【課題】ターゲットに含まれる強磁性金属元素の含有量を減少させずに、マグネトロンスパッタリング時の漏洩磁束量を従来よりも増加させることができるマグネトロンスパッタリング用ターゲットを提供する。
【解決手段】強磁性金属元素を有するマグネトロンスパッタリング用ターゲット１０であって、前記強磁性金属元素を含む磁性相１２と、前記強磁性金属元素を含み、かつ、構成元素またはその含有割合の異なる複数の非磁性相１４、１６と、酸化物相１８とを有しており、前記複数の非磁性相のうちの少なくとも１つの非磁性相１４は、磁性相１２よりも細かく酸化物相１８と分散し合っている。 （もっと読む）

【課題】粉体ベースのアディティブ・マニュファクチュアリング方法によって、ＮｉもしくはＣｏもしくはＦｅ又はそれらの組み合わせをベースとする耐熱超合金から構成される部品又はクーポン、すなわち部品の一部を製造する方法であって、テーラーメードの機械的特性の獲得に関して最適化された方法を提供する。
【解決手段】ＮｉもしくはＣｏもしくはＦｅ又はそれらの組み合わせをベースとする耐熱超合金から構成される部品又はクーポンの製造方法であって、ａ）前記の部品もしくはクーポンを、粉体ベースのアディティブ・マニュファクチュアリングプロセス（そのプロセスの間には、粉体は完全に溶融され、その後に固化される）によって形成する工程と、ｂ）前記の形成された部品もしくはクーポンを、特定の材料特性の最適化のために熱処理に供する工程とを含む方法において、ｃ）前記熱処理を、鋳造された部品もしくはクーポンと比較してより高い温度で行う。 （もっと読む）

【課題】高周波で高いμ’と低いμ”を備え特性に優れた磁性材料を提供する。
【解決手段】実施の形態の磁性材料は、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉからなる群から選ばれる少なくとも１つの磁性金属、Ｍｇ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｃａ，Ｚｒ，Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｎ，Ｍｎ，希土類元素、ＢａおよびＳｒから選ばれる少なくとも１つの非磁性金属を含有する磁性粒子と、上記磁性粒子の少なくとも一部を被覆する第１の酸化物の第１の被覆層と、上記磁性粒子間に存在し、第１の酸化物と共晶反応系を構成する第２の酸化物の酸化物粒子と、上記磁性粒子間に存在し、第１の酸化物と第２の酸化物の共晶組織を有する酸化物相と、を備える。 （もっと読む）

【課題】高周波領域で高いμ’と低いμ”を備え特性に優れた磁性材料を提供する。
【解決手段】実施の形態の磁性材料は、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉからなる群から選ばれる少なくとも１つの磁性金属を含有し、粒径が１μｍ以上平均粒径が５μｍ以上５０μｍ以下の複数の第１の磁性粒子と、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉからなる群から選ばれる少なくとも１つの磁性金属を含有し、粒径が１μｍ未満平均粒径が５ｎｍ以上５０ｎｍ以下の複数の第２の磁性粒子と、第１の磁性粒子および第２の磁性粒子間に存在する介在相と、を備える。 （もっと読む）

【課題】有機溶媒などを用いることなく簡易な方法で、所望の微細孔、特にナノメータオーダの微細孔を有する金属多孔質体を提供する。
【解決手段】平均粒子径が５ｎｍ以上量子効果による融点降下の開始点における粒径以下である第１の金属粒子を準備する。次いで、前記第１の金属粒子を、前記第１の金属粒子の第１の融点よりも低い第２の融点の第２の金属で被覆し、前記第１の金属粒子の表面に前記第２の金属からなる被膜を形成する。次いで、前記被膜を含む前記第１の金属粒子を加熱して前記被膜を溶解させ、得られた溶解物を介して前記第１の金属粒子を結合し、金属多孔質体を製造する。 （もっと読む）

【課題】 磁気記録媒体等に用いられる軟磁性膜形成用のＦｅ−Ｃｏ―Ｔａ系スパッタリングターゲット材において、スパッタリング時に発生するパーティクルを極力抑止することが可能なスパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】 Ｆｅ−Ｔａ粉末とＣｏ−Ｔａ粉末と純Ｔａ粉末とを混合して混合粉末を得る工程と、前記混合粉末を焼結温度１１００〜１４００℃、圧力１２５〜２００ＭＰａで１〜１０時間の加圧焼結をする工程とを有するＦｅ−Ｃｏ−Ｔａ系スパッタリングターゲット材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】スパッタリングターゲットの成分をその中により均一に分布させることに加えて、スパッタリング時のアーク放電効果及び不要な粒子の形成を減少させたＣｏＣｒＰｔに基づく合金スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】コバルト（Ｃｏ）、クロム（Ｃｒ）、白金（Ｐｔ）、酸化コバルト、及び非磁性酸化物組成物を含有し、スパッタリングターゲットに形成されるＣｒ_２Ｏ_３及びＣｏ（Ｃｒ）−Ｘ−Ｏのセラミック相の長さが、それぞれ３μｍ未満である（「Ｘ」は、非磁性酸化物の金属元素を表す）ＣｏＣｒＰｔに基づく合金スパッタリングターゲットとする。 （もっと読む）

【課題】長寿命だが、非常に効果的な摩擦撹拌工具を実現する。
【解決手段】摩擦撹拌溶着工具は、粉末金属材料から製造される溶着チップを備える摩擦撹拌溶着工具であって、前記粉末金属材料は鉄系であり、前記溶着チップの少なくとも一部は、（１）樹脂、（２）前記鉄系の材料よりも融点が低い別の材料、ならびに（３）ＣａＦ_２、ＭｎＳ、ＭｏＳ_２、ＢＮ、ＣａＣＯ_３、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、セラミック、炭化化合物、フェロニッケル、クロム、およびＣｒとＮｉとＣｏの合金からなる群より選択される少なくとも１つの添加剤、のうち少なくとも１つを含む。 （もっと読む）

【課題】ホウ化アルミニウムを含む、耐摩耗性材料、金属コーティング、粉末材料、ワイヤー材料、又は冶金製品を提供する。
【解決手段】マトリックス材料の硬度を増大し、その耐摩耗性を改善するための硬質相材料を提供する。硬質材料はＡｌＢ_8-16構造を有するホウ化アルミニウム材料である。ホウ化アルミニウム硬質相は、粒子状ホウ化アルミニウムをマトリックス材料と混合、マトリックス材料からのホウ化アルミニウムの析出を介してマトリックス材料に組み込んでもよい。ホウ化アルミニウム硬質相を含む材料を硬質耐摩耗性材料を提供するために、コーティング用途に用いてもよい。冶金生成物の硬度及び耐摩耗性を改善するために、ホウ化アルミニウム硬質相を冶金生成物に組み込んでもよい。 （もっと読む）

【課題】 飽和磁束密度、非晶質性および耐候性に優れた垂直磁気記録媒体用軟磁性合金において、マグネトロンスパッタ時に効率良く使用できるターゲット材を提供する。
【解決手段】 Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、ＴａおよびＢの２種以上を含有し、残部ＣｏおよびＦｅ、ならびに不可避的不純物よりなり、下記式１および式２を満足し、相対密度９９％以上であることを特徴とする垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金ターゲット材。
０．６０≦Ｆｅ／（Ｆｅ＋Ｃｏ）≦０．６５（ａｔ．％比） … （１）
５ａｔ％≦（Ｚｒ＋Ｈｆ＋Ｎｂ＋Ｔａ）＋Ｂ／２≦１０ａｔ％ … （２）
ただし、Ｂ：７％以下とする。 （もっと読む）

【課題】簡易な方法で、所望の微細孔、特にナノメータオーダの微細孔を有する金属多孔質体を提供する。
【解決手段】第１の金属材料を含有する金属粒子であって、該金属粒子の平均粒子径が５０ｎｍ〜１μｍの範囲内にある第１の金属粒子と、第２の金属材料を含有する第２の金属粒子の前駆体である金属塩又は金属錯体とを準備する工程と、前記第１の金属粒子及び前記金属塩又は金属錯体を混合して混合物を得る工程と、前記混合物を加熱することによって、前記金属塩又は前記金属錯体中の第２の金属材料が第２の金属粒子として生成し、前記第２の金属粒子を結合剤として前記第１の金属粒子を結合して、金属多孔質体を得る金属多孔質体生成工程とを有する、金属多孔質体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】簡易な方法で、所望の微細孔、特にナノメータオーダの微細孔を有する金属多孔質体を提供する。
【解決手段】平均粒子径が５０ｎｍ〜１μｍの範囲内にある第１の金属粒子と、第２の金属材料を含有する金属粒子の平均粒子径が５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内にあり、第１の金属粒子の平均粒子径以下である第２の金属粒子とを準備する。次いで、前記第１の金属粒子及び前記第２の金属粒子を混合して混合物を得るとともに、前記第２の金属粒子を溶融させ、得られた溶融物によって前記第１の金属粒子を結合し、金属多孔質体を製造する。 （もっと読む）

【課題】磁気記録膜用スパッタリングターゲットに対して、スパッタリング中のパーティクル発生を抑制し、かつバーンイン時間の短縮化が可能であり、漏洩磁束が大きく、マグネトロンスパッタ装置でスパッタする際に安定した放電が得られるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ｃｒ：２０ｍｏｌ％以下、Ｐｔ：３０ｍｏｌ％以下、残余がＣｏとするＣｏを主成分とする磁性合金と導電性酸化物からなる焼結体スパッタリングターゲットであって、焼結体ターゲット中に平均粒子径が１０〜１００μｍの範囲の導電性酸化物が分散されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 金属物品を融解せずに製造する方法。
【解決手段】 金属成分元素からなる金属物品（２０）を金属成分元素の非金属前駆体化合物の混合物から製造する。非金属前駆体化合物の混合物を化学的に還元して、初期金属材料を融解させずに、初期金属材料を生成させる。圧密化段階は実施可能な技術で実施すればよい。好ましい技術には、初期金属材料の熱間静水圧プレス、鍛造、加圧成形と焼結、及び容器押出がある。材料を圧密化して圧密化金属物品（２０）を生じさせる。圧密化は、好ましくは、初期金属材料の熱間静水圧プレス、鍛造、加圧成形と焼結、及び容器押出などによって行われる。 （もっと読む）

【課題】必要量のコバルト酸化物が残存し、スパッタ時のパーティクル発生が少ない十分な焼結密度を有するスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ｃｒが２０ｍｏｌ%以下、残余がＣｏである強磁性合金と非金属無機材料からなる焼結体スパッタリングターゲットであって、前記非金属無機材料が占める体積率が４０ｖｏｌ％以下で、前記非金属無機材料が少なくともコバルト酸化物とホウ素酸化物を含むことを特徴とするスパッタリングターゲット。金属粉末と少なくともコバルト酸化物とホウ素酸化物を含む非金属無機材料粉末を粉砕・混合して得られた混合粉末を保持温度は８００°Ｃ以下で加圧焼結装置により成型・焼結するスパッタリングターゲット用焼結体の製造法。 （もっと読む）

【課題】脱脂工程又は焼結工程の実施中に押し出し成形体にクラックが発生し易かったり押し出し成形体が分断され易かったりするという問題をはじめとする６つの問題をすべて解決することが可能な溶加材の製造方法を提供する。
【解決手段】第１の平均粒径を有する第１の合金粉末及び第２の平均粒径を有する第２の合金粉末を含む合金粉末と、水溶性のバインダー及び水とを混練してコンパウンドを作製するコンパウンド作製工程Ｓ２と、乾燥工程Ｓ４と、押し出し工程Ｓ６と、押し出し成形体を４００℃以上の所定温度にまで加熱する脱脂工程Ｓ８と、押し出し成形体を、真空雰囲気の下、９５０℃〜１１５０℃の範囲内にある所定温度にまで加熱するＣ−Ｏ反応工程Ｓ１０と、押し出し成形体を、窒素ガス雰囲気の下、１２００℃〜１３５０℃の範囲内にある所定温度にまで加熱して溶加材とする焼結工程Ｓ１２とをこの順序で含む溶加材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ターゲットに含まれる強磁性金属元素の含有量を減少させずに、マグネトロンスパッタリング時の漏洩磁束量を従来よりも増加させることができるマグネトロンスパッタリング用ターゲットを提供する。
【解決手段】強磁性金属元素を有するマグネトロンスパッタリング用ターゲットであって、前記強磁性金属元素を含む磁性相１２と、前記強磁性金属元素を含み、かつ、構成元素またはその含有割合の異なる複数の非磁性相１４、１６と、酸化物相１８とを有している。 （もっと読む）

【課題】磁性金属を樹脂に混練した場合に磁性金属と樹脂とが接触して触媒反応を生ずることを防止するとともに、磁性金属を混練した樹脂に十分な絶縁性を付与する。
【解決手段】磁性金属粒子１１と、磁性金属粒子１１を覆うセラミックス粒子１３とを含み、磁性金属粒子１１とセラミックス粒子１３との間に磁性金属粒子１１を構成する金属成分の無機化合物の中間層１２を有する電磁波吸収粉末を用いる。 （もっと読む）

【課題】圧粉体ロータ鍛造プリフォーム並びに鍛造圧粉体タービンロータ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】タービンロータ（１０）ディスク用の鍛造プリフォーム（２００）を開示する。本プリフォーム（２００）は、約５０００ポンド以上の質量を有する超合金材料（８）の本体を含み、超合金材料（８）は、ほぼ均質な粒子形態及び１０以下のＡＳＴＭ平均粒径を有する。鍛造タービンロータ（１０）ディスクも開示する。本ディスクは、約５０００ポンド以上の質量を有する超合金材料のほぼ円筒形ディスクを含み、超合金材料（８）は、ほぼ均質な粒子形態及び１０以下のＡＳＴＭ平均粒径を有する。タービンロータの製造方法（１００）も開示する。本方法（１００）は、超合金粉末材料を準備するステップ（１１０）と、超合金粉末材料を圧縮成形して（１２０）タービンロータディスク用の鍛造プリフォームを形成するステップとを含む。 （もっと読む）