度のニッケル膜を基材上に形成することができる。本発明の前記態様においては、Ｎｉ／ＴｉＯ２／ＳｉＯｚまたはＮｉ／ＴｉＯ２／ＳｉＯ２のアルミニウムフレークが好ましい。
【００８９】
アルミニウムフレークは、公知のアルミニウムフレークについて慣例的である応用で使用することができる。本発明によるアルミニウムフレークの使用として言及することができる例は、塗料、静電被覆、インクジェット印刷、化粧品、被覆、印刷インク、プラスチック材料、セラミックおよびガラスの艶出しならびにセキュリティ印刷である。
【００９０】
ＳｉＯｚ被覆アルミニウムフレークに基づいて本発明のプロセスをより詳細に例示するが、これらに限定されるものではない。
【００９１】
分離剤Ｉは、アントラセン、アントラキノン、アセトアミドフェノール、アセチルサリチル酸、ショウノウ酸無水物、ベンズイミダゾール、ベンゼン−１，２，４−トリカルボン酸、ビフェニル−２，２−ジカルボン酸、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ジヒドロキシアントラキノン、ヒダントイン、３−ヒドロキシ安息香酸、８−ヒドロキシキノリン−５−スルホン酸一水和物、４−ヒドロキシクマリン、７−ヒドロキシクマリン、３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、イソフタル酸、４，４−メチレン−ビス−３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、ナフタレン−１，８−ジカルボン酸無水物、フタルイミドおよびそのカリウム塩、フェノールフタレイン、フェノチアジン、サッカリンおよびその塩、テトラフェニルメタン、トリフェニレン、トリフェニルメタノールならびにこれらの物質の少なくとも二つの混合物、特に、ペンタエリスリトール（Ｃ（ＣＨ２ＯＨ）４）、トリメシン酸（＝１，３，５ベンゼントリカルボン酸）、ＤＬ−アラニン、ＤＬ−バリン、２，６−ジアミノプリン、アスコルビン酸、１，３，５−ベンゼントリカルボン酸、ｏ−アセチルサリチル酸、ジフェン酸、テレフタル酸、ピロガロール、シアヌル酸、ヘキサメチルテトラミン（ウロトロピン）、フマル酸および４−アセチル安息香酸ならびにこれらの物質の少なくとも二つの混合物から選択される。
【００９２】
分離剤Ｉは、好ましくは水中に溶解することができるペンタエリスリトールである。
【００９３】
分離剤ＩＩは、ポリマー、特に溶解することができる部分的に硬化するポリマー、アダマンタン、ジフェン酸、７−ヒドロキシクマリン、ベンゾグアナミン（２，４，６−ジアミノ−４−フェニル−１，３，５−トリアジン）、フェロセン、ショウノウおよび誘導体、アントラセン、ナフタレン−１，８−ジカルボン酸無水物、９，１０−アントラキノンならびにピロメリット酸二無水物から選択される。
【００９４】
ポリマーの例は、国際公開公報第００／２４９４６号に記載のスチレン樹脂、たとえばＤｏｗ ６８５Ｄ押出グレードスチレン樹脂ならびに米国特許第Ｂ−５９４５１７４号、米国特許第Ｂ−６０１０７５１号または米国特許Ｂ−５８７７８９５号に記載のアクリレート、たとえば２−フェノキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレートおよびラウリルアクリレート、ジアセチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレートおよびポリエチレングリコールジアクリレート（ＰＥＧＤＡ）もしくはテトラエチレングリコールジアクリラート、トリメチロールプロパントリアクリレートおよびペンタエリスリトールトリアクリレート、イソブチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレートおよび２−フェノキシエチルアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレートおよび１，６−ヘキサンジオールジメタクリレートならびにこれらの化合物の混合物である。
【００９５】
ＳｉＯｚ層（Ｂ１）および（Ｂ２）の層厚さは、１０〜５０nm、特に２０〜３０nmである。
【００９６】
アルミニウムからなる層（Ｂ）の層厚さは、１０〜１００nm、好ましくは３０〜５０nmである。
【００９７】
ＳｉＯｙ被覆アルミニウムフレークは、基本的に、例として米国特許第Ｂ−６，２７０，８４０号、国際公開公報第００／１８９７８号、国際公開公報第０２／０９０６１３号、国際公開公報第０３／９０６１３号に記載されているプロセスによって得ることができる。本発明のプロセスは、分離剤Ｉを分離剤ＩＩと組み合わせて使用することを特徴とする。
【００９８】
酸化ケイ素層（ＳｉＯｙ）は、好ましくは、１３００℃を上回る温度でのＳｉとＳｉＯ２との混合物の反応によって蒸発器中で生成される一酸化ケイ素蒸気から形成される。０．７０≦ｙ≦０．９９であるＳｉＯｙ層は、好ましくは、最大で２０重量％の量のケイ素を含有する一酸化ケイ素を、１３００℃を上回る温度で蒸発させることによって形成される。
【００９９】
Ａｌは、１０００℃を上回る温度で蒸発させる。
【０１００】
工程ｂ）〜ｄ）における蒸着は、好ましくは０．５Pa未満の真空下で実施する。工程ｅ）における分離剤層の溶解は、好ましくは１〜５×１０４Pa、特に６００〜１０４Pa、より特には１０３〜５×１０３Paの範囲の圧力下で実施する。
【０１０１】
ＳｉＯｙ層は、例としてドイツ特許第４３ ４２ ５７４ Ｃ１号および米国特許第Ａ−６ ２０２ ５９１号に記載されている蒸発器中で、好ましくはケイ素および石英（ＳｉＯ２）微粉末の化学量論的混合物を、高真空下で１３００℃を上回る温度に加熱することで得られる。反応生成物は、一酸化ケイ素ガスであり、真空下で、通過するキャリヤーに直接導き、そこでＳｉＯとして凝縮させる。非化学量論的混合物を使用することもできる。蒸発器は、ＳｉとＳｉＯ２との混合物、ＳｉＯｙまたはその混合物を含む装入物を含有し、相互に反応する物質（ＳｉおよびＳｉＯ２）の粒子サイズは、有利には０．３mm未満である。ＳｉとＳｉＯ２との重量比率は、有利には０．１５：１〜０．７５：１（重量部）の範囲であり、好ましくは化学量論的混合物が存在する。蒸発器内に存在するＳｉＯｙが直接蒸発する。ＳｉおよびＳｉＯ２が１３００℃を上回る温度で反応し、一酸化ケイ素蒸気を形成する。
【０１０２】
工程ｅ）およびｆ）は、通例、工程ａ）〜ｄ）における圧力よりも高く、かつ大気圧力よりも低い圧力で実施する。
【０１０３】
可動キャリヤーは、一つ以上のディスク、円筒または軸を中心として回転する他の回転対称体（国際公開公報第０１／２５５００号および米国特許第Ｂ−６，３７６，０１８号を参照されたい）からなることができ、好ましくは高分子被覆された、もしくはされない一つ以上の連続金属ベルトまたは一つ以上のポリイミドもしくはポリエチレンテレフタレートベルト（米国特許第Ｂ−６，２７０，８４０号）からなる。
【０１０４】
アルミニウムまたはＳｉＯｙ被覆アルミニウムフレークは、好ましくは洗い落としおよびその後のろ過、沈降、遠心分離、デカンテーションまたは蒸発によって分離剤ＩおよびＩＩの溶剤から分離される。
【０１０５】
複数の分離剤ＩＩ層および生成物層を、好ましくは、可動キャリヤーに対し、互いに一つおきの順に真空で蒸着させることができ、その後、工程ｅ）にしたがって溶解によって取り除く。
【０１０６】
さらに、溶剤に含有される溶解分離剤ＩＩを洗い落とした後、ＳｉＯｙ被覆アルミニウムフレークを溶剤とともに凍結し、その後、凍結乾燥プロセスを行い、その間に三重点を下回る昇華の結果として溶剤が分離し、乾燥したフレークが個々の面平行な構造の形態で後に残留する。
【０１０７】
凝縮した亜酸化ケイ素は、０．９５≦ｙ≦１．８、好ましくはおよそ１．０≦ｙ≦１．６の式ＳｉＯｙに対応し、１未満のｙ値は、蒸発器材料中の過剰なケイ素によって得られる。超高真空下を除き、数１０−２Paの工業用の真空中では、蒸発したＳｉＯは、常に、１≦ｙ≦１．８、特に１．１≦ｙ≦１．６のＳｉＯｙとして凝縮するが、それは、表面からガスが放出する結果、蒸発温度で容易に反応するＳｉＯと反応する水蒸気を高真空装置が常に微量含有するからである。
【０１０８】
詳細には、分離剤Ｉ、例としてペンタエリスリトールに続いて、分離剤ＩＩ、例としてアダマンタン、亜酸化ケイ素（ＳｉＯｙ）、Ａｌおよび分離剤ＩＩ、例としてアダマンタンが、連続してキャリヤーに蒸着され、このキャリヤーは、０．５Pa未満、特に０．０５Pa未満の真空下で蒸発器を通過する連続金属ベルトであることができる。分離剤の蒸着厚さは、約２０〜５００nm、好ましくは５０から３００nm、もっとも好ましくは５０〜１００nmであり、ＳｉＯの蒸着厚さは、生成物の使用目的に応じて１０〜５００nmであり、アルミニウムの蒸着厚さは１０〜１００nm、特に３０〜５０nmである。さらなる過程において、閉じてループを形成するベルト形態のキャリヤーが、公知の構成の動的真空封止室（米国特許第６，２７０，８４０号を参照されたい）を通り抜け、１〜５×１０４Paの圧力、好ましくは６００〜１０９Paの圧力、特に１０３〜５×１０３Paの圧力の領域に入り、そこで分離槽と接触する。分離剤Ｉの溶解に使用される水の温度は、その蒸気圧力が指示される圧力範囲に収まるように選択すべきである。機械的補助により、分離剤Ｉの層が急速に溶解し、面平行な小板の前駆体の層がフレークに分割され、次にフレークが水中で懸濁形態となる。
【０１０９】
次に、面平行な小板の前駆体構造と、分離剤が溶解している溶剤とを含む、両方の場合において得られる懸濁液を、公知の技術にしたがうさらなる作業で分離させる。そのために、面平行な小板構造をまず水中で濃縮させ、溶解した分離剤を洗い落とすために新鮮な水で数回にわたってすすぎ洗いする。次に、いまだに湿っている固体の形態の生成物を、ろ過、沈降、遠心分離、デカンテーションまたは蒸発によって分離させ、乾燥させる。
【０１１０】
次に、面平行な小板の前駆体構造を第二分離槽に接触させ、面平行な小板の前駆体構造にいまだに密着している分離剤ＩＩ、例としてアダマンタンを有機溶剤、例としてトルエンまたはベンゼンに溶解させる。次に、面平行な小板の前駆体構造と、分離剤が溶解している溶剤とを含む、両方の場合において得られる懸濁液を、公知の技術にしたがうさらなる作業で分離させる。そのために、面平行な小板構造をまず溶剤中で濃縮させ、溶解した分離剤を洗い落とすために新鮮な溶剤で数回にわたってすすぎ洗いする。次に、いまだに湿っている固体の形態の生成物を、ろ過、沈降、遠心分離、デカンテーションまたは蒸発によって分離させ、乾燥させる。
【０１１１】
大気圧力での洗い落とし後の面平行な構造の分離は、約５０%の固形分に濃縮されている懸濁液を凍結させ、公知の手法において約−１０℃および５０Paの圧力で冷凍乾燥を施すことにより、適度な条件下で実施することができる。乾燥した物質が生成物として残留する。
【０１１２】
場合により、ＳｉＯｙ被覆アルミニウムフレークに酸化的熱処理を施すことができる。例として、２００℃を上回る、好ましくは４００℃を上回る、特に４００〜６００℃の温度で、遊離した材料の形態で存在する、または流動層にある小板に空気またはいくらか他の酸素含有ガスを通過させることができる。
【０１１３】
顔料サイズへの膜の断片の粉砕は、例として、液状媒体において高速攪拌機を使用して、または断片の乾燥後に回転分級器を有するエアジェットミルにおいて、超音波手段または機械的手段によって行うことができる。顔料の粉砕を液状媒体において実施するのか、または乾燥状態で実施するのかに応じて、粉砕手順中または粉砕手順後にアルミニウム顔料の金属自由表面の不動態化が先に言及したプロセスの一つによって実施される。
【０１１４】
アルミニウムフレークまたは顔料に後被覆または後処理を施すことも可能であり、これにより、光安定性、耐侯安定性および化学安定性がさらに増加し、または顔料の取り扱い、特に各種媒体への混和が促進される。例として、欧州特許第Ａ−１０８４１９８号、欧州特許第Ａ−８２６７４５号、ドイツ特許第Ａ−２２ １５ １９１号、ドイツ特許第Ａ−３１ ５１ ３５４号、ドイツ特許第Ａ−３２ ３５ ０１７号またはドイツ特許第Ａ−３３ ３４ ５９８号に記載されているプロセスが、後処理または後被覆として好適である。
【０１１５】
適宜、ＳｉＯ２保護層を施すことができ、そのためにソーダ水ガラス溶液を計量し、およそ５０〜１００℃、特に７０〜８０℃に加熱されている、被覆される材料の懸濁液に添加するという方法を使用することができる。同時に１０%の塩酸を添加することにより、ｐＨを４〜１０、好ましくは６．５〜８．５に維持する。水ガラス溶液の添加後、３０分間にわたって攪拌を実施する。
【０１１６】
顔料の際立った特徴は、非常に均一な厚さを有することである。
【０１１７】
「０．７０≦ｚ≦２．０であるＳｉＯｚ」という用語は、酸化ケイ素層の平均値におけるケイ素に対する酸素のモル比率が０．７０〜２．０であることを意味する。酸化ケイ素層の組成は、ＥＳＣＡ（ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ ｆｏｒ ｃｈｅｍｉｃａｌ ａｎａｌｙｓｉｓ：Ｘ線電子分光法）によって特定することができる。酸化ケイ素基材のケイ素および酸素の化学量論は、ＲＢＳ（Ｒｕｔｈｅｒｆｏｒｄ−Ｂａｃｋｓｃａｔｔｅｒｉｎｇ：ラザフォード後方散乱）によって特定することができる。
【０１１８】
「０．７０≦ｙ≦１．９５であるＳｉＯｙ」という用語は、酸化ケイ素層の平均値におけるケイ素に対する酸素のモル比率が０．７０〜１．９５であることを意味する。酸化ケイ素層の組成は、ＥＳＣＡ（electron spectroscopy for chemical analysis：Ｘ線電子分光法）によって特定することができる。酸化ケイ素基材のケイ素および酸素の化学量論は、ＲＢＳ（Rutherford-Backscattering：ラザフォード後方散乱）によって特定することができる。
【０１１９】
本発明によると、「アルミニウム」という用語は、アルミニウムおよびアルミニウムの合金を含む。アルミニウムの合金は、例として、ウルマンの工業化学百科事典第四版（ヴァインハイム（Weinheim）のVerlag Chemie社）第七巻２８１〜２９２ページのG.Wassermannに記載されている。特に好適であるのは、国際公開公報第００／１２６３４号の１０〜１２ページに記載されている腐食安定性アルミニウム合金であり、これには、アルミニウムの他に、２０重量%未満、好ましくは１０重量%未満の量のケイ素、マグネシウム、マンガン、銅、亜鉛、ニッケル、バナジウム、鉛、アンチモン、スズ、カドミウム、ビスマス、チタン、クロムおよび／または鉄が含まれる。
【０１２０】
本発明の実施態様では、米国特許第Ａ−４，３２１，０８７号に記載されている装置および方法は、面平行な構造の調製のために使用される。前記実施態様は、アルミニウムフレークに基づいて記載されているが、これらに限定されるものではない。
【０１２１】
不連続的なプロセスでは、必要な場合、表面被覆（使用される典型的な樹脂系は、アクリル、セルロース系、ビニル樹脂などである）を被覆または印刷技術（好ましくは輪転グラビアまたはフレキソ）によって少なくともキャリヤーシートの側に塗布する。好適なキャリヤーは、ポリエステル、ポリオレフィンまたは他の一般的な材料からなる膜である。
【０１２２】
被覆された膜は、次に、典型的なＰＶＤ（物理蒸着）プロセスにおいて、分離剤Ｉ、ＩＩ、アルミニウム層および分離剤ＩＩの層が続いて剥離被覆上に蒸着されるロールコーターを通過する。
【０１２３】
付着させるアルミニウムの厚さは、最終的な顔料の望ましい特性を得るために重大である。通例、厚さは、３０〜５０nmの間で調節される。５０nmを超える厚さでは、顔料の配向性が負の作用を受け、顔料の端部における散乱効果が増加する。両方の効果は、輝度、不透過度およびフロップに対して負の影響力を有する。
【０１２４】
３０nmに満たない厚さでは、アルミニウムは透明になり、顔料の取り扱いは、より高い凝集傾向によってさらに困難である。
【０１２５】
次工程において、金属化膜が第一の溶剤タンク（脱離器）を通り抜けると、分離剤Ｉが水中に溶解し、アルミニウムおよび分離剤ＩＩの層が粗い前駆体フレークとして取り除かれる。
【０１２６】
アルミニウム前駆体フレークは、好ましくは洗い落としおよびその後のろ過、沈降、遠心分離、デカンテーションまたは蒸発により、分離剤の溶剤から分離される。
【０１２７】
アルミニウム前駆体フレークの分離剤ＩＩを適当な溶剤中に溶解させ、アルミニウムフレークを好ましくは洗い落としおよびその後のろ過、沈降、遠心分離、デカンテーションまたは蒸発によって分離剤の溶剤から分離させる。あるいは、アルミニウム粒子を洗浄し、所望の場合、普通は１０〜２０%の顔料を含有する分散物に濃縮する。次に、粒子を激しい攪拌または超音波処理によってサイジングする。
【０１２８】
分離剤Ｉは、好ましくは水中に溶解することができるペンタエリスリトールである。分離剤ＩＩは、好ましくはトルエンに溶解することができるアダマンタンである。
【０１２９】
本発明の好ましい実施態様では、米国特許第Ｂ−６，２７０，８４０号に記載の装置は、面平行な構造の調製のために使用される。前記実施態様は、ＳｉＯｙフレークに基づいて記載されているが、これらに限定されるものではない。
【０１３０】
ＳｉＯｙフレークは、原則として、：
ａ）水に溶かし得る分離剤Ｉをキャリヤーに付着させ、分離剤層を生成する工程と、
ｂ）水に溶かし得ない分離剤ＩＩを工程ａ）の分離剤層に蒸着させる工程と、
ｃ）ＳｉＯｙ層を工程ｂ）の分離剤層に蒸着する工程と、
ｄ）水に溶かし得ない分離剤ＩＩを工程ｃ）の生成物層に蒸着させる工程と、
ｅ）工程ａ）の分離剤層を水中に溶解させ、ＳｉＯｙ層が、側部表面を除く上部表面および下部表面が分離剤Ｉで覆われている面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程と、
ｆ）工程ｂ）およびｄ）の分離剤層を溶剤中に溶解させ、ＳｉＯｙが面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程と
を含むプロセスによって調製することができる。
【０１３１】
前記実施態様にしたがうと、分離剤Ｉ、例としてペンタエリスリトールに続いて、分離剤ＩＩの層、例としてアダマンタンおよび一酸化ケイ素（ＳｉＯ）を、蒸発器を経由して０．５Pa未満の真空下を通過させながら、連続（金属）ベルトであるキャリヤーに蒸着させる。生成物の使用目的に応じて、蒸着される分離剤ＩおよびＩＩの厚さは、およそ５０nm、特に５０〜３００nmであり、ＳｉＯの厚さは、２０〜２０００nmである。
【０１３２】
ＳｉＯ蒸着の場合、１００nmを超える層厚さは膜キャリヤーの実質的な加熱を生じさせ、それがプラスチック膜のガラス転移温度を超えるならば、軟化および熱劣化を生じさせる。そのため、このような負荷に耐える金属キャリヤーを使用することが有利であるとわかった。
【０１３３】
超高真空下を除き、数１０−２Paの技術的な真空中では、蒸発したＳｉＯは、常に、１≦ｙ＜１．８、特に１．１＜ｙ＜１．８のＳｉＯｙとして凝縮するが、それは、表面からガスが放出する結果、蒸発温度で容易に反応するＳｉＯと反応する水蒸気を高真空装置が常に微量含有するからである。
【０１３４】
さらなる過程において、閉じてループを形成するベルト形態のキャリヤー（米国特許第６２７０８４０号を参照されたい）が、公知である様式の構成の動的真空封止室を通り抜け、１〜５×１０４Paの圧力、好ましくは６００〜１０４Paの圧力、特に１０３〜５×１０３Paの圧力の領域に入り、そこで溶解槽に浸される。溶剤（水）の温度は、その蒸気圧力が指示される圧力範囲に収まるように選択すべきである。機械的補助により、分離剤Ｉの層が急速に溶解し、「生成物」層が面平行な小板の前駆体（生成物および分離剤ＩＩからなるフレーク）に分割され、次にフレークが溶剤中において懸濁形態で存在する。さらなる過程において、ベルトを乾燥させ、いまだにそれに密着している不純物を除去する。それは、第二の動的真空封止室群を通り抜けて蒸発室に戻り、そこで分離剤およびＳｉＯの生成物層の被覆プロセスが繰り返される。
【０１３５】
次に、生成物前駆体構造と、分離剤Ｉが溶解している溶剤とを含む、両方の場合において存在する懸濁液を、公知の技術にしたがうさらなる作業で分離させる。そのために、生成物前駆体構造をまず液体中で濃縮させ、溶解した分離剤Ｉを洗い落とすために新鮮な溶剤で数回にわたってすすぎ洗いする。次に、いまだに湿っている固体の形態の生成物前駆体をろ過、沈降、遠心分離、デカンテーションまたは蒸発によって分離させる。
【０１３６】
生成物前駆体は、第二の分離剤を適当な溶剤、例としてトルエンまたはベンゼンに溶解させることにより、ＳｉＯｙフレークに変換する。ＳｉＯｙフレークをまず液体中で濃縮させ、溶解した分離剤ＩＩを洗い落とすために新鮮な溶剤で数回にわたってすすぎ洗いする。次に、いまだに湿っている固体の形態のＳｉＯｙフレークをろ過、沈降、遠心分離、デカンテーションまたは蒸発によって分離させる。
【０１３７】
次に、乾燥後、生成物に酸化的熱処理を施すことができる。このために、公知の方法が利用可能である。２００℃を超える、好ましくは４００℃を超える、特に５００〜１０００℃の温度で、遊離した材料の形態で存在する、または流動層にあるＳｉＯｙ（ｙは、蒸着条件に応じて１〜およそ１．８である）の面平行な構造に空気またはいくらか他の酸素含有ガスを通過させる。次に、生成物を破砕または空気篩によって所望の粒子サイズにし、さらなる使用のために送り出すことができる。
【０１３８】
ＳｉＯｙの面平行な構造の生成では、変形態様が可能である。
【０１３９】
蒸発区域中、いくつかの分離剤および生成物蒸発器をベルトの走行方向に一列に並べることが可能である。この手段により、装置の点でほとんど追加の出費なしに、ＳＩ＋ＳＩＩ＋Ｐ＋ＳＩＩ＋Ｐ＋ＳＩＩ（ＳＩは分離剤Ｉの層であり、ＳＩＩは分離剤ＩＩの層であり、Ｐは生成物層である）の連続層が得られる。蒸発器の数が倍になり、ベルト速度が同じであれば、二倍の量の生成物が得られる。
【０１４０】
真空中において１３００℃を超える温度、好ましくは１３００℃〜１６００℃でケイ素と二酸化ケイ素とが反応し、
Ｓｉ＋ＳｉＯ２→２ＳｉＯ
によってケイ素と二酸化ケイ素から生成される一酸化ケイ素を、本発明にしたがってＳｉＯの蒸発と組み合わせる。このために特別に設定された蒸発器では、ケイ素および石英微粉末の好ましくは化学量論的な混合物を、例として、高真空下でおよそ１４５０℃まで加熱する。反応生成物は、一酸化ケイ素ガスである。一酸化ケイ素を収集し、後の段階でそれを蒸発させるために破砕する代りに、真空中での化学反応から生じる一酸化ケイ素蒸気を、通過するキャリヤーに直接導き、そこでＳｉＯｙとして凝縮させる。そのため、別工程でＳｉＯを別に生成することは不要である。非化学量論的混合物を使用することも可能である。しかし、反応後、ＳｉＯ２またはＳｉいずれかの残渣が残る。
【０１４１】
本発明によると、蒸発器は、ＳｉとＳｉＯ２との混合物、ＳｉＯｙまたはその混合物を含む装入物を含有し、相互に反応する物質（ＳｉおよびＳｉＯ２）の粒子サイズは、有利には０．３mm未満である。ＳｉとＳｉＯ２との重量比率は、有利には０．１５：１〜０．７５：１（重量部）の範囲であり、好ましくは化学量論的混合物が存在する。ＳｉＯｙの量は、実際の要件にしたがって選択することができる。蒸発器中に存在するＳｉＯｙは、直接蒸発する。ＳｉとＳｉＯ２とは、１３００℃を超える温度で反応し、一酸化ケイ素蒸気を形成する。面平行な構造の表面積に対する厚さの比率は、好ましくは０．０１μm-1未満である。キャリヤー上に凝縮した分離剤は、真空中で蒸発可能な水溶性の無機塩または真空中で蒸発可能な溶解することができる有機物質であることができる。
【０１４２】
本発明によると、工程ｅ）およびｆ）は、工程ａ）〜ｄ）における圧力よりも高く、かつ大気圧力よりも低い圧力で実施する。
【０１４３】
可動キャリヤーは、好ましくは、ポリマーで被覆された、もしくは被覆されない一つ以上の連続金属ベルトまたは一つ以上のポリイミドもしくはポリエチレンテレフタレートのベルトを含む。
【０１４４】
本発明の好ましい実施態様によると、交互に連続する複数の分離剤層および亜酸化ケイ素層は、真空中において可動キャリヤー上に蒸着させた後、凝縮した分離剤層の溶解によって除去する。ＳｉＯｙの面平行な構造は、好ましくは洗い落としおよびその後のろ過、沈降、遠心分離、デカンテーションまたは蒸発によって分離剤の溶剤から分離させる。
【０１４５】
可動キャリヤー上で凝縮した亜酸化ケイ素は、１≦ｙ≦１．８、好ましくは１．１≦ｙ≦１．６の式ＳｉＯｙに対応する。蒸発器材料中の過剰なケイ素を使用することにより、ｙ＝０．９５を最小として１未満のｙ値を得ることも可能である。
【０１４６】
本明細書において先に記載した生成方法では、好ましくは、酸化ケイ素の面平行な構造に光学吸収特性を提供する目的をもって、さらなる蒸発性物質、たとえば有機顔料、特に金属または金属酸化物を亜酸化ケイ素と混ぜ合わせ、この混ぜ合わせは固体相で行うか、または蒸気相において第二のソースからの蒸発によって行うことが可能である。
【０１４７】
生成物単独の代わりに、ＳｉＯｙおよび分離剤ＩＩを同時に分離剤層ＩＩ上に蒸着させ、多孔性のＳｉＯｙフレークを得ることができる（詳細は、国際公開公報第０４／０６５２９５号を参照されたい）。
【０１４８】
多孔性のＳｉＯｙフレークは、分離剤ＩＩ層上にＳｉＯｙ／分離剤ＩＩの混合層を付着させることで生成される。混合層中の分離剤ＩＩの量を制御することにより、ＳｉＯｙフレークの多孔性は、単純な手法で制御することができる。
【０１４９】
概して、混合層は、ＳｉＯｙおよび分離剤ＩＩの総重量をベースとして１〜６０重量%の量の分離剤ＩＩを含有する。
【０１５０】
ＳｉＯｙフレークを無酸素雰囲気中、すなわちアルゴンまたはヘリウム雰囲気中または１３Pa（１０−１Torr）未満の真空中において、４００℃を超える温度、特に４００〜１１００℃の温度で加熱する場合、「ケイ素／酸化ケイ素」フレークが得られる（詳細は、国際公開公報第０３／１０６５６９号を参照されたい）。
【０１５１】
無酸素雰囲気中でＳｉＯｙ粒子を加熱することにより、ＳｉＯｙにおけるＳｉＯ２およびＳｉが不均衡化すると仮定する。
ＳｉＯｙ→（ｙ／ｙ＋ａ）ＳｉＯｙ＋ａ＋（１−ｙ／ｙ＋ａ）Ｓｉ
この不均衡化において、（１−（ｙ／ｙ＋ａ））Ｓｉを含有するＳｉＯｙ＋ａフレークが形成され、ここで０．７０≦ｙ≦１．８、特に０．７０≦ｙ≦０．９９または１≦ｙ≦１．８、０．０５≦ａ≦１．３０であり、ｙとａとの和は２または２未満である。
【０１５２】
０．７０≦ｙ≦１．９５、特に０．７０≦ｙ≦１．８０、とりわけ１．０≦ｙ≦１．８であるＳｉＯｙフレークは、反応性中心を含む。「反応性中心」という用語は、ＳｉＯｙフレーク内に少なくとも一つのＳｉ−Ｓｉ群、好ましくは複数のＳｉ−Ｓｉ群、すなわち[ＳｉＯ４−ｘＳｉｘ]成分（ｘ＞１）が存在することを意味する。反応ＳｉＯｙフレークは、例として、Ｓｉ−Ｓｉ群を切断することができる機能群を有する化合物と反応させ、化合物を化学的にＳｉＯｙフレークに結合させることができる（詳細は、国際公開公報第０６／０１０７２０号を参照されたい）。
【０１５３】
ｙ＞１．０であるＳｉＯｙは、酸素の存在下でＳｉＯを蒸発させて得ることができる。蒸発中、成長するＳｉＯｙ層に紫外線を照射すると、基本的に吸収を免れる層を得ることができる（ドイツ特許第Ａ−１６２１２１４号）。純酸素雰囲気中でのＳｉＯのいわゆる「反応性蒸着」により、可視領域においては吸収せず、５５０nmで１．５５の屈折率を有するＳｉＯ１．５層を得ることが可能である（Ｅ．Ｒｉｔｔｅｒ、Ｊ．Ｖａｃ．Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．３（１９６６年）２２５）。
【０１５４】
ＳｉＯｙフレークは、流動層において、少なくとも２００℃、特に４００℃を上回る温度で、好ましくは遊離した材料の形態において、酸素含有ガス、例として空気を使用して酸化するか、または好ましくは５００〜１０００℃の範囲の温度で酸化炎内に導入し、面平行な構造のＳｉＯｚを形成することができる（国際公開公報第０３／０６８８６８号）。
【０１５５】
ＳｉＯｚフレークは、例として、さらなる層を塗布することでさらに加工し、干渉顔料を得ることができる。
【０１５６】
このような顔料の粒子は、一般的に、２μm〜５mmの長さ、２μm〜２mmの幅および２０nm〜２μmの厚さを有し、長さと厚さの比率が２：１であって、これらの粒子は、０．７０≦ｚ≦２．０、特に１．１≦ｚ≦２．０、もっとも好ましくは１．４≦ｚ≦２．０であるＳｉＯｚのコアを含み、このコアは実質的に平行な二つの面を有しており、それらの面間の距離はコアの最短軸（厚さ）であり、このような顔料は、（ａ）高い屈折率を有する材料、特に金属酸化物を含み、または顔料は（ａ）（薄い半透明の）金属層を含む。
【０１５７】
半透明の金属層に好適な金属は、例として、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ａｌ、Ｃｕ、Ａｇ、ＡｕまたはＮｉである。半透明の金属層は、通常、５〜２５nm、特に５〜１５nmの厚さを有する。ＳｉＯｚ基材は、平行な表面の一方にのみ金属層を有することができるが、好ましくは、金属層は、基材の平行な表面の両方に存在する。
【０１５８】
半透明の金属層が望ましい場合、金属層の厚さは、一般的には５〜２５nm、特に５〜１５nmである。
【０１５９】
金属的な外観を有する顔料が望ましい場合、金属層の厚さは＞２５nm〜１００nm、好ましくは３０〜５０nmである。有色金属効果を有する顔料が望ましい場合、有色または無色の金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物および／または金属の追加的な層を付着させることができる。これらの層は透明または半透明である。屈折率が高い層と屈折率が低い層とが交互に並ぶか、または一つの層が存在し、その層内で屈折率が徐々に変わることが好ましい。追加的な被覆によって耐候性を増加させることが可能であり、これにより同時に、バインダー系への最適な適応がもたらされる（欧州特許第Ａ−２６８９１８号および欧州特許第Ａ−６３２１０９号）。
【０１６０】
本発明の好ましい実施態様では、干渉顔料は、本明細書においておよそ１．６５を上回る屈折率として定義される「高い」屈折率を有する材料と、場合により、本明細書においておよそ１．６５以下の屈折率として定義される「低い」屈折率を有する材料とを含む。利用することができるさまざまな（誘電体）材料としては、無機材料、たとえば金属酸化物、金属亜酸化物、金属フッ化物、金属酸ハロゲン化物、金属硫化物、金属カルコゲニド、金属窒化物、金属酸窒化物、金属炭化物およびこれらの組み合わせ等ならびに有機誘導体材料が含まれる。これらの材料は容易に利用可能であり、物理蒸着もしくは化学蒸着プロセスまたは湿式化学被覆プロセスによって簡単に塗布することができる。
【０１６１】
特に好ましい実施態様では、酸化ケイ素基材に基づく干渉顔料は、「高い」屈折率、換言すればおよそ１．６５を上回る屈折率、好ましくはおよそ２．０を上回る屈折率、もっとも好ましくは約２．２を上回る屈折率を有する誘電体材料のさらなる層を含み、この層がケイ素／酸化ケイ素基材の表面全体に塗布される。このような誘電体材料の例は、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、炭素、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）、酸化セリウム（ＣｅＯ２）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）、酸化ユウロピウム（Ｅｕ２Ｏ３）、酸化鉄、たとえば酸化鉄（ＩＩ）／酸化鉄（ＩＩＩ）（Ｆｅ３Ｏ４）および酸化鉄（ＩＩＩ）（Ｆｅ２Ｏ３）、窒化ハフニウム（ＨｆＮ）、炭化ハフニウム（ＨｆＣ）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化ネオジム（Ｎｄ２Ｏ３）、酸化プラセオジム（Ｐｒ６Ｏ１１）、酸化サマリウム（Ｓｍ２Ｏ３）、三酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ３）、一酸化ケイ素（ＳｉＯ）、三酸化セレン（Ｓｅ２Ｏ３）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、三酸化タングステン（ＷＯ３）またはこれらの組み合わせである。誘電体材料は、好ましくは金属酸化物である。金属酸化物は、吸収特性を有する、または有さない単一の酸化物または酸化物の混合物、例としてＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、Ｃｒ２Ｏ３、ＣｅＯ２またはＺｎＯであることが可能であり、ＴｉＯ２が特に好ましい。
【０１６２】
ＴｉＯ２層の上部に屈折率が低い金属酸化物、たとえばＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＡｌＯＯＨ、Ｂ２Ｏ３またはこれらの組み合わせ、好ましくはＳｉＯ２を塗布し、場合により、後者の層の上部にさらにＴｉＯ２層を塗布することにより、色がより濃い顔料およびより透明な顔料を得ることが可能である（欧州特許第Ａ−８９２８３２号、欧州特許第Ａ−７５３５４５号、国際公開公報第９３／０８２３７号、国際公開公報第９８／５３０１１号、国際公開公報第９８１２２６６号、国際公開公報第９８３８２５４号、国際公開公報第９９／２０６９５号、国際公開公報第００／４２１１１号および欧州特許第Ａ−１２１３３３０号）。使用することができる好適な低屈折率誘電体材料の限定されない例としては、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）および金属フッ化物、たとえばフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ３）、フッ化セリウム（ＣｅＦ３）、フッ化ランタン（ＬａＦ３）、フッ化アルミニウムナトリウム（Ｎａ３ＡｌＦ６またはＮａ５Ａｌ３Ｆ１４など）、フッ化ネオジム（ＮｄＦ３）、フッ化サマリウム（ＳｍＦ３）、フッ化バリウム（ＢａＦ２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）ならびにこれらの組み合わせ、またはおよそ１．６５以下の屈折率を有する他の任意の低屈折率材料が含まれる。例として、有機モノマーおよびポリマーを低率材料として利用することができ、これらの材料としては、ジエンまたはアルケン、たとえばアクリレート（メタクリレートなど）、ペルフルオロアルケンのポリマー、ポリテトラフルオロエチレン（ＴＥＦＬＯＮ（登録商標））、フッ素化エチレンプロピレン（ＦＥＰ）のポリマー、パリレン、ｐ−キシレン、これらの組み合わせ等が含まれる。また、上記の材料には、その開示が参照により本明細書に組み入れられる米国特許第５，８７７，８９５号に記載されている方法によって付着させることができる、蒸発、凝縮および架橋結合された透明なアクリレート層が含まれる。
【０１６３】
したがって、好ましい干渉顔料は、（ａ）屈折率が高い金属酸化物に加え、（ｂ）屈折率が低い金属酸化物を含み、ここで両方の屈折率の差は少なくとも０．１である。
【０１６４】
指示された順序で湿式化学方法によって被覆された酸化ケイ素（ＳｉＯｚ）基材に基づく顔料が特に好ましく、その順序とは、：
ＴｉＯ２（基材：酸化ケイ素、層：ＴｉＯ２、好ましくはルチル型）、（ＳｎＯ２）ＴｉＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４、ＴｉＦｅ２Ｏ５、Ｃｒ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ｓｎ（Ｓｂ）Ｏ２、ＢｉＯＣｌ、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｅ２Ｓ３、ＭｏＳ２、Ｆｅ２Ｏ３・ＴｉＯ２（基材：酸化ケイ素、Ｆｅ２Ｏ３とＴｉＯ２との混合層）、ＴｉＯ２／Ｆｅ２Ｏ３（基材：酸化ケイ素、第一層：ＴｉＯ２、第二層：Ｆｅ２Ｏ３）、ＴｉＯ２／ベルリンブルー、ＴｉＯ２／Ｃｒ２Ｏ３またはＴｉＯ２／ＦｅＴｉＯ３
である。概して、層厚さの範囲は１〜１０００nm、好ましくは１〜３００nmである。
【０１６５】
もう一つの具体的に好ましい実施態様では、本発明は、高屈折率および低屈折率の交互に並ぶ少なくとも三つの層、たとえばＴｉＯ２／ＳｉＯ２／ＴｉＯ２、（ＳｎＯ２）ＴｉＯ２／ＳｉＯ２／ＴｉＯ２、ＴｉＯ２／ＳｉＯ２／ＴｉＯ２／ＳｉＯ２／ＴｉＯ２またはＴｉＯ２／ＳｉＯ２／Ｆｅ２Ｏ３を含む干渉顔料に関する。好ましくは、この層構造は、：
（Ａ）１．６５を上回る屈折率を有する被覆、
（Ｂ）≦１．６５の屈折率を有する被覆、
（Ｃ）１．６５を上回る屈折率を有する被覆、及び
（Ｄ）場合により、外側の保護層と
である。
【０１６６】
ベース基材上の高屈折率および低屈折率の個々の層の厚さは、顔料の光学的特性にとって必須である。個々の層、特に金属酸化物層の厚さは、使用分野によって異なり、一般的には１０〜１０００nm、好ましくは１５〜８００nm、具体的には２０〜６００nmである。
【０１６７】
層（Ａ）の厚さは、１０〜５５０ｎｍ、好ましくは１５〜４００ｎｍ、具体的には２０〜３５０ｎｍである。層（Ｂ）の厚さは、１０〜１０００ｎｍ、好ましくは２０〜８００ｎｍ、具体的には３０〜６００ｎｍである。層（Ｃ）の厚さは、１０〜５５０ｎｍ、好ましくは１５〜４００ｎｍ、具体的には２０〜３５０ｎｍである。
【０１６８】
層（Ａ）にとって具体的に好適な材料は、金属酸化物、金属硫化物または金属酸化物混合物、たとえばＴｉＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、ＴｉＦｅ２Ｏ５、Ｆｅ３Ｏ４、ＢｉＯＣｌ、ＣｏＯ、Ｃｏ３Ｏ４、Ｃｒ２Ｏ３、ＶＯ２、Ｖ２Ｏ３、Ｓｎ（Ｓｂ）Ｏ２、ＳｎＯ２、ＺｒＯ２、チタン酸鉄、酸化鉄水和物、亜酸化チタン（２〜＜４未満の酸化状態を有する還元チタン種）、バナジウム酸ビスマス、アルミン酸コバルトであり、これらの化合物同士または他の金属酸化物との混合物または混合相でもある。金属硫化物被覆は、好ましくは、スズ、銀、ランタン、希土類金属、好ましくはセリウム、クロム、モリブデン、タングステン、鉄、コバルトおよび／またはニッケルの硫化物から選択される。
【０１６９】
層（Ｂ）にとって具体的に好適な材料は、金属酸化物または対応する酸化物水和物、たとえばＳｉＯ２、ＭｇＦ２、Ａｌ２Ｏ３、ＡｌＯＯＨ、Ｂ２Ｏ３またはこれらの混合物、好ましくはＳｉＯ２である。
【０１７０】
層（Ｃ）にとって具体的に好適な材料は、無色または有色の金属酸化物、たとえばＴｉＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、ＴｉＦｅ２Ｏ５、Ｆｅ３Ｏ４、ＢｉＯＣｌ、ＣｏＯ、Ｃｏ３Ｏ４、Ｃｒ２Ｏ３、ＶＯ２、Ｖ２Ｏ３、Ｓｎ（Ｓｂ）Ｏ２、ＳｎＯ２、ＺｒＯ２、チタン酸鉄、酸化鉄水和物、亜酸化チタン（２〜＜４の酸化状態を有する還元チタン種）、バナジウム酸ビスマス、アルミン酸コバルトであり、これらの化合物同士または他の金属酸化物との混合物または混合相でもある。また、ＴｉＯ２層は、吸収材料、たとえば炭素、選択的に吸収する着色剤、選択的に吸収する金属カチオンを含むこともでき、吸収材料で被覆する、または部分的に還元することができる。
【０１７１】
吸収または非吸収材料の中間層は、層（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）の間に存在することができる。中間層の厚さは、１〜５０ｎｍ、好ましくは１〜４０ｎｍ、具体的には１〜３０ｎｍである。
【０１７２】
この実施態様では、好ましい干渉顔料は下記の層構造を有する。
【表３】
【０１７３】
顔料は、薄いＳｉＯｚフレークの厚さが精密に画定され、その表面が平滑であることを特徴とする。
【０１７４】
ジルコニウム、チタン、鉄および亜鉛の金属酸化物、これらの金属の酸化物水和物、チタン酸鉄、亜酸化チタンまたはこれらの混合物は、好ましくは湿式化学方法による沈殿によって塗布し、適宜、金属酸化物を還元することが可能である。金属酸化物の層は、好ましくは湿式化学被覆で塗布し、真珠光沢顔料の生成用に開発された湿式化学被覆方法を使用することができる。これらの湿式化学被覆は、例として、ドイツ特許第Ａ−１４ ６７ ４６８号、ドイツ特許第Ａ−１９ ５９ ９８８号，ドイツ特許第Ａ−２０ ０９ ５６６号、ドイツ特許第Ａ−２２ １４ ５４５号、ドイツ特許第Ａ−２２ １５ １９１号、ドイツ特許第Ａ−２２ ４４ ２９８号、ドイツ特許第Ａ−２３ １３ ３３１号、ドイツ特許第Ａ−２５ ２２ ５７２号、ドイツ特許第Ａ−３１ ３７ ８０８号、ドイツ特許第Ａ−３１ ３７ ８０９号、ドイツ特許第Ａ−３１ ５１ ３４３号、ドイツ特許第Ａ−３１ ５１ ３５４号、ドイツ特許第Ａ−３１ ５１ ３５５号、ドイツ特許第Ａ−３２ １１ ６０２号およびドイツ特許第Ａ−３２ ３５ ０１７号、ドイツ特許第１９５ ９９ ８８号、国際公開公報第９３／０８２３７号、国際公開公報第９８／５３００１号ならびに国際公開公報第０３／６５５８号に記載されている。
【０１７５】
屈折率が高い金属酸化物は、好ましくはＴｉＯ２および／または酸化鉄であり、屈折率が低い金属酸化物は、好ましくはＳｉＯ２である。ＴｉＯ２の層は、ルチル型またはアナターゼ型であることができ、ルチル型が好ましい。例として、欧州特許第Ａ−７３５，１１４号、ドイツ特許第Ａ−３４３３６５７号、ドイツ特許第Ａ−４１２５１３４号、欧州特許第Ａ−３３２０７１号、欧州特許第Ａ−７０７，０５０号または国際公開公報第９３／１９１３１号に記載されている、アンモニア、水素、炭化水素蒸気もしくはこれらの混合物または金属粉末といった公知の手段によってＴｉＯ２層を還元することもできる。
【０１７６】
例として、ドイツ特許第Ａ−１９５ ０１ ３０７号に記載されている方法と同様に、適宜、有機溶剤および塩基触媒の存在下でソルゲルプロセスによって一つ以上の金属酸エステルの制御加水分解を行い、金属酸化物層を生成することにより、金属酸化物層を得ることも可能である。好適な塩基触媒は、例として、アミン、たとえばトリエチルアミン、エチレンジアミン、トリブチルアミン、ジメチルエタノールアミンおよびメトキシプロピルアミンである。有機溶剤は、水混和性溶剤、たとえばＣ１−４アルコール、特にイソプロパノールである。
【０１７７】
あるいは、流動層において、少なくとも４００℃、特に４００℃を上回る温度、好ましくは９００℃〜１１００℃の温度で、好ましくは遊離した材料の形態において、無酸素雰囲気中、たとえば、例としてアルゴンおよび／もしくはヘリウムまたは１３Pa（１０−１Torr）未満の真空下でＳｉＯｙフレークを加熱し、ケイ素／酸化ケイ素フレークを形成することができる。ＳｉＯｚの代わりに、ケイ素／酸化ケイ素フレークをエフェクト顔料の基材として使用することができる（国際公開公報第０３／１０６５６９号）。
【０１７８】
あるいは、本発明のプロセスを使用して、国際公開公報第０４／０６５２９５号に記載されている多孔性のＳｉＯｚフレークを生成することができる。
【０１７９】
本発明のプロセスを使用することにより、（国際公開公報第０３／１０６５６９号）に記載されている顔料であって、：
（ａ２）無酸素雰囲気中で４００℃を上回る温度でＳｉＯ０．７０〜０．９９層を加熱することで得ることが可能なケイ素／酸化ケイ素層と、
（ｂ２）無酸素雰囲気中で４００℃を上回る温度でＳｉＯ１．００〜１．８層を加熱することで得ることが可能なケイ素／酸化ケイ素層と、
（ｃ２）無酸素雰囲気中で４００℃を上回る温度でＳｉＯ０．７０〜０．９９層を加熱することで得ることが可能なケイ素／酸化ケイ素層と、
場合によりさらなる層とをこの順序で含む顔料を調製することができる。
【０１８０】
ＳｉＯ１．００〜１．８層は、好ましくは、１３００℃を上回る温度でのＳｉとＳｉＯ２との混合物の反応によって蒸発器内で生成される一酸化ケイ素蒸気から形成される。
【０１８１】
ＳｉＯ０．７０〜０．９９層は、好ましくは、最大で２０重量%の量のケイ素を含有する一酸化ケイ素を、１３００℃を上回る温度で蒸発させることで形成される。
【０１８２】
例として、≦１．６の屈折率を有する無機誘電体（たとえばＳｉＯ２、ＳｉＯ（ＯＨ）２等）の、２〜２５０ｎｍの厚さ（好ましくは１０〜１００ｎｍの厚さ）の追加的な保護層によって耐候性を増加させることが可能である。
【０１８３】
層（ｂ２）の厚さは、一般的には５０〜４００ｎｍ、特に５０〜３００ｎｍである。
【０１８４】
層（ａ２）および（ｃ２）の厚さは、一般的には５０〜２００ｎｍ、特に５０〜１００ｎｍである。
【０１８５】
加えて、空気またはいくらか他の酸素含有ガス中で２００℃を上回る温度、好ましくは４００℃を上回る温度、特に５００〜１０００℃の温度でフレークに酸化的加熱処理を施すことができる。
【０１８６】
近似した手法において、：
（ａ３）無酸素雰囲気中で４００℃を上回る温度でＳｉＯ１．００〜１．８層を加熱することで得ることが可能なケイ素／酸化ケイ素層と、
（ｂ３）無酸素雰囲気中で４００℃を上回る温度でＳｉＯ０．７０〜０．９９層を加熱することで得ることが可能なケイ素／酸化ケイ素層と、
（ｃ３）無酸素雰囲気中で４００℃を上回る温度でＳｉＯ１．００〜１．８層を加熱することで得ることが可能なケイ素／酸化ケイ素層と、
場合によりさらなる層（層（ｂ２）の厚さは一般的には５０〜４００ｎｍ、特に１００〜３００ｎｍであり、層（ａ３）および（ｃ３）の厚さは一般的には５０〜２００ｎｍ、特に５０〜１００ｎｍである）とをこの順序で含む顔料が利用可能である。
【０１８７】
数１０−２Paの工業用真空下で（Ｓｉ／ＳｉＯ２またはＳｉＯ／Ｓｉの代わりに）Ｓｉを蒸発させると、酸素含有量が０．７０未満の酸化ケイ素、換言すると０．０３≦ｘ≦０．６９、特に０．０５≦ｘ≦０．５０、とりわけ０．１０≦ｘ≦０．３０であるＳｉＯｘを得ることができる（国際公開公報第０３／０７６５２０号）。
【０１８８】
したがって、さらなる好ましい態様では、顔料は、：
（ａ４）無酸素雰囲気中で４００℃を上回る温度でＳｉＯ０．０３〜０．６９層を加熱することで得ることができるケイ素／酸化ケイ素層と、
（ｂ４）無酸素雰囲気中で４００℃を上回る温度でＳｉＯ１．００〜１．８層を加熱することで得ることができるケイ素／酸化ケイ素層と、
（ｃ４）無酸素雰囲気中で４００℃を上回る温度でＳｉＯ０．０３〜０．６９層を加熱することで得ることができるケイ素／酸化ケイ素層と、
場合によりさらなる層とをこの順序で含むか、
または、顔料は、：
（ａ５）無酸素雰囲気中で４００℃を上回る温度でＳｉＯ０．０３〜０．６９層を加熱することで得ることができるケイ素／酸化ケイ素層と、
（ｂ５）無酸素雰囲気中で４００℃を上回る温度でＳｉＯ０．７０〜０．９９層を加熱することで得ることができるケイ素／酸化ケイ素層と、
（ｃ５）無酸素雰囲気中で４００℃を上回る温度でＳｉＯ０．０３〜０．６９層を加熱することで得ることができるケイ素／酸化ケイ素層と、
場合によりさらなる層とをこの順序で含む。
【０１８９】
酸素の存在下で１５０〜５００℃、好ましくは１７５〜３００℃で加熱すると、予想外の結果として、約２０ｎｍの厚さなど、非常に薄い二酸化ケイ素表層が生成され、これは、ＳｉＯ２／（ａ４）／（ｂ４）／（ｃ４）／ＳｉＯ２またはＳｉＯ２／（ａ５）／（ｂ５）／（ｃ５）／ＳｉＯ２という層順序を有する構造を生成するための非常に好都合な方法である。
【０１９０】
本発明は、塗料、織物、インクジェット印刷、化粧品、印刷インク、プラスチック材料、被覆、特に自動車仕上げ、セラミックおよびガラスの艶出しならびにセキュリティ印刷における、本発明によるＳｉＯｚフレークをベースとする顔料の使用にも関する（例として、国際公開公報第０４／０３５６９３号を参照されたい）。
【０１９１】
加えて、米国特許第６３７６０１８号および国際公開公報第０１／０２５５００号に記載されている装置は、原則として、面平行な構造の生成に使用することができる。
【０１９２】
このような装置は、本発明のプロセスに適応され、：
軸を中に回転可能であり、真空室内に配設される硬いキャリヤーと、
少なくとも一つの生成物層によって前記キャリヤーの部分的表面を被覆するための手段と、
前記生成物層を塗布する前に、分離剤ＩおよびＩＩの層で前記キャリヤーを被覆するための手段と、
前記分離剤Ｉの層を溶解させ、面平行な小板の前駆物質を生成することにより、前記キャリヤーの前記部分的表面から前記生成物層を脱離させるための手段とを含み、
前記被覆手段と前記脱離手段との間における前記部分的表面の移動が前記キャリヤーの回転を通して行われる。
【０１９３】
好ましくは、前記キャリヤーを真空室内に配設し、二つの圧力段階を設けるための中間分離を、前記の生成物および分離剤層で被覆するための手段と脱離手段との間に提供する。
【０１９４】
キャリヤーは、開放された、または閉じられた硬い回転対称体を含む。
【０１９５】
キャリヤーは、共通の軸またはいくつかの軸を中心に回転する、開放された、または閉じられたいくつかの硬い回転対称体を含むか、または、キャリヤーは、前記被覆手段によって少なくとも一つを両面被覆することができるいくつかの平行なディスクを含む。
【０１９６】
前記実施態様では、面平行な小板を生成するためのプロセスは、；
Ｉ）軸を中心に回転可能であり、真空室内に配設される硬いキャリヤーの部分的表面を、その後、分離剤Ｉの層、分離剤ＩＩの層、少なくとも一つの生成物層および分離剤ＩＩの層で被覆する工程と、
ＩＩ）工程Ｉ）の後、前記キャリヤーの回転を通して前記部分的表面を移動させる工程と、
ＩＩＩ）工程ＩＩ）の後、分離剤Ｉの層を溶解させ、面平行な小板の前駆物質を生成することを通し、前記真空室内に配設される前記キャリヤーの前記部部的表面から前記生成物層を脱離させる工程と
を含む。
【０１９７】
分離ＩＩを好適な溶剤に溶解させることにより、面平行な小板の前駆物質を面平行な小板に変換する。
【０１９８】
工程Ｉ）〜ＩＩＩ）は、好ましくは前記キャリヤーの一回転中に実行する。
【０１９９】
工程Ｉ）、ＩＩ）およびＩＩＩ）は、好ましくは、前記キャリヤーの同じ角速度において前記キャリヤーの異なる部分的表面上で連続的かつ同時に実行する。
【０２００】
分離剤ＩおよびＩＩは、原則として、浸漬、転造、注入または溶射によって塗布することができるが、好ましくは物理蒸着によって塗布する。
【０２０１】
有利には、工程Ｉ）において表面被覆をキャリヤーの部分的表面に塗布することができ、場合により、キャリヤーの冷却を通してキャリヤー上で層を凝固させる。その後、分離剤Ｉ、ＩＩおよび生成物の層を高真空中で蒸着させた後、工程ＩＩＩ）において前記表面被覆を溶融させると、分離剤Ｉ、ＩＩおよびその上に配設された生成物の追加的な層が脱落し、フレークとなる。
【０２０２】
表面被覆は、好ましくは、安価な冷却手段、たとえば水冷却および単純な冷凍機器によって簡単に得られる温度において固体である。分離剤および生成物の層の付着中に表面被覆が溶融することのないよう、表面被覆は、比較的高い十分な融点を有するべきである。プロセスに固有な条件について、表面被覆は、化学的に不活性であるべきである。詳しくは、表面被覆は、表面被覆に付着する薄い膜の層と反応するべきではない。表面被覆は、容易に分離させることができるよう、穏やかな温度で容易に溶融するべきである。
【０２０３】
好ましくは、表面材料は、薄い膜の粒子に負の影響を及ぼさない好都合な溶剤に対して可溶性である。好ましい表面材料は、オレフィン材料、たとえば高精製ワックスから作製される。好ましくは、ワックスは、最終的な融点よりもおよそ２０℃高い初期の融点を有する。本明細書で使用する「ワックス」という用語は、パラフィンワックス、微結晶ワックス、ポリエチレンワックスおよび類似の特性を有する他の類似の材料を含むものとする。本発明において有効であることが確認されている特定の材料は、精製パラフィンワックスとして指定されるＲＯＢＷＡＸ２６００、ＲＯＢＷＡＸ２５２１、ＲＯＢＷＡＸ２４２１、ＲＯＢＷＡＸ２３５１およびＲＯＢＷＡＸ２２７１であり、すべてペンシルバニア州ハーバーフォード（Ｈａｖｅｒｆｏｒｄ）のＣ．Ｊ．Ｒｏｂｅｒｔｓｏｎ Ｃｏ．Ｉｎｃ．によって販売されている。
【０２０４】
分離剤Ｉの層を溶解させる代わりに、ドラムの表面に隣接して置かれたナイフの刃を使用し、薄い膜の構造を掻き落とすことができる。
【０２０５】
装置を変更することなく、プロセスを使用して、分離剤Ｉ上に分離ＩＩおよび生成物の交互に並ぶ層を膨大な数にわたって調製することができる［分離剤Ｉ／（分離剤ＩＩ、生成物）ｎ／分離剤ＩＩ、ここでｎは分離ＩＩおよび生成物の繰り返し数であり、好ましい範囲は１〜１５０である。原則として、さらなる繰り返しが可能であり、最大の繰り返し数ｎは、分離剤Ｉの接着力によって画定される。
【０２０６】
まず、蒸発器を使用して分離剤Ｉを蒸着させる。分離剤ＩＩおよび生成物の蒸発器を密閉型バッフルで閉じる。
【０２０７】
次に、二つの異なる蒸発器を使用して分離剤ＩＩおよび生成物を蒸着させる。分離剤Ｉの蒸発器を密閉型バッフルで閉じる。
【０２０８】
次に、分離剤ＩおよびＩＩならびに生成物の蒸発器を密閉型バッフルで閉じ、水中で分離剤Ｉを溶解させることにより、フレークを回転可能体から分離させる。
【０２０９】
蒸発区域中、いくつかの分離剤および生成物蒸発器を回転可能体の走行方向に一列に並べることが可能である。この手段により、装置の点でほとんど追加的な出費なしに、ＳＩ＋ＳＩＩ＋Ｐ＋ＳＩＩ＋Ｐ＋ＳＩＩ（ＳＩは分離剤Ｉの層であり、ＳＩＩは分離剤ＩＩの層であり、Ｐは生成物層である）の連続層が得られる。
【０２１０】
もう一つの好ましい実施態様では、本発明は、回折顔料フレークの生成に関する。回折顔料フレークは、その表面上に形成される回折構造を有する単一または複数の層を含む。複数層のフレークは、反射コア層の対向する両側部に対称のスタック化被覆構造を有するか、または反射コア層の周囲を封止被覆して形成することができる。回折顔料フレークは、その上に多様な回折構造を載せ、選択された光学効果を生成するように形成することができる。具体的には、回折顔料フレークは、その製作上、高度な光学効果を提供する物理および微小機械性質と共に特定の回折表面微細構造を有する。フレーク上の回折構造は、光学干渉パターン、たとえば回折格子またはホログラフィー像パターンであることができる。所望の光学効果に応じて、最適な回折効果を有するフレークの生成に好適な格子状微細構造が選択される。回折および反射光学素子を正しく組み合わせることにより、このような光学効果を設け、例として、見る人の位置が変わるにつれて変化し、きらめく、強力で目立つ光学効果を生成する。例として、顔料フレークは、広範な光学効果を設ける高頻度回折格子微細構造、たとえば１mm当たりの格子線数（ln／mm）がおよそ１１００を超える回折格子パターンを含むことができる。換言すると、この回折効果は、可視光波長領域の外側、たとえば紫外線（ＵＶ）波長領域または赤外線（ＩＲ）波長領域においてのみ知覚可能である。この隠れたフィーチャは、ＵＶまたはＩＲ波長領域のみで優先的に回折効果を設ける格子を使用することで生成される。例として、法線入射において、およそ２５００ln／mmを上回る格子頻度を有するフレークは、およそ１００nm〜およそ４００nmの波長領域においてのみ知覚可能な回折効果を生成する。このため、このような回折フレークの存在を迅速かつ正確に検知するように従来型のＵＶ検知装置を構成することができるが、一方で人間の肉眼では、この回折構造の存在を検知することはできない。
【０２１１】
回折フレークは、およそ５００nm〜およそ２ミクロン（２，０００nm）、好ましくはおよそ５００nm〜およそ１４００nm（１．４ミクロン）の物理厚さを有するように形成することができる。フレーク上の回折構造の線頻度は、好ましくはおよそ１，２００ln／mmを上回り、これにより、法線入射から少なくともおよそ６０度まで、法線入射において照らされるときに、一次または高次の回折ビームにおける可視光波長領域に対応する光が、高次の回折ビームにおける同じ波長領域から実質的に角度分離されるようになる。回折構造は、少なくともおよそ１，４００ln／mmの頻度とおよそ１６０nmを上回る溝深さとを有する線形ブレーズされた（すなわち鋸歯形状）格子であるか、または少なくともおよそ２，０００ln／mmの頻度とおよそ１６０nmを上回る溝深さとを有する線形正弦格子であることができる。
【０２１２】
回折フレークの一つの好ましい実施態様では、透明な誘電体材料、たとえばフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）およびＳｉＯｚを第一層および第三層として付着させ、不透明な第二（内側）アルミニウム層を覆う補強保護層を形成することができる。ＭｇＦ２またはＳｉＯｚ層は、好ましくはそれぞれおよそ２５０nm〜およそ４５０nmの厚さであり、アルミニウム層は、好ましくはおよそ８０nm〜およそ１６０nmの厚さである。回折フレークは、約１，４００nm未満、好ましくはおよそ５００nm〜およそ９００nmの合計厚さを有する。
【０２１３】
回折構造は、フレークの主表面の一方または両方の少なくとも一部の上に形成される。フレーク上の回折構造は、少なくともおよそ１，４００ln／mmの格子と少なくともおよそ１５０nmの格子深さとを有する回折格子パターンであることができる。好ましくは、回折格子パターンは、およそ１４００〜およそ３５００ln／mmの格子とおよそ１５０nm〜およそ２３０nmの格子深さとを有することができ、より好ましくは、この回折格子パターンは、およそ１４００〜およそ１７００ln／mmの格子とおよそ１６０nm〜およそ２２０nmの格子深さとを有することができる。
【０２１４】
回折フレークが単一層からなる場合、反射材料を使用して前記層を形成することができる。現在のところ好ましい反射材料としては、さまざまな金属または金属合金が含まれ、その理由として、金属または金属合金は反射率が高く、かつ使用し易いことがあるが、非金属反射材料を使用することもできる。好適な金属性材料の限定されない例としては、アルミニウム、銀、銅、金、白金、スズ、チタン、パラジウム、ニッケル、コバルト、ロジウム、ニオブ、クロムおよびこれらの化合物、組み合わせまたは合金が含まれる。単一層からなるフレークは、およそ５００nm〜およそ１４００nm、好ましくはおよそ７００nm〜およそ１２００nmの物理厚さを有することができる。
【０２１５】
もう一つの好ましい実施態様では、回折金属フレークは、厚さが２０〜６０nmであり、回折格子がcm当たりでおよそ５，０００〜およそ１１，０００の溝を有する単一層からなる。
【０２１６】
回折フレークは、中央の反射体層および対向する誘電体層を含み、反射体層の少なくとも一つの側部表面ではない反射体層の対向する主表面上において、一般的に対称的な薄い膜の構造を有する三層設計を有することができる。反射体層は、単一層フレークについて前述したものと同じ反射材料から構成することができる。誘電体層は、さまざまな誘電体、たとえばおよそ１．６５以下の屈折率、好ましくはおよそ１．５以下の屈折率を有するものから構成することができる。好適な誘電体材料の限定されない例としては、フッ化マグネシウム、ＳｉＯｚ、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、フッ化アルミニウム、フッ化セリウム、フッ化ランタン、フッ化ネオジム、フッ化サマリウム、フッ化バリウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウムおよびこれらの組み合わせが含まれる。反射体層は、およそ４０nm〜およそ２００nm、好ましくはおよそ８０nm〜およそ１６０nmの物理厚さを有することができる。誘電体層は、それぞれおよそ１ミクロン以下、好ましくはおよそ２００nm〜およそ６００nm、より好ましくはおよそ２５０nm〜およそ４５０nmの物理厚さを有することができる。
【０２１７】
回折フレークを製作するための方法では、分離剤層、反射体層および場合により誘電体層を、その表面に回折格子を有する（可動）キャリヤーに、所望のフレーク構成にしたがって順次的な手法で付着させる。回折フレークは、分離剤を好適な溶剤中に溶解させることで分離させる。キャリヤーは、型押し金属キャリヤー、たとえば金属ベルト、回転ディスクまたは円筒であることができる。回折格子はエッチングによって生成することができる。金属の代わりに、耐熱プラスチック、たとえばＣａｐｔｏｎ（登録商標）を使用することができる。
【０２１８】
本発明は、塗料、織物（例として、国際公開公報第０４／０３５９１１号を参照されたい）、インクジェット印刷（例として、国際公開公報第０４／０３５６８４号を参照されたい）、化粧品（例として、国際公開公報第０４／０２０５３０号を参照されたい）、印刷インク、プラスチック材料、被覆、特に自動車仕上げ、セラミックおよびガラスの艶出しならびにセキュリティ印刷における、本発明によるアルミニウムフレークをベースとする顔料の使用にも関する。
【０２１９】
アルミニウムコア上に存在する層がＰＶＤによって塗布される場合、これらの層は、コアの平行面上のみに存在し、側部面上には存在しない。（さらなる）層を湿式化学沈殿によって塗布する場合、これらの層はフレークの表面全体を覆う。
【０２２０】
次の実施例は本発明を例示するものであって、本発明の範囲を限定するものではない。別段の指示がない限り、百分率および部はそれぞれ重量百分率および重量部である。
【０２２１】
実施例
【０２２２】
実施例１
【０２２３】
１０−５mbarの真空下の真空室内において、下記の工程を行う。
ａ）ペンタエリスリトールの３００nmの層を１．２m2の研磨されたステンレス鋼基材上に昇華させる。
ｂ）ピロメリット酸二無水物（ＣＡＳ［８９−３２−７］）の３００nmの層をペンタエリスリトール層上に昇華させる。
ｃ）Ａｌの４０nmの層をピロメリット酸二無水物層上に蒸発させる。
ｄ）工程２）および３）を８回にわたって繰り返す。
ｅ）最終的に、ピロメリット酸二無水物の３００nmの層を最後のＡｌ層上に昇華させる。
【０２２４】
ステンレス鋼基材を真空室から取り除く。ペンタエリスリトール層を水中に溶解させ、Ａｌ／ピロメリット酸二無水物の多層フレークを集める（スラリー）。スラリーの水をエタノールで置換し、ピロメリット酸二無水物を溶解させ、エタノールを酢酸エチルで代替した後、酸化に対して安定な光輝Ａｌフレークを得る。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
面平行な小板を生成するためのプロセスであって、：
ａ）水に溶かし得る分離剤Ｉをキャリヤー上に付着させ、分離剤層を生成する工程と、
ｂ）水に溶かし得ない分離剤ＩＩを工程ａ）の分離剤層上に蒸着させる工程と、
ｃ）少なくとも一つの生成物層を工程ｂ）の分離剤層上に蒸着させる工程と、
ｄ）水に溶かし得ない分離剤ＩＩを工程ｃ）の生成物層上に蒸着させる工程と、
ｅ）工程ａ）の分離剤層を水中に溶解させ、少なくとも一つの生成物層が、側部表面を除く上部表面および下部表面を分離剤ＩＩで覆われている面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程と、
ｆ）工程ｂ）およびｄ）の分離剤層を溶剤中に溶解させ、少なくとも一つの層を含む生成物が面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程と
を含むプロセス。
【請求項２】
分離剤Ｉが蒸着される、請求項１記載のプロセス。
【請求項３】
分離剤Ｉが、アントラセン、アントラキノン、アセトアミドフェノール、アセチルサリチル酸、ショウノウ酸無水物、ベンズイミダゾール、ベンゼン−１，２，４−トリカルボン酸、ビフェニル−２，２−ジカルボン酸、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ジヒドロキシアントラキノン、ヒダントイン、３−ヒドロキシ安息香酸、８−ヒドロキシキノリン−５−スルホン酸一水和物、４−ヒドロキシクマリン、７−ヒドロキシクマリン、３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、イソフタル酸、４，４−メチレン−ビス−３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、ナフタレン−１，８−ジカルボン酸無水物、フタルイミドおよびそのカリウム塩、フェノールフタレイン、フェノチアジン、サッカリンおよびその塩、テトラフェニルメタン、トリフェニレン、トリフェニルメタノールならびにこれらの物質の少なくとも二つの混合物、特にペンタエリスリトール（Ｃ（ＣＨ２ＯＨ）４）、トリメシン酸（＝１，３，５ベンゼントリカルボン酸）、ＤＬ−アラニン、ＤＬ−バリン、２，６−ジアミノプリン、アスコルビン酸、１，３，５−ベンゼントリカルボン酸、ｏ−アセチルサリチル酸、ジフェン酸、テレフタル酸、ピロガロール、シアヌル酸、ヘキサメチルテトラミン（ウロトロピン）、フマル酸および４−アセチル安息香酸ならびにこれらの物質の少なくとも二つの混合物から選択される、請求項１または２記載のプロセス。
【請求項４】
分離剤ＩＩが、ポリマー、特に溶解することができる部分的に硬化したポリマー、ベンズイミダゾール、ジヒドロキシアントラキノン、４−ヒドロキシクマリン、７−ヒドロキシクマリン、アセトアミドフェノール、アントラセン、アントラキノン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、フェノールフタレイン、テトラフェニルメタン、トリフェニレン、トリフェニルメタノール、アダマンタンならびにアダマンタンの誘導体、たとえば１−シアノアダマンタン、１−アダマンタンカルボン酸、１−ヒドロキシアダマンタン、２−ヒドロキシアダマンタン、２−オキソアダマンタン、ジフェン酸、７−ヒドロキシクマリン、ベンゾグアナミン（２，４，６−ジアミノ−４−フェニル−１，３，５−トリアジン）、フェロセン、ショウノウおよび誘導体、アントラセン、９，１０−アントラキノンおよびピロメリット酸二無水物から選択される、請求項１〜３のいずれか一項記載のプロセス。
【請求項５】
面平行な小板が金属小板、特にＡｌ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｖ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｗ、Ｈｆ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｄまたはその合金、たとえばクロム−ニッケル、鉄−ニッケル、鉄−クロムおよびニッケル−コバルトの小板、とりわけＣｕ、Ａｇ、ＴｉもしくはＡｌまたはその合金の小板である、請求項１〜４のいずれか一項記載のプロセス。
【請求項６】
面平行な小板が、０．７０≦ｙ≦１．９５、好ましくは１．０≦ｚ≦１．８、もっとも好ましくは１．０≦ｚ≦１．６のＳｉＯｙフレークである、請求項１〜４のいずれか一項記載のプロセス。
【請求項７】
分離剤ＩＩおよび生成物の複数の層を交互に付着させ、各生成物層の上部表面および下部表面を分離剤ＩＩ層で覆う、請求項１〜６のいずれか一項記載のプロセス。
【請求項８】
面平行な小板の前駆体であって、：
（Ａ１）水中に溶かし得ない分離剤ＩＩからなる層と、
（Ｂ）層（Ａ１）上の少なくとも一つの生成物層と、
（Ａ２）層（Ｂ）上の分離剤ＩＩからなる層と
を含む面平行な小板の前駆体。
【請求項９】
分離剤層（Ａ１）および（Ａ２）の層厚さが２０〜５００nm、特に５０〜３００nmである、請求項８記載の面平行な小板の前駆体。
【請求項１０】
生成物層が、金属、特にＡｌ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｖ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｗ、Ｈｆ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｄもしくはその合金、特にＡｌ、Ｃｕ、ＡｇもしくはＴｉ；またはＳｉＯｙからなり，ここで０．７０≦ｙ≦１．９５、好ましくは１．０≦ｚ≦１．８、もっとも好ましくは１．０≦ｚ≦１．６である、請求項８または９記載の面平行な小板の前駆体。
【請求項１１】
面平行な小板を生成するための、請求項８〜１０のいずれか一項記載の面平行な小板の前駆体の使用。
【請求項１】
面平行な小板を生成するためのプロセスであって、：
ａ）水に溶かし得る分離剤Ｉをキャリヤー上に付着させ、分離剤層を生成する工程と、
ｂ）水に溶かし得ない分離剤ＩＩを工程ａ）の分離剤層上に蒸着させる工程と、
ｃ）少なくとも一つの生成物層を工程ｂ）の分離剤層上に蒸着させる工程と、
ｄ）水に溶かし得ない分離剤ＩＩを工程ｃ）の生成物層上に蒸着させる工程と、
ｅ）工程ａ）の分離剤層を水中に溶解させ、少なくとも一つの生成物層が、側部表面を除く上部表面および下部表面を分離剤ＩＩで覆われている面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程と、
ｆ）工程ｂ）およびｄ）の分離剤層を溶剤中に溶解させ、少なくとも一つの層を含む生成物が面平行な小板の形態で存在する懸濁液を生成する工程と
を含むプロセス。
【請求項２】
分離剤Ｉが蒸着される、請求項１記載のプロセス。
【請求項３】
分離剤Ｉが、アントラセン、アントラキノン、アセトアミドフェノール、アセチルサリチル酸、ショウノウ酸無水物、ベンズイミダゾール、ベンゼン−１，２，４−トリカルボン酸、ビフェニル−２，２−ジカルボン酸、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ジヒドロキシアントラキノン、ヒダントイン、３−ヒドロキシ安息香酸、８−ヒドロキシキノリン−５−スルホン酸一水和物、４−ヒドロキシクマリン、７−ヒドロキシクマリン、３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、イソフタル酸、４，４−メチレン−ビス−３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、ナフタレン−１，８−ジカルボン酸無水物、フタルイミドおよびそのカリウム塩、フェノールフタレイン、フェノチアジン、サッカリンおよびその塩、テトラフェニルメタン、トリフェニレン、トリフェニルメタノールならびにこれらの物質の少なくとも二つの混合物、特にペンタエリスリトール（Ｃ（ＣＨ２ＯＨ）４）、トリメシン酸（＝１，３，５ベンゼントリカルボン酸）、ＤＬ−アラニン、ＤＬ−バリン、２，６−ジアミノプリン、アスコルビン酸、１，３，５−ベンゼントリカルボン酸、ｏ−アセチルサリチル酸、ジフェン酸、テレフタル酸、ピロガロール、シアヌル酸、ヘキサメチルテトラミン（ウロトロピン）、フマル酸および４−アセチル安息香酸ならびにこれらの物質の少なくとも二つの混合物から選択される、請求項１または２記載のプロセス。
【請求項４】
分離剤ＩＩが、ポリマー、特に溶解することができる部分的に硬化したポリマー、ベンズイミダゾール、ジヒドロキシアントラキノン、４−ヒドロキシクマリン、７−ヒドロキシクマリン、アセトアミドフェノール、アントラセン、アントラキノン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、フェノールフタレイン、テトラフェニルメタン、トリフェニレン、トリフェニルメタノール、アダマンタンならびにアダマンタンの誘導体、たとえば１−シアノアダマンタン、１−アダマンタンカルボン酸、１−ヒドロキシアダマンタン、２−ヒドロキシアダマンタン、２−オキソアダマンタン、ジフェン酸、７−ヒドロキシクマリン、ベンゾグアナミン（２，４，６−ジアミノ−４−フェニル−１，３，５−トリアジン）、フェロセン、ショウノウおよび誘導体、アントラセン、９，１０−アントラキノンおよびピロメリット酸二無水物から選択される、請求項１〜３のいずれか一項記載のプロセス。
【請求項５】
面平行な小板が金属小板、特にＡｌ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｖ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｗ、Ｈｆ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｄまたはその合金、たとえばクロム−ニッケル、鉄−ニッケル、鉄−クロムおよびニッケル−コバルトの小板、とりわけＣｕ、Ａｇ、ＴｉもしくはＡｌまたはその合金の小板である、請求項１〜４のいずれか一項記載のプロセス。
【請求項６】
面平行な小板が、０．７０≦ｙ≦１．９５、好ましくは１．０≦ｚ≦１．８、もっとも好ましくは１．０≦ｚ≦１．６のＳｉＯｙフレークである、請求項１〜４のいずれか一項記載のプロセス。
【請求項７】
分離剤ＩＩおよび生成物の複数の層を交互に付着させ、各生成物層の上部表面および下部表面を分離剤ＩＩ層で覆う、請求項１〜６のいずれか一項記載のプロセス。
【請求項８】
面平行な小板の前駆体であって、：
（Ａ１）水中に溶かし得ない分離剤ＩＩからなる層と、
（Ｂ）層（Ａ１）上の少なくとも一つの生成物層と、
（Ａ２）層（Ｂ）上の分離剤ＩＩからなる層と
を含む面平行な小板の前駆体。
【請求項９】
分離剤層（Ａ１）および（Ａ２）の層厚さが２０〜５００nm、特に５０〜３００nmである、請求項８記載の面平行な小板の前駆体。
【請求項１０】
生成物層が、金属、特にＡｌ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｖ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｗ、Ｈｆ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｄもしくはその合金、特にＡｌ、Ｃｕ、ＡｇもしくはＴｉ；またはＳｉＯｙからなり，ここで０．７０≦ｙ≦１．９５、好ましくは１．０≦ｚ≦１．８、もっとも好ましくは１．０≦ｚ≦１．６である、請求項８または９記載の面平行な小板の前駆体。
【請求項１１】
面平行な小板を生成するための、請求項８〜１０のいずれか一項記載の面平行な小板の前駆体の使用。
【公表番号】特表２００９−５１６０７４（Ｐ２００９−５１６０７４Ａ）
【公表日】平成２１年４月１６日（２００９．４．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−５４０５７８（Ｐ２００８−５４０５７８）
【出願日】平成１８年１１月８日（２００６．１１．８）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００６／０６８２００
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０５７３２８
【国際公開日】平成１９年５月２４日（２００７．５．２４）
【出願人】（５０８１２０５４７）チバ ホールディング インコーポレーテッド (81)
【氏名又は名称原語表記】ＣＩＢＡ ＨＯＬＤＩＮＧ ＩＮＣ．
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２１年４月１６日（２００９．４．１６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１１月８日（２００６．１１．８）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００６／０６８２００
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０５７３２８
【国際公開日】平成１９年５月２４日（２００７．５．２４）
【出願人】（５０８１２０５４７）チバ ホールディング インコーポレーテッド (81)
【氏名又は名称原語表記】ＣＩＢＡ ＨＯＬＤＩＮＧ ＩＮＣ．
【Ｆターム（参考）】
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