化合物及び光学フィルム
【課題】広い波長域において一様の偏光変換が可能な新規光学フィルム及び該機能を与え得る新規化合物を提供する。
【解決手段】（式１）の化合物及びこの化合物に由来する構造単位を含有する光学フィルム。
【解決手段】（式１）の化合物及びこの化合物に由来する構造単位を含有する光学フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、化合物及び光学フィルムに関し、より詳細には、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置などのフラットパネル表示装置に用いられる偏光板等の光学フィルムに好適な化合物及び光学フィルム、さらに光学フィルムの製造方法、それを用いた光学部材及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
フラットパネル表示装置（ＦＰＤ）には、偏光板、位相差板などの光学フィルムを用いた部材が含まれている。光学フィルムとしては、たとえば、重合性化合物を溶剤に溶かして得られる溶液を、支持基材に塗布した後、重合して得られる光学フィルムなどが挙げられる。そして、波長λｎｍの光が与える光学フィルムの位相差（Ｒｅ（λ））は、複屈折率Δｎとフィルムの厚みｄとの積で決定されることが知られている（Ｒｅ（λ）＝Δｎ×ｄ）。また、波長分散特性は、通常、ある波長λにおける位相差値Ｒｅ（λ）を５５０ｎｍにおける位相差値Ｒｅ（５５０）で除した値（Ｒｅ（λ）／Ｒｅ（５５０））で表され、（Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０））が１に近い波長分散特性を示す光学フィルムによれば、位相差値の波長依存性を低減することができ、広い波長域において一様の偏光変換が可能であることが知られている。
上述した重合性化合物として、例えば、特許文献１に、式（Ａ）に示す重合性化合物が開示されている。
【化１】
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、式（Ａ）に示す重合性化合物を含んで製造される光学フィルムが与えるＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）の値は１．０６５であり、さらなる厳しい要求の元、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０））がより１に近い波長分散特性を示す光学フィルムが求められている。
本発明の課題は、広い波長域において一様の偏光変換が可能な新規な光学フィルムを与え得る新規な化合物及びそのような光学フィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、式（１）で表される化合物を提供する。
【化２】
（式（１）中、Ａ１は、フェニル基を表し、該フェニル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ニトリル基又はニトロ基で置換されていてもよい。
Ａ２は、１，４−フェニレン基を表す。
Ｂ１及びＢ２は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−ＯＣＨ２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−又は単結合を表す。ここで、Ｒは、炭素数１〜４のアルキル基又は水素原子を表す。
Ｅは、炭素数１〜２０のアルキレン基を表し、該アルキレン基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル又はハロゲン化アルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ又はハロゲン化アルコキシ基、ニトリル基あるいはニトロ基で置換されていてもよい。
Ｐは、水素原子又は式（Ｐ−１）〜式（Ｐ−５）のいずれかで表される基を表す。
【化３】
［式（Ｐ−１）〜式（Ｐ−５）中、Ｒ１〜Ｒ５は、それぞれ独立に、炭素数１〜４のアルキル基又は水素原子を表す。］）
この化合物では、式（１）中、Ｐが、式（Ｐ−１）で表される基であることが好ましい。
【０００５】
また、本発明によれば、上述した式（１）で表される化合物と、式（２）で表される化合物（ただし、式（１）で表される化合物とは同一ではない）とを含有する組成物が提供される。
D11-C11-(L11-B11)ｎ-L12-G （２）
（式（２）中、
B11は、２価の環状炭化水素又は複素環基を表し、該基に含まれる水素原子は、フッ素原子、炭素数１〜７のアルキル基又は炭素数１〜７のアルコキシ基で置換されていてもよい。
L11及びL12は、それぞれ独立に、−ＣＲ６Ｒ７−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＳ−、−ＣＳ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＳ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＯ−ＮＲ８−、−ＮＲ８−ＣＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＦ２−、−ＮＲ８−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−又は単結合を表す。Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜７のアルキル基を表すか、互いに結合して炭素数４〜６のアルキレン基を表してもよい。該アルキル基及びアルキレン基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。Ｒ８は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜７のアルキル基を表す。
C11は、炭素数２〜２５のアルキレン基を表す。該アルキレン基は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル又はハロゲン化アルキル基あるいは炭素数１〜４のアルコキシ又はハロゲン化アルコキシ基で置換されていてもよい。
D11は、重合性基を表す。
Gは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１３のアルキル又はハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、炭素数１〜１３のモノ又はジアルキルアミノ基、ニトリル基あるいはニトロ基であるか、炭素数２〜２５のアルキレン基を介して結合する重合性基を表し、該アルキレン基は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル又はハロゲン化アルキル基あるいは炭素数１〜４のアルコキシ又はハロゲン化アルコキシ基で置換されていてもよい。
ｎは１〜５の整数］
【０００６】
また、本発明によれば、上述した化合物に由来する構造単位を含有する光学フィルムであるか、上述した組成物を重合してなる光学フィルムが提供される。
【０００７】
さらに、本発明によれば、光学フィルムを透過する光の波長５５０ｎｍにおける位相差値（Ｒｅ（５５０））が、１１３〜１６３ｎｍであるλ／４板又は２５０〜３００ｎｍであるλ／２板として機能する光学フィルムが提供される。
【０００８】
また、本発明によれば、上述した光学フィルム及び偏光フィルムを含む偏光板が提供される。
本発明によれば、上述した光学フィルム及びカラーフィルタを含む光学部材が提供される。
さらに、本発明によれば、上述した偏光板及び／又は光学部材と、液晶パネル又は有機エレクトロルミネッセンスパネルとを備えるフラットパネル表示装置が提供される。
【０００９】
本発明によれば、支持基材又は支持基材上に形成された配向膜上に、上述した化合物を含む溶液を塗布し、乾燥させる未重合フィルムの製造方法が提供される。
さらに、この未重合フィルムの製造方法で得られた未重合フィルムを、重合により硬化させる光学フィルムの製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の化合物によれば、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の光学部材を示す断面図である。
【図２】本発明の偏光板を示す断面図である。
【図３】本発明の液晶パネルを示す断面図である。
【図４】本発明の薄型液晶表示装置を示す断面図である。
【図５】本発明の有機ＥＬパネルを示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明において、光学フィルムを作製するために好適に用いられる化合物は、式（１）で表される化合物（以下、化合物（１）と記すことがある）である。なお、本発明において、「光学フィルム」とは、光を透過し得るフィルムであって、光学的な機能を有するフィルムをいう。光学的な機能とは、屈折、複屈折などを意味する。
【化４】
（式（１）中、各置換基の定義は上記したとおりである）
【００１３】
式（１）において、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基等が例示される。
アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、１−メチルエチレン基、２−メチルエチレン基、テトラメチレン基、１−メチルトリメチレン基、２−メチルトリメチレン基、３−メチルトリメチレン基、１−エチルエチレン基、２−エチルエチレン基等が挙げられる。
【００１４】
ハロゲン化アルキル基としては、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、テトラフルオロエチル基、クロロエチル、ｎ−フルオロプロピル基、イソフルオロプロピル基、ｎ−フルオロブチル基、sec−フルオロブチル基、２−フルオロエチルヘキシル基等が挙げられる。
ハロゲン化アルコキシ基としては、トリフルオロメトキシ基、トリクロロメトキシ基、テトラフルオロエトキシ基、テトラクロロエトキシ基、フルオロプロポキシ基、フルオロブトキシ基、フルオロヘキシルオキシ基、フルオロオクチルオキシ基、２−フルオロエチルヘキシルオキシ基等が例示される。
【００１５】
なお、本明細書では、いずれの化学構造式においても、炭素数によって異なるが、特に断りのない限り、アルキル基等は、上記と同様のものが例示される。また、直鎖又は分岐の双方をとることができるものは、そのいずれをも含む。
【００１６】
特に、式（１）においては、Ｅにおけるアルキレン基は、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基（例えば、トリフルオロメチル基、トリフルオロメチルオキシ基）、ニトリル基、ニトロ基又はハロゲン原子で置換されているものが例示されるが、置換されていないものが好ましい。
Ｐ１及びＰ２は、式（Ｐ−１）〜（Ｐ−５）で表される基であると、得られる光学フィルム中に化合物（１）に由来する構造単位を固定化しやすい傾向があることから好ましく、なかでも、式（Ｐ−１）で表される基が好ましい。
【００１７】
例えば、−Ａ２−Ｂ１−Ｅ−Ｂ２−Ｐとしては、以下の組み合わせが挙げられる。ここでｍは１から２０を示す。
【００１８】
【表１】
【００１９】
【表２】
【表３】
【００２０】
また、化合物（１）の具体例としては、以下の構造の化合物が挙げられる。ここで、ｓは１〜２０の整数である。
【化５】
【化６】
【化７】
【化８】
【化９】
【００２１】
化合物（１）の製造方法としては、例えば、Ａ１を含むフェノール誘導体に、シクロヘキサンジカルボン酸部、Ａ２、Ｂ１、Ｂ２、Ｅ及びＰを含む化合物を反応させて得る方法が挙げられる。
【００２２】
シクロヘキサンジカルボン酸部、Ａ２、Ｂ１、Ｂ２、Ｅ及びＰを含む化合物は、シクロヘキサンジカルボン酸部、Ａ２、Ｂ１、Ｂ２、Ｅ及びＰの各構造単位を含む化合物を縮合反応、エステル化反応、ウイリアムソン反応、ウルマン反応、ベンジル化反応、薗頭反応、鈴木−宮浦反応、根岸反応、熊田反応、檜山反応、ブッフバルト−ハートウィッグ反応、ウィッティッヒ反応、フリーデルクラフト反応、ヘック反応又はアルドール反応などで結合することにより製造することができる。
【００２３】
本発明の化合物（１）は、メソゲン中央部にシクロヘキサン骨格を有していることから、位相差値の波長分散性を低減することが可能となる。また、各種フェノール誘導体を原料として、安価にかつ容易に製造することができる。
化合物（１）は、通常、汎用的な有機溶媒にも溶解しやすく、後述する化合物（２）との相溶性にも優れる。
【００２４】
光学フィルムは、通常、光学フィルムを構成する全ての構造単位１００重量部に対して化合物（１）に由来する構造単位を３０重量部程度以上含有する。
【００２５】
本発明の組成物又は光学フィルムは、化合物（１）に由来する構造単位を含有し、任意に、化合物（１）とは異なる化合物であって液晶性を示す化合物（以下、液晶化合物という場合がある）に由来する構造単位をさらに含有してもよい。液晶化合物に由来する構造単位を含むことで、液晶相範囲・配向性を抑制することが可能となり、成膜性をも制御することができる。
このような液晶化合物としては、化合物（１）に含まれるＰと、共重合し得るような重合性基を含むものであれば、どのような液晶化合物であってもよい。特に、式（Ｐ−１)で表されるもの、さらに、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基又はビニルオキシ基等を含むものが、より容易に光重合させることができることから、特に好ましい。なお、液晶化合物としては、異なる複数の液晶化合物を併用してもよい。
【００２６】
液晶化合物の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の３章 分子構造と液晶性の、３．２ ノンキラル棒状液晶分子、３．３ キラル棒状液晶分子に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物が挙げられる。
【００２７】
このような液晶化合物としては、具体的に、上述したような式（２）で表される化合物が挙げられる。
式（２）において、２価の環状炭化水素基としては、例えば、炭素数３〜２０のものが挙げられる。また、この置換基は、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基であってもよい。脂環式炭化水素基としては、具体的には、シクロアルキレン、つまり、シクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、ビシクロブチレン、ビシクロヘプチレン、ビシクロオクチレン等が挙げられる。芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼン、インデン、ペンタレン、ナフタレン、フルオレン、フェナントレン、アントラセン、ナフタセン、ビフェニレン、ベンゾキノン、ナフトキノン、アントラキノン等の任意の位置に２つの結合手を有する２価の基が挙げられる。
２価の複素環基としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子と炭素原子とを有する２価の環状基が挙げられる。この複素環基は、芳香族性を有していてもよいし、有していなくてもよい。例えば、炭素数３〜６のものが挙げられ、芳香族性を有する２価の複素環基としては下記式で表される基が例示される。
【００２８】
【化１０】
芳香族性を有さない２価の複素環基としては下記式で表される基が例示される。
【化１１】
【００２９】
モノ又はジアルキルアミノ基としては、Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−ブチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ、Ｎ，Ｎ−メチルエチルアミノ、Ｎ，Ｎ−エチルプロピルアミノ基等が挙げられる。
重合性基としては、重合に関与し得る置換基であればよく、例えば、上述した（Ｐ−１）から（Ｐ−５）で示す置換基、ビニル基、ビニルオキシ基、ｐ−スチルベン基、アクリロイル基、メタクロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクロイルオキシ基、カルボキシル基、メチルカルボニル基、水酸基、アミド基、炭素数１〜４のアルキルアミノ基、アミノ基、エポキシ基、オキセタニル基、アルデヒド基、イソシアネート基、チオイソシアネート基などが挙げられる。
【００３０】
なかでも、式（２）の化合物では、置換基Ｇの末端及びＤ１１は、光重合が容易であり、取り扱いが容易かつで、製造も容易であることから、アクリロイル基、メタクロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクロイルオキシ基、ビニルオキシ基が好ましい。Ｄ１１及びＧの末端が同一の重合性基であれば、製造が容易となることから好ましい。
なお、Ｄ１１とＣ１１の種類を適宜選択することにより、両者の結合がエーテル結合又はエステル結合を介して行われることが好ましい。また、Ｇの置換基内において、エーテル結合又はエステル結合が存在することが好ましい。
【００３１】
化合物（２）としては、例えば、式(２−１)、式（２−２）で表される化合物が挙げられる。
D11-C11-（L11-B11）ｎ-L12-C12-D12 （２−１）
D11-C11-（L11-B11）ｎ-L12-F11 （２−２）
（式中、Ｂ１１、Ｃ１１、Ｄ１１、Ｌ１１、Ｌ１２及びｎは上記と同義である。
Ｆ１１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１３のアルキル又はハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、炭素数１〜１３のモノ又はジアルキルアミノ基、ニトリル基又はニトロ基を表す。
Ｃ１２は、Ｃ１１と同義である。
Ｄ１２は、Ｄ１１と同義である。）
【００３２】
さらに、これら式（２−１）及び（２−２）で表される化合物として、式（Ｉ）、式（II）、式（III）、式（IV）又は式（Ｖ）で表される化合物を含む。
D11-C11-L11-B11-L12-B12-L13-B13-L14-B14-L15-B15-L16-C12-D12 （I）
D11-C11-L11-B11-L12-B12-L13-B13-L14-B14-L15-C12-D12 （II）
D11-C11-L11-B11-L12-B12-L13-B13-L14-C12-D12 （III）
D11-C11-L11-B11-L12-B12-L13-B13-L14-F11 （IV）
D11-C11-L11-B11-L12-B12-L13-F11 （V）
（式中、Ｂ１２〜Ｂ１５は、Ｂ１１と同義である。Ｌ１２〜Ｌ１６は、Ｌ１１と同義である。Ｄ１１、Ｄ１２、Ｃ１１、Ｃ１２、Ｆ１１は、上記と同義である。）
なお、式（２−１）、式（２−２）、式（Ｉ）、式（II）、式（III）、式（IV）及び式（Ｖ）で表される化合物においても、上述したように、Ｄ１１とＣ１１との種類を適宜選択することにより、さらにＤ１２とＣ１２との種類を適宜選択することにより、両者の結合がエーテル結合又はエステル結合を介して行われることが好ましい。
【００３３】
化合物（２）の具体例としては、例えば、以下の式（I−１）〜（I−５）、（II−１）〜（II−６）、（III−１）〜（III−１９）、（IV−１）〜（IV−１４）、（V−１）〜（V−５）で表される化合物などが挙げられる。ただし、式中ｋは、それぞれ独立に、１〜１１のいずれかの整数を表す。
これらの化合物は、合成が容易であったり、市販されているなど、入手が容易であることから好ましい。
【化１２】
【００３４】
【化１３】
【００３５】
【化１４】
【化１５】
【００３６】
【化１６】
【００３７】
【化１７】
【００３８】
本発明の光学フィルムは、光学フィルムを構成する全ての構造単位１００重量部に対して化合物（１）とは異なる液晶性を示す化合物に由来する構造単位を、１０重量部程度以上含むことが好ましく、６０重量部程度以下であることがより好ましい。
【００３９】
本発明の光学フィルムは、例えば、化合物（１）を含有する組成物又は化合物（１）と化合物（１）とは異なる液晶性を示す化合物とを含有する組成物を用いて、未重合で又は重合して形成することができる。
【００４０】
〔光学フィルムの重合〕
本発明の光学フィルムを重合して製造する方法について以下に説明する。
まず、本発明の化合物（１）を含有する組成物又は化合物（１）と化合物（１）とは異なる液晶性を示す化合物とを含有する組成物に、任意に、重合開始剤、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤、有機溶媒、架橋剤等の添加剤の１種以上が混合された組成物の溶液を調製する。特に、有機溶媒は、成膜が容易となることから、また、重合開始剤は、得られた光学フィルムを硬化する働きをもつことから、含有されていることが好ましい。
【００４１】
〔重合開始剤〕
本発明の液晶性組成物は、通常、重合させるための重合開始剤、特に光重合開始剤を用いることが好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ベンジルケタール類、α−ヒドロキシケトン類、α−アミノケトン類、ヨードニウム塩又はスルホニウム塩等が挙げられ、より具体的には、イルガキュア（Irgacure）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、及びイルガキュア３６９（以上、全てチバスペシャルティケミカルズ社製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、全て精工化学社製）、カヤキュアー（kayacure）ＢＰ１００（日本化薬社製）、カヤキュアーＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５２又はアデカオプトマーＳＰ−１７０（以上、全て旭電化）などを挙げることができる。
重合開始剤の使用量は、通常、化合物（１）及び液晶化合物の合計１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは、０．５重量部〜１０重量部である。上記範囲内であれば、液晶性組成物の配向性を乱すことなく、液晶性組成物を重合させることができる。
【００４２】
〔重合禁止剤〕
重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン又はアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類、ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類、ピロガロール類、２，２、６，６、−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補足剤、チオフェノール類、β−ナフチルアミン類又はβ−ナフトール類等を挙げることができる。
重合禁止剤を含有することにより、化合物（１）及び液晶化合物の重合を制御することができ、得られる光学フィルムの安定性及び塗布前の組成物の安定性を向上させることができる。また、重合禁止剤の使用量は、通常、化合物（１）及び液晶化合物の合計１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは、０．５重量部〜１０重量部である。上記範囲内であれば、本光学フィルムを構成する組成物の配向性を乱すことなく、重合させることができる。
【００４３】
〔光増感剤〕
光増感剤としては、例えば、キサントン若しくはチオキサントン等のキサントン類、アントラセン若しくはアルキルエーテルなどの置換基を有するアントラセン類、フェノチアジン又はルブレンを挙げることができる。
光増感剤を用いることにより、化合物（１）及び液晶化合物の重合を高感度化することができる。また、光増感剤の使用量としては、化合物（１）及び液晶化合物の合計１００重量部に対して、通常、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。上記範囲内であれば、本光学フィルムを構成する組成物の配向性を乱すことなく、重合させることができる。
【００４４】
〔架橋剤〕
架橋剤としては、特に限定されるものではなく、当該分野で公知のもの、例えば、ポリアクリレート類、ポリメタクリレート類、ウレタンアクリレート類、ポリイソシアネート類、エポキシ化合物、オキセタン化合物などが挙げられる。より具体的には、トリアクリレート類（新中村化学工業株式会社製：ＣＢＸ−１Ｎ、ＣＢＸ−０、Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ、Ａ−ＴＭＰＴ−６ＥＯ、Ａ−ＴＭＰＴ−９ＥＯ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ、Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭＮ、Ａ−ＧＬＹ−３Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−６Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ、ＴＭ−４ＥＬ、ＳＡＲＴＯＭＥＲ社製：ＳＲ４９９、ＳＲ５０２、ＳＲ９０３５、ＳＲ３６８）、テトラアクリレート類（新中村化学工業株式会社製：ＡＴＭ−４Ｅ，ＡＴＭ−３５Ｅ）、ペンタアクリレート類（新中村化学工業株式会社製：Ａ−９５３０、ＳＡＲＴＯＭＥＲ社製：ＳＲ３９９Ｅ）、ヘキサアクリレート類（新中村化学工業株式会社製：Ａ−ＤＰＨ−６Ｅ、Ａ−ＤＰＨ−１２Ｅ、Ａ−ＤＰＨ−６Ｐ、共栄社化学株式会社製：ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｉ、日本化薬株式会社製：ＤＰＣＡ−６０、ＤＰＣＡ−１２０）などを挙げることができる。
架橋剤を用いることにより、光学フィルムの架橋密度を調整することができる。
架橋剤の使用量は、通常、化合物（１）及び液晶化合物の合計１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは、０．５重量部〜１０重量部である。架橋剤を用いることにより、化合物（１）および液晶化合物を光重合により架橋することができる。従って、熱による複屈折の変化の影響を低減させることができる。
【００４５】
〔レベリング剤〕
レベリング剤としては、例えば、放射線硬化塗料用添加剤（ビックケミージャパン製：ＢＹＫ−３５２，ＢＹＫ−３５３，ＢＹＫ−３６１Ｎ）、塗料添加剤（東レ・ダウコーニング社製：ＳＨ２８ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ）、塗料添加剤（信越シリコーン社製：ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１）又はフッ素系添加剤（大日本インキ化学工業製：Ｆ−４４５、Ｆ−４７０、Ｆ−４７９）などを挙げることができる。
レベリング剤を用いることにより、光学フィルムを平滑化することができる。さらに、光学フィルムの製造過程で、組成物の流動性を制御したり、化合物（１）及び液晶化合物を重合して得られる光学フィルムの架橋密度を調整等することができる。また、レベリング剤の使用量は、通常、化合物（１）及び液晶化合物の合計１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは、０．５重量部〜１０重量部である。上記範囲内であれば、本光学フィルムを構成する組成物の配向性を乱すことなく、重合させることができる。
【００４６】
〔有機溶媒〕
有機溶媒としては、光学フィルムに含まれる化合物等を溶解し得る有機溶媒であればよい。具体的には、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ若しくはブチルセロソルブなどのアルコール；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、ガンマーブチロラクトン若しくはプロピレングリコールメチルエーテルアセテートなどのエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン若しくはメチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒；ペンタン、ヘキサン若しくはヘプタンなどの脂肪族炭化水素溶媒；トルエン、キシレン若しくはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素溶媒、アセトニトリル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、乳酸エチル、クロロホルム又はフェノールなどが挙げられる。これら有機溶媒は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。なかでも、光学フィルムを構成する組成物との相溶性に優れ、アルコール、エステル系溶媒、ケトン系溶媒、非塩素系脂肪族炭化水素溶媒及び非塩素系芳香族炭化水素溶媒などにも溶解し得ることから、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素を用いなくとも、溶解して塗工させることができる。
【００４７】
上述した組成物を含有する混合溶液の粘度は、塗布しやすいように、通常、１０Ｐａ・ｓ以下、好ましくは０．１〜７Ｐａ・ｓ程度に調整される。
また、混合溶液における固形分の濃度は、通常、５〜５０重量％である。固形分の濃度をこの程度の範囲とすることにより、光学フィルムの膜厚にムラが生じにくく、適切な膜厚に調整することが容易となり、液晶パネルの光学補償に必要な光学異方性を与えることができる。
続いて、支持基材に、上述した組成物の溶液を塗布し、乾燥、重合させることにより、支持基材上に目的のフィルムを形成することができる。なお、乾燥後に、上述した有機溶媒が蒸発して残る組成物は、液晶性を示すことが必要である。
【００４８】
用いる支持基材は、その表面に配向膜を形成できるものであればどのような材料を用いてもよい。例えば、ガラス、プラスチックシート、プラスチックフィルム、透光性フィルム等を挙げることができる。透光性フィルムとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマーなどのポリオレフィンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメタクリル酸エステルフィルム、ポリアクリル酸エステルフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム、ポリフェニレンオキシドフィルムなどが挙げられる。
上記組成物から得られる光学フィルムは、貼合、運搬、保管等、強度が必要な場合があるため、支持基材を用いることにより、フィルムが破れず、取り扱いが容易となる。
【００４９】
なお、上記組成物の溶液を、支持基材上に直接塗工してもよいが、より均一な配向を得るため、支持基材上に形成された配向膜上に塗工することが好ましい。
配向膜は、上記組成物を含有する溶液の塗工等により溶解しない溶剤耐性を有し、溶媒の除去、液晶の配向の加熱処理による耐熱性を有し、ラビングによる摩擦などによる剥がれ等が起きないこと等が必要であり、ポリマーと、任意に溶媒とを含有する組成物によって形成することができる。
【００５０】
配向膜を形成するポリマーとしては、例えば、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸又はポリアクリル酸エステル類等のポリマーが挙げられる。これらのポリマーは、単独で用いてもよいし、２種類以上を混合、共重合体してもよい。これらのポリマーは、脱水や脱アミンなどによる重縮合や、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等の連鎖重合、配位重合又は開環重合等で容易に得ることができる。
【００５１】
溶媒は、特に限定されず、具体的には、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどのアルコール；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、ガンマーブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートなどのエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒；ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素溶媒；トルエン、キシレン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素溶媒、アセトニトリル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、乳酸エチル、クロロホルム等種々のものを用いることができる。これら有機溶媒は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。
【００５２】
また、配向膜を形成するために、市販の配向膜材料をそのまま使用してもよい。市販の配向膜としては、感光性ポリイミドに偏光ＵＶ処理を施したものとして、サンエバー（登録商標、日産化学社製）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ製）などが挙げられ、アルキル変性ポリビニルアルコールとして、ポバール（登録商標、クラレ製）などが挙げられる。
【００５３】
支持基材上に配向膜を形成する方法としては、例えば、市販の配向膜材料、配向膜の材料となる上述したポリマー又はその構成モノマー等と、任意に溶媒とを、支持基材上に塗布し、その後、アニールする方法が挙げられる。
得られる配向膜の厚さは、通常、１０ｎｍ〜１００００ｎｍ程度が適しており、１０ｎｍ〜１０００ｎｍ程度が好ましい。上記範囲とすれば、後述する未重合フィルム調製工程において、本発明の液晶性組成物から形成されるフィルムを配向膜上で所望の角度に配向させることができる。
また、これら配向膜は、必要に応じてラビング又は偏光紫外線照射を行うことができる。これにより、本発明の液晶性組成物から形成されるフィルムを所望の方向に配向させることができる。
【００５４】
配向膜をラビングする方法としては、例えば、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールを、ステージに載せられ、搬送されている配向膜に接触させる方法を用いることができる。
このように、配向膜を用いることにより、容易に液晶の配向をホモジニアス配向、ホメオトロピック配向、ハイブリッド配向など、所望の配向を得ることができるため、延伸による屈折率制御を行う必要がない。そのため、複屈折の面内ばらつきが小さい均一性に優れた光学フィルムとなる。その結果、支持基材上にＦＰＤの大型化にも対応可能な大きな光学フィルムを形成することが可能となる。
【００５５】
液晶組成物の溶液を、支持基材上又は配向膜上へ塗布する方法としては、例えば、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、ダイコーティング法などが挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーターなどのコーターを用いて塗布してもよい。
【００５６】
溶媒の乾燥は、光重合の場合には、成膜性を向上させるために、光重合前にほとんど溶媒を乾燥させて、未重合フィルムを得ることが好ましい。また、熱重合の場合には、通常、乾燥とともに重合を進行させてもよいが、重合前にほとんどの溶媒を乾燥させて、未重合フィルムを得ることが好ましい。その後、重合させる方法が、成膜性に優れる傾向があることから好ましい。
溶媒の乾燥方法としては、例えば、自然乾燥、通風乾燥、減圧乾燥などが挙げられる。具体的な加熱温度は、１０〜１２０℃程度が適しており、２５〜８０℃程度が好ましい。加熱時間は、１０秒間〜６０分間程度が適しており、３０秒間〜３０分間程度が好ましい。加熱温度及び加熱時間が、上記範囲内であれば、上記支持基材として、耐熱性が必ずしも十分ではない支持基材を用いることができる。
【００５７】
重合は、化合物（１）のＰ及び液晶化合物に含まれる重合性基が光重合性基であれば、可視光、紫外光、レーザー光などの光を照射して硬化させることができる。これらの重合性基が熱重合性であれば、加熱によって重合させることができる。
成膜性の観点から、光重合が好ましく、取り扱い性の観点から、紫外光による重合がより好ましい。
【００５８】
〔未重合光学フィルムの製造〕
本発明の光学フィルムを未重合で製造する方法としては、例えば、配向膜が形成され、ラビング処理が行われた支持基材の配向膜上に、上記組成物の溶液を塗工し、乾燥する方法等が挙げられる。特に、支持基材の上に形成した配向膜上に未重合フィルムを得る方法は、生産コストを低減することができ、ロールフィルムでのフィルムの生産が可能となり、製造効率が良好であることから好ましい。
得られた未重合のフィルムにおいて、上記組成物はネマチック相などの液晶相を示し、モノドメイン配向による複屈折性を有する。この未重合フィルムは０〜１２０℃程度、好ましくは、２５〜１００℃の低温で配向することから、耐熱性に関して必ずしも十分ではない支持基材を用いることができる。
【００５９】
〔未重合光学フィルムの重合〕
なお、上述したように未重合でフィルムを形成した後、そのフィルムを重合して硬化させてもよい。これにより、本発明の液晶性組成物に由来する構造単位を有するフィルムの配向性を固定化することができる。
未重合フィルムを重合させる方法は、液晶性組成物に含まれる化合物の種類に応じて、適宜調整することができる。例えば、光重合、熱重合が挙げられる。なかでも、光重合が好ましい。これにより、低温で、未重合フィルムを重合させることができるので、支持基材の耐熱性の選択幅が広がる。また、工業的にも製造が容易となる。
未重合フィルムを光重合させる方法は、例えば、未重合フィルムに紫外線を照射することにより、未重合フィルムを重合させる方法などが挙げられる。未重合フィルムの重合工程において、液晶性組成物を光重合によって架橋させることにより、その後の工程等における熱による複屈折の変化の影響を受けにくくなる。
【００６０】
なお、上述した光学フィルムの製造方法では、支持基板及び／又は配向膜上に光学フィルムを形成した後、支持基材及び／又は配向膜を剥離する工程を含んでいてもよい。
このように、液晶ポリマーを用いることなく光学フィルムを製造することができる。
また、上述した製造方法により得られた光学フィルムは、支持基材と配向膜及び配向膜と光学フィルムとの密着性が良好であり、光学フィルムの製造が容易となり、界面活性剤などの表面処理剤を用いなくてよい。
【００６１】
〔光学フィルム〕
本発明の光学フィルムは、透明性に優れ、単独での単層又は積層構造（例えば、２〜４層程度）で、上述した支持基板及び／又は配向膜あるいは種々の光学フィルムとともに、種々の用途に用いることができる。なお、複数層積層する場合は、同一のフィルムであってもよいし、異なるものを組み合わせて用いてもよい。ここで、光学フィルムとは、光を透過し得るフィルムであって、光学的な機能を有するフィルムを意味し、光学的な機能とは、屈折、複屈折などを意味する。
【００６２】
このような光学フィルムとしては、優れた波長分散特性を有する光学フィルムが挙げられ、アンチリフレクション（ＡＲ）フィルムなどの反射防止フィルム、偏光フィルム、位相差フィルム、楕円偏光フィルム、視野角拡大フィルム及び透過型液晶ディスプレイの視野角補償用光学補償フィルムなどが例示される。また、本発明の光学フィルムの用途として、これらの用途が例示される。
例えば、偏光フィルムに本発明のフィルムを貼合して楕円偏光板として用いることができる。また、この楕円偏光板にさらに本発明のフィルムを広帯域λ／４板として貼合して広帯域円偏光板として利用することができる。
【００６３】
特に、本発明の光学フィルムを、広帯域λ／４板又はλ／２板として使用するためには、化合物（１）及び液晶性の化合物に由来する構造単位の含有量を適宜調整し、フィルムの膜厚を調整し、位相差値を調整すればよい。
具体的には、λ／４板の場合には、得られるフィルムのＲｅ（５５０）を１１３〜１６３ｎｍ、好ましくは１３５〜１４０ｎｍ、より好ましくは約１３７．５ｎｍ程度に調整すればよい。λ／２板の場合には、得られるフィルムのＲｅ（５５０）を２５０〜３００ｎｍ、好ましくは２７３〜２７７ｎｍ、より好ましくは約２７５ｎｍ程度となるように調整すればよい。
【００６４】
また、本発明の光学フィルムをＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｎｇｍｅｎｔ）モード用の光学フィルムとして使用するためには、本発明の化合物（１）又は液晶化合物に由来する構造単位の含有量を適宜調整し、フィルムの膜厚を調整すればよい。具体的には、Ｒｅ（５５０）が例えば、４０〜１００ｎｍ、好ましくは６０〜８０ｎｍ程度となるように、膜厚を調整すればよい。
【００６５】
つまり、上記組成物において、化合物（１）又は液晶化合物の含有量等を変化させることにより、得られるフィルムの屈折率の波長依存性、波長分散特性等を任意に制御することができ、上記組成物を塗布する際の量及び有機溶媒の濃度等を調整して、得られるフィルムの膜厚を調整することにより、位相差値を制御することができ、あるいは、位相差層の積層を省略することができる。
【００６６】
例えば、化合物（１）の［Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）］および［Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）］の値は１に近い又は１より小さいため、化合物（１）の含有量を増加させることにより、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）等を変化させ、つまり、波長分散を小さくする等、所望の波長分散特性（例えば、１に近い値）を得ることができる。言い換えると、化合物（１）を少量添加するだけで、光学フィルムにおけるＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）の値を低下させることができ、結果として、広い波長域において一様な偏光変換が可能な光学フィルムを簡便な方法で製造することができる。
また、液晶化合物の含有量を増加させることにより、液晶組成物をフィルム方向に配向させることができる。
【００６７】
化合物（１）が一定である混合溶液の場合、フィルムの位相差値（リタデーション値、Ｒｅ（λ））は、式（３）のように決定されることから、所望のＲｅ（λ）を得るためには、膜厚ｄを調整する。
Ｒｅ（λ）＝ｄ×Δｎ（λ） （３）
（式中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける位相差値を表し、ｄは膜厚を表し、Δｎ（λ）は波長λｎｍにおける屈折率異方性を表す。）
従って、位相差値を大きくするためには膜厚を大きくし、位相差値を小さくするためには、膜厚を小さくすればよい。
【００６８】
本発明の光学フィルムの膜厚は、０．１〜１００μｍ、好ましくは０．１〜１０μｍ程度であり、光弾性を小さくするという観点から、０．５〜３μｍであることが好ましい。
配向膜を用いて複屈折性を有する場合には、通常、位相差値としては、５０〜５００ｎｍ程度であり、好ましくは１００〜３００ｎｍである。
このように、本発明の光学フィルムは、延伸フィルムで同等の位相差値を有するフィルムと比較して、薄膜とすることができる。また、位相差値の波長依存性を低減することができる。
【００６９】
〔光学部材〕
本発明のフィルムの実施形態として、本発明のフィルムを備えた光学部材について説明する。
図１に示すように、光学部材１は、位相差層として本発明の光学フィルム２と、配向膜３を介して積層されたカラーフィルタ４とを含んで構成することができる。
このような光学部材１は、以下の製造方法により形成することができる。
まず、カラーフィルタ４の上に配向性のポリマー（例えば、上述したものから選択することができる）を印刷し、ラビング処理を施して、配向膜を形成する。
次に、所望の波長分散特性をもつように、重合開始剤等の添加剤と、本発明の化合物（１）または化合物（１）と液晶化合物とを、良溶媒に溶解させて混合溶液を調製し、所望の位相差値になるよう厚みを調整しながら、得られた配向膜上に得られた混合溶液を塗布する。
最後に、化合物（１）又は液晶化合物の液晶相をとる温度に加温しながら紫外線照射して、光学フィルムを形成する。この際、マスキングなどの手法によって光学フィルムをパターニングしてもよい。
【００７０】
本発明の光学フィルムは、配向膜上に塗布、紫外線照射等で重合させることによって形成することができるため、従来よりも簡便にカラーフィルタ上に、例えば、広帯域λ／４、λ／２の位相差層、光学フィルムを形成することができる。特に、液晶パネルをカラー化するためには、カラーフィルタが必須であるが、このようなカラーフィルタを含む光学部材を用いれば、液晶パネル自体が備える位相差を軽減することができる。さらに、位相差層の数を減らした薄型の液晶表示装置を製造することが可能となる。
【００７１】
〔偏光板〕
本発明の光学フィルムの別の具体的な実施形態として、本発明の光学フィルムと偏光フィルムとを積層して構成される偏光板等について説明する。
偏光板３０ａは、本発明の光学フィルム１４と、偏光機能を有するフィルム、すなわち偏光フィルム１５とを直接張り合わせられており(図２（ａ））、光学フィルム１４は、支持基材１６、配向膜１７および光学異方性層１８からなる。偏光板３０ａは、支持基材１６、配向膜１７、光学異方性層１８、偏光フィルム１５の順に積層されている。
【００７２】
図２（ｂ）に示す偏光板３０ｂは、光学フィルム１４と偏光フィルム１５とが、接着剤層１９を介して貼り合わされている。
図２（ｃ）に示す偏光板３０ｃは、光学フィルム１４と光学フィルム１４’とが直接貼り合わされ、さらに光学フィルム１４’と偏光フィルム１５とが直接貼り合わされている。
図２（ｄ）に示す偏光板３０ｄは、光学フィルム１４と光学フィルム１４’とが接着剤層１９を介して貼り合わされ、さらに光学フィルム１４’上に偏光フィルム１５が直接貼り合わされている。
図２（ｅ）に示す偏光板３０ｅは、光学フィルム１４と光学フィルム１４’とを接着剤層１９を介して貼り合わせ、さらに光学フィルム１４’と偏光フィルム１５とを接着剤層１９’を介して貼り合わされている。
【００７３】
光学フィルム１４および光学フィルム１４’の代わりに、光学フィルム１４から支持基材１６および配向膜１７を剥離した、化合物（１）に由来する構造単位を含有する光学異方性層１８のみからなるフィルムを用いてもよいし、光学フィルム１４から支持基材１６を剥離した、配向膜１７および光学異方性層１８からなるフィルムを用いてもよい。
本発明の偏光板は、光学フィルムを複数積層してもよく、その複数の光学フィルムは、全て同一であっても、上述した異なるフィルムを組み合わせて用いてもよい。
【００７４】
偏光フィルム１５としては、例えば、ポリビニルアルコール系フィルムに沃素や二色性色素を吸着させて延伸したフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムを延伸して沃素や二色性色素を吸着させたフィルムなどが挙げられる。
接着剤１９、１９’としては、透明性が高く、耐熱性に優れた接着剤であることが好ましい。そのような接着剤としては、例えば、アクリル系、エポキシ系あるいはウレタン系接着剤などが用いられる。
【００７５】
〔フラットパネル表示装置〕
また、本発明の光学フィルムは、反射型の液晶ディスプレイ及び有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ等のフラットパネル表示装置（ＦＰＤ）において、どのような位置に、どのような態様で、どのように機能させるものとして備えられていてもよい。
例えば、上述した偏光板と、液晶パネルとが貼り合わされた液晶パネルを備える液晶表示装置（ＬＣＤ）、上述した偏光板と、発光層とが貼り合わされた有機エレクトロルミネッセンスパネルを備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置（ＥＬ）、さらに、本発明の光学フィルムを位相差板として備えるＬＣＤ及びＥＬ等、カラーフィルタを備えるＬＣＤ及びＥＬ等が挙げられる。
このように、光学特性を有する本発明の光学フィルムを用いることにより、すべてのＦＰＤを、薄膜で、光学補償することができる。
【００７６】
〔ＬＣＤ〕
ＬＣＤとしては、例えば、図３に示すように、本発明の偏光板３０と液晶パネル２０とが接着層２２を介して貼り合わされてなる貼合品２１によって構成される。
この構成によれば、図示しない電極を用いて、液晶パネルに電圧を印加することにより、液晶分子を駆動させ、光シャッター効果を発揮させることができる。
特に、図４に示すように、一対の基板に液晶層が挟持され形成されてなる液晶表示素子において、少なくとも一方の基板の液晶層側にカラーフィルタを形成した薄型液晶表示装置について以下に説明する。
【００７７】
図４に示す液晶表示装置５では、偏光板６上に、例えば、ガラス基板などのバックライトと対向する基盤７が接着剤を介して固定されており、基盤７上に作成されたカラーフィルタ４’上に、本発明の光学フィルムが、配向膜３’を介して位相差層２’として形成されている。さらに、位相差層２’上には対向電極８が形成され、対向電極上に液晶相９が形成されている。
バックライト側は、偏光板１０の上に、例えば、ガラス基板などの基盤１１が接着剤を介して固定されており、基盤１１上には、液晶層をアクティブ駆動させるための薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と絶縁層１２が形成され、さらに、ＴＦＴ上に、Ａｇ、Ａｌ又はＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）による電極１３、１３’が形成されている。
このような構成によれば、従来の液晶表示装置と比較して、位相差層の枚数を減らすことができ、より薄型の液晶表示装置の製造を可能とする。
【００７８】
また、このような液晶表示装置は、以下のように製造することができる。
まず、バックライト側の基盤であるホウケイ酸ガラス上に、Ｍｏ、ＭｏＷ等からなるゲート電極、ゲート絶縁膜およびアモルファスシリコンを堆積・パターニングする。
次いで、アモルファスシリコンをエキシマレーザでアニールすることによって結晶化させて半導体薄膜を形成する。その後、ゲート電極両側にＰ、Ｂなどをドープし、ｎチャンネル、ｐチャンネルのＴＦＴを形成する。
さらに、ＳｉＯ２からなる絶縁膜を形成する。
【００７９】
このようにして得られたバックライト側の基盤１１上に、ＩＴＯをスパッタすることにより、全透過型表示装置用の透明電極１３を積層する。また、同じくＩＴＯの換わりにＡｇ、Ａｌ等を用いることにより全反射型表示装置用の反射電極１３’を形成する。
さらに、反射電極、透明電極を適宜組み合わせることにより、半透過型の液晶表示装置用のバックライト側の電極を形成することができる。
【００８０】
一方、対向する基盤７に、カラーフィルタ層４’を形成する。Ｒ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタを併用することにより、フルカラーの液晶表示装置が得られる。
次に、カラーフィルタ上に配向性ポリマーを塗布し、ラビングして、配向膜３’を形成する。この配向膜上に、化合物（１）又は液晶性組成物を含む塗布液を塗布し、液晶相をとる温度範囲に加熱しながら、紫外線照射によって重合させ、位相差層２’を形成する。位相差層形成後、ＩＴＯをスパッタすることにより、対向電極８を形成する。
さらに、対向電極８上に配向膜（図示せず）、液晶相９を形成し、最後にバックライト側の基盤とあわせて組み立てる。
【００８１】
〔ＥＬ〕
ＥＬとしては、例えば、図５に示すように、本発明の偏光フィルム３０と、発光層２４とが、接着層２５を介して貼り合わせてなる有機ＥＬパネル２３が挙げられる。この有機ＥＬパネルにおいて、偏光フィルム３０は、広帯域円偏光板として機能する。また上記発光層２４は、導電性有機化合物からなる少なくとも１層の層により構成される。
【実施例】
【００８２】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。なお、化合物の液晶性の確認は、ホットステージ付き偏光顕微鏡にて行った。
＜化合物（ＰＧ−２）の製造例＞
化合物（ＰＧ−２）を以下のスキームにしたがって製造した。
【化１８】
原料のモノテトラヒドロピラニル保護ヒドロキノンは特許文献（特開２００４−２６２８８４）に記載されている方法により合成した。
【００８３】
（化合物（ＰＧ−１）の合成例）
モノテトラヒドロピラニル保護ヒドロキノン１００．１ｇ（５１５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム９７．１ｇ（７０３ｍｍｏｌ）、６−クロロヘキサノール６４ｇ（４６８ｍｍｏｌ）を取り、ジメチルアセトアミドに溶解・分散し、攪拌しながら１００℃で加熱した。得られたスラリーを、室温まで冷却し、純水、メチルイソブチルケトンを加え攪拌し、有機層を取り出した。回収した有機層を純水で洗浄し、減圧濃縮し、溶媒を除去した後、メタノールを加えて攪拌した。生成した沈殿を濾過後、真空乾燥させて、化合物（ＰＧ−１）を１２６ｇ（４２８ｍｍｏｌ）得た。収率は６−クロロヘキサノール基準で９１％であった。
【００８４】
（化合物（ＰＧ−２）の合成例）
化合物（ＰＧ−１）を１２６ｇ（４２８ｍｍｏｌ）、３、５−ジターシャリーブチル−４−ヒドロキシトルエン（以下ＢＨＴという）１．４０ｇ（６．４２ｍｍｏｌ）、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン１１６．７ｇ（９６３ｍｍｏｌ）、１、３−ジメチル−２−イミダゾリジノン１．００ｇを取り、クロロホルムに溶解し、攪拌しながら氷冷下でアクイロイルクロリド５８．１ｇ（６４２ｍｍｏｌ）を滴下した。得られた溶液にさらに純水を加えて攪拌し、有機層を取り出した。回収した有機層を純水で洗浄し、ＢＨＴをスパーテル１杯分加え、減圧濃縮し、溶媒を除去した。得られた溶液にテトラヒドロフラン（以下ＴＨＦという）２００ｍｌを加えた。これに塩酸水を加えて、窒素雰囲気下６０℃で攪拌した。得られた溶液を、室温まで冷却し、分液して有機層を取り出した。反応溶液に飽和食塩水５００ｍｌを加えて攪拌し、回収した有機層を純水で洗浄し、減圧濃縮し、溶媒を除去した後、ヘキサンを加えて氷冷下攪拌した。生成した沈殿を濾過した後、真空乾燥して、化合物（ＰＧ−２）を９０ｇ（３３９ｍｍｏｌ）得た。収率は化合物（ＰＧ−１）基準で７９％であった。
【００８５】
＜化合物（ＰＧ−６）の製造例＞
化合物（ＰＧ−６）を以下のスキームにしたがって製造した。
【化１９】
【００８６】
（化合物（ＰＧ−３）の合成例）
トランス−１、４−シクロヘキサンジカルボン酸２００ｇ（１．１６１６ｍｏｌ）を、ジメチルアセトアミド６００ｍＬに分散させた。窒素雰囲気下、攪拌しながら８０℃まで昇温して、得られた溶液に炭酸カリウム９６．３２ｇ（０．６９６９ｍｏｌ）を加えた。その後、ベンジルブロミド１８８．７３ｇ（１．１０３５ｍｏｌ）を加え、攪拌した。反応溶液を室温まで放冷し、反応溶液を氷１５００ｇに注ぎ攪拌した。得られた結晶を濾取して、これを水／メタノール１：１（ｖ／ｖ）、次いで水で洗浄した。真空乾燥により溶媒を除去し、残渣をクロロホルムに溶解させた。溶液をシリカゲルに吸着させ、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて、最初はヘプタン／クロロホルム３：１（ｖ／ｖ）、次いでヘプタン／クロロホルム１：１（ｖ／ｖ）、最後にクロロホルムで溶離させ、化合物（ＰＧ−３）１３８ｇを得た。収率は化合物トランス−１、４−シクロヘキサンジカルボン酸基準で４６％であった。
【００８７】
（化合物（ＰＧ−４）の合成例）
前工程で得られた化合物（ＰＧ−３）６０ｇ（０．２２８７ｍｏｌ）をクロロホルム２００ｍＬに溶解させた。得られた溶液を氷冷し、窒素雰囲気下、クロロメチルエチルエーテル４３．２５ｇ（０．４３２ｍｏｌ）、トリエチルアミン６９．４４ｇ（０．６８６２ｍｏｌ）を滴下した。反応溶液を室温、窒素雰囲気下で攪拌し、反応溶液にトルエン６００ｍＬを加え、トリエチルアミン塩酸塩を析出させた。これを濾別、濾液を回収し、水で洗浄した。有機層を回収し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濾過した後、溶媒を除去した。得られた粗生成物を真空乾燥させ、化合物（ＰＧ−４）７４ｇを得た。収率は化合物（ＰＧ−３）基準で９５％であった。
【００８８】
（化合物（ＰＧ−５）の合成例）
前工程で得られた化合物（ＰＧ−４）６４ｇをＴＨＦ２５０ｍｌに溶解させた。窒素雰囲気下で、１０％パラジウム−炭素（５０％含水）３．２ｇを加えた。減圧後、水素置換し、室温、常圧、水素雰囲気下で攪拌した。窒素置換し、スラリーを濾過し、触媒及び溶媒を除去した。残渣を水／メタノール１：１（ｖ／ｖ）、次いで水で洗浄した。得られた結晶を濾別、真空乾燥させることにより化合物（ＰＧ−５）４５ｇを得た。収率は化合物化合物（ＰＧ−４）基準で８４％であった。
【００８９】
（化合物（ＰＧ−６）の合成例）
化合物（ＰＧ−２）を５６．８ｇ（２１５ｍｍｏｌ）、ジメチルアミノピリジン２．６５ｇ（２２ｍｍｏｌ）、（ＰＧ−５）を５０ｇ（２１７ｍｍｏｌ）取り、クロロホルム３００ｍＬに溶解させた。窒素雰囲気下、氷冷して攪拌し、Ｎ，Ｎ'−ジシクロヘキシルカルボジイミド４８．７９ｇ（２３７ｍｏｌ）の５０ｍＬクロロホルム溶液を滴下した。滴下終了後、室温にて攪拌した。反応溶液にクロロホルム２００ｍＬとヘプタン２００ｍＬを加えて沈殿を濾過した。濾液を回収して、２Ｎ−塩酸水溶液で洗浄した。有機層を回収し、不溶成分を濾過し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濾過した。溶媒を除去、真空乾燥を行い、固形物を得た。その固形物と、純水３．６４ｇ（２０２ｍｍｏｌ）、パラトルエンスルホン酸一水和物３．８４ｇ（２０．２ｍｍｏｌ）を取り、ＴＨＦ２００ｍＬに溶解させた。窒素雰囲気下、５０℃に加温後、攪拌した。室温まで放冷した後、ＴＨＦを除去し、残渣にノルマルヘプタン２００ｍＬを加えた。析出した沈殿を濾取し、純水で洗浄し、真空乾燥させた。得られた粉末をクロロホルムに溶解させ、シリカゲルを通して濾過した。濾液を回収し、クロロホルム４００ｍLに溶解させて、これを濃縮、トルエンを加えていき溶媒をトルエンに置換した。トルエンを減圧濃縮した後、ヘプタンを加えて結晶化させた。得られた粉末を濾取、真空乾燥を経て、化合物（ＰＧ−６）６４．１ｇを得た。収率は化合物（ＰＧ−２）基準で７６％であった。
【００９０】
＜化合物（１−１）の製造例＞
化合物（１−１）を以下のスキームにしたがって製造した。
【化２０】
【００９１】
化合物（ＰＧ−６）を１０．０ｇ（２４ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジンを０．３（２ｍｍｏｌ）、４−メトキシフェノールを２．５ｇ（２０ｍｍｏｌ）、クロロホルム８０ｇを加えた。続いてＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド５．９ｇ（２９ｍｍｏｌ）をクロロホルム２０ｇに溶解させ、室温で滴下し、攪拌した。その後、２Ｎ塩酸１００ｇを入れて攪拌し、濾過して固形物を取り除いて得られた液体を分液し、有機層を取り出した。この有機層の溶媒を留去した後、メタノールを添加すると、結晶が析出するため、濾過をして固形物を取り出した。得られた固形物を乾燥すると、化合物（１−１）が９．５ｇ得られた。収率は、４−メトキシフェノール基準で９１％であった。この化合物に熱をかけて、相転移温度を確認したところ、６３℃〜７１℃の間でスメクチック相７１℃〜１５８℃の間でネマチック相を示した。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）；δ １．６６（ｍ、１２Ｈ）、２．７２（ｍ、４Ｈ）、２．５７（ｍ、２Ｈ）、３．８０（ｓ、３Ｈ）、３．９４（ｔ、２Ｈ）、４．１７（ｔ、２Ｈ）、５．８０（ｄ、１Ｈ）、６．１１（ｍ、１Ｈ）、６．４０（ｄ、１Ｈ）、６．９５（ｍ、８Ｈ）
【００９２】
＜化合物（１−２）の製造例＞
化合物（１−２）を以下のスキームにしたがって製造した。
【化２１】
【００９３】
（化合物（１−２）の合成）
４−メトキシフェノールを４−シアノフェノールに代えた以外は、化合物（１−１）の合成例同様にして合成し、化合物（１−２）を得た。収率は、４−シアノフェノール基準で７３％であった。この化合物に熱をかけて、相転移温度を確認したところ、８２℃〜９７℃の間でスメクチック相９７℃〜１６９℃の間でネマチック相を示した。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）；δ １．５９（ｍ、１２Ｈ）、２．２９（ｍ、４Ｈ）、２．５９（ｍ、２Ｈ）、３．９４（ｔ、２Ｈ）、４．１７（ｔ、２Ｈ）、５．８１（ｄ、１Ｈ）、６．１１（ｍ、１Ｈ）、６．４０（ｄ、１Ｈ）、６．９４（ｍ、４Ｈ）、７．２４（ｄ、２Ｈ）、７．７１（ｄ、２Ｈ）
【００９４】
＜化合物（１−３）の製造例＞
化合物（１−３）を以下のスキームにしたがって製造した。
【化２２】
【００９５】
（化合物（１−３）の合成）
４−メトキシフェノールをペンタフルオロフェノールに代えた以外は、化合物（１−１）の合成例同様にして合成し、化合物（１−３）を得た。収率は、ペンタフルオロフェノール基準で７５％であった。この化合物に熱をかけて、相転移温度を確認したところ、６９℃〜７９℃の間でスメクチック相７９℃〜８９℃の間でネマチック相を示した。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）；δ １．６５（ｍ、１２Ｈ）、２．２９（ｍ、４Ｈ）、２．７０（ｍ、２Ｈ）、３．９４（ｔ、２Ｈ）、４．１７（ｔ、２Ｈ）、５．８１（ｄ、１Ｈ）、６．１１（ｍ、１Ｈ）、６．４３（ｄ、１Ｈ）、６．９１（ｍ、４Ｈ）
【００９６】
（実施例１）
＜光学フィルムの製造例＞
ガラス基板にポリビニルアルコール（ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業株式会社製）の２重量％水溶液を塗布したのち、加熱乾燥し、厚さ８９ｎｍ膜を得た。続いて、表面にラビング処理を施し、ラビング処理を施した面に、表１の実施例１の組成の塗布液（混合溶液）を、スピンコート法により塗布し、１３０℃で１分間乾燥した。続いて、６０℃で加熱しながら１２００ｍＪ／ｃｍ２紫外線を照射して、光学フィルムを作成した。
表４中、光重合開始剤は、イルガキュア９０７ (チバスペシャリティーケミカルズ社製)、レベリング剤には、ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン製）、溶剤はシクロペンタノンを用いた。また、溶剤以外の表中の重量％は、塗布液を１００重量％とした固形分の重量％を意味する。
【００９７】
【表４】
【００９８】
＜波長分散特性・液晶性の測定＞
４５０ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において、作成した光学フィルムの位相差値を、測定機（ＫＯＢＲＡ−ＷＲ、王子計測機器社製）を用いて測定し、装置付属プログラムで波長４５０ｎｍの位相差値Ｒｅ（４５０）、波長５５０ｎｍの位相差値Ｒｅ（５５０）を算出した。結果を表５に示す。表中ｄは液晶層の膜厚、Δｎは波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性を表す。
混合物の液晶性は、以下の方法で確認を行った。液晶化合物としてＬＣ２４２及び化合物（１−１）の紛体を混合し、ホットステージ付偏光顕微鏡上で液体温度まで加熱した。その後、自然冷却した混合物の光学組織を偏光顕微鏡により観察することで、１１７℃から室温までネマチック相を示すことを確認した。結果を表５に示す。
【００９９】
【表５】
【０１００】
（実施例２）
表４の塗布液を用い、１２０℃で１分間乾燥した後、６０℃で加熱しながら１２００ｍＪ／ｃｍ２紫外線を照射した以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを製造した。得られた光学フィルムについて、位相差値を、測定機（KOBRA-WR、王子計測機器社製）を用いて測定し、偏光顕微鏡を用いて混合物の液晶性を観察した。結果を表５に示す。
【０１０１】
（実施例３）
表４の塗布液を用い、１２０℃で１分間乾燥後、６０℃で加熱しながら１２００ｍＪ／ｃｍ２紫外線を照射した以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを製造した。得られた光学フィルムについて、位相差値を、測定機（KOBRA-WR、王子計測機器社製）を用いて測定し、偏光顕微鏡を用いて混合物の液晶性を観察した。結果を表５に示す。
【０１０２】
（比較例１）
表４の塗布液を用い、１３０℃で１分間乾燥した後、６０℃で加熱しながら１２００ｍＪ／ｃｍ２紫外線を照射した以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを製造した。得られた光学フィルムについて、位相差値を、測定機（KOBRA-WR、王子計測機器社製）を用いて測定し、偏光顕微鏡を用いて混合物の液晶性を観察した。結果を表５に示す。
【産業上の利用可能性】
【０１０３】
本発明の化合物によれば、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを提供することができる。
【符号の説明】
【０１０４】
１ 光学部材
２、１４、１４’ 光学フィルム
２’ 位相差層
３、３’ 配向膜
４、４’ カラーフィルタ
５ 液晶表示装置
６、１０、３０、３０ａ、３０ｂ、３０ｃ、３０ｄ、３０ｄ 偏光板
７、１１ 基盤
８ 対向電極
９ 液晶相
１２ 絶縁層
１３ 透明電極
１３’ 反射電極
１５ 偏光フィルム
１６ 支持基材
１７ 配向膜
１８ 光学異方性層
１９、１９’、２２、２５ 接着剤
２０ 液晶パネル
２１ 貼合品
２３ 有機ＥＬパネル
２４ 発光層
【先行技術文献】
【特許文献】
【０１０５】
【特許文献１】特開２００６−５８５４６号公報（［請求項２］［０１１５］）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、化合物及び光学フィルムに関し、より詳細には、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置などのフラットパネル表示装置に用いられる偏光板等の光学フィルムに好適な化合物及び光学フィルム、さらに光学フィルムの製造方法、それを用いた光学部材及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
フラットパネル表示装置（ＦＰＤ）には、偏光板、位相差板などの光学フィルムを用いた部材が含まれている。光学フィルムとしては、たとえば、重合性化合物を溶剤に溶かして得られる溶液を、支持基材に塗布した後、重合して得られる光学フィルムなどが挙げられる。そして、波長λｎｍの光が与える光学フィルムの位相差（Ｒｅ（λ））は、複屈折率Δｎとフィルムの厚みｄとの積で決定されることが知られている（Ｒｅ（λ）＝Δｎ×ｄ）。また、波長分散特性は、通常、ある波長λにおける位相差値Ｒｅ（λ）を５５０ｎｍにおける位相差値Ｒｅ（５５０）で除した値（Ｒｅ（λ）／Ｒｅ（５５０））で表され、（Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０））が１に近い波長分散特性を示す光学フィルムによれば、位相差値の波長依存性を低減することができ、広い波長域において一様の偏光変換が可能であることが知られている。
上述した重合性化合物として、例えば、特許文献１に、式（Ａ）に示す重合性化合物が開示されている。
【化１】
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、式（Ａ）に示す重合性化合物を含んで製造される光学フィルムが与えるＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）の値は１．０６５であり、さらなる厳しい要求の元、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０））がより１に近い波長分散特性を示す光学フィルムが求められている。
本発明の課題は、広い波長域において一様の偏光変換が可能な新規な光学フィルムを与え得る新規な化合物及びそのような光学フィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、式（１）で表される化合物を提供する。
【化２】
（式（１）中、Ａ１は、フェニル基を表し、該フェニル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ニトリル基又はニトロ基で置換されていてもよい。
Ａ２は、１，４−フェニレン基を表す。
Ｂ１及びＢ２は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−ＯＣＨ２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−又は単結合を表す。ここで、Ｒは、炭素数１〜４のアルキル基又は水素原子を表す。
Ｅは、炭素数１〜２０のアルキレン基を表し、該アルキレン基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル又はハロゲン化アルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ又はハロゲン化アルコキシ基、ニトリル基あるいはニトロ基で置換されていてもよい。
Ｐは、水素原子又は式（Ｐ−１）〜式（Ｐ−５）のいずれかで表される基を表す。
【化３】
［式（Ｐ−１）〜式（Ｐ−５）中、Ｒ１〜Ｒ５は、それぞれ独立に、炭素数１〜４のアルキル基又は水素原子を表す。］）
この化合物では、式（１）中、Ｐが、式（Ｐ−１）で表される基であることが好ましい。
【０００５】
また、本発明によれば、上述した式（１）で表される化合物と、式（２）で表される化合物（ただし、式（１）で表される化合物とは同一ではない）とを含有する組成物が提供される。
D11-C11-(L11-B11)ｎ-L12-G （２）
（式（２）中、
B11は、２価の環状炭化水素又は複素環基を表し、該基に含まれる水素原子は、フッ素原子、炭素数１〜７のアルキル基又は炭素数１〜７のアルコキシ基で置換されていてもよい。
L11及びL12は、それぞれ独立に、−ＣＲ６Ｒ７−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＳ−、−ＣＳ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＳ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＯ−ＮＲ８−、−ＮＲ８−ＣＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＦ２−、−ＮＲ８−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−又は単結合を表す。Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜７のアルキル基を表すか、互いに結合して炭素数４〜６のアルキレン基を表してもよい。該アルキル基及びアルキレン基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。Ｒ８は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜７のアルキル基を表す。
C11は、炭素数２〜２５のアルキレン基を表す。該アルキレン基は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル又はハロゲン化アルキル基あるいは炭素数１〜４のアルコキシ又はハロゲン化アルコキシ基で置換されていてもよい。
D11は、重合性基を表す。
Gは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１３のアルキル又はハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、炭素数１〜１３のモノ又はジアルキルアミノ基、ニトリル基あるいはニトロ基であるか、炭素数２〜２５のアルキレン基を介して結合する重合性基を表し、該アルキレン基は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル又はハロゲン化アルキル基あるいは炭素数１〜４のアルコキシ又はハロゲン化アルコキシ基で置換されていてもよい。
ｎは１〜５の整数］
【０００６】
また、本発明によれば、上述した化合物に由来する構造単位を含有する光学フィルムであるか、上述した組成物を重合してなる光学フィルムが提供される。
【０００７】
さらに、本発明によれば、光学フィルムを透過する光の波長５５０ｎｍにおける位相差値（Ｒｅ（５５０））が、１１３〜１６３ｎｍであるλ／４板又は２５０〜３００ｎｍであるλ／２板として機能する光学フィルムが提供される。
【０００８】
また、本発明によれば、上述した光学フィルム及び偏光フィルムを含む偏光板が提供される。
本発明によれば、上述した光学フィルム及びカラーフィルタを含む光学部材が提供される。
さらに、本発明によれば、上述した偏光板及び／又は光学部材と、液晶パネル又は有機エレクトロルミネッセンスパネルとを備えるフラットパネル表示装置が提供される。
【０００９】
本発明によれば、支持基材又は支持基材上に形成された配向膜上に、上述した化合物を含む溶液を塗布し、乾燥させる未重合フィルムの製造方法が提供される。
さらに、この未重合フィルムの製造方法で得られた未重合フィルムを、重合により硬化させる光学フィルムの製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の化合物によれば、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の光学部材を示す断面図である。
【図２】本発明の偏光板を示す断面図である。
【図３】本発明の液晶パネルを示す断面図である。
【図４】本発明の薄型液晶表示装置を示す断面図である。
【図５】本発明の有機ＥＬパネルを示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明において、光学フィルムを作製するために好適に用いられる化合物は、式（１）で表される化合物（以下、化合物（１）と記すことがある）である。なお、本発明において、「光学フィルム」とは、光を透過し得るフィルムであって、光学的な機能を有するフィルムをいう。光学的な機能とは、屈折、複屈折などを意味する。
【化４】
（式（１）中、各置換基の定義は上記したとおりである）
【００１３】
式（１）において、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基等が例示される。
アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、１−メチルエチレン基、２−メチルエチレン基、テトラメチレン基、１−メチルトリメチレン基、２−メチルトリメチレン基、３−メチルトリメチレン基、１−エチルエチレン基、２−エチルエチレン基等が挙げられる。
【００１４】
ハロゲン化アルキル基としては、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、テトラフルオロエチル基、クロロエチル、ｎ−フルオロプロピル基、イソフルオロプロピル基、ｎ−フルオロブチル基、sec−フルオロブチル基、２−フルオロエチルヘキシル基等が挙げられる。
ハロゲン化アルコキシ基としては、トリフルオロメトキシ基、トリクロロメトキシ基、テトラフルオロエトキシ基、テトラクロロエトキシ基、フルオロプロポキシ基、フルオロブトキシ基、フルオロヘキシルオキシ基、フルオロオクチルオキシ基、２−フルオロエチルヘキシルオキシ基等が例示される。
【００１５】
なお、本明細書では、いずれの化学構造式においても、炭素数によって異なるが、特に断りのない限り、アルキル基等は、上記と同様のものが例示される。また、直鎖又は分岐の双方をとることができるものは、そのいずれをも含む。
【００１６】
特に、式（１）においては、Ｅにおけるアルキレン基は、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基（例えば、トリフルオロメチル基、トリフルオロメチルオキシ基）、ニトリル基、ニトロ基又はハロゲン原子で置換されているものが例示されるが、置換されていないものが好ましい。
Ｐ１及びＰ２は、式（Ｐ−１）〜（Ｐ−５）で表される基であると、得られる光学フィルム中に化合物（１）に由来する構造単位を固定化しやすい傾向があることから好ましく、なかでも、式（Ｐ−１）で表される基が好ましい。
【００１７】
例えば、−Ａ２−Ｂ１−Ｅ−Ｂ２−Ｐとしては、以下の組み合わせが挙げられる。ここでｍは１から２０を示す。
【００１８】
【表１】
【００１９】
【表２】
【表３】
【００２０】
また、化合物（１）の具体例としては、以下の構造の化合物が挙げられる。ここで、ｓは１〜２０の整数である。
【化５】
【化６】
【化７】
【化８】
【化９】
【００２１】
化合物（１）の製造方法としては、例えば、Ａ１を含むフェノール誘導体に、シクロヘキサンジカルボン酸部、Ａ２、Ｂ１、Ｂ２、Ｅ及びＰを含む化合物を反応させて得る方法が挙げられる。
【００２２】
シクロヘキサンジカルボン酸部、Ａ２、Ｂ１、Ｂ２、Ｅ及びＰを含む化合物は、シクロヘキサンジカルボン酸部、Ａ２、Ｂ１、Ｂ２、Ｅ及びＰの各構造単位を含む化合物を縮合反応、エステル化反応、ウイリアムソン反応、ウルマン反応、ベンジル化反応、薗頭反応、鈴木−宮浦反応、根岸反応、熊田反応、檜山反応、ブッフバルト−ハートウィッグ反応、ウィッティッヒ反応、フリーデルクラフト反応、ヘック反応又はアルドール反応などで結合することにより製造することができる。
【００２３】
本発明の化合物（１）は、メソゲン中央部にシクロヘキサン骨格を有していることから、位相差値の波長分散性を低減することが可能となる。また、各種フェノール誘導体を原料として、安価にかつ容易に製造することができる。
化合物（１）は、通常、汎用的な有機溶媒にも溶解しやすく、後述する化合物（２）との相溶性にも優れる。
【００２４】
光学フィルムは、通常、光学フィルムを構成する全ての構造単位１００重量部に対して化合物（１）に由来する構造単位を３０重量部程度以上含有する。
【００２５】
本発明の組成物又は光学フィルムは、化合物（１）に由来する構造単位を含有し、任意に、化合物（１）とは異なる化合物であって液晶性を示す化合物（以下、液晶化合物という場合がある）に由来する構造単位をさらに含有してもよい。液晶化合物に由来する構造単位を含むことで、液晶相範囲・配向性を抑制することが可能となり、成膜性をも制御することができる。
このような液晶化合物としては、化合物（１）に含まれるＰと、共重合し得るような重合性基を含むものであれば、どのような液晶化合物であってもよい。特に、式（Ｐ−１)で表されるもの、さらに、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基又はビニルオキシ基等を含むものが、より容易に光重合させることができることから、特に好ましい。なお、液晶化合物としては、異なる複数の液晶化合物を併用してもよい。
【００２６】
液晶化合物の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の３章 分子構造と液晶性の、３．２ ノンキラル棒状液晶分子、３．３ キラル棒状液晶分子に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物が挙げられる。
【００２７】
このような液晶化合物としては、具体的に、上述したような式（２）で表される化合物が挙げられる。
式（２）において、２価の環状炭化水素基としては、例えば、炭素数３〜２０のものが挙げられる。また、この置換基は、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基であってもよい。脂環式炭化水素基としては、具体的には、シクロアルキレン、つまり、シクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、ビシクロブチレン、ビシクロヘプチレン、ビシクロオクチレン等が挙げられる。芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼン、インデン、ペンタレン、ナフタレン、フルオレン、フェナントレン、アントラセン、ナフタセン、ビフェニレン、ベンゾキノン、ナフトキノン、アントラキノン等の任意の位置に２つの結合手を有する２価の基が挙げられる。
２価の複素環基としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子と炭素原子とを有する２価の環状基が挙げられる。この複素環基は、芳香族性を有していてもよいし、有していなくてもよい。例えば、炭素数３〜６のものが挙げられ、芳香族性を有する２価の複素環基としては下記式で表される基が例示される。
【００２８】
【化１０】
芳香族性を有さない２価の複素環基としては下記式で表される基が例示される。
【化１１】
【００２９】
モノ又はジアルキルアミノ基としては、Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−ブチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ、Ｎ，Ｎ−メチルエチルアミノ、Ｎ，Ｎ−エチルプロピルアミノ基等が挙げられる。
重合性基としては、重合に関与し得る置換基であればよく、例えば、上述した（Ｐ−１）から（Ｐ−５）で示す置換基、ビニル基、ビニルオキシ基、ｐ−スチルベン基、アクリロイル基、メタクロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクロイルオキシ基、カルボキシル基、メチルカルボニル基、水酸基、アミド基、炭素数１〜４のアルキルアミノ基、アミノ基、エポキシ基、オキセタニル基、アルデヒド基、イソシアネート基、チオイソシアネート基などが挙げられる。
【００３０】
なかでも、式（２）の化合物では、置換基Ｇの末端及びＤ１１は、光重合が容易であり、取り扱いが容易かつで、製造も容易であることから、アクリロイル基、メタクロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクロイルオキシ基、ビニルオキシ基が好ましい。Ｄ１１及びＧの末端が同一の重合性基であれば、製造が容易となることから好ましい。
なお、Ｄ１１とＣ１１の種類を適宜選択することにより、両者の結合がエーテル結合又はエステル結合を介して行われることが好ましい。また、Ｇの置換基内において、エーテル結合又はエステル結合が存在することが好ましい。
【００３１】
化合物（２）としては、例えば、式(２−１)、式（２−２）で表される化合物が挙げられる。
D11-C11-（L11-B11）ｎ-L12-C12-D12 （２−１）
D11-C11-（L11-B11）ｎ-L12-F11 （２−２）
（式中、Ｂ１１、Ｃ１１、Ｄ１１、Ｌ１１、Ｌ１２及びｎは上記と同義である。
Ｆ１１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１３のアルキル又はハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、炭素数１〜１３のモノ又はジアルキルアミノ基、ニトリル基又はニトロ基を表す。
Ｃ１２は、Ｃ１１と同義である。
Ｄ１２は、Ｄ１１と同義である。）
【００３２】
さらに、これら式（２−１）及び（２−２）で表される化合物として、式（Ｉ）、式（II）、式（III）、式（IV）又は式（Ｖ）で表される化合物を含む。
D11-C11-L11-B11-L12-B12-L13-B13-L14-B14-L15-B15-L16-C12-D12 （I）
D11-C11-L11-B11-L12-B12-L13-B13-L14-B14-L15-C12-D12 （II）
D11-C11-L11-B11-L12-B12-L13-B13-L14-C12-D12 （III）
D11-C11-L11-B11-L12-B12-L13-B13-L14-F11 （IV）
D11-C11-L11-B11-L12-B12-L13-F11 （V）
（式中、Ｂ１２〜Ｂ１５は、Ｂ１１と同義である。Ｌ１２〜Ｌ１６は、Ｌ１１と同義である。Ｄ１１、Ｄ１２、Ｃ１１、Ｃ１２、Ｆ１１は、上記と同義である。）
なお、式（２−１）、式（２−２）、式（Ｉ）、式（II）、式（III）、式（IV）及び式（Ｖ）で表される化合物においても、上述したように、Ｄ１１とＣ１１との種類を適宜選択することにより、さらにＤ１２とＣ１２との種類を適宜選択することにより、両者の結合がエーテル結合又はエステル結合を介して行われることが好ましい。
【００３３】
化合物（２）の具体例としては、例えば、以下の式（I−１）〜（I−５）、（II−１）〜（II−６）、（III−１）〜（III−１９）、（IV−１）〜（IV−１４）、（V−１）〜（V−５）で表される化合物などが挙げられる。ただし、式中ｋは、それぞれ独立に、１〜１１のいずれかの整数を表す。
これらの化合物は、合成が容易であったり、市販されているなど、入手が容易であることから好ましい。
【化１２】
【００３４】
【化１３】
【００３５】
【化１４】
【化１５】
【００３６】
【化１６】
【００３７】
【化１７】
【００３８】
本発明の光学フィルムは、光学フィルムを構成する全ての構造単位１００重量部に対して化合物（１）とは異なる液晶性を示す化合物に由来する構造単位を、１０重量部程度以上含むことが好ましく、６０重量部程度以下であることがより好ましい。
【００３９】
本発明の光学フィルムは、例えば、化合物（１）を含有する組成物又は化合物（１）と化合物（１）とは異なる液晶性を示す化合物とを含有する組成物を用いて、未重合で又は重合して形成することができる。
【００４０】
〔光学フィルムの重合〕
本発明の光学フィルムを重合して製造する方法について以下に説明する。
まず、本発明の化合物（１）を含有する組成物又は化合物（１）と化合物（１）とは異なる液晶性を示す化合物とを含有する組成物に、任意に、重合開始剤、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤、有機溶媒、架橋剤等の添加剤の１種以上が混合された組成物の溶液を調製する。特に、有機溶媒は、成膜が容易となることから、また、重合開始剤は、得られた光学フィルムを硬化する働きをもつことから、含有されていることが好ましい。
【００４１】
〔重合開始剤〕
本発明の液晶性組成物は、通常、重合させるための重合開始剤、特に光重合開始剤を用いることが好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ベンジルケタール類、α−ヒドロキシケトン類、α−アミノケトン類、ヨードニウム塩又はスルホニウム塩等が挙げられ、より具体的には、イルガキュア（Irgacure）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、及びイルガキュア３６９（以上、全てチバスペシャルティケミカルズ社製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、全て精工化学社製）、カヤキュアー（kayacure）ＢＰ１００（日本化薬社製）、カヤキュアーＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５２又はアデカオプトマーＳＰ−１７０（以上、全て旭電化）などを挙げることができる。
重合開始剤の使用量は、通常、化合物（１）及び液晶化合物の合計１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは、０．５重量部〜１０重量部である。上記範囲内であれば、液晶性組成物の配向性を乱すことなく、液晶性組成物を重合させることができる。
【００４２】
〔重合禁止剤〕
重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン又はアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類、ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類、ピロガロール類、２，２、６，６、−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補足剤、チオフェノール類、β−ナフチルアミン類又はβ−ナフトール類等を挙げることができる。
重合禁止剤を含有することにより、化合物（１）及び液晶化合物の重合を制御することができ、得られる光学フィルムの安定性及び塗布前の組成物の安定性を向上させることができる。また、重合禁止剤の使用量は、通常、化合物（１）及び液晶化合物の合計１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは、０．５重量部〜１０重量部である。上記範囲内であれば、本光学フィルムを構成する組成物の配向性を乱すことなく、重合させることができる。
【００４３】
〔光増感剤〕
光増感剤としては、例えば、キサントン若しくはチオキサントン等のキサントン類、アントラセン若しくはアルキルエーテルなどの置換基を有するアントラセン類、フェノチアジン又はルブレンを挙げることができる。
光増感剤を用いることにより、化合物（１）及び液晶化合物の重合を高感度化することができる。また、光増感剤の使用量としては、化合物（１）及び液晶化合物の合計１００重量部に対して、通常、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。上記範囲内であれば、本光学フィルムを構成する組成物の配向性を乱すことなく、重合させることができる。
【００４４】
〔架橋剤〕
架橋剤としては、特に限定されるものではなく、当該分野で公知のもの、例えば、ポリアクリレート類、ポリメタクリレート類、ウレタンアクリレート類、ポリイソシアネート類、エポキシ化合物、オキセタン化合物などが挙げられる。より具体的には、トリアクリレート類（新中村化学工業株式会社製：ＣＢＸ−１Ｎ、ＣＢＸ−０、Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ、Ａ−ＴＭＰＴ−６ＥＯ、Ａ−ＴＭＰＴ−９ＥＯ、Ａ−ＴＭＭ−３、Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ、Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭＮ、Ａ−ＧＬＹ−３Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−６Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ、ＴＭ−４ＥＬ、ＳＡＲＴＯＭＥＲ社製：ＳＲ４９９、ＳＲ５０２、ＳＲ９０３５、ＳＲ３６８）、テトラアクリレート類（新中村化学工業株式会社製：ＡＴＭ−４Ｅ，ＡＴＭ−３５Ｅ）、ペンタアクリレート類（新中村化学工業株式会社製：Ａ−９５３０、ＳＡＲＴＯＭＥＲ社製：ＳＲ３９９Ｅ）、ヘキサアクリレート類（新中村化学工業株式会社製：Ａ−ＤＰＨ−６Ｅ、Ａ−ＤＰＨ−１２Ｅ、Ａ−ＤＰＨ−６Ｐ、共栄社化学株式会社製：ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｉ、日本化薬株式会社製：ＤＰＣＡ−６０、ＤＰＣＡ−１２０）などを挙げることができる。
架橋剤を用いることにより、光学フィルムの架橋密度を調整することができる。
架橋剤の使用量は、通常、化合物（１）及び液晶化合物の合計１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは、０．５重量部〜１０重量部である。架橋剤を用いることにより、化合物（１）および液晶化合物を光重合により架橋することができる。従って、熱による複屈折の変化の影響を低減させることができる。
【００４５】
〔レベリング剤〕
レベリング剤としては、例えば、放射線硬化塗料用添加剤（ビックケミージャパン製：ＢＹＫ−３５２，ＢＹＫ−３５３，ＢＹＫ−３６１Ｎ）、塗料添加剤（東レ・ダウコーニング社製：ＳＨ２８ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ）、塗料添加剤（信越シリコーン社製：ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１）又はフッ素系添加剤（大日本インキ化学工業製：Ｆ−４４５、Ｆ−４７０、Ｆ−４７９）などを挙げることができる。
レベリング剤を用いることにより、光学フィルムを平滑化することができる。さらに、光学フィルムの製造過程で、組成物の流動性を制御したり、化合物（１）及び液晶化合物を重合して得られる光学フィルムの架橋密度を調整等することができる。また、レベリング剤の使用量は、通常、化合物（１）及び液晶化合物の合計１００重量部に対して、０．１重量部〜３０重量部であり、好ましくは、０．５重量部〜１０重量部である。上記範囲内であれば、本光学フィルムを構成する組成物の配向性を乱すことなく、重合させることができる。
【００４６】
〔有機溶媒〕
有機溶媒としては、光学フィルムに含まれる化合物等を溶解し得る有機溶媒であればよい。具体的には、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ若しくはブチルセロソルブなどのアルコール；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、ガンマーブチロラクトン若しくはプロピレングリコールメチルエーテルアセテートなどのエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン若しくはメチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒；ペンタン、ヘキサン若しくはヘプタンなどの脂肪族炭化水素溶媒；トルエン、キシレン若しくはクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素溶媒、アセトニトリル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、乳酸エチル、クロロホルム又はフェノールなどが挙げられる。これら有機溶媒は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。なかでも、光学フィルムを構成する組成物との相溶性に優れ、アルコール、エステル系溶媒、ケトン系溶媒、非塩素系脂肪族炭化水素溶媒及び非塩素系芳香族炭化水素溶媒などにも溶解し得ることから、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素を用いなくとも、溶解して塗工させることができる。
【００４７】
上述した組成物を含有する混合溶液の粘度は、塗布しやすいように、通常、１０Ｐａ・ｓ以下、好ましくは０．１〜７Ｐａ・ｓ程度に調整される。
また、混合溶液における固形分の濃度は、通常、５〜５０重量％である。固形分の濃度をこの程度の範囲とすることにより、光学フィルムの膜厚にムラが生じにくく、適切な膜厚に調整することが容易となり、液晶パネルの光学補償に必要な光学異方性を与えることができる。
続いて、支持基材に、上述した組成物の溶液を塗布し、乾燥、重合させることにより、支持基材上に目的のフィルムを形成することができる。なお、乾燥後に、上述した有機溶媒が蒸発して残る組成物は、液晶性を示すことが必要である。
【００４８】
用いる支持基材は、その表面に配向膜を形成できるものであればどのような材料を用いてもよい。例えば、ガラス、プラスチックシート、プラスチックフィルム、透光性フィルム等を挙げることができる。透光性フィルムとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマーなどのポリオレフィンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメタクリル酸エステルフィルム、ポリアクリル酸エステルフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム、ポリフェニレンオキシドフィルムなどが挙げられる。
上記組成物から得られる光学フィルムは、貼合、運搬、保管等、強度が必要な場合があるため、支持基材を用いることにより、フィルムが破れず、取り扱いが容易となる。
【００４９】
なお、上記組成物の溶液を、支持基材上に直接塗工してもよいが、より均一な配向を得るため、支持基材上に形成された配向膜上に塗工することが好ましい。
配向膜は、上記組成物を含有する溶液の塗工等により溶解しない溶剤耐性を有し、溶媒の除去、液晶の配向の加熱処理による耐熱性を有し、ラビングによる摩擦などによる剥がれ等が起きないこと等が必要であり、ポリマーと、任意に溶媒とを含有する組成物によって形成することができる。
【００５０】
配向膜を形成するポリマーとしては、例えば、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸又はポリアクリル酸エステル類等のポリマーが挙げられる。これらのポリマーは、単独で用いてもよいし、２種類以上を混合、共重合体してもよい。これらのポリマーは、脱水や脱アミンなどによる重縮合や、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等の連鎖重合、配位重合又は開環重合等で容易に得ることができる。
【００５１】
溶媒は、特に限定されず、具体的には、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどのアルコール；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、ガンマーブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートなどのエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒；ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素溶媒；トルエン、キシレン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素溶媒、アセトニトリル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、乳酸エチル、クロロホルム等種々のものを用いることができる。これら有機溶媒は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。
【００５２】
また、配向膜を形成するために、市販の配向膜材料をそのまま使用してもよい。市販の配向膜としては、感光性ポリイミドに偏光ＵＶ処理を施したものとして、サンエバー（登録商標、日産化学社製）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ製）などが挙げられ、アルキル変性ポリビニルアルコールとして、ポバール（登録商標、クラレ製）などが挙げられる。
【００５３】
支持基材上に配向膜を形成する方法としては、例えば、市販の配向膜材料、配向膜の材料となる上述したポリマー又はその構成モノマー等と、任意に溶媒とを、支持基材上に塗布し、その後、アニールする方法が挙げられる。
得られる配向膜の厚さは、通常、１０ｎｍ〜１００００ｎｍ程度が適しており、１０ｎｍ〜１０００ｎｍ程度が好ましい。上記範囲とすれば、後述する未重合フィルム調製工程において、本発明の液晶性組成物から形成されるフィルムを配向膜上で所望の角度に配向させることができる。
また、これら配向膜は、必要に応じてラビング又は偏光紫外線照射を行うことができる。これにより、本発明の液晶性組成物から形成されるフィルムを所望の方向に配向させることができる。
【００５４】
配向膜をラビングする方法としては、例えば、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールを、ステージに載せられ、搬送されている配向膜に接触させる方法を用いることができる。
このように、配向膜を用いることにより、容易に液晶の配向をホモジニアス配向、ホメオトロピック配向、ハイブリッド配向など、所望の配向を得ることができるため、延伸による屈折率制御を行う必要がない。そのため、複屈折の面内ばらつきが小さい均一性に優れた光学フィルムとなる。その結果、支持基材上にＦＰＤの大型化にも対応可能な大きな光学フィルムを形成することが可能となる。
【００５５】
液晶組成物の溶液を、支持基材上又は配向膜上へ塗布する方法としては、例えば、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、ダイコーティング法などが挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーターなどのコーターを用いて塗布してもよい。
【００５６】
溶媒の乾燥は、光重合の場合には、成膜性を向上させるために、光重合前にほとんど溶媒を乾燥させて、未重合フィルムを得ることが好ましい。また、熱重合の場合には、通常、乾燥とともに重合を進行させてもよいが、重合前にほとんどの溶媒を乾燥させて、未重合フィルムを得ることが好ましい。その後、重合させる方法が、成膜性に優れる傾向があることから好ましい。
溶媒の乾燥方法としては、例えば、自然乾燥、通風乾燥、減圧乾燥などが挙げられる。具体的な加熱温度は、１０〜１２０℃程度が適しており、２５〜８０℃程度が好ましい。加熱時間は、１０秒間〜６０分間程度が適しており、３０秒間〜３０分間程度が好ましい。加熱温度及び加熱時間が、上記範囲内であれば、上記支持基材として、耐熱性が必ずしも十分ではない支持基材を用いることができる。
【００５７】
重合は、化合物（１）のＰ及び液晶化合物に含まれる重合性基が光重合性基であれば、可視光、紫外光、レーザー光などの光を照射して硬化させることができる。これらの重合性基が熱重合性であれば、加熱によって重合させることができる。
成膜性の観点から、光重合が好ましく、取り扱い性の観点から、紫外光による重合がより好ましい。
【００５８】
〔未重合光学フィルムの製造〕
本発明の光学フィルムを未重合で製造する方法としては、例えば、配向膜が形成され、ラビング処理が行われた支持基材の配向膜上に、上記組成物の溶液を塗工し、乾燥する方法等が挙げられる。特に、支持基材の上に形成した配向膜上に未重合フィルムを得る方法は、生産コストを低減することができ、ロールフィルムでのフィルムの生産が可能となり、製造効率が良好であることから好ましい。
得られた未重合のフィルムにおいて、上記組成物はネマチック相などの液晶相を示し、モノドメイン配向による複屈折性を有する。この未重合フィルムは０〜１２０℃程度、好ましくは、２５〜１００℃の低温で配向することから、耐熱性に関して必ずしも十分ではない支持基材を用いることができる。
【００５９】
〔未重合光学フィルムの重合〕
なお、上述したように未重合でフィルムを形成した後、そのフィルムを重合して硬化させてもよい。これにより、本発明の液晶性組成物に由来する構造単位を有するフィルムの配向性を固定化することができる。
未重合フィルムを重合させる方法は、液晶性組成物に含まれる化合物の種類に応じて、適宜調整することができる。例えば、光重合、熱重合が挙げられる。なかでも、光重合が好ましい。これにより、低温で、未重合フィルムを重合させることができるので、支持基材の耐熱性の選択幅が広がる。また、工業的にも製造が容易となる。
未重合フィルムを光重合させる方法は、例えば、未重合フィルムに紫外線を照射することにより、未重合フィルムを重合させる方法などが挙げられる。未重合フィルムの重合工程において、液晶性組成物を光重合によって架橋させることにより、その後の工程等における熱による複屈折の変化の影響を受けにくくなる。
【００６０】
なお、上述した光学フィルムの製造方法では、支持基板及び／又は配向膜上に光学フィルムを形成した後、支持基材及び／又は配向膜を剥離する工程を含んでいてもよい。
このように、液晶ポリマーを用いることなく光学フィルムを製造することができる。
また、上述した製造方法により得られた光学フィルムは、支持基材と配向膜及び配向膜と光学フィルムとの密着性が良好であり、光学フィルムの製造が容易となり、界面活性剤などの表面処理剤を用いなくてよい。
【００６１】
〔光学フィルム〕
本発明の光学フィルムは、透明性に優れ、単独での単層又は積層構造（例えば、２〜４層程度）で、上述した支持基板及び／又は配向膜あるいは種々の光学フィルムとともに、種々の用途に用いることができる。なお、複数層積層する場合は、同一のフィルムであってもよいし、異なるものを組み合わせて用いてもよい。ここで、光学フィルムとは、光を透過し得るフィルムであって、光学的な機能を有するフィルムを意味し、光学的な機能とは、屈折、複屈折などを意味する。
【００６２】
このような光学フィルムとしては、優れた波長分散特性を有する光学フィルムが挙げられ、アンチリフレクション（ＡＲ）フィルムなどの反射防止フィルム、偏光フィルム、位相差フィルム、楕円偏光フィルム、視野角拡大フィルム及び透過型液晶ディスプレイの視野角補償用光学補償フィルムなどが例示される。また、本発明の光学フィルムの用途として、これらの用途が例示される。
例えば、偏光フィルムに本発明のフィルムを貼合して楕円偏光板として用いることができる。また、この楕円偏光板にさらに本発明のフィルムを広帯域λ／４板として貼合して広帯域円偏光板として利用することができる。
【００６３】
特に、本発明の光学フィルムを、広帯域λ／４板又はλ／２板として使用するためには、化合物（１）及び液晶性の化合物に由来する構造単位の含有量を適宜調整し、フィルムの膜厚を調整し、位相差値を調整すればよい。
具体的には、λ／４板の場合には、得られるフィルムのＲｅ（５５０）を１１３〜１６３ｎｍ、好ましくは１３５〜１４０ｎｍ、より好ましくは約１３７．５ｎｍ程度に調整すればよい。λ／２板の場合には、得られるフィルムのＲｅ（５５０）を２５０〜３００ｎｍ、好ましくは２７３〜２７７ｎｍ、より好ましくは約２７５ｎｍ程度となるように調整すればよい。
【００６４】
また、本発明の光学フィルムをＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｎｇｍｅｎｔ）モード用の光学フィルムとして使用するためには、本発明の化合物（１）又は液晶化合物に由来する構造単位の含有量を適宜調整し、フィルムの膜厚を調整すればよい。具体的には、Ｒｅ（５５０）が例えば、４０〜１００ｎｍ、好ましくは６０〜８０ｎｍ程度となるように、膜厚を調整すればよい。
【００６５】
つまり、上記組成物において、化合物（１）又は液晶化合物の含有量等を変化させることにより、得られるフィルムの屈折率の波長依存性、波長分散特性等を任意に制御することができ、上記組成物を塗布する際の量及び有機溶媒の濃度等を調整して、得られるフィルムの膜厚を調整することにより、位相差値を制御することができ、あるいは、位相差層の積層を省略することができる。
【００６６】
例えば、化合物（１）の［Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）］および［Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）］の値は１に近い又は１より小さいため、化合物（１）の含有量を増加させることにより、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）等を変化させ、つまり、波長分散を小さくする等、所望の波長分散特性（例えば、１に近い値）を得ることができる。言い換えると、化合物（１）を少量添加するだけで、光学フィルムにおけるＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）の値を低下させることができ、結果として、広い波長域において一様な偏光変換が可能な光学フィルムを簡便な方法で製造することができる。
また、液晶化合物の含有量を増加させることにより、液晶組成物をフィルム方向に配向させることができる。
【００６７】
化合物（１）が一定である混合溶液の場合、フィルムの位相差値（リタデーション値、Ｒｅ（λ））は、式（３）のように決定されることから、所望のＲｅ（λ）を得るためには、膜厚ｄを調整する。
Ｒｅ（λ）＝ｄ×Δｎ（λ） （３）
（式中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける位相差値を表し、ｄは膜厚を表し、Δｎ（λ）は波長λｎｍにおける屈折率異方性を表す。）
従って、位相差値を大きくするためには膜厚を大きくし、位相差値を小さくするためには、膜厚を小さくすればよい。
【００６８】
本発明の光学フィルムの膜厚は、０．１〜１００μｍ、好ましくは０．１〜１０μｍ程度であり、光弾性を小さくするという観点から、０．５〜３μｍであることが好ましい。
配向膜を用いて複屈折性を有する場合には、通常、位相差値としては、５０〜５００ｎｍ程度であり、好ましくは１００〜３００ｎｍである。
このように、本発明の光学フィルムは、延伸フィルムで同等の位相差値を有するフィルムと比較して、薄膜とすることができる。また、位相差値の波長依存性を低減することができる。
【００６９】
〔光学部材〕
本発明のフィルムの実施形態として、本発明のフィルムを備えた光学部材について説明する。
図１に示すように、光学部材１は、位相差層として本発明の光学フィルム２と、配向膜３を介して積層されたカラーフィルタ４とを含んで構成することができる。
このような光学部材１は、以下の製造方法により形成することができる。
まず、カラーフィルタ４の上に配向性のポリマー（例えば、上述したものから選択することができる）を印刷し、ラビング処理を施して、配向膜を形成する。
次に、所望の波長分散特性をもつように、重合開始剤等の添加剤と、本発明の化合物（１）または化合物（１）と液晶化合物とを、良溶媒に溶解させて混合溶液を調製し、所望の位相差値になるよう厚みを調整しながら、得られた配向膜上に得られた混合溶液を塗布する。
最後に、化合物（１）又は液晶化合物の液晶相をとる温度に加温しながら紫外線照射して、光学フィルムを形成する。この際、マスキングなどの手法によって光学フィルムをパターニングしてもよい。
【００７０】
本発明の光学フィルムは、配向膜上に塗布、紫外線照射等で重合させることによって形成することができるため、従来よりも簡便にカラーフィルタ上に、例えば、広帯域λ／４、λ／２の位相差層、光学フィルムを形成することができる。特に、液晶パネルをカラー化するためには、カラーフィルタが必須であるが、このようなカラーフィルタを含む光学部材を用いれば、液晶パネル自体が備える位相差を軽減することができる。さらに、位相差層の数を減らした薄型の液晶表示装置を製造することが可能となる。
【００７１】
〔偏光板〕
本発明の光学フィルムの別の具体的な実施形態として、本発明の光学フィルムと偏光フィルムとを積層して構成される偏光板等について説明する。
偏光板３０ａは、本発明の光学フィルム１４と、偏光機能を有するフィルム、すなわち偏光フィルム１５とを直接張り合わせられており(図２（ａ））、光学フィルム１４は、支持基材１６、配向膜１７および光学異方性層１８からなる。偏光板３０ａは、支持基材１６、配向膜１７、光学異方性層１８、偏光フィルム１５の順に積層されている。
【００７２】
図２（ｂ）に示す偏光板３０ｂは、光学フィルム１４と偏光フィルム１５とが、接着剤層１９を介して貼り合わされている。
図２（ｃ）に示す偏光板３０ｃは、光学フィルム１４と光学フィルム１４’とが直接貼り合わされ、さらに光学フィルム１４’と偏光フィルム１５とが直接貼り合わされている。
図２（ｄ）に示す偏光板３０ｄは、光学フィルム１４と光学フィルム１４’とが接着剤層１９を介して貼り合わされ、さらに光学フィルム１４’上に偏光フィルム１５が直接貼り合わされている。
図２（ｅ）に示す偏光板３０ｅは、光学フィルム１４と光学フィルム１４’とを接着剤層１９を介して貼り合わせ、さらに光学フィルム１４’と偏光フィルム１５とを接着剤層１９’を介して貼り合わされている。
【００７３】
光学フィルム１４および光学フィルム１４’の代わりに、光学フィルム１４から支持基材１６および配向膜１７を剥離した、化合物（１）に由来する構造単位を含有する光学異方性層１８のみからなるフィルムを用いてもよいし、光学フィルム１４から支持基材１６を剥離した、配向膜１７および光学異方性層１８からなるフィルムを用いてもよい。
本発明の偏光板は、光学フィルムを複数積層してもよく、その複数の光学フィルムは、全て同一であっても、上述した異なるフィルムを組み合わせて用いてもよい。
【００７４】
偏光フィルム１５としては、例えば、ポリビニルアルコール系フィルムに沃素や二色性色素を吸着させて延伸したフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムを延伸して沃素や二色性色素を吸着させたフィルムなどが挙げられる。
接着剤１９、１９’としては、透明性が高く、耐熱性に優れた接着剤であることが好ましい。そのような接着剤としては、例えば、アクリル系、エポキシ系あるいはウレタン系接着剤などが用いられる。
【００７５】
〔フラットパネル表示装置〕
また、本発明の光学フィルムは、反射型の液晶ディスプレイ及び有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ等のフラットパネル表示装置（ＦＰＤ）において、どのような位置に、どのような態様で、どのように機能させるものとして備えられていてもよい。
例えば、上述した偏光板と、液晶パネルとが貼り合わされた液晶パネルを備える液晶表示装置（ＬＣＤ）、上述した偏光板と、発光層とが貼り合わされた有機エレクトロルミネッセンスパネルを備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置（ＥＬ）、さらに、本発明の光学フィルムを位相差板として備えるＬＣＤ及びＥＬ等、カラーフィルタを備えるＬＣＤ及びＥＬ等が挙げられる。
このように、光学特性を有する本発明の光学フィルムを用いることにより、すべてのＦＰＤを、薄膜で、光学補償することができる。
【００７６】
〔ＬＣＤ〕
ＬＣＤとしては、例えば、図３に示すように、本発明の偏光板３０と液晶パネル２０とが接着層２２を介して貼り合わされてなる貼合品２１によって構成される。
この構成によれば、図示しない電極を用いて、液晶パネルに電圧を印加することにより、液晶分子を駆動させ、光シャッター効果を発揮させることができる。
特に、図４に示すように、一対の基板に液晶層が挟持され形成されてなる液晶表示素子において、少なくとも一方の基板の液晶層側にカラーフィルタを形成した薄型液晶表示装置について以下に説明する。
【００７７】
図４に示す液晶表示装置５では、偏光板６上に、例えば、ガラス基板などのバックライトと対向する基盤７が接着剤を介して固定されており、基盤７上に作成されたカラーフィルタ４’上に、本発明の光学フィルムが、配向膜３’を介して位相差層２’として形成されている。さらに、位相差層２’上には対向電極８が形成され、対向電極上に液晶相９が形成されている。
バックライト側は、偏光板１０の上に、例えば、ガラス基板などの基盤１１が接着剤を介して固定されており、基盤１１上には、液晶層をアクティブ駆動させるための薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と絶縁層１２が形成され、さらに、ＴＦＴ上に、Ａｇ、Ａｌ又はＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）による電極１３、１３’が形成されている。
このような構成によれば、従来の液晶表示装置と比較して、位相差層の枚数を減らすことができ、より薄型の液晶表示装置の製造を可能とする。
【００７８】
また、このような液晶表示装置は、以下のように製造することができる。
まず、バックライト側の基盤であるホウケイ酸ガラス上に、Ｍｏ、ＭｏＷ等からなるゲート電極、ゲート絶縁膜およびアモルファスシリコンを堆積・パターニングする。
次いで、アモルファスシリコンをエキシマレーザでアニールすることによって結晶化させて半導体薄膜を形成する。その後、ゲート電極両側にＰ、Ｂなどをドープし、ｎチャンネル、ｐチャンネルのＴＦＴを形成する。
さらに、ＳｉＯ２からなる絶縁膜を形成する。
【００７９】
このようにして得られたバックライト側の基盤１１上に、ＩＴＯをスパッタすることにより、全透過型表示装置用の透明電極１３を積層する。また、同じくＩＴＯの換わりにＡｇ、Ａｌ等を用いることにより全反射型表示装置用の反射電極１３’を形成する。
さらに、反射電極、透明電極を適宜組み合わせることにより、半透過型の液晶表示装置用のバックライト側の電極を形成することができる。
【００８０】
一方、対向する基盤７に、カラーフィルタ層４’を形成する。Ｒ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタを併用することにより、フルカラーの液晶表示装置が得られる。
次に、カラーフィルタ上に配向性ポリマーを塗布し、ラビングして、配向膜３’を形成する。この配向膜上に、化合物（１）又は液晶性組成物を含む塗布液を塗布し、液晶相をとる温度範囲に加熱しながら、紫外線照射によって重合させ、位相差層２’を形成する。位相差層形成後、ＩＴＯをスパッタすることにより、対向電極８を形成する。
さらに、対向電極８上に配向膜（図示せず）、液晶相９を形成し、最後にバックライト側の基盤とあわせて組み立てる。
【００８１】
〔ＥＬ〕
ＥＬとしては、例えば、図５に示すように、本発明の偏光フィルム３０と、発光層２４とが、接着層２５を介して貼り合わせてなる有機ＥＬパネル２３が挙げられる。この有機ＥＬパネルにおいて、偏光フィルム３０は、広帯域円偏光板として機能する。また上記発光層２４は、導電性有機化合物からなる少なくとも１層の層により構成される。
【実施例】
【００８２】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。なお、化合物の液晶性の確認は、ホットステージ付き偏光顕微鏡にて行った。
＜化合物（ＰＧ−２）の製造例＞
化合物（ＰＧ−２）を以下のスキームにしたがって製造した。
【化１８】
原料のモノテトラヒドロピラニル保護ヒドロキノンは特許文献（特開２００４−２６２８８４）に記載されている方法により合成した。
【００８３】
（化合物（ＰＧ−１）の合成例）
モノテトラヒドロピラニル保護ヒドロキノン１００．１ｇ（５１５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム９７．１ｇ（７０３ｍｍｏｌ）、６−クロロヘキサノール６４ｇ（４６８ｍｍｏｌ）を取り、ジメチルアセトアミドに溶解・分散し、攪拌しながら１００℃で加熱した。得られたスラリーを、室温まで冷却し、純水、メチルイソブチルケトンを加え攪拌し、有機層を取り出した。回収した有機層を純水で洗浄し、減圧濃縮し、溶媒を除去した後、メタノールを加えて攪拌した。生成した沈殿を濾過後、真空乾燥させて、化合物（ＰＧ−１）を１２６ｇ（４２８ｍｍｏｌ）得た。収率は６−クロロヘキサノール基準で９１％であった。
【００８４】
（化合物（ＰＧ−２）の合成例）
化合物（ＰＧ−１）を１２６ｇ（４２８ｍｍｏｌ）、３、５−ジターシャリーブチル−４−ヒドロキシトルエン（以下ＢＨＴという）１．４０ｇ（６．４２ｍｍｏｌ）、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン１１６．７ｇ（９６３ｍｍｏｌ）、１、３−ジメチル−２−イミダゾリジノン１．００ｇを取り、クロロホルムに溶解し、攪拌しながら氷冷下でアクイロイルクロリド５８．１ｇ（６４２ｍｍｏｌ）を滴下した。得られた溶液にさらに純水を加えて攪拌し、有機層を取り出した。回収した有機層を純水で洗浄し、ＢＨＴをスパーテル１杯分加え、減圧濃縮し、溶媒を除去した。得られた溶液にテトラヒドロフラン（以下ＴＨＦという）２００ｍｌを加えた。これに塩酸水を加えて、窒素雰囲気下６０℃で攪拌した。得られた溶液を、室温まで冷却し、分液して有機層を取り出した。反応溶液に飽和食塩水５００ｍｌを加えて攪拌し、回収した有機層を純水で洗浄し、減圧濃縮し、溶媒を除去した後、ヘキサンを加えて氷冷下攪拌した。生成した沈殿を濾過した後、真空乾燥して、化合物（ＰＧ−２）を９０ｇ（３３９ｍｍｏｌ）得た。収率は化合物（ＰＧ−１）基準で７９％であった。
【００８５】
＜化合物（ＰＧ−６）の製造例＞
化合物（ＰＧ−６）を以下のスキームにしたがって製造した。
【化１９】
【００８６】
（化合物（ＰＧ−３）の合成例）
トランス−１、４−シクロヘキサンジカルボン酸２００ｇ（１．１６１６ｍｏｌ）を、ジメチルアセトアミド６００ｍＬに分散させた。窒素雰囲気下、攪拌しながら８０℃まで昇温して、得られた溶液に炭酸カリウム９６．３２ｇ（０．６９６９ｍｏｌ）を加えた。その後、ベンジルブロミド１８８．７３ｇ（１．１０３５ｍｏｌ）を加え、攪拌した。反応溶液を室温まで放冷し、反応溶液を氷１５００ｇに注ぎ攪拌した。得られた結晶を濾取して、これを水／メタノール１：１（ｖ／ｖ）、次いで水で洗浄した。真空乾燥により溶媒を除去し、残渣をクロロホルムに溶解させた。溶液をシリカゲルに吸着させ、これをシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて、最初はヘプタン／クロロホルム３：１（ｖ／ｖ）、次いでヘプタン／クロロホルム１：１（ｖ／ｖ）、最後にクロロホルムで溶離させ、化合物（ＰＧ−３）１３８ｇを得た。収率は化合物トランス−１、４−シクロヘキサンジカルボン酸基準で４６％であった。
【００８７】
（化合物（ＰＧ−４）の合成例）
前工程で得られた化合物（ＰＧ−３）６０ｇ（０．２２８７ｍｏｌ）をクロロホルム２００ｍＬに溶解させた。得られた溶液を氷冷し、窒素雰囲気下、クロロメチルエチルエーテル４３．２５ｇ（０．４３２ｍｏｌ）、トリエチルアミン６９．４４ｇ（０．６８６２ｍｏｌ）を滴下した。反応溶液を室温、窒素雰囲気下で攪拌し、反応溶液にトルエン６００ｍＬを加え、トリエチルアミン塩酸塩を析出させた。これを濾別、濾液を回収し、水で洗浄した。有機層を回収し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濾過した後、溶媒を除去した。得られた粗生成物を真空乾燥させ、化合物（ＰＧ−４）７４ｇを得た。収率は化合物（ＰＧ−３）基準で９５％であった。
【００８８】
（化合物（ＰＧ−５）の合成例）
前工程で得られた化合物（ＰＧ−４）６４ｇをＴＨＦ２５０ｍｌに溶解させた。窒素雰囲気下で、１０％パラジウム−炭素（５０％含水）３．２ｇを加えた。減圧後、水素置換し、室温、常圧、水素雰囲気下で攪拌した。窒素置換し、スラリーを濾過し、触媒及び溶媒を除去した。残渣を水／メタノール１：１（ｖ／ｖ）、次いで水で洗浄した。得られた結晶を濾別、真空乾燥させることにより化合物（ＰＧ−５）４５ｇを得た。収率は化合物化合物（ＰＧ−４）基準で８４％であった。
【００８９】
（化合物（ＰＧ−６）の合成例）
化合物（ＰＧ−２）を５６．８ｇ（２１５ｍｍｏｌ）、ジメチルアミノピリジン２．６５ｇ（２２ｍｍｏｌ）、（ＰＧ−５）を５０ｇ（２１７ｍｍｏｌ）取り、クロロホルム３００ｍＬに溶解させた。窒素雰囲気下、氷冷して攪拌し、Ｎ，Ｎ'−ジシクロヘキシルカルボジイミド４８．７９ｇ（２３７ｍｏｌ）の５０ｍＬクロロホルム溶液を滴下した。滴下終了後、室温にて攪拌した。反応溶液にクロロホルム２００ｍＬとヘプタン２００ｍＬを加えて沈殿を濾過した。濾液を回収して、２Ｎ−塩酸水溶液で洗浄した。有機層を回収し、不溶成分を濾過し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、濾過した。溶媒を除去、真空乾燥を行い、固形物を得た。その固形物と、純水３．６４ｇ（２０２ｍｍｏｌ）、パラトルエンスルホン酸一水和物３．８４ｇ（２０．２ｍｍｏｌ）を取り、ＴＨＦ２００ｍＬに溶解させた。窒素雰囲気下、５０℃に加温後、攪拌した。室温まで放冷した後、ＴＨＦを除去し、残渣にノルマルヘプタン２００ｍＬを加えた。析出した沈殿を濾取し、純水で洗浄し、真空乾燥させた。得られた粉末をクロロホルムに溶解させ、シリカゲルを通して濾過した。濾液を回収し、クロロホルム４００ｍLに溶解させて、これを濃縮、トルエンを加えていき溶媒をトルエンに置換した。トルエンを減圧濃縮した後、ヘプタンを加えて結晶化させた。得られた粉末を濾取、真空乾燥を経て、化合物（ＰＧ−６）６４．１ｇを得た。収率は化合物（ＰＧ−２）基準で７６％であった。
【００９０】
＜化合物（１−１）の製造例＞
化合物（１−１）を以下のスキームにしたがって製造した。
【化２０】
【００９１】
化合物（ＰＧ−６）を１０．０ｇ（２４ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジンを０．３（２ｍｍｏｌ）、４−メトキシフェノールを２．５ｇ（２０ｍｍｏｌ）、クロロホルム８０ｇを加えた。続いてＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド５．９ｇ（２９ｍｍｏｌ）をクロロホルム２０ｇに溶解させ、室温で滴下し、攪拌した。その後、２Ｎ塩酸１００ｇを入れて攪拌し、濾過して固形物を取り除いて得られた液体を分液し、有機層を取り出した。この有機層の溶媒を留去した後、メタノールを添加すると、結晶が析出するため、濾過をして固形物を取り出した。得られた固形物を乾燥すると、化合物（１−１）が９．５ｇ得られた。収率は、４−メトキシフェノール基準で９１％であった。この化合物に熱をかけて、相転移温度を確認したところ、６３℃〜７１℃の間でスメクチック相７１℃〜１５８℃の間でネマチック相を示した。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）；δ １．６６（ｍ、１２Ｈ）、２．７２（ｍ、４Ｈ）、２．５７（ｍ、２Ｈ）、３．８０（ｓ、３Ｈ）、３．９４（ｔ、２Ｈ）、４．１７（ｔ、２Ｈ）、５．８０（ｄ、１Ｈ）、６．１１（ｍ、１Ｈ）、６．４０（ｄ、１Ｈ）、６．９５（ｍ、８Ｈ）
【００９２】
＜化合物（１−２）の製造例＞
化合物（１−２）を以下のスキームにしたがって製造した。
【化２１】
【００９３】
（化合物（１−２）の合成）
４−メトキシフェノールを４−シアノフェノールに代えた以外は、化合物（１−１）の合成例同様にして合成し、化合物（１−２）を得た。収率は、４−シアノフェノール基準で７３％であった。この化合物に熱をかけて、相転移温度を確認したところ、８２℃〜９７℃の間でスメクチック相９７℃〜１６９℃の間でネマチック相を示した。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）；δ １．５９（ｍ、１２Ｈ）、２．２９（ｍ、４Ｈ）、２．５９（ｍ、２Ｈ）、３．９４（ｔ、２Ｈ）、４．１７（ｔ、２Ｈ）、５．８１（ｄ、１Ｈ）、６．１１（ｍ、１Ｈ）、６．４０（ｄ、１Ｈ）、６．９４（ｍ、４Ｈ）、７．２４（ｄ、２Ｈ）、７．７１（ｄ、２Ｈ）
【００９４】
＜化合物（１−３）の製造例＞
化合物（１−３）を以下のスキームにしたがって製造した。
【化２２】
【００９５】
（化合物（１−３）の合成）
４−メトキシフェノールをペンタフルオロフェノールに代えた以外は、化合物（１−１）の合成例同様にして合成し、化合物（１−３）を得た。収率は、ペンタフルオロフェノール基準で７５％であった。この化合物に熱をかけて、相転移温度を確認したところ、６９℃〜７９℃の間でスメクチック相７９℃〜８９℃の間でネマチック相を示した。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）；δ １．６５（ｍ、１２Ｈ）、２．２９（ｍ、４Ｈ）、２．７０（ｍ、２Ｈ）、３．９４（ｔ、２Ｈ）、４．１７（ｔ、２Ｈ）、５．８１（ｄ、１Ｈ）、６．１１（ｍ、１Ｈ）、６．４３（ｄ、１Ｈ）、６．９１（ｍ、４Ｈ）
【００９６】
（実施例１）
＜光学フィルムの製造例＞
ガラス基板にポリビニルアルコール（ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業株式会社製）の２重量％水溶液を塗布したのち、加熱乾燥し、厚さ８９ｎｍ膜を得た。続いて、表面にラビング処理を施し、ラビング処理を施した面に、表１の実施例１の組成の塗布液（混合溶液）を、スピンコート法により塗布し、１３０℃で１分間乾燥した。続いて、６０℃で加熱しながら１２００ｍＪ／ｃｍ２紫外線を照射して、光学フィルムを作成した。
表４中、光重合開始剤は、イルガキュア９０７ (チバスペシャリティーケミカルズ社製)、レベリング剤には、ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン製）、溶剤はシクロペンタノンを用いた。また、溶剤以外の表中の重量％は、塗布液を１００重量％とした固形分の重量％を意味する。
【００９７】
【表４】
【００９８】
＜波長分散特性・液晶性の測定＞
４５０ｎｍから７００ｎｍの波長範囲において、作成した光学フィルムの位相差値を、測定機（ＫＯＢＲＡ−ＷＲ、王子計測機器社製）を用いて測定し、装置付属プログラムで波長４５０ｎｍの位相差値Ｒｅ（４５０）、波長５５０ｎｍの位相差値Ｒｅ（５５０）を算出した。結果を表５に示す。表中ｄは液晶層の膜厚、Δｎは波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性を表す。
混合物の液晶性は、以下の方法で確認を行った。液晶化合物としてＬＣ２４２及び化合物（１−１）の紛体を混合し、ホットステージ付偏光顕微鏡上で液体温度まで加熱した。その後、自然冷却した混合物の光学組織を偏光顕微鏡により観察することで、１１７℃から室温までネマチック相を示すことを確認した。結果を表５に示す。
【００９９】
【表５】
【０１００】
（実施例２）
表４の塗布液を用い、１２０℃で１分間乾燥した後、６０℃で加熱しながら１２００ｍＪ／ｃｍ２紫外線を照射した以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを製造した。得られた光学フィルムについて、位相差値を、測定機（KOBRA-WR、王子計測機器社製）を用いて測定し、偏光顕微鏡を用いて混合物の液晶性を観察した。結果を表５に示す。
【０１０１】
（実施例３）
表４の塗布液を用い、１２０℃で１分間乾燥後、６０℃で加熱しながら１２００ｍＪ／ｃｍ２紫外線を照射した以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを製造した。得られた光学フィルムについて、位相差値を、測定機（KOBRA-WR、王子計測機器社製）を用いて測定し、偏光顕微鏡を用いて混合物の液晶性を観察した。結果を表５に示す。
【０１０２】
（比較例１）
表４の塗布液を用い、１３０℃で１分間乾燥した後、６０℃で加熱しながら１２００ｍＪ／ｃｍ２紫外線を照射した以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを製造した。得られた光学フィルムについて、位相差値を、測定機（KOBRA-WR、王子計測機器社製）を用いて測定し、偏光顕微鏡を用いて混合物の液晶性を観察した。結果を表５に示す。
【産業上の利用可能性】
【０１０３】
本発明の化合物によれば、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを提供することができる。
【符号の説明】
【０１０４】
１ 光学部材
２、１４、１４’ 光学フィルム
２’ 位相差層
３、３’ 配向膜
４、４’ カラーフィルタ
５ 液晶表示装置
６、１０、３０、３０ａ、３０ｂ、３０ｃ、３０ｄ、３０ｄ 偏光板
７、１１ 基盤
８ 対向電極
９ 液晶相
１２ 絶縁層
１３ 透明電極
１３’ 反射電極
１５ 偏光フィルム
１６ 支持基材
１７ 配向膜
１８ 光学異方性層
１９、１９’、２２、２５ 接着剤
２０ 液晶パネル
２１ 貼合品
２３ 有機ＥＬパネル
２４ 発光層
【先行技術文献】
【特許文献】
【０１０５】
【特許文献１】特開２００６−５８５４６号公報（［請求項２］［０１１５］）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）で表される化合物。
【化１】
（式（１）中、Ａ１は、フェニル基を表し、該フェニル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ニトリル基又はニトロ基で置換されていてもよい。
Ａ２は、１，４−フェニレン基を表す。
Ｂ１及びＢ２は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−ＯＣＨ２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−又は単結合を表す。ここで、Ｒは、炭素数１〜４のアルキル基又は水素原子を表す。
Ｅは、炭素数１〜２０のアルキレン基を表し、該アルキレン基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル又はハロゲン化アルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ又はハロゲン化アルコキシ基、ニトリル基あるいはニトロ基で置換されていてもよい。
Ｐは、水素原子又は式（Ｐ−１）〜式（Ｐ−５）のいずれかで表される基を表す。
【化２】
［式（Ｐ−１）〜式（Ｐ−５）中、Ｒ１〜Ｒ５は、それぞれ独立に、炭素数１〜４のアルキル基又は水素原子を表す。］）
【請求項２】
式（１）中、Ｐが、式（Ｐ−１）で表される基である請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の式（１）で表される化合物と、式（２）で表される化合物（ただし、式（１）で表される化合物とは同一ではない）とを含有する組成物。
D11-C11-(L11-B11)ｎ-L12-G （２）
（式（２）中、
B11は、２価の環状炭化水素又は複素環基を表し、該基に含まれる水素原子は、フッ素原子、炭素数１〜７のアルキル基又は炭素数１〜７のアルコキシ基で置換されていてもよい。
L11及びL12は、それぞれ独立に、−ＣＲ６Ｒ７−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＳ−、−ＣＳ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＳ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＯ−ＮＲ８−、−ＮＲ８−ＣＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＦ２−、−ＮＲ８−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−又は単結合を表す。Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜７のアルキル基を表すか、互いに結合して炭素数４〜６のアルキレン基を表してもよい。該アルキル基及びアルキレン基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。Ｒ８は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜７のアルキル基を表す。
C11は、炭素数２〜２５のアルキレン基を表す。該アルキレン基は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル又はハロゲン化アルキル基あるいは炭素数１〜４のアルコキシ又はハロゲン化アルコキシ基で置換されていてもよい。
D11は、重合性基を表す。
Gは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１３のアルキル又はハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、炭素数１〜１３のモノ又はジアルキルアミノ基、ニトリル基あるいはニトロ基であるか、炭素数２〜２５のアルキレン基を介して結合する重合性基を表し、該アルキレン基は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル又はハロゲン化アルキル基あるいは炭素数１〜４のアルコキシ又はハロゲン化アルコキシ基で置換されていてもよい。
ｎは１〜５の整数］
【請求項４】
請求項１又は２に記載の化合物に由来する構造単位を含有する光学フィルム。
【請求項５】
請求項３に記載の組成物を重合してなる光学フィルム。
【請求項６】
光学フィルムを透過する光の波長５５０ｎｍにおける位相差値（Ｒｅ（５５０））が１１３〜１６３ｎｍであるλ／４板として機能する請求項４又は５に記載の光学フィルム。
【請求項７】
光学フィルムを透過する光の波長５５０ｎｍにおける位相差値（Ｒｅ（５５０））が２５０〜３００ｎｍであるλ／２板として機能する請求項４又は５に記載の光学フィルム。
【請求項８】
請求項４〜７のいずれか１つに記載の光学フィルム及び偏光フィルムを含む偏光板。
【請求項９】
請求項４〜７のいずれか１つに記載の光学フィルム及びカラーフィルタを含む光学部材。
【請求項１０】
請求項８記載の偏光板及び／又は請求項９の光学部材と、液晶パネルとを備えるフラットパネル表示装置。
【請求項１１】
請求項８記載の偏光板及び／又は請求項９の光学部材と、有機エレクトロルミネッセンスパネルとを備えるフラットパネル表示装置。
【請求項１２】
支持基材に、請求項１又は２に記載の化合物を含む溶液を塗布し、乾燥させる未重合フィルムの製造方法。
【請求項１３】
支持基材上に形成された配向膜上に、請求項１又は２に記載の化合物を含む溶液を塗布し、乾燥させる未重合フィルムの製造方法。
【請求項１４】
請求項１２又は１３に記載の未重合フィルムの製造方法で得られた未重合フィルムを、重合により硬化させる光学フィルムの製造方法。
【請求項１】
式（１）で表される化合物。
【化１】
（式（１）中、Ａ１は、フェニル基を表し、該フェニル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、ニトリル基又はニトロ基で置換されていてもよい。
Ａ２は、１，４−フェニレン基を表す。
Ｂ１及びＢ２は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−ＯＣＨ２−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−又は単結合を表す。ここで、Ｒは、炭素数１〜４のアルキル基又は水素原子を表す。
Ｅは、炭素数１〜２０のアルキレン基を表し、該アルキレン基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル又はハロゲン化アルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ又はハロゲン化アルコキシ基、ニトリル基あるいはニトロ基で置換されていてもよい。
Ｐは、水素原子又は式（Ｐ−１）〜式（Ｐ−５）のいずれかで表される基を表す。
【化２】
［式（Ｐ−１）〜式（Ｐ−５）中、Ｒ１〜Ｒ５は、それぞれ独立に、炭素数１〜４のアルキル基又は水素原子を表す。］）
【請求項２】
式（１）中、Ｐが、式（Ｐ−１）で表される基である請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の式（１）で表される化合物と、式（２）で表される化合物（ただし、式（１）で表される化合物とは同一ではない）とを含有する組成物。
D11-C11-(L11-B11)ｎ-L12-G （２）
（式（２）中、
B11は、２価の環状炭化水素又は複素環基を表し、該基に含まれる水素原子は、フッ素原子、炭素数１〜７のアルキル基又は炭素数１〜７のアルコキシ基で置換されていてもよい。
L11及びL12は、それぞれ独立に、−ＣＲ６Ｒ７−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＳ−、−ＣＳ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＳ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＯ−ＮＲ８−、−ＮＲ８−ＣＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＦ２−、−ＮＲ８−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−又は単結合を表す。Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜７のアルキル基を表すか、互いに結合して炭素数４〜６のアルキレン基を表してもよい。該アルキル基及びアルキレン基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。Ｒ８は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜７のアルキル基を表す。
C11は、炭素数２〜２５のアルキレン基を表す。該アルキレン基は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル又はハロゲン化アルキル基あるいは炭素数１〜４のアルコキシ又はハロゲン化アルコキシ基で置換されていてもよい。
D11は、重合性基を表す。
Gは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１３のアルキル又はハロゲン化アルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、炭素数１〜１３のモノ又はジアルキルアミノ基、ニトリル基あるいはニトロ基であるか、炭素数２〜２５のアルキレン基を介して結合する重合性基を表し、該アルキレン基は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル又はハロゲン化アルキル基あるいは炭素数１〜４のアルコキシ又はハロゲン化アルコキシ基で置換されていてもよい。
ｎは１〜５の整数］
【請求項４】
請求項１又は２に記載の化合物に由来する構造単位を含有する光学フィルム。
【請求項５】
請求項３に記載の組成物を重合してなる光学フィルム。
【請求項６】
光学フィルムを透過する光の波長５５０ｎｍにおける位相差値（Ｒｅ（５５０））が１１３〜１６３ｎｍであるλ／４板として機能する請求項４又は５に記載の光学フィルム。
【請求項７】
光学フィルムを透過する光の波長５５０ｎｍにおける位相差値（Ｒｅ（５５０））が２５０〜３００ｎｍであるλ／２板として機能する請求項４又は５に記載の光学フィルム。
【請求項８】
請求項４〜７のいずれか１つに記載の光学フィルム及び偏光フィルムを含む偏光板。
【請求項９】
請求項４〜７のいずれか１つに記載の光学フィルム及びカラーフィルタを含む光学部材。
【請求項１０】
請求項８記載の偏光板及び／又は請求項９の光学部材と、液晶パネルとを備えるフラットパネル表示装置。
【請求項１１】
請求項８記載の偏光板及び／又は請求項９の光学部材と、有機エレクトロルミネッセンスパネルとを備えるフラットパネル表示装置。
【請求項１２】
支持基材に、請求項１又は２に記載の化合物を含む溶液を塗布し、乾燥させる未重合フィルムの製造方法。
【請求項１３】
支持基材上に形成された配向膜上に、請求項１又は２に記載の化合物を含む溶液を塗布し、乾燥させる未重合フィルムの製造方法。
【請求項１４】
請求項１２又は１３に記載の未重合フィルムの製造方法で得られた未重合フィルムを、重合により硬化させる光学フィルムの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２０１０−１２８４（Ｐ２０１０−１２８４Ａ）
【公開日】平成２２年１月７日（２０１０．１．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１１９４２０（Ｐ２００９−１１９４２０）
【出願日】平成２１年５月１８日（２００９．５．１８）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１月７日（２０１０．１．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年５月１８日（２００９．５．１８）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】
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