回転成形プロセスにおける加工添加剤としての第二級立体障害性アミンの使用
【課題】回転成形プロセスにおける加工添加剤としての第二級立体障害性アミンの使用。
【解決手段】本発明は回転成形プロセスにおける加工添加剤としての第二級立体障害性アミンの使用に関する。これら添加剤は、溶融プロセスの段階中に、より高温方向へのより広範な温度範囲をもたらすので、プロセス安定性を高める。
【解決手段】本発明は回転成形プロセスにおける加工添加剤としての第二級立体障害性アミンの使用に関する。これら添加剤は、溶融プロセスの段階中に、より高温方向へのより広範な温度範囲をもたらすので、プロセス安定性を高める。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は回転成形プロセスにおける加工添加剤としての第二級立体障害性アミンの使用に関する。これらの添加剤は、溶融プロセス段階中に、より高温方向により広範な温度範囲をもたらすので、プロセス安定性を高める。
【背景技術】
【０００２】
回転成形は、低い製造コストという付加利益と共に、無限のデザインの可能性を認める、極めて多用途な製造オプションである。
【０００３】
回転成形プロセス（ｒｏｔｏｍｏｌｄｉｎｇ ｐｒｏｃｅｓｓ）は、流し込み（ｌｏａｄｉｎｇ）域、加熱域及び冷却域を有する成形機に設置された高品質の型（ｍｏｌｄ）より開始される。
【０００４】
幾つかの型が同時に機械に設置され得る。予め測定されたプラスチック樹脂を各々の型へ流し込み、そして垂直軸と水平軸の双方にゆっくりと回転しているオーブンへ型を移動させる。溶融した樹脂は熱せられた型に張り付き、全ての表面を均一にコートする。冷却サイクルの間、型を回転し続け、そうすると部品は均一な厚肉を保有する。
【０００５】
部品が冷却されるとすぐに、型から外される。回転速度、加熱及び冷却時間は該プロセス中制御され得る。
【０００６】
回転成形は他の成形プロセスを超えたデザイン優位性をもたらす。適切なデザインで幾つかのピースから組み立てられる部品は、一つの部品として成形され得、高価な製造コストを排除する。
【０００７】
該プロセスはまた、一定の厚肉と殆ど圧迫がないといってもいいくらいの強固な外角といった、多くの特有のデザイン強度を有する。更なる強度が要求される場合、部品内に補強リブがデザインされ得る。
【０００８】
回転成形はデザイナーが思い描く製品を生む。デザイナーは、それらの用途のために、ＦＤＡ要件を満たす材料などの最良の材料を選択し得る。部品を耐候性、難燃性、又は耐静電性にするのに役立つ添加剤が指定され得る。
【０００９】
そして部品は圧力よりはむしろ熱及び回転によって形成されるため、射出成形の高圧に耐えるように型を設計する必要はない。
【００１０】
軽量のプラスチックをより重く、しばしばより高価な材料と交換するので、製品改造のための製造コストは減少し、そのことは回転成形による独自の試作品を製造する場合のコスト効率を大量生産する場合のコスト効率と同じにする。
【００１１】
回転成形は多用途であり、様々な種類の形状及び大きさに対処可能である。多くの部品は他のどの方法によっても容易には製造できない。典型例は、特に燃料、水、及び化学処理のための特殊タンク及びコンテナ、家畜飼料箱、配水系システム、飲食物提供サービスコンテナ、機器の筐体、自動販売機、高速道路のフェンス、及び道路標識である。他の用途領域は、消費材、玩具及び輸送である。回転成形プロセスの多くの側面は、例えば、Ｒ．Ｊ．Ｃｒａｗｆｏｒｄ及びＪ．Ｌ．Ｔｈｒｏｎｅによる回転成形テクノロジー、Ｐｌａ
ｓｔｉｃｓ Ｄｅｓｉｇｎ Ｌｉｂｒａｒｙ，Ｗｉｌｌｉａｍ Ａｎｄｒｅｗ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ，２００１年に記載されている。
【００１２】
上述したように回転速度、過熱及び冷却時間は、プロセスを通して全て制御され得る。成形された中空部品の内部において到達する空気の最大温度は、加熱時間に強く依存する。この温度はまたピーク内部空気温度（ＰＩＡＴ）とも呼ばれる。これは溶融樹脂の温度と相関がある。
【００１３】
ピーク内部空気温度（ＰＩＡＴ）把握及びその影響については、低すぎるか又は高すぎるＰＩＡＴが適用された場合、例えば、Ｍ．Ｃ．ＣｒａｍｅｚらによるＰｒｏｃ．Ｉｎｓｔｎ Ｍｅｃｈ．Ｅｎｇｒｓ．２１７巻 パートＢ：Ｊ．ｏｆ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ
Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｅ，２００３年に記載されている。
【００１４】
ピーク内部空気温度は、成形製品の最終特性に影響を与える。例えば、温度を高くしすぎた場合、強い黄変が起こり得、また機械特性は悪影響を受け、例えば、衝撃強度が顕著に低下する。温度を低くしすぎたままにした場合、樹脂が適切に溶融しないために、最終特性は同様に悪影響を受ける。言い換えれば、所望の最終特性を獲得する為の温度範囲は非常に小さい。このため、ほぼ一定の機械特性を獲得できる、こうした温度範囲又はプロセス・ウィンドウを拡張することへの関心が高い。
【００１５】
Ｂｏｔｏｋｉｎらは“Ａｎ Ａｄｄｉｔｉｖｅ ａｐｐｒｏａｃｈ ｔｏ ｃｙｃｌｅ
ｔｉｍｅ ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ ｉｎ ｒｏｔａｔｉｏｎａｌ ｍｏｌｄｉｎｇ”Ｒｏｔａｔｉｏｎａｌ Ｍｏｌｄｉｎｇ ｂｙ Ｄｅｓｉｇｎ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ，Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｓ，２００４年において、所有権を所持している安定剤を用いて、優れた衝撃強度を維持したままＰＩＡＴをより低温方向にシフトできたことを実証している。これは、プロセス・ウィンドウをより低温方向に拡張したことに対応している。
【非特許文献１】Ｒ．Ｊ．Ｃｒａｗｆｏｒｄ及びＪ．Ｌ．Ｔｈｒｏｎｅ，回転成形テクノロジー，Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｄｅｓｉｇｎ Ｌｉｂｒａｒｙ，Ｗｉｌｌｉａｍ Ａｎｄｒｅｗ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ，２００１年
【非特許文献２】Ｍ．Ｃ．Ｃｒａｍｅｚら，Ｐｒｏｃ．Ｉｎｓｔｎ Ｍｅｃｈ．Ｅｎｇｒｓ．２１７巻 パートＢ：Ｊ．ｏｆ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｅ，２００３年
【非特許文献３】Ｂｏｔｏｋｉｎ，“Ａｎ Ａｄｄｉｔｉｖｅ ａｐｐｒｏａｃｈ ｔｏ ｃｙｃｌｅ ｔｉｍｅ ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ ｉｎ ｒｏｔａｔｉｏｎａｌ ｍｏｌｄｉｎｇ”Ｒｏｔａｔｉｏｎａｌ Ｍｏｌｄｉｎｇ ｂｙ Ｄｅｓｉｇｎ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ，Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｓ，２００４年
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
驚くべきことに、第二級立体障害性アミン化合物を樹脂配合に添加した場合に、成形
物品の色及び機械特性への悪影響なしに、より高温方向に顕著に広いプロセス・ウィンドウが獲得できることが見出された。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
従って、本発明の一つの側面は、熱可塑性ポリマーの回転成形プロセスにおいて、プロセス・ウィンドウをより高いピーク内部空気温度に向かって拡張するための、加工添加剤としての第二級立体障害性アミン化合物の使用である。
【００１８】
プロセス・ウィンドウ下では、ピーク内部空気方法（ＰＩＡＴ）によって測定された温度範囲内では成形物品の機械特性及び／又は色が本質的に同じままであると理解されている。特に測定に適する機械特性は、例えば低温における衝撃強度である。低温とは本書において０℃乃至−５０℃、特に−２０℃乃至−４０℃を意味する。
【００１９】
例えば、立体障害性アミンは式（Ｉ）又は（ＩＩ）
【化１】
（式中、
＊は結合を表し
Ｇは水素原子又はメチル基を表し、そして
Ｇ1及びＧ2は互いに独立して、水素原子、メチル基を表すか、または一緒になって置換基＝Ｏを表す。）
で表される少なくとも一つの基を含む化合物である。
【００２０】
例えば、立体障害性アミンは式（Ｉａ）
【化２】
で表される少なくとも一つの基を含む化合物である。
【００２１】
立体障害性アミン化合物は既知であり、ポリマーの熱又は光安定剤として、広範に使用されている。これらは市販のものであるか、或いは、例えば米国特許第５，６７９，７３３号明細書、米国特許第３，６４０，９２８号明細書、米国特許第４，１９８，３３４号明細書、米国特許第５，２０４，４７３号明細書、米国特許第４，６１９，９５８号明細書、米国特許第４，１１０，３０６号明細書、米国特許第４，１１０，３３４号明細書、米国特許第４，６８９，４１６号明細書、米国特許第４，４０８，０５１号明細書、旧ソビエト連邦特許第７６８，１７５号明細書（ダーウェント ８８−１３８，７５１／２０）、米国特許第５，０４９，６０４号明細書、米国特許第４，７６９，４５７号明細書、米国特許第４，３５６，３０７号明細書、米国特許第４，６１９，９５６号明細書、米国特許第５，１８２，３９０号明細書、英国特許第２，２６９，８１９号明細書、米国特許第４，２９２，２４０号明細書、米国特許第５，０２６，８４９号明細書、米国特許第５，０７１，９８１号明細書、米国特許第４，５４７，５３８号明細書、米国特許第４，９７６，８８９号明細書、米国特許第４，０８６，２０４号明細書、米国特許第６，０４６，３０４号明細書、米国特許第４，３３１，５８６号明細書、米国特許第４，１０８，８２９号明細書、米国特許第５，０５１，４５８号明細書、国際公開第９４／１２，５４４号パンフレット（ダーウェント ９４−１７７，２７４／２２）、東独国特許第２６２，４３９号明細書（ダーウェント ８９−１２２，９８３／１７）、米国特許第４，８５７，５９５号明細書、米国特許第４，５２９，７６０号明細書、米国特許第４，４７７，６１５号明細書、ＣＡＳ登録番号１３６，５０４−９６−６、米国特許第４，２３３，４１２号明細書、米国特許第４，３４０，５３４号明細書、国際公開第９８／５１，６９０号パンフレット、及び欧州特許出願公開第１，８０３号明細書に記載されるように製造可能であり、該開示は参照することによって組み込まれる。
【００２２】
好ましいものは以下の市販の化合物である。
【００２３】
キマソーブ２０２０（登録商標）、キマソーブ９４４（登録商標）、チヌビン７７０（登録商標及びチヌビン７８３（登録商標）、サイアソーブ ＵＶ ３３４６（登録商標）、サイアソーブ ＵＶ ３５８１（登録商標）、ダスチブ ８４５（登録商標）、ダスチブ １０８２（登録商標）、ダイアセタム ５、フェロ ８０６−Ｘ（登録商標）、グッドライト ３０３４（登録商標）、グッドライト ３１５０（登録商標）、ＨＡＬＳ ＩＣ−ＴＡＭ、ホスタビン Ｎ ２０（登録商標）、ホスタビン Ｎ ２４（登録商標）、ホスタビン Ｎ ３０（登録商標）、ヒュルス Ｓ−９５（登録商標）、ＩＣＩ ＰＡ ５００（登録商標）、リヒトシュッツシュトフ ＵＶ ３１（登録商標）、ルケム ＨＡ−Ｂ １８（登録商標）、マーク ＬＡ ５５（登録商標）、マーク ＬＡ ５７（登録商標）、マーク ＬＡ ６７（登録商標）、マーク ＬＡ ６８（登録商標）、サンデュボア ３０５０（登録商標）、スミライザー ６１（登録商標）、スミライザー ７０（登録商標）、スミソーブ ＴＭ ６１（登録商標）、ウバソーブ ＨＡ ８８（登録商標）、ウビヌール ４０４９（登録商標）、ウビヌール ５０５０（登録商標）、ウバシル
２９９（登録商標）、ウバシル １２５（登録商標）。
【００２４】
これら化合物は市販のものであり；米国特許第５，６７９，７３３号明細書、米国特許第３，６４０，９２８号明細書、米国特許第５，２０４，４７３号明細書、米国特許第４，６１９，９５８号明細書、米国特許第４，１１０，３０６号明細書、米国特許第４，１１０，３３４号明細書、米国特許第４，６８９，４１６号明細書、米国特許第４，４０８，０５１号明細書、旧ソビエト連邦特許第７６８，１７５号明細書（ダーウェント ８８−１３８，７５１／２０）、米国特許第５，０４９，６０４号明細書、米国特許第４，７６９，４５７号明細書、米国特許第４，３５６，３０７号明細書、米国特許第４，６１９，９５６号明細書、米国特許第５，１８２，３９０号明細書、英国特許第２，２６９，８１９号明細書、米国特許第４，２９２，２４０号明細書、米国特許第５，０２６，８４９号明細書、米国特許第５，０７１，９８１号明細書、米国特許第４，５４７，５３８号明細書、米国特許第４，９７６，８８９号明細書、米国特許第４，０８６，２０４号明細書、米国特許第６，０４６，３０４号明細書、米国特許第４，３３１，５８６号明細書、米国特許第４，１０８，８２９号明細書、米国特許第５，０５１，４５８号明細書、国際公開第９４／１２，５４４号パンフレット（ダーウェント ９４−１７７，２７４／２２）、東独国特許第２６２，４３９号明細書（ダーウェント ８９−１２２，９８３／１７）、米国特許第４，８５７，５９５号明細書、米国特許第４，５２９，７６０号明細書、米国特許第４，４７７，６１５号明細書（ＣＡＳ登録番号１３６，５０４−９６−６）、米国特許第４，３４０，５３４号明細書、国際公開第９８／５１，６９０号パンフレット、及び欧州特許出願公開第１，８０３号明細書に記載され、該開示は参照することによって組み込まれる。
【００２５】
本発明の立体障害性アミン化合物は、熱可塑性ポリマーの質量に基づいて、好ましくは、０．０１乃至５質量％、より好ましくは０．０５乃至２質量％、そして最も好ましくは０．１乃至１質量％の量で添加される。
【００２６】
例えば、熱可塑性ポリマーはポリオレフィン、ポリ塩化ビニル又はポリアミドである。以下に例示する：
【００２７】
１．モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポリビニルシクロヘキサン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィン、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（所望により架橋され得る）、例えば高
密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度及び高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度及び超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）及び（ＵＬＤＰＥ）。
【００２８】
ポリオレフィン、すなわち前の段落において例示したモノオレフィンのポリマー、望ましくはポリエチレン及びポリプロピレンは、異なる方法によりそしてとりわけ以下の方法により調製され得る：
ａ）ラジカル重合（通常は高圧下及び高温において）。
ｂ）通常、周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂ又はＶＩＩＩ群の金属の一種又はそれ以上を含む触媒を使用した触媒重合。これらの金属は通常、一つ又はそれ以上の配位子、典型的にはπ−又はσ−配位し得るオキシド、ハロゲン化物、アルコラート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び／又はアリールを有する。これらの金属錯体は遊離形態であるか、又は基材に、典型的には活性化塩化マグネシウム、チタン（ＩＩＩ）クロリド、アルミナ又は酸化ケイ素に固定され得る。これらの触媒は、重合媒体中に可溶又は不溶であり得る。該触媒は重合においてそのまま使用され得、又はさらなる活性剤、典型的には金属アルキル、金属ヒドリド、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシド又は金属アルキルオキサンであって、前記金属が周期表のＩａ、ＩＩａ及び／又はＩＩＩａ群の元素であるものが使用され得る。活性剤は、他のエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル基で都合良く変性され得る。これらの触媒系は通常、フィリップス、スタンダードオイルインディアナ、チグラー（−ナッタ）、ＴＮＺ（デュポン）、メタロセン又はシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と命名される。
【００２９】
２．１）で言及されたポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレン、ポリプロピレンとポリエチレン（例えば、ＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）の混合物、及び異なる型のポリエチレンの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００３０】
３．モノオレフィン及びジオレフィンの互いの又は他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキサンコポリマー、エチレン／シクロオレフィンコポリマー（例えばＣＯＣの様な、エチレン／ノルボルネン）、１−オレフィンがその場で生成されるエチレン／１−オレフィンコポリマー；プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキセンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー又はエチレン／アクリル酸コポリマー及びそれらの塩（アイオノマー）並びにエチレンとプロピレン及びへキサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンなどのジエンとのターポリマー；及びそのようなコポリマーの互いの及び１）で上述したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ及び交互の又はランダムのポリアルキレン／一酸化炭素コポリマー及びそれらの他のポリマー、例えばポリアミドとの混合物。
【００３１】
４．ジアミシとジカルボン酸から及び／又はアミノカルボン酸又は対応するラクタムから誘導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミン及びアジピン酸から開始した芳香族ポリアミド；へキサ
メチレンジアミン及びイソフタル酸又は／及びテレフタル酸から及び変性剤としてエラストマーを用いて又は用いずに調製されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミド又はポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド：及び上述されたポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマー又は化学的に結合されたか又はグラフトされたエラストマーとのブロックコポリマー；又は例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はポリテトラメチレングリコールなどのポリエーテルとのブロックコポリマー；ならびにＥＰＤＭ又はＡＢＳで変性されたポリアミド又はコポリアミド；及びプロセスの間に縮合されたポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。
【００３２】
特に好ましいものはポリエチレン、好ましくは線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）である。
【００３３】
例えば、回転成形プロセスにおけるピーク内部空気温度範囲は、より高温方向に最大１０乃至５０℃、好ましくは１５乃至４５℃拡張される。本参考例には立体障害性アミンの追加はない。
【００３４】
好ましくはピーク内部空気温度範囲は２１０乃至２５０℃、より好ましくは２１５乃至２５０℃、そして最も好ましくは２２０乃至２５０℃である。
【００３５】
上記温度範囲は、物品の機械特性及び／又は色に悪影響を与えることのない、好ましいプロセス・ウィンドウに対応する。
【００３６】
本発明の具体的な実施態様において、紫外線吸収剤、式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表されるものとは異なる立体障害性アミン、フェノール性抗酸化剤、ホスフィット又はホスホナイト及びベンゾフラノン又はインドリノンからなる群から選択される更なる安定剤が存在する。
【００３７】
上述の添加剤の例は以下である。
１．抗酸化剤
１．１．アルキル化モノフェノール、
たとえば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、直線状若しくは側鎖で分岐したノニルフェノール、たとえば、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノール及びそれらの混合物。
【００３８】
１．２．アルキルチオメチルフェノール、
たとえば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【００３９】
１．３．ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン、
たとえば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−第三ブチル
ヒドロキノン、２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【００４０】
１．４．トコフェロール、
たとえば、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール、及びそれらの混合物（ビタミンＥ）。
【００４１】
１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、
たとえば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【００４２】
１．６．アルキリデンビスフェノール、
たとえば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）−フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール）、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００４３】
１．７．Ｏ−、Ｎ−、及びＳ−ベンジル化合物、
たとえば、３，５，３’，５’−テトラ−第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【００４４】
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート、
たとえば、ジオクタデシル−２，２−ビス−（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジ−ドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【００４５】
１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物、
たとえば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００４６】
１．１０．トリアジン化合物、
たとえば、２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【００４７】
１．１１．ベンジルホスホネート
たとえば、ジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【００４８】
１．１２．アシルアミノフェノール、
たとえば、４−ヒドロキシラウラニリド、４−ヒドロキシステアラニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−カルバメート。
【００４９】
１．１３．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
たとえば、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００５０】
１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
たとえば、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル；３，９−ビス［２−｛３−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］−ウンデカン。
【００５１】
１．１５．β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
たとえば、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００５２】
１．１６．３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
たとえば、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００５３】
１．１７．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド
たとえば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド（ユニロイヤルによって供給されるナウガードＸＬ−１（登録商標 Ｎａｕｇａｒｄ））
【００５４】
１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）
【００５５】
１．１９．アミン抗酸化剤、
たとえば、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−第二
ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、たとえばｐ，ｐ’−ジ−第三オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチル−ジフェニルアミンの混合物、モノ及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ及びジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ及びジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ及びジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン。
【００５６】
２．ＵＶ吸収剤及び光安定剤
２．１．２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
たとえば、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三
ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；
【化３】
（式中、Ｒは３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル基を表す）、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］ベンゾトリアゾール；２−［２’−ヒドロキシ−３’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’−（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール。
【００５７】
２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノン、
たとえば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシ、及び２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【００５８】
２．３．置換及び非置換の安息香酸のエステル、
たとえば、４−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−第三ブチルフェニル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【００５９】
２．４．アクリレート、
たとえば、エチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート、Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン、ネオペンチルテトラ（α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート。
【００６０】
２．５．ニッケル化合物
たとえば、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン、若しくはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンといった付加配位子を伴うか若しくは伴わない、１：１又は１：２の錯体といった、２，２’−チオ−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステルのニッケル塩、たとえば、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のメチル若しくはエチルエステル、ケトキシム、たとえば、２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、付加的な配位子を伴うか若しくは伴わない１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
【００６１】
２．６．立体障害性アミン
たとえば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸の縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状若しくは環状縮合物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状若しくは環状縮合物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合物、２−クロロー４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−及び４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合物、１，２−ビス（３−アミノ−プロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン及び４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの縮合物（ＣＡＳ登録番号［１３６５０４−９６−６］）；１，６−ヘキサンジアミンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン及びＮ，Ｎ−ジブチルアミンと４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの縮合物（ＣＡＳ登録番号［１９２２６８−６４−７］；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４，５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４，５］デカンとエピクロロヒドリンの反応生成物、１，１−ビス−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ’−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシ−メチレン−マロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、マレイン酸無水物−α−オレフィン−コポリマーと２，２，６，６−テトラ
メチル−４−アミノピペリジン若しくは１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物、２，４−ビス［Ｎ−（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ−ブチルアミノ］−６−（２−ヒドロキシエチル）アミノ−１，３５−トリアジン、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−オクタデカノイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、５−（２−エチルヘキサノイル）オキシメチル−３，３，５−トリメチル−２−モルホリノン、サンデュボア（クラリアント；ＣＡＳ登録番号１０６９１７−３１−１）、５−（２−エチルヘキサノイル）オキシメチル−３，３，５−トリメチル−２−モルホリノン、２，４−ビス［１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−ピペリジン−４−イル］ブチルアミノ）−６−クロロ−ｓ−トリアジンとＮ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミンとの反応生成物、１，３，５−トリス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチルピペラジン−３−オン−４−イル）アミノ）−ｓ−トリアジン、１，３，５−トリス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペラジン−３−オン−４−イル）アミノ）−ｓ−トリアジン。
【００６２】
２．７．オキサミド、
たとえば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エトキサニリド及びその２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブトキサニリドとの混合物、ｏ−及びｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物、並びに、ｏ−及びｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【００６３】
２．８．２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
たとえば、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−[２−ヒドロキシ−４−［３−（２−
エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル]−４，６−
ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（４−［２
−エチルヘキシルオキシ］−２−ヒドロキシフェニル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン。
【００６４】
３．金属奪活剤
たとえば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【００６５】
４．ホスフィット及びホスホナイト、
たとえば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、２，２’，２”−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’―ジイル）ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット、５−ブチル−５−エチル−２−（２，４，６−トリ−第三ブチルフェノキシ）−１，３，２−ジオキサホスフィラン。
【００６６】
特に好まれるのは以下のホスフィットである：
トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット（イルガフォス１６８、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社（登録商標：Ｉｒｇａｆｏｓ））、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、
【化４】
【００６７】
５．ヒドロキシルアミン、
たとえば、Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシル
ヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化牛脂アミン由来のＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【００６８】
６．ニトロン、
たとえば、Ｎ−ベンジル−アルファ−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−アルファ−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−アルファ−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−アルファ−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−アルファ−トリデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘキサデシルニトロン、水素化牛脂アミン由来のＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン由来のニトロン。
【００６９】
７．チオ相乗剤
たとえば、ジラウリルチオジプロピオネート、ジミストリルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、又はジステアリルジスルフィド。
【００７０】
８．過酸化物捕捉剤、
たとえば、β−チオジプロピオン酸のエステル、たとえばラウリル、ステアリル、ミリスチル、若しくはトリデシルエステル、メルカプトベンゾイミダゾール若しくは２−メルカプトベンゾイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【００７１】
９．ポリアミド安定剤、
たとえば、ヨウ化物及び／又はリン化合物との組合せた銅塩、及び、二価マンガン塩。
【００７２】
１０．塩基性補助安定剤、
たとえば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、たとえばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレート、及びカリウムパルミテートなどの高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、アンチモンピロカテコレート、又は亜鉛ピロカテコレート。
【００７３】
１１．核剤、
たとえば、タルクなどの無機物質、二酸化チタン又は酸化マグネシウムなどの金属酸化物、好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸塩、又は硫酸塩；モノあるいはポリカルボン酸などの有機化合物及びそれらの塩、たとえば、４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム又は安息香酸ナトリウム；イオン化コポリマー（アイオノマー）などのポリマー化化合物。特に好ましいのは、１，３：２，４−ビス（３’，４’−ジメチルベンジリデン）ソルビトール、１，３：２，４−ジ（パラメチルジベンジリデン）ソルビトール、及び１，３：２，４−ジ（ベンジリデン）ソルビトール。
【００７４】
１２．充填剤及び強化剤、
たとえば、炭酸カルシウム、シリケート、ガラスファイバー、ガラス球、アスベスト、タルク、カオリン、マイカ、硫酸バリウム、金属酸化物及び金属水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉及び他の天然物の粉末又は繊維、合成繊維。
【００７５】
１３．その他の添加剤、
たとえば、可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流量調整剤、蛍光増白剤、防炎剤、帯電防止剤、及び発泡剤。
【００７６】
１４．ベンゾフラノン及びインドリノン、
たとえば、米国特許第４，３２５，８６３号明細書；米国特許第４，３３８，２４４号明細書；米国特許第５，１７５，３１２号明細書；米国特許第５，２１６，０５２号明細書；米国特許第５，２５２，６４３号明細書；独国特許出願公開第４３１６６１１号明細書；独国特許出願公開第４３１６６２２号明細書；独国特許出願公開第４３１６８７６号明細書；欧州特許出願公開第０５８９８３９号明細書、欧州特許出願公開第０５９１１０２号明細書、欧州特許出願公開第１２９１３８４号明細書に開示されるもの、又は、３−［４−（２−アセトキシエトキシ）−フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（２−アセチル−５−イソオクチルフェニル）−５−イソオクチルベンゾフラノ−２−オン。
【００７７】
上記添加剤は一般に熱可塑性ポリマーの質量に基づいて０．０１乃至２質量％の量で適用される。
【００７８】
本発明のさらなる側面は、加工添加剤として第二級立体障害性アミン化合物を使用することによる、熱可塑性ポリマーの回転成形プロセスにおける最適なピーク温度範囲を拡張する方法である。
【００７９】
従って、熱可塑性ポリマーの回転成形プロセスにおいて、プロセス・ウィンドウをより高いピーク内部空気温度方向に拡張するための方法が開示され、この方法は、第二級立体障害性アミンを熱可塑性ポリマーに混和すること、並びに該ポリマーに回転成形プロセスを施すことを含む。
【００８０】
本発明のさらに別の実施態様は、熱可塑性中空部品の製造方法であり、該方法は
熱可塑性ポリマーを第二級立体障害性アミンと混合すること、及び
この混合物にピーク内部温度範囲が約２１５乃至約２５０℃である回転成形プロセスを施すことを含み、
ここで、熱可塑性ポリマーはポリエチレンであるとき、立体障害性アミンはＮ，Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状若しくは環状縮合物ではない。
【００８１】
上述の定義及び参照もまた本発明の他の側面に適用される。
【実施例】
【００８２】
以下の実施例は本発明を説明する。
例１：回転成形プロセスによるポリオレフィン中空部品の製造
ヘキサンで共重合された中密度ポリエチレン１００部（標準メルトインデックス ３．３ｇ／１０分、密度０．９３８ｇ／ｃｍ3）をステアリン酸亜鉛０．０５０部と表１に示
される更なる安定剤の組み合わせを乾式混合した。混合物を、１９０℃、１００ｒｐｍで、マドック混合ヘッドを備えた２４：１ Ｌ／Ｄ スクリューを用いて、Ｓｕｐｅｒｉｏｒ／ＭＰＭ押出機内で、溶融コンパウンドしてペレット状にした。コンパウンドされたペレットを、回転成形プロセスの前に粉砕して、一定の粒子サイズ（１５０−５００μｍ）にした。この粉砕工程は、粒子の表面積を増加させてより早い熱吸収をもたらし、このことによりエネルギー消費を全体的に減少させる。回転成形プロセスは、実験室規模のＦＳＰ Ｍ２０ “Ｃｌａｍｓｈｅｌｌ”機内で実施した。粉砕した樹脂を、ガス充填オーブン中で二軸回転するアルミニウム型に設置した。温度が２７４℃に上昇するまで、熱風を送風機でチャンバ内に循環させた。この温度を、表２に示される特定のピーク内部空気温度（ＰＩＡＴ）がもたらされるように特定時間維持した。続いてオーブンを開け、回転したまま、型を強制空気循環で７．３分間冷却し、続けて散水ミスト１．５分、空気冷却２分、散水ミスト２．９分、そして空気冷却４．４分を続けた。全加熱及び冷却サイクルの間中、主軸（長軸）の速度を４：１の回転比率で６ｒｐｍに維持した。冷却サイクル後、型を開け、中空部材を取り出した。
プロセス範囲は高い衝撃強度を有する部品が製造可能であるピーク内部空気温度範囲（ＰＩＡＴ）として定義される。衝撃強度はＡＳＴＭ Ｄ３７６３に従って、−４０℃で、Ｄｙｎａｔｕｐ Ｆａｌｌｉｎｇ Ｗｅｉｇｈｔ ｍｅｔｈｏｄ（２５ｌｂ／２０””）で測定した。
【００８３】
【表１】
【００８４】
【表２】
【００８５】
データは、衝撃強度を犠牲にすることなしに、第二級立体障害性アミン化合物の使用により、有用なプロセス範囲がより高温方向に顕著にシフトできることを明確に示した。
【００８６】
例２：回転成形プロセスによるポリオレフィン中空部材の製造
例１の手順を、表３に概説したとおりの更なる添加剤を用いて繰り返した。結果を表４に示す。
【００８７】
【表３】
【００８８】
【表４】
【００８９】
立体障害性アミンが存在しない場合、ピーク内部空気温度（ＰＩＡＴ）によって測定される加工温度は１９８℃を超えないはずであるのに対して、第三級立体障害性アミンが存在する場合には２１０℃を許容した。しかしながら、この温度は、本発明に従って第二級立体障害性アミンが添加されていた場合、最大２２１℃までさらに拡張可能となる。
【００９０】
（登録商標）イルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）３１１４は、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社のフェノール性抗酸化剤であり、
（登録商標）イルガスタブ（Ｉｒｇａｓｔａｂ）ＦＳ０４２は、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社のＮ，Ｎ−ジ（牛脂アルキル）アヒドロキシルアミンであり、
（登録商標）イルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８は、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社のトリスアリールホスフィットであり、
（登録商標）チヌビン（Ｔｉｎｕｖｉｎ）６２２は、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社の第三級立体障害性アミンであり、
（登録商標）サイアソーブ（Ｃｙａｓｏｒｂ）ＵＶ ３３４６は、サイテック インダストリーズ社の第二級立体障害性アミンであり、
（登録商標）キマソーブ（Ｃｉｍａｓｓｏｒｂ）９４４は、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社の第二級立体障害性アミンであり、
（登録商標）キマソーブ（Ｃｉｍａｓｓｏｒｂ）２０２０は、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社の第二級立体障害性アミンであり、
（登録商標）キマソーブ（Ｃｉｍａｓｓｏｒｂ）１１９は、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社の第三級立体障害性アミンであり、
（登録商標）ホスタビン（Ｈｏｓｔａｖｉｎ）Ｎ ３０は、クラリアント社の第三級立体障害性アミンであり、
（登録商標）チヌビン（Ｔｉｎｕｖｉｎ）７７０は、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社の第二級立体障害性アミンであり、
（登録商標）チヌビン（Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３は、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社の第二級及び第三級立体障害性アミンの混合物である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は回転成形プロセスにおける加工添加剤としての第二級立体障害性アミンの使用に関する。これらの添加剤は、溶融プロセス段階中に、より高温方向により広範な温度範囲をもたらすので、プロセス安定性を高める。
【背景技術】
【０００２】
回転成形は、低い製造コストという付加利益と共に、無限のデザインの可能性を認める、極めて多用途な製造オプションである。
【０００３】
回転成形プロセス（ｒｏｔｏｍｏｌｄｉｎｇ ｐｒｏｃｅｓｓ）は、流し込み（ｌｏａｄｉｎｇ）域、加熱域及び冷却域を有する成形機に設置された高品質の型（ｍｏｌｄ）より開始される。
【０００４】
幾つかの型が同時に機械に設置され得る。予め測定されたプラスチック樹脂を各々の型へ流し込み、そして垂直軸と水平軸の双方にゆっくりと回転しているオーブンへ型を移動させる。溶融した樹脂は熱せられた型に張り付き、全ての表面を均一にコートする。冷却サイクルの間、型を回転し続け、そうすると部品は均一な厚肉を保有する。
【０００５】
部品が冷却されるとすぐに、型から外される。回転速度、加熱及び冷却時間は該プロセス中制御され得る。
【０００６】
回転成形は他の成形プロセスを超えたデザイン優位性をもたらす。適切なデザインで幾つかのピースから組み立てられる部品は、一つの部品として成形され得、高価な製造コストを排除する。
【０００７】
該プロセスはまた、一定の厚肉と殆ど圧迫がないといってもいいくらいの強固な外角といった、多くの特有のデザイン強度を有する。更なる強度が要求される場合、部品内に補強リブがデザインされ得る。
【０００８】
回転成形はデザイナーが思い描く製品を生む。デザイナーは、それらの用途のために、ＦＤＡ要件を満たす材料などの最良の材料を選択し得る。部品を耐候性、難燃性、又は耐静電性にするのに役立つ添加剤が指定され得る。
【０００９】
そして部品は圧力よりはむしろ熱及び回転によって形成されるため、射出成形の高圧に耐えるように型を設計する必要はない。
【００１０】
軽量のプラスチックをより重く、しばしばより高価な材料と交換するので、製品改造のための製造コストは減少し、そのことは回転成形による独自の試作品を製造する場合のコスト効率を大量生産する場合のコスト効率と同じにする。
【００１１】
回転成形は多用途であり、様々な種類の形状及び大きさに対処可能である。多くの部品は他のどの方法によっても容易には製造できない。典型例は、特に燃料、水、及び化学処理のための特殊タンク及びコンテナ、家畜飼料箱、配水系システム、飲食物提供サービスコンテナ、機器の筐体、自動販売機、高速道路のフェンス、及び道路標識である。他の用途領域は、消費材、玩具及び輸送である。回転成形プロセスの多くの側面は、例えば、Ｒ．Ｊ．Ｃｒａｗｆｏｒｄ及びＪ．Ｌ．Ｔｈｒｏｎｅによる回転成形テクノロジー、Ｐｌａ
ｓｔｉｃｓ Ｄｅｓｉｇｎ Ｌｉｂｒａｒｙ，Ｗｉｌｌｉａｍ Ａｎｄｒｅｗ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ，２００１年に記載されている。
【００１２】
上述したように回転速度、過熱及び冷却時間は、プロセスを通して全て制御され得る。成形された中空部品の内部において到達する空気の最大温度は、加熱時間に強く依存する。この温度はまたピーク内部空気温度（ＰＩＡＴ）とも呼ばれる。これは溶融樹脂の温度と相関がある。
【００１３】
ピーク内部空気温度（ＰＩＡＴ）把握及びその影響については、低すぎるか又は高すぎるＰＩＡＴが適用された場合、例えば、Ｍ．Ｃ．ＣｒａｍｅｚらによるＰｒｏｃ．Ｉｎｓｔｎ Ｍｅｃｈ．Ｅｎｇｒｓ．２１７巻 パートＢ：Ｊ．ｏｆ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ
Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｅ，２００３年に記載されている。
【００１４】
ピーク内部空気温度は、成形製品の最終特性に影響を与える。例えば、温度を高くしすぎた場合、強い黄変が起こり得、また機械特性は悪影響を受け、例えば、衝撃強度が顕著に低下する。温度を低くしすぎたままにした場合、樹脂が適切に溶融しないために、最終特性は同様に悪影響を受ける。言い換えれば、所望の最終特性を獲得する為の温度範囲は非常に小さい。このため、ほぼ一定の機械特性を獲得できる、こうした温度範囲又はプロセス・ウィンドウを拡張することへの関心が高い。
【００１５】
Ｂｏｔｏｋｉｎらは“Ａｎ Ａｄｄｉｔｉｖｅ ａｐｐｒｏａｃｈ ｔｏ ｃｙｃｌｅ
ｔｉｍｅ ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ ｉｎ ｒｏｔａｔｉｏｎａｌ ｍｏｌｄｉｎｇ”Ｒｏｔａｔｉｏｎａｌ Ｍｏｌｄｉｎｇ ｂｙ Ｄｅｓｉｇｎ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ，Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｓ，２００４年において、所有権を所持している安定剤を用いて、優れた衝撃強度を維持したままＰＩＡＴをより低温方向にシフトできたことを実証している。これは、プロセス・ウィンドウをより低温方向に拡張したことに対応している。
【非特許文献１】Ｒ．Ｊ．Ｃｒａｗｆｏｒｄ及びＪ．Ｌ．Ｔｈｒｏｎｅ，回転成形テクノロジー，Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｄｅｓｉｇｎ Ｌｉｂｒａｒｙ，Ｗｉｌｌｉａｍ Ａｎｄｒｅｗ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ，２００１年
【非特許文献２】Ｍ．Ｃ．Ｃｒａｍｅｚら，Ｐｒｏｃ．Ｉｎｓｔｎ Ｍｅｃｈ．Ｅｎｇｒｓ．２１７巻 パートＢ：Ｊ．ｏｆ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｅ，２００３年
【非特許文献３】Ｂｏｔｏｋｉｎ，“Ａｎ Ａｄｄｉｔｉｖｅ ａｐｐｒｏａｃｈ ｔｏ ｃｙｃｌｅ ｔｉｍｅ ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ ｉｎ ｒｏｔａｔｉｏｎａｌ ｍｏｌｄｉｎｇ”Ｒｏｔａｔｉｏｎａｌ Ｍｏｌｄｉｎｇ ｂｙ Ｄｅｓｉｇｎ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ，Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｐｌａｓｔｉｃｓ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｓ，２００４年
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
驚くべきことに、第二級立体障害性アミン化合物を樹脂配合に添加した場合に、成形
物品の色及び機械特性への悪影響なしに、より高温方向に顕著に広いプロセス・ウィンドウが獲得できることが見出された。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
従って、本発明の一つの側面は、熱可塑性ポリマーの回転成形プロセスにおいて、プロセス・ウィンドウをより高いピーク内部空気温度に向かって拡張するための、加工添加剤としての第二級立体障害性アミン化合物の使用である。
【００１８】
プロセス・ウィンドウ下では、ピーク内部空気方法（ＰＩＡＴ）によって測定された温度範囲内では成形物品の機械特性及び／又は色が本質的に同じままであると理解されている。特に測定に適する機械特性は、例えば低温における衝撃強度である。低温とは本書において０℃乃至−５０℃、特に−２０℃乃至−４０℃を意味する。
【００１９】
例えば、立体障害性アミンは式（Ｉ）又は（ＩＩ）
【化１】
（式中、
＊は結合を表し
Ｇは水素原子又はメチル基を表し、そして
Ｇ1及びＧ2は互いに独立して、水素原子、メチル基を表すか、または一緒になって置換基＝Ｏを表す。）
で表される少なくとも一つの基を含む化合物である。
【００２０】
例えば、立体障害性アミンは式（Ｉａ）
【化２】
で表される少なくとも一つの基を含む化合物である。
【００２１】
立体障害性アミン化合物は既知であり、ポリマーの熱又は光安定剤として、広範に使用されている。これらは市販のものであるか、或いは、例えば米国特許第５，６７９，７３３号明細書、米国特許第３，６４０，９２８号明細書、米国特許第４，１９８，３３４号明細書、米国特許第５，２０４，４７３号明細書、米国特許第４，６１９，９５８号明細書、米国特許第４，１１０，３０６号明細書、米国特許第４，１１０，３３４号明細書、米国特許第４，６８９，４１６号明細書、米国特許第４，４０８，０５１号明細書、旧ソビエト連邦特許第７６８，１７５号明細書（ダーウェント ８８−１３８，７５１／２０）、米国特許第５，０４９，６０４号明細書、米国特許第４，７６９，４５７号明細書、米国特許第４，３５６，３０７号明細書、米国特許第４，６１９，９５６号明細書、米国特許第５，１８２，３９０号明細書、英国特許第２，２６９，８１９号明細書、米国特許第４，２９２，２４０号明細書、米国特許第５，０２６，８４９号明細書、米国特許第５，０７１，９８１号明細書、米国特許第４，５４７，５３８号明細書、米国特許第４，９７６，８８９号明細書、米国特許第４，０８６，２０４号明細書、米国特許第６，０４６，３０４号明細書、米国特許第４，３３１，５８６号明細書、米国特許第４，１０８，８２９号明細書、米国特許第５，０５１，４５８号明細書、国際公開第９４／１２，５４４号パンフレット（ダーウェント ９４−１７７，２７４／２２）、東独国特許第２６２，４３９号明細書（ダーウェント ８９−１２２，９８３／１７）、米国特許第４，８５７，５９５号明細書、米国特許第４，５２９，７６０号明細書、米国特許第４，４７７，６１５号明細書、ＣＡＳ登録番号１３６，５０４−９６−６、米国特許第４，２３３，４１２号明細書、米国特許第４，３４０，５３４号明細書、国際公開第９８／５１，６９０号パンフレット、及び欧州特許出願公開第１，８０３号明細書に記載されるように製造可能であり、該開示は参照することによって組み込まれる。
【００２２】
好ましいものは以下の市販の化合物である。
【００２３】
キマソーブ２０２０（登録商標）、キマソーブ９４４（登録商標）、チヌビン７７０（登録商標及びチヌビン７８３（登録商標）、サイアソーブ ＵＶ ３３４６（登録商標）、サイアソーブ ＵＶ ３５８１（登録商標）、ダスチブ ８４５（登録商標）、ダスチブ １０８２（登録商標）、ダイアセタム ５、フェロ ８０６−Ｘ（登録商標）、グッドライト ３０３４（登録商標）、グッドライト ３１５０（登録商標）、ＨＡＬＳ ＩＣ−ＴＡＭ、ホスタビン Ｎ ２０（登録商標）、ホスタビン Ｎ ２４（登録商標）、ホスタビン Ｎ ３０（登録商標）、ヒュルス Ｓ−９５（登録商標）、ＩＣＩ ＰＡ ５００（登録商標）、リヒトシュッツシュトフ ＵＶ ３１（登録商標）、ルケム ＨＡ−Ｂ １８（登録商標）、マーク ＬＡ ５５（登録商標）、マーク ＬＡ ５７（登録商標）、マーク ＬＡ ６７（登録商標）、マーク ＬＡ ６８（登録商標）、サンデュボア ３０５０（登録商標）、スミライザー ６１（登録商標）、スミライザー ７０（登録商標）、スミソーブ ＴＭ ６１（登録商標）、ウバソーブ ＨＡ ８８（登録商標）、ウビヌール ４０４９（登録商標）、ウビヌール ５０５０（登録商標）、ウバシル
２９９（登録商標）、ウバシル １２５（登録商標）。
【００２４】
これら化合物は市販のものであり；米国特許第５，６７９，７３３号明細書、米国特許第３，６４０，９２８号明細書、米国特許第５，２０４，４７３号明細書、米国特許第４，６１９，９５８号明細書、米国特許第４，１１０，３０６号明細書、米国特許第４，１１０，３３４号明細書、米国特許第４，６８９，４１６号明細書、米国特許第４，４０８，０５１号明細書、旧ソビエト連邦特許第７６８，１７５号明細書（ダーウェント ８８−１３８，７５１／２０）、米国特許第５，０４９，６０４号明細書、米国特許第４，７６９，４５７号明細書、米国特許第４，３５６，３０７号明細書、米国特許第４，６１９，９５６号明細書、米国特許第５，１８２，３９０号明細書、英国特許第２，２６９，８１９号明細書、米国特許第４，２９２，２４０号明細書、米国特許第５，０２６，８４９号明細書、米国特許第５，０７１，９８１号明細書、米国特許第４，５４７，５３８号明細書、米国特許第４，９７６，８８９号明細書、米国特許第４，０８６，２０４号明細書、米国特許第６，０４６，３０４号明細書、米国特許第４，３３１，５８６号明細書、米国特許第４，１０８，８２９号明細書、米国特許第５，０５１，４５８号明細書、国際公開第９４／１２，５４４号パンフレット（ダーウェント ９４−１７７，２７４／２２）、東独国特許第２６２，４３９号明細書（ダーウェント ８９−１２２，９８３／１７）、米国特許第４，８５７，５９５号明細書、米国特許第４，５２９，７６０号明細書、米国特許第４，４７７，６１５号明細書（ＣＡＳ登録番号１３６，５０４−９６−６）、米国特許第４，３４０，５３４号明細書、国際公開第９８／５１，６９０号パンフレット、及び欧州特許出願公開第１，８０３号明細書に記載され、該開示は参照することによって組み込まれる。
【００２５】
本発明の立体障害性アミン化合物は、熱可塑性ポリマーの質量に基づいて、好ましくは、０．０１乃至５質量％、より好ましくは０．０５乃至２質量％、そして最も好ましくは０．１乃至１質量％の量で添加される。
【００２６】
例えば、熱可塑性ポリマーはポリオレフィン、ポリ塩化ビニル又はポリアミドである。以下に例示する：
【００２７】
１．モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポリビニルシクロヘキサン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィン、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、ポリエチレン（所望により架橋され得る）、例えば高
密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度及び高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度及び超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）及び（ＵＬＤＰＥ）。
【００２８】
ポリオレフィン、すなわち前の段落において例示したモノオレフィンのポリマー、望ましくはポリエチレン及びポリプロピレンは、異なる方法によりそしてとりわけ以下の方法により調製され得る：
ａ）ラジカル重合（通常は高圧下及び高温において）。
ｂ）通常、周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂ又はＶＩＩＩ群の金属の一種又はそれ以上を含む触媒を使用した触媒重合。これらの金属は通常、一つ又はそれ以上の配位子、典型的にはπ−又はσ−配位し得るオキシド、ハロゲン化物、アルコラート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び／又はアリールを有する。これらの金属錯体は遊離形態であるか、又は基材に、典型的には活性化塩化マグネシウム、チタン（ＩＩＩ）クロリド、アルミナ又は酸化ケイ素に固定され得る。これらの触媒は、重合媒体中に可溶又は不溶であり得る。該触媒は重合においてそのまま使用され得、又はさらなる活性剤、典型的には金属アルキル、金属ヒドリド、金属アルキルハライド、金属アルキルオキシド又は金属アルキルオキサンであって、前記金属が周期表のＩａ、ＩＩａ及び／又はＩＩＩａ群の元素であるものが使用され得る。活性剤は、他のエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル基で都合良く変性され得る。これらの触媒系は通常、フィリップス、スタンダードオイルインディアナ、チグラー（−ナッタ）、ＴＮＺ（デュポン）、メタロセン又はシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と命名される。
【００２９】
２．１）で言及されたポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレン、ポリプロピレンとポリエチレン（例えば、ＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）の混合物、及び異なる型のポリエチレンの混合物（例えば、ＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００３０】
３．モノオレフィン及びジオレフィンの互いの又は他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）及びその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキサンコポリマー、エチレン／シクロオレフィンコポリマー（例えばＣＯＣの様な、エチレン／ノルボルネン）、１−オレフィンがその場で生成されるエチレン／１−オレフィンコポリマー；プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキセンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー又はエチレン／アクリル酸コポリマー及びそれらの塩（アイオノマー）並びにエチレンとプロピレン及びへキサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリデン−ノルボルネンなどのジエンとのターポリマー；及びそのようなコポリマーの互いの及び１）で上述したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ及び交互の又はランダムのポリアルキレン／一酸化炭素コポリマー及びそれらの他のポリマー、例えばポリアミドとの混合物。
【００３１】
４．ジアミシとジカルボン酸から及び／又はアミノカルボン酸又は対応するラクタムから誘導されたポリアミド及びコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミン及びアジピン酸から開始した芳香族ポリアミド；へキサ
メチレンジアミン及びイソフタル酸又は／及びテレフタル酸から及び変性剤としてエラストマーを用いて又は用いずに調製されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミド又はポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド：及び上述されたポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマー又は化学的に結合されたか又はグラフトされたエラストマーとのブロックコポリマー；又は例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又はポリテトラメチレングリコールなどのポリエーテルとのブロックコポリマー；ならびにＥＰＤＭ又はＡＢＳで変性されたポリアミド又はコポリアミド；及びプロセスの間に縮合されたポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。
【００３２】
特に好ましいものはポリエチレン、好ましくは線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）である。
【００３３】
例えば、回転成形プロセスにおけるピーク内部空気温度範囲は、より高温方向に最大１０乃至５０℃、好ましくは１５乃至４５℃拡張される。本参考例には立体障害性アミンの追加はない。
【００３４】
好ましくはピーク内部空気温度範囲は２１０乃至２５０℃、より好ましくは２１５乃至２５０℃、そして最も好ましくは２２０乃至２５０℃である。
【００３５】
上記温度範囲は、物品の機械特性及び／又は色に悪影響を与えることのない、好ましいプロセス・ウィンドウに対応する。
【００３６】
本発明の具体的な実施態様において、紫外線吸収剤、式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表されるものとは異なる立体障害性アミン、フェノール性抗酸化剤、ホスフィット又はホスホナイト及びベンゾフラノン又はインドリノンからなる群から選択される更なる安定剤が存在する。
【００３７】
上述の添加剤の例は以下である。
１．抗酸化剤
１．１．アルキル化モノフェノール、
たとえば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、直線状若しくは側鎖で分岐したノニルフェノール、たとえば、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノール及びそれらの混合物。
【００３８】
１．２．アルキルチオメチルフェノール、
たとえば、２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【００３９】
１．３．ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン、
たとえば、２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−第三ブチル
ヒドロキノン、２，５−ジ−第三アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【００４０】
１．４．トコフェロール、
たとえば、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール、及びそれらの混合物（ビタミンＥ）。
【００４１】
１．５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、
たとえば、２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【００４２】
１．６．アルキリデンビスフェノール、
たとえば、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）−フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール）、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００４３】
１．７．Ｏ−、Ｎ−、及びＳ−ベンジル化合物、
たとえば、３，５，３’，５’−テトラ−第三ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【００４４】
１．８．ヒドロキシベンジル化マロネート、
たとえば、ジオクタデシル−２，２−ビス−（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジ−ドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【００４５】
１．９．芳香族ヒドロキシベンジル化合物、
たとえば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００４６】
１．１０．トリアジン化合物、
たとえば、２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【００４７】
１．１１．ベンジルホスホネート
たとえば、ジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【００４８】
１．１２．アシルアミノフェノール、
たとえば、４−ヒドロキシラウラニリド、４−ヒドロキシステアラニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−カルバメート。
【００４９】
１．１３．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
たとえば、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００５０】
１．１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
たとえば、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル；３，９−ビス［２−｛３−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］−ウンデカン。
【００５１】
１．１５．β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
たとえば、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００５２】
１．１６．３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
たとえば、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００５３】
１．１７．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド
たとえば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド（ユニロイヤルによって供給されるナウガードＸＬ−１（登録商標 Ｎａｕｇａｒｄ））
【００５４】
１．１８．アスコルビン酸（ビタミンＣ）
【００５５】
１．１９．アミン抗酸化剤、
たとえば、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−第二
ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、たとえばｐ，ｐ’−ジ−第三オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−第三ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチル−ジフェニルアミンの混合物、モノ及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ及びジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ及びジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノ及びジアルキル化第三ブチル／第三オクチルフェノチアジンの混合物、モノ及びジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテ−２−エン。
【００５６】
２．ＵＶ吸収剤及び光安定剤
２．１．２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
たとえば、
２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三
ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；２−［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；
【化３】
（式中、Ｒは３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル基を表す）、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］ベンゾトリアゾール；２−［２’−ヒドロキシ−３’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’−（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール。
【００５７】
２．２．２−ヒドロキシベンゾフェノン、
たとえば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシ、及び２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【００５８】
２．３．置換及び非置換の安息香酸のエステル、
たとえば、４−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−第三ブチルフェニル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【００５９】
２．４．アクリレート、
たとえば、エチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート、Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン、ネオペンチルテトラ（α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート。
【００６０】
２．５．ニッケル化合物
たとえば、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン、若しくはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンといった付加配位子を伴うか若しくは伴わない、１：１又は１：２の錯体といった、２，２’−チオ−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステルのニッケル塩、たとえば、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のメチル若しくはエチルエステル、ケトキシム、たとえば、２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、付加的な配位子を伴うか若しくは伴わない１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
【００６１】
２．６．立体障害性アミン
たとえば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸の縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状若しくは環状縮合物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状若しくは環状縮合物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合物、２−クロロー４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−及び４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合物、１，２−ビス（３−アミノ−プロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン及び４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの縮合物（ＣＡＳ登録番号［１３６５０４−９６−６］）；１，６−ヘキサンジアミンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン及びＮ，Ｎ−ジブチルアミンと４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの縮合物（ＣＡＳ登録番号［１９２２６８−６４−７］；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４，５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４，５］デカンとエピクロロヒドリンの反応生成物、１，１−ビス−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ’−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシ−メチレン−マロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、マレイン酸無水物−α−オレフィン−コポリマーと２，２，６，６−テトラ
メチル−４−アミノピペリジン若しくは１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物、２，４−ビス［Ｎ−（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ−ブチルアミノ］−６−（２−ヒドロキシエチル）アミノ−１，３５−トリアジン、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−オクタデカノイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、５−（２−エチルヘキサノイル）オキシメチル−３，３，５−トリメチル−２−モルホリノン、サンデュボア（クラリアント；ＣＡＳ登録番号１０６９１７−３１−１）、５−（２−エチルヘキサノイル）オキシメチル−３，３，５−トリメチル−２−モルホリノン、２，４−ビス［１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−ピペリジン−４−イル］ブチルアミノ）−６−クロロ−ｓ−トリアジンとＮ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミンとの反応生成物、１，３，５−トリス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチルピペラジン−３−オン−４−イル）アミノ）−ｓ−トリアジン、１，３，５−トリス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペラジン−３−オン−４−イル）アミノ）−ｓ−トリアジン。
【００６２】
２．７．オキサミド、
たとえば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−第三ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エトキサニリド及びその２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−第三ブトキサニリドとの混合物、ｏ−及びｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物、並びに、ｏ−及びｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【００６３】
２．８．２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
たとえば、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−[２−ヒドロキシ−４−［３−（２−
エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル]−４，６−
ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（４−［２
−エチルヘキシルオキシ］−２−ヒドロキシフェニル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン。
【００６４】
３．金属奪活剤
たとえば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【００６５】
４．ホスフィット及びホスホナイト、
たとえば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリス（第三ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、２，２’，２”−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’―ジイル）ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット、５−ブチル−５−エチル−２−（２，４，６−トリ−第三ブチルフェノキシ）−１，３，２−ジオキサホスフィラン。
【００６６】
特に好まれるのは以下のホスフィットである：
トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット（イルガフォス１６８、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社（登録商標：Ｉｒｇａｆｏｓ））、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、
【化４】
【００６７】
５．ヒドロキシルアミン、
たとえば、Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシル
ヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化牛脂アミン由来のＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【００６８】
６．ニトロン、
たとえば、Ｎ−ベンジル−アルファ−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−アルファ−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−アルファ−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−アルファ−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−アルファ−トリデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘキサデシルニトロン、水素化牛脂アミン由来のＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン由来のニトロン。
【００６９】
７．チオ相乗剤
たとえば、ジラウリルチオジプロピオネート、ジミストリルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート、又はジステアリルジスルフィド。
【００７０】
８．過酸化物捕捉剤、
たとえば、β−チオジプロピオン酸のエステル、たとえばラウリル、ステアリル、ミリスチル、若しくはトリデシルエステル、メルカプトベンゾイミダゾール若しくは２−メルカプトベンゾイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【００７１】
９．ポリアミド安定剤、
たとえば、ヨウ化物及び／又はリン化合物との組合せた銅塩、及び、二価マンガン塩。
【００７２】
１０．塩基性補助安定剤、
たとえば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、たとえばカルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレート、及びカリウムパルミテートなどの高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、アンチモンピロカテコレート、又は亜鉛ピロカテコレート。
【００７３】
１１．核剤、
たとえば、タルクなどの無機物質、二酸化チタン又は酸化マグネシウムなどの金属酸化物、好ましくはアルカリ土類金属のリン酸塩、炭酸塩、又は硫酸塩；モノあるいはポリカルボン酸などの有機化合物及びそれらの塩、たとえば、４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウム又は安息香酸ナトリウム；イオン化コポリマー（アイオノマー）などのポリマー化化合物。特に好ましいのは、１，３：２，４−ビス（３’，４’−ジメチルベンジリデン）ソルビトール、１，３：２，４−ジ（パラメチルジベンジリデン）ソルビトール、及び１，３：２，４−ジ（ベンジリデン）ソルビトール。
【００７４】
１２．充填剤及び強化剤、
たとえば、炭酸カルシウム、シリケート、ガラスファイバー、ガラス球、アスベスト、タルク、カオリン、マイカ、硫酸バリウム、金属酸化物及び金属水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉及び他の天然物の粉末又は繊維、合成繊維。
【００７５】
１３．その他の添加剤、
たとえば、可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流量調整剤、蛍光増白剤、防炎剤、帯電防止剤、及び発泡剤。
【００７６】
１４．ベンゾフラノン及びインドリノン、
たとえば、米国特許第４，３２５，８６３号明細書；米国特許第４，３３８，２４４号明細書；米国特許第５，１７５，３１２号明細書；米国特許第５，２１６，０５２号明細書；米国特許第５，２５２，６４３号明細書；独国特許出願公開第４３１６６１１号明細書；独国特許出願公開第４３１６６２２号明細書；独国特許出願公開第４３１６８７６号明細書；欧州特許出願公開第０５８９８３９号明細書、欧州特許出願公開第０５９１１０２号明細書、欧州特許出願公開第１２９１３８４号明細書に開示されるもの、又は、３−［４−（２−アセトキシエトキシ）−フェニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチルベンゾフラノ−２−オン、３−（２−アセチル−５−イソオクチルフェニル）−５−イソオクチルベンゾフラノ−２−オン。
【００７７】
上記添加剤は一般に熱可塑性ポリマーの質量に基づいて０．０１乃至２質量％の量で適用される。
【００７８】
本発明のさらなる側面は、加工添加剤として第二級立体障害性アミン化合物を使用することによる、熱可塑性ポリマーの回転成形プロセスにおける最適なピーク温度範囲を拡張する方法である。
【００７９】
従って、熱可塑性ポリマーの回転成形プロセスにおいて、プロセス・ウィンドウをより高いピーク内部空気温度方向に拡張するための方法が開示され、この方法は、第二級立体障害性アミンを熱可塑性ポリマーに混和すること、並びに該ポリマーに回転成形プロセスを施すことを含む。
【００８０】
本発明のさらに別の実施態様は、熱可塑性中空部品の製造方法であり、該方法は
熱可塑性ポリマーを第二級立体障害性アミンと混合すること、及び
この混合物にピーク内部温度範囲が約２１５乃至約２５０℃である回転成形プロセスを施すことを含み、
ここで、熱可塑性ポリマーはポリエチレンであるとき、立体障害性アミンはＮ，Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの線状若しくは環状縮合物ではない。
【００８１】
上述の定義及び参照もまた本発明の他の側面に適用される。
【実施例】
【００８２】
以下の実施例は本発明を説明する。
例１：回転成形プロセスによるポリオレフィン中空部品の製造
ヘキサンで共重合された中密度ポリエチレン１００部（標準メルトインデックス ３．３ｇ／１０分、密度０．９３８ｇ／ｃｍ3）をステアリン酸亜鉛０．０５０部と表１に示
される更なる安定剤の組み合わせを乾式混合した。混合物を、１９０℃、１００ｒｐｍで、マドック混合ヘッドを備えた２４：１ Ｌ／Ｄ スクリューを用いて、Ｓｕｐｅｒｉｏｒ／ＭＰＭ押出機内で、溶融コンパウンドしてペレット状にした。コンパウンドされたペレットを、回転成形プロセスの前に粉砕して、一定の粒子サイズ（１５０−５００μｍ）にした。この粉砕工程は、粒子の表面積を増加させてより早い熱吸収をもたらし、このことによりエネルギー消費を全体的に減少させる。回転成形プロセスは、実験室規模のＦＳＰ Ｍ２０ “Ｃｌａｍｓｈｅｌｌ”機内で実施した。粉砕した樹脂を、ガス充填オーブン中で二軸回転するアルミニウム型に設置した。温度が２７４℃に上昇するまで、熱風を送風機でチャンバ内に循環させた。この温度を、表２に示される特定のピーク内部空気温度（ＰＩＡＴ）がもたらされるように特定時間維持した。続いてオーブンを開け、回転したまま、型を強制空気循環で７．３分間冷却し、続けて散水ミスト１．５分、空気冷却２分、散水ミスト２．９分、そして空気冷却４．４分を続けた。全加熱及び冷却サイクルの間中、主軸（長軸）の速度を４：１の回転比率で６ｒｐｍに維持した。冷却サイクル後、型を開け、中空部材を取り出した。
プロセス範囲は高い衝撃強度を有する部品が製造可能であるピーク内部空気温度範囲（ＰＩＡＴ）として定義される。衝撃強度はＡＳＴＭ Ｄ３７６３に従って、−４０℃で、Ｄｙｎａｔｕｐ Ｆａｌｌｉｎｇ Ｗｅｉｇｈｔ ｍｅｔｈｏｄ（２５ｌｂ／２０””）で測定した。
【００８３】
【表１】
【００８４】
【表２】
【００８５】
データは、衝撃強度を犠牲にすることなしに、第二級立体障害性アミン化合物の使用により、有用なプロセス範囲がより高温方向に顕著にシフトできることを明確に示した。
【００８６】
例２：回転成形プロセスによるポリオレフィン中空部材の製造
例１の手順を、表３に概説したとおりの更なる添加剤を用いて繰り返した。結果を表４に示す。
【００８７】
【表３】
【００８８】
【表４】
【００８９】
立体障害性アミンが存在しない場合、ピーク内部空気温度（ＰＩＡＴ）によって測定される加工温度は１９８℃を超えないはずであるのに対して、第三級立体障害性アミンが存在する場合には２１０℃を許容した。しかしながら、この温度は、本発明に従って第二級立体障害性アミンが添加されていた場合、最大２２１℃までさらに拡張可能となる。
【００９０】
（登録商標）イルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）３１１４は、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社のフェノール性抗酸化剤であり、
（登録商標）イルガスタブ（Ｉｒｇａｓｔａｂ）ＦＳ０４２は、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社のＮ，Ｎ−ジ（牛脂アルキル）アヒドロキシルアミンであり、
（登録商標）イルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８は、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社のトリスアリールホスフィットであり、
（登録商標）チヌビン（Ｔｉｎｕｖｉｎ）６２２は、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社の第三級立体障害性アミンであり、
（登録商標）サイアソーブ（Ｃｙａｓｏｒｂ）ＵＶ ３３４６は、サイテック インダストリーズ社の第二級立体障害性アミンであり、
（登録商標）キマソーブ（Ｃｉｍａｓｓｏｒｂ）９４４は、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社の第二級立体障害性アミンであり、
（登録商標）キマソーブ（Ｃｉｍａｓｓｏｒｂ）２０２０は、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社の第二級立体障害性アミンであり、
（登録商標）キマソーブ（Ｃｉｍａｓｓｏｒｂ）１１９は、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社の第三級立体障害性アミンであり、
（登録商標）ホスタビン（Ｈｏｓｔａｖｉｎ）Ｎ ３０は、クラリアント社の第三級立体障害性アミンであり、
（登録商標）チヌビン（Ｔｉｎｕｖｉｎ）７７０は、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社の第二級立体障害性アミンであり、
（登録商標）チヌビン（Ｔｉｎｕｖｉｎ）７８３は、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社の第二級及び第三級立体障害性アミンの混合物である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱可塑性ポリマーの回転成形プロセスにおいて、プロセス・ウィンドウをより高いピーク内部空気温度方向に拡張させるための加工添加剤としての、第二級立体障害性アミン化合物の使用。
【請求項２】
立体障害性アミンが、式（Ｉ）または（ＩＩ）
【化１】
（式中、
＊は結合を表し
Ｇは水素原子又はメチル基を表し、そして
Ｇ1及びＧ2は互いに独立して、水素原子、メチル基を表すか、または一緒になって置換基＝Ｏを表す。）
で表される少なくとも一つの基を含む化合物である、請求項１記載の使用。
【請求項３】
立体障害性アミンが、式（Ｉａ）
【化２】
で表される少なくとも一つの基を含む化合物である、請求項２記載の使用。
【請求項４】
立体障害性アミン化合物が、熱可塑性ポリマーの質量に基づいて、０．０１乃至５質量％の量で添加される、請求項１記載の使用。
【請求項５】
熱可塑性ポリマーがポリオレフィン、ポリ塩化ビニル又はポリアミドである、請求項１記載の使用。
【請求項６】
熱可塑性ポリマーがポリエチレンである、請求項１記載の使用。
【請求項７】
回転成形プロセスにおけるピーク内部空気温度の範囲が、より高温方向に最大１０乃至５０℃拡張する、請求項１記載の使用。
【請求項８】
ピーク内部空気温度の範囲が２１５乃至２５０℃である、請求項１記載の使用。
【請求項９】
回転成形プロセスにおいて、紫外線吸収剤、式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表されるものとは異なる立体障害性アミン、フェノール性抗酸化剤、ホスフィット又はホスホナイト、並びにベンゾフラノン又はインドリノンからなる群から選択される更なる安定剤が存在する、請求項１記載の使用。
【請求項１０】
熱可塑性ポリマーの回転成形プロセスにおいて、プロセス・ウィンドウをより高いピーク内部空気温度方向に拡張させるための方法であって、第二級立体障害性アミンを熱可塑性ポリマーに混和すること、並びに該ポリマーに回転成形加工を施すことを含む方法。
【請求項１１】
熱可塑性ポリマーの回転成形プロセスにおいて、プロセス・ウィンドウをより高いピーク内部空気温度方向に拡張させるために、加工添加剤として第二級立体障害性アミン化合物を使用する方法。
【請求項１】
熱可塑性ポリマーの回転成形プロセスにおいて、プロセス・ウィンドウをより高いピーク内部空気温度方向に拡張させるための加工添加剤としての、第二級立体障害性アミン化合物の使用。
【請求項２】
立体障害性アミンが、式（Ｉ）または（ＩＩ）
【化１】
（式中、
＊は結合を表し
Ｇは水素原子又はメチル基を表し、そして
Ｇ1及びＧ2は互いに独立して、水素原子、メチル基を表すか、または一緒になって置換基＝Ｏを表す。）
で表される少なくとも一つの基を含む化合物である、請求項１記載の使用。
【請求項３】
立体障害性アミンが、式（Ｉａ）
【化２】
で表される少なくとも一つの基を含む化合物である、請求項２記載の使用。
【請求項４】
立体障害性アミン化合物が、熱可塑性ポリマーの質量に基づいて、０．０１乃至５質量％の量で添加される、請求項１記載の使用。
【請求項５】
熱可塑性ポリマーがポリオレフィン、ポリ塩化ビニル又はポリアミドである、請求項１記載の使用。
【請求項６】
熱可塑性ポリマーがポリエチレンである、請求項１記載の使用。
【請求項７】
回転成形プロセスにおけるピーク内部空気温度の範囲が、より高温方向に最大１０乃至５０℃拡張する、請求項１記載の使用。
【請求項８】
ピーク内部空気温度の範囲が２１５乃至２５０℃である、請求項１記載の使用。
【請求項９】
回転成形プロセスにおいて、紫外線吸収剤、式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表されるものとは異なる立体障害性アミン、フェノール性抗酸化剤、ホスフィット又はホスホナイト、並びにベンゾフラノン又はインドリノンからなる群から選択される更なる安定剤が存在する、請求項１記載の使用。
【請求項１０】
熱可塑性ポリマーの回転成形プロセスにおいて、プロセス・ウィンドウをより高いピーク内部空気温度方向に拡張させるための方法であって、第二級立体障害性アミンを熱可塑性ポリマーに混和すること、並びに該ポリマーに回転成形加工を施すことを含む方法。
【請求項１１】
熱可塑性ポリマーの回転成形プロセスにおいて、プロセス・ウィンドウをより高いピーク内部空気温度方向に拡張させるために、加工添加剤として第二級立体障害性アミン化合物を使用する方法。
【公表番号】特表２００９−５２５２０３（Ｐ２００９−５２５２０３Ａ）
【公表日】平成２１年７月９日（２００９．７．９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−５５２７８１（Ｐ２００８−５５２７８１）
【出願日】平成１９年１月２４日（２００７．１．２４）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００７／０５０６７８
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０８８１３０
【国際公開日】平成１９年８月９日（２００７．８．９）
【出願人】（３９６０２３９４８）チバ ホールディング インコーポレーテッド (530)
【氏名又は名称原語表記】Ｃｉｂａ Ｈｏｌｄｉｎｇ Ｉｎｃ．
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２１年７月９日（２００９．７．９）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年１月２４日（２００７．１．２４）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００７／０５０６７８
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０８８１３０
【国際公開日】平成１９年８月９日（２００７．８．９）
【出願人】（３９６０２３９４８）チバ ホールディング インコーポレーテッド (530)
【氏名又は名称原語表記】Ｃｉｂａ Ｈｏｌｄｉｎｇ Ｉｎｃ．
【Ｆターム（参考）】
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