基板乾燥装置、基板乾燥方法、及び表示用パネル基板の製造方法
【課題】エアナイフの下流側に設備を追加することなく、基板を乾燥させる能力を向上させる。
【解決手段】表面又は裏面に洗浄液２が供給された基板１を移動しながら、基板１の上方又は下方に基板１の基板移動方向と直交する方向の幅に渡って設けたエアナイフ３０から、基板１の表面又は裏面へエアを吹き付ける。基板１の上方又は下方のエアナイフ３０より上流側に設けた第１の吸引ノズル４０により、エアナイフ３０からのエアにより押し流された洗浄液１を基板１の表面又は裏面から吸引する。基板１の表面又は裏面のエアナイフ３０からのエアが当たる部分では、洗浄液２の液膜の厚さが薄く制御され、エアナイフ３０からのエアによって洗浄液２の液膜が容易に除去される。
【解決手段】表面又は裏面に洗浄液２が供給された基板１を移動しながら、基板１の上方又は下方に基板１の基板移動方向と直交する方向の幅に渡って設けたエアナイフ３０から、基板１の表面又は裏面へエアを吹き付ける。基板１の上方又は下方のエアナイフ３０より上流側に設けた第１の吸引ノズル４０により、エアナイフ３０からのエアにより押し流された洗浄液１を基板１の表面又は裏面から吸引する。基板１の表面又は裏面のエアナイフ３０からのエアが当たる部分では、洗浄液２の液膜の厚さが薄く制御され、エアナイフ３０からのエアによって洗浄液２の液膜が容易に除去される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネル基板の製造において、基板の乾燥を行う基板乾燥装置、基板乾燥方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に係り、特に、エアナイフを用いた基板乾燥装置、基板乾燥方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造工程では、基板上に回路パターンやカラーフィルタ等を形成するため、基板の露光、現像、エッチング、剥離等の処理が行われる。現像、エッチング、剥離等の薬液処理の前又は後には、純水等の洗浄液を用いた基板の洗浄、及び洗浄後の基板の乾燥が必要である。基板の薬液処理、洗浄、及び乾燥を含む一連の処理は、ローラコンベア等の移動手段を用いて基板を移動しながら行われることが多く、基板の乾燥は、エアナイフを用いて基板へエアを吹き付けることにより、洗浄液を基板の表面から押し流して除去するのが一般的である。
【０００３】
エアナイフを用いた基板の乾燥は、基板を乾燥させる能力が高い反面、エアナイフからのエアによって基板の表面から吹き飛ばされた洗浄液のミストが基板の表面に再付着し、乾燥むらが発生することがある。これに対して、特許文献１には、エアナイフを用いて基板の表面全体に連続した液膜を形成し、形成した液膜を基板の端から順番に連続して除去することにより、基板をむらなく均一に乾燥させる技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−１１７９９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
基板を移動しながら基板に対して一連の処理を行う場合、タクトタイムを短縮するためには、基板の移動を高速で行う必要がある。特に、近年の表示用パネルの大画面化に伴い基板が大型化する程、タクトタイムを従来以下に抑えるためには、基板を従来よりも高速で移動しながら、基板に対して一連の処理を行わなければならない。
【０００６】
従来のエアナイフを用いた基板の乾燥では、基板の移動を高速で行うと、洗浄液の一部が基板の表面から除去しきれずに点在して残り、洗浄液の残存した部分が乾燥後にしみとなって、乾燥むらが発生することがあった。特に、基板の表面にパターン等の凹凸が形成されている場合、基板の表面の凹凸によって洗浄液の移動が阻害されるので、洗浄液の残存による乾燥むらが発生する可能性が高い。この様な乾燥むらを抑制するためには、基板の移動を高速で行う程、大量のエアを高速で吹き付ける必要があった。
【０００７】
一方、特許文献１に記載の技術は、エアナイフを用いて基板の表面に液膜を形成した後、形成した液膜を除去するために、ハロゲンランプヒータ等の液膜除去手段をエアナイフの下流側に設ける必要があり、工程が複雑になって装置の設置面積が増加するという問題があった。
【０００８】
本発明の課題は、エアナイフの下流側に設備を追加することなく、基板を乾燥させる能力を向上させることである。また、本発明の課題は、高品質な表示用パネル基板を効率良く製造することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の基板乾燥装置は、表面又は裏面に洗浄液が供給された基板を移動する基板移動手段と、基板移動手段により移動される基板の上方又は下方に、基板の基板移動方向と直交する方向の幅に渡って設けられ、基板の表面又は裏面へエアを吹き付けるエアナイフと、基板移動手段により移動される基板の上方又は下方のエアナイフより上流側に設けられ、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引する第１の吸引ノズルとを備えたものである。
【００１０】
また、本発明の基板乾燥方法は、表面又は裏面に洗浄液が供給された基板を移動しながら、基板の上方又は下方に基板の基板移動方向と直交する方向の幅に渡って設けたエアナイフから、基板の表面又は裏面へエアを吹き付け、基板の上方又は下方のエアナイフより上流側に設けた第１の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引するものである。
【００１１】
基板の上方又は下方のエアナイフより上流側に設けた第１の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引するので、基板の表面又は裏面のエアナイフからのエアが当たる部分では、洗浄液の液膜の厚さが薄く制御され、エアナイフからのエアによって洗浄液の液膜が容易に除去される。従って、基板を乾燥させる能力が向上し、また、第１の吸引ノズルを、基板の上方又は下方のエアナイフより上流側に設けるので、エアナイフの下流側には設備が追加されず、装置の設置面積が増加しない。
【００１２】
さらに、本発明の基板乾燥装置は、基板移動手段が、水平に設置された複数のローラを有し、第１の吸引ノズルが、基板の基板移動方向と直交する方向の幅に渡って設けられ、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引すると共に、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引するものである。
【００１３】
また、本発明の基板乾燥方法は、基板を水平に移動し、第１の吸引ノズルを、基板の基板移動方向と直交する方向の幅に渡って設け、第１の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引すると共に、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引するものである。
【００１４】
基板を水平に移動しながら基板の乾燥を行う場合、第１の吸引ノズルを、基板の基板移動方向と直交する方向の幅に渡って設け、第１の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引すると共に、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引するので、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストが基板の表面又は裏面に再付着して乾燥むらが発生するのが抑制される。
【００１５】
あるいは、本発明の基板乾燥装置は、基板移動手段が、水平に対して基板移動方向と直交する方向に傾けて設置された複数のローラを有し、第１の吸引ノズルが、複数のローラにより移動される傾斜した基板の下側の上方又は下方に配置され、複数のローラにより移動される傾斜した基板の上側の上方又は下方に配置され、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引する第２の吸引ノズルを備えたものである。
【００１６】
また、本発明の基板乾燥方法は、基板を水平に対して基板移動方向と直交する方向に傾斜した状態で移動し、第１の吸引ノズルを、傾斜した基板の下側の上方又は下方に配置し、第１の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引すると共に、第２の吸引ノズルを、傾斜した基板の上側の上方又は下方に配置し、第２の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引するものである。
【００１７】
基板を水平に対して基板移動方向と直交する方向に傾斜した状態で移動しながら基板の乾燥を行う場合、第２の吸引ノズルを、傾斜した基板の上側の上方又は下方に配置し、第２の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引するので、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストが基板の表面に再付着して乾燥むらが発生するのが抑制される。
【００１８】
本発明の表示用パネル基板の製造方法は、上記のいずれかの基板乾燥装置又は基板乾燥方法を用いて基板の乾燥を行うものである。基板を乾燥させる能力が向上し、また乾燥むらが抑制されるので、高品質な表示用パネル基板が効率良く製造される。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の基板乾燥装置及び基板乾燥方法によれば、基板の上方又は下方のエアナイフより上流側に設けた第１の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引することにより、エアナイフの下流側に設備を追加することなく、基板を乾燥させる能力を向上させることができる。
【００２０】
さらに、基板を水平に移動し、第１の吸引ノズルを、基板の基板移動方向と直交する方向の幅に渡って設け、第１の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引すると共に、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引することにより、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストが基板の表面又は裏面に再付着して乾燥むらが発生するのを抑制することができる。
【００２１】
あるいは、基板を水平に対して基板移動方向と直交する方向に傾斜した状態で移動し、第１の吸引ノズルを、傾斜した基板の下側の上方又は下方に配置し、第１の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引すると共に、第２の吸引ノズルを、傾斜した基板の上側の上方又は下方に配置し、第２の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引することにより、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストが基板の表面又は裏面に再付着して乾燥むらが発生するのを抑制することができる。
【００２２】
本発明の表示用パネル基板の製造方法によれば、基板を乾燥させる能力を向上させることができ、また乾燥むらを抑制することができるので、高品質な表示用パネル基板を効率良く製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】図１（ａ）は本発明の一実施の形態による基板乾燥装置の上面図、図１（ｂ）は同側面図である。
【図２】図２（ａ）は吸引ノズルの側面図、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ部の断面図である。
【図３】本発明の一実施の形態による基板乾燥装置の吸引ノズルの動作を説明する図である。
【図４】図４（ａ）は本発明の他の実施の形態による基板乾燥装置の上面図、図４（ｂ）は同正面図である。
【図５】本発明の他の実施の形態による基板乾燥装置の吸引ノズルの動作を説明する図である。
【図６】液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【図７】液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
図１（ａ）は本発明の一実施の形態による基板乾燥装置の上面図、図１（ｂ）は同側面図である。本実施の形態は、基板を水平に移動しながら基板の乾燥を行う基板乾燥装置の例を示している。基板乾燥装置は、ローラ１０、エアナイフ３０、及び吸引ノズル４０を含んで構成されている。なお、後述する様に、エアナイフ３０と吸引ノズル４０との間には、空気が吸引ノズル４０側からエアナイフ３０側へ回り込むのを防止するための壁が設けられているが、図１（ａ），（ｂ）ではこの壁が省略されている。
【００２５】
図１（ａ），（ｂ）において、基板１は、複数のローラ１０上に搭載され、ローラ１０の回転により、矢印で示す基板移動方向へ移動される。各ローラ１０は、水平に設置されており、図示しない駆動機構により回転されて、基板１を水平に移動する。
【００２６】
ローラ１０により移動される基板１の上方及び下方の基板乾燥装置より上流側（図１（ａ），（ｂ）の図面左側）には、ノズルヘッダー２０が、基板１の基板移動方向と直交する方向の幅Ｌに渡って、基板１と平行に設置されている。図１（ｂ）において、ノズルヘッダー２０には、基板移動方向と直交する方向（図１（ｂ）の図面奥行き方向）に、複数のノズル２０ａが設けられている。図示しない洗浄液供給源からノズルヘッダー２０へ、洗浄液が供給される。ノズルヘッダー２０は、ノズル２０ａから、洗浄液をローラ１０により移動される基板１の表面又は裏面へ供給する。表面及び裏面に洗浄液が供給された基板１は、ローラ１０により、基板乾燥装置へ搬入される。
【００２７】
なお、本実施の形態では、ノズルヘッダー２０が１つだけ設けられているが、ノズルヘッダー２０を基板移動方向に２つ以上設けてもよい。
【００２８】
図１（ａ）において、ローラ１０により移動される基板１の上方及び下方には、エアナイフ３０が、基板１の基板移動方向と直交する方向の幅Ｌに渡って、基板１と平行に設置されている。エアナイフ３０は、基板１の基板移動方向と直交する方向に対して、所定の角度θ１だけ傾けて設けられている。エアナイフ３０は、例えば、長尺のケーシングの内部に加圧室を形成し、加圧室に通じるエア通路を長手方向にスリット状に設けて構成されている。図示しないエア供給源からエアナイフ３０へ、エアが供給される。エアナイフ３０は、エア通路の先端から、エアを基板１の表面又は裏面へ基板移動方向と反対側の向きに所定の入射角度で長手方向に渡って均一に吹き付ける。
【００２９】
さらに、ローラ１０により移動される基板１の上方及び下方のエアナイフ３０より上流側（図面左側）には、吸引ノズル４０が、基板１の基板移動方向と直交する方向の幅Ｌに渡って、基板１と平行に設置されている。吸引ノズル４０は、エアナイフ３０と同様、基板１の基板移動方向と直交する方向に対して、所定の角度θ１だけ傾けて設けられている。
【００３０】
図２（ａ）は吸引ノズルの側面図、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ部の断面図である。図２（ａ）に示す様に、吸引ノズル４０は、長尺のケーシング４０ａと、ケーシング４０ａの一端に設けられた継手４０ｂとを含んで構成されている。図２（ｂ）に示す様に、ケーシング４０ａは、断面の外形が菱形で、内部に空間が形成されている。ケーシング４０ａの下端には、内部の空間に通じる幅Ｗの吸引口４０ｃが、長手方向（図２（ｂ）の図面手前方向及び図面奥行き方向）にスリット状に設けられている。継手４０ｂの内部には、ケーシング４０ａの内部の空間に通じる吸引路４０ｄが設けられており、吸引路４０ｄは、図示しないポンプへ接続されている。図示しないポンプを作動すると、吸引口４０ｃから吸引された液体又は気体が、ケーシング４０ａの内部の空間から吸引路４０ｄを通ってポンプへ吸引される。
【００３１】
図３は、本発明の一実施の形態による基板乾燥装置の吸引ノズルの動作を説明する図である。図３に示す様に、エアナイフ３０と吸引ノズル４０との間には、空気が吸引ノズル４０側からエアナイフ３０側へ回り込むのを防止するための壁５０が設けられている。基板１の表面及び裏面の洗浄液２は、エアナイフ３０から吹き付けたエアにより、基板移動方向と反対側へ押し流される。吸引ノズル４０は、エアナイフ３０からのエアにより押し流された洗浄液２を基板１の表面又は裏面から吸引する。
【００３２】
実験の結果、吸引圧力を１．８ｋＰａとしたとき、洗浄液２を吸引可能な吸引ノズル４０の設置高さ（洗浄液２の液面から吸引口４０ｃまでの高さ）の最大は、３．５±０．５ｍｍであった。また、吸引圧力を５．０ｋＰａとしたとき、洗浄液２を吸引可能な吸引ノズル４０の設置高さの最大は、４．３±０．５ｍｍであった。また、吸引圧力を８．８ｋＰａとしたとき、洗浄液２を吸引可能な吸引ノズル４０の設置高さの最大は、５．１±０．５ｍｍであった。
【００３３】
図３において、吸引ノズル４０が洗浄液２を基板１の表面又は裏面から吸引することにより、基板１の表面又は裏面のエアナイフ３０からのエアが当たる部分では、洗浄液２の液膜の厚さが薄く制御され、エアナイフ３０からのエアによって洗浄液２の液膜が容易に除去される。従って、基板１を乾燥させる能力が向上し、また、吸引ノズル４０を、基板１の上方又は下方のエアナイフ３０より上流側に設けるので、エアナイフ３０の下流側には設備が追加されず、装置の設置面積が増加しない。
【００３４】
基板１の表面側及び裏面側では、エアナイフ３０からのエアにより洗浄液２が飛び散り、洗浄液のミストが発生する。エアナイフ３０と吸引ノズル４０との間に設けられた壁５０は、洗浄液のミストを含む空気が吸引ノズル４０側からエアナイフ３０側へ回り込むのを防止する。吸引ノズル４０は、エアナイフ３０からのエアにより押し流された洗浄液２を基板１の表面又は裏面から吸引すると共に、エアナイフ３０からのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引する。図３では、この洗浄液のミストの流れが矢印で示されている。
【００３５】
基板１を水平に移動しながら基板１の乾燥を行う場合、吸引ノズル４０を、基板１の基板移動方向と直交する方向の幅Ｌに渡って設け、吸引ノズル４０により、エアナイフ３０からのエアにより押し流された洗浄液２を基板１の表面又は裏面から吸引すると共に、エアナイフ３０からのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引するので、エアナイフ３０からのエアにより飛び散った洗浄液のミストが基板１の表面又は裏面に再付着して乾燥むらが発生するのが抑制される。
【００３６】
図４（ａ）は本発明の他の実施の形態による基板乾燥装置の上面図、図４（ｂ）は同正面図である。本実施の形態は、基板を水平に対して基板移動方向と直交する方向に傾斜した状態で移動しながら基板の乾燥を行う基板乾燥装置の例を示している。基板乾燥装置は、ローラ１１、エアナイフ３１、及び吸引ノズル４１，４２を含んで構成されている。なお、図４（ｂ）では、基板１の下方に設けられた洗浄液ノズル２１、エアナイフ３１、及び吸引ノズル４１，４２が省略されている。
【００３７】
図４（ａ）において、基板１は、複数のローラ１１上に搭載され、ローラ１１の回転により、矢印で示す基板移動方向へ移動される。図４（ｂ）に示す様に、各ローラ１１は、水平に対して基板移動方向と直交する方向に所定の角度αだけ傾けて設置されており、図示しない駆動機構により回転されて、基板１を水平に対して基板移動方向と直交する方向に傾斜した状態で移動する。傾けて設置された一番下側のローラ１１には、基板１の側面を案内するためのフランジ１２が設けられている。
【００３８】
図４（ａ）において、ローラ１１により移動される基板１の上方及び下方の基板乾燥装置より上流側（図４（ａ）の図面左側）には、洗浄液ノズル２１が設置されている。洗浄液ノズル２１は、例えば、長尺のケーシングに、ノズル口を長手方向にスリット状に又は所定の間隔で設けて構成され、傾斜した基板１の上側の上方に、基板移動方向に沿って設けられている。図示しない洗浄液供給源から洗浄液ノズル２１へ、洗浄液が供給される。洗浄液ノズル２１は、ノズル口から、洗浄液を基板１の表面又は裏面の上側へ供給する。基板１の表面及び裏面の上側へ供給された洗浄液は、基板１の傾斜に沿って基板１の表面及び裏面の下側へ流れ落ちる。表面及び裏面に洗浄液が供給された基板１は、ローラ１１により、基板乾燥装置へ搬入される。
【００３９】
ローラ１１により移動される基板１の上方及び下方には、エアナイフ３１が、基板１の基板移動方向と直交する方向の幅Ｌに渡って、基板１と平行に設置されている。エアナイフ３１は、基板１の基板移動方向と直交する方向に対して、所定の角度θ２だけ傾けて設けられている。エアナイフ３１は、例えば、長尺のケーシングの内部に加圧室を形成し、加圧室に通じるエア通路を長手方向にスリット状に設けて構成されている。図示しないエア供給源からエアナイフ３１へ、エアが供給される。エアナイフ３１は、エア通路の先端から、エアを基板１の表面又は裏面へ基板移動方向と反対側の向きに所定の入射角度で長手方向に渡って均一に吹き付ける。
【００４０】
さらに、ローラ１１により移動される基板１の上方及び下方のエアナイフ３１より上流側（図４（ａ）の図面左側）には、吸引ノズル４１，４２が、基板１と平行に設置されている。吸引ノズル４１は、傾斜した基板１の下側の上方又は下方に、基板移動方向に沿って設けられている。吸引ノズル４２は、傾斜した基板１の上側の上方又は下方に、基板移動方向に沿って設けられている。吸引ノズル４１，４２の構造は、図２に示した吸引ノズル４０の構造と同様である。
【００４１】
図５は、本発明の他の実施の形態による基板乾燥装置の吸引ノズルの動作を説明する図である。洗浄液ノズル２１から基板１の表面及び裏面の上側へ供給された洗浄液２は、基板１の傾斜に沿って基板１の下側へ流れ落ちながら、エアナイフ３１から吹き付けたエアにより、基板移動方向と反対側へ押し流される。図５（ａ）において、傾斜した基板１の下側の上方に設置された吸引ノズル４１は、エアナイフ３１からのエアにより押し流された洗浄液２を基板１の表面から吸引する。吸引ノズル４１が洗浄液２を基板１の表面から吸引することにより、基板１の表面のエアナイフ３１からのエアが当たる部分では、洗浄液２の液膜の厚さが薄く制御され、エアナイフ３１からのエアによって洗浄液２の液膜が容易に除去される。従って、基板１を乾燥させる能力が向上し、また、吸引ノズル４１を、基板１の上方のエアナイフ３１より上流側に設けるので、エアナイフ３１の下流側には設備が追加されず、装置の設置面積が増加しない。
【００４２】
基板１の表面側及び裏面側では、エアナイフ３１からのエアにより洗浄液２が飛び散り、洗浄液のミストが発生する。図５（ｂ）において、傾斜した基板１の上側の上方に設置された吸引ノズル４２は、エアナイフ３１からのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引する。図５（ｂ）では、この洗浄液のミストの流れが矢印で示されている。
【００４３】
基板１を水平に対して基板移動方向と直交する方向に傾斜した状態で移動しながら基板１の乾燥を行う場合、吸引ノズル４１を、傾斜した基板の上側の上方又は下方に配置し、吸引ノズル４１により、エアナイフ３１からのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引するので、エアナイフ３１からのエアにより飛び散った洗浄液のミストが基板１の表面に再付着して乾燥むらが発生するのが抑制される。
【００４４】
以上説明した実施の形態によれば、基板１の上方又は下方のエアナイフ３０，３１より上流側に設けた吸引ノズル４０，４１により、エアナイフ３０，３１からのエアにより押し流された洗浄液２を基板１の表面又は裏面から吸引することにより、エアナイフ３０，３１の下流側に設備を追加することなく、基板１を乾燥させる能力を向上させることができる。
【００４５】
さらに、基板１を水平に移動し、吸引ノズル４０を、基板１の基板移動方向と直交する方向の幅Ｌに渡って設け、吸引ノズル４０により、エアナイフ３０からのエアにより押し流された洗浄液２を基板１の表面又は裏面から吸引すると共に、エアナイフ３０からのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引することにより、エアナイフ３０からのエアにより飛び散った洗浄液のミストが基板１の表面又は裏面に再付着して乾燥むらが発生するのを抑制することができる。
【００４６】
あるいは、基板１を水平に対して基板移動方向と直交する方向に傾斜した状態で移動し、吸引ノズル４１を、傾斜した基板１の下側の上方又は下方に配置し、吸引ノズル４１により、エアナイフ３１からのエアにより押し流された洗浄液を基板１の表面又は裏面から吸引すると共に、吸引ノズル４２を、傾斜した基板１の上側の上方又は下方に配置し、吸引ノズル４２により、エアナイフ３１からのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引することにより、エアナイフ３１からのエアにより飛び散った洗浄液のミストが基板１の表面又は裏面に再付着して乾燥むらが発生するのを抑制することができる。
【００４７】
図６は、液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。薄膜形成工程（ステップ１０１）では、スパッタ法やプラズマ化学気相成長（ＣＶＤ）法等により、基板上に液晶駆動用の透明電極となる導電体膜や絶縁体膜等の薄膜を形成する。レジスト塗布工程（ステップ１０２）では、ロール塗布法等により感光樹脂材料（フォトレジスト）を塗布して、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜上にフォトレジスト膜を形成する。露光工程（ステップ１０３）では、プロキシミティ露光装置や投影露光装置等を用いて、マスクのパターンをフォトレジスト膜に転写する。現像工程（ステップ１０４）では、シャワー現像法等により現像液をフォトレジスト膜上に供給して、フォトレジスト膜の不要部分を除去する。エッチング工程（ステップ１０５）では、ウエットエッチングにより、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜の内、フォトレジスト膜でマスクされていない部分を除去する。剥離工程（ステップ１０６）では、エッチング工程（ステップ１０５）でのマスクの役目を終えたフォトレジスト膜を、剥離液によって剥離する。これらの各工程の前又は後には、必要に応じて、基板の洗浄工程及び乾燥工程が実施される。これらの工程を数回繰り返して、基板上にＴＦＴアレイが形成される。
【００４８】
また、図７は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程（ステップ２０２）では、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法等により、基板上に着色パターンを形成する。この工程を、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程（ステップ２０３）では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程（ステップ２０４）では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄工程及び乾燥工程が実施される。
【００４９】
本発明の基板乾燥装置又は基板乾燥方法を用いて基板の乾燥を行うことにより、基板を乾燥させる能力を向上させることができ、また乾燥むらを抑制することができるので、高品質な表示用パネル基板を効率良く製造することができる。
【符号の説明】
【００５０】
１ 基板
２ 洗浄液
１０，１１ ローラ
１２ フランジ
２０ ノズルヘッダー
２１ 洗浄液ノズル
３０，３１ エアナイフ
４０，４１，４２ 吸引ノズル
４０ａ ケーシング
４０ｂ 継手
４０ｃ 吸引口
４０ｄ 吸引路
５０ 壁
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ装置等の表示用パネル基板の製造において、基板の乾燥を行う基板乾燥装置、基板乾燥方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に係り、特に、エアナイフを用いた基板乾燥装置、基板乾燥方法、及びそれらを用いた表示用パネル基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造工程では、基板上に回路パターンやカラーフィルタ等を形成するため、基板の露光、現像、エッチング、剥離等の処理が行われる。現像、エッチング、剥離等の薬液処理の前又は後には、純水等の洗浄液を用いた基板の洗浄、及び洗浄後の基板の乾燥が必要である。基板の薬液処理、洗浄、及び乾燥を含む一連の処理は、ローラコンベア等の移動手段を用いて基板を移動しながら行われることが多く、基板の乾燥は、エアナイフを用いて基板へエアを吹き付けることにより、洗浄液を基板の表面から押し流して除去するのが一般的である。
【０００３】
エアナイフを用いた基板の乾燥は、基板を乾燥させる能力が高い反面、エアナイフからのエアによって基板の表面から吹き飛ばされた洗浄液のミストが基板の表面に再付着し、乾燥むらが発生することがある。これに対して、特許文献１には、エアナイフを用いて基板の表面全体に連続した液膜を形成し、形成した液膜を基板の端から順番に連続して除去することにより、基板をむらなく均一に乾燥させる技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−１１７９９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
基板を移動しながら基板に対して一連の処理を行う場合、タクトタイムを短縮するためには、基板の移動を高速で行う必要がある。特に、近年の表示用パネルの大画面化に伴い基板が大型化する程、タクトタイムを従来以下に抑えるためには、基板を従来よりも高速で移動しながら、基板に対して一連の処理を行わなければならない。
【０００６】
従来のエアナイフを用いた基板の乾燥では、基板の移動を高速で行うと、洗浄液の一部が基板の表面から除去しきれずに点在して残り、洗浄液の残存した部分が乾燥後にしみとなって、乾燥むらが発生することがあった。特に、基板の表面にパターン等の凹凸が形成されている場合、基板の表面の凹凸によって洗浄液の移動が阻害されるので、洗浄液の残存による乾燥むらが発生する可能性が高い。この様な乾燥むらを抑制するためには、基板の移動を高速で行う程、大量のエアを高速で吹き付ける必要があった。
【０００７】
一方、特許文献１に記載の技術は、エアナイフを用いて基板の表面に液膜を形成した後、形成した液膜を除去するために、ハロゲンランプヒータ等の液膜除去手段をエアナイフの下流側に設ける必要があり、工程が複雑になって装置の設置面積が増加するという問題があった。
【０００８】
本発明の課題は、エアナイフの下流側に設備を追加することなく、基板を乾燥させる能力を向上させることである。また、本発明の課題は、高品質な表示用パネル基板を効率良く製造することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の基板乾燥装置は、表面又は裏面に洗浄液が供給された基板を移動する基板移動手段と、基板移動手段により移動される基板の上方又は下方に、基板の基板移動方向と直交する方向の幅に渡って設けられ、基板の表面又は裏面へエアを吹き付けるエアナイフと、基板移動手段により移動される基板の上方又は下方のエアナイフより上流側に設けられ、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引する第１の吸引ノズルとを備えたものである。
【００１０】
また、本発明の基板乾燥方法は、表面又は裏面に洗浄液が供給された基板を移動しながら、基板の上方又は下方に基板の基板移動方向と直交する方向の幅に渡って設けたエアナイフから、基板の表面又は裏面へエアを吹き付け、基板の上方又は下方のエアナイフより上流側に設けた第１の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引するものである。
【００１１】
基板の上方又は下方のエアナイフより上流側に設けた第１の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引するので、基板の表面又は裏面のエアナイフからのエアが当たる部分では、洗浄液の液膜の厚さが薄く制御され、エアナイフからのエアによって洗浄液の液膜が容易に除去される。従って、基板を乾燥させる能力が向上し、また、第１の吸引ノズルを、基板の上方又は下方のエアナイフより上流側に設けるので、エアナイフの下流側には設備が追加されず、装置の設置面積が増加しない。
【００１２】
さらに、本発明の基板乾燥装置は、基板移動手段が、水平に設置された複数のローラを有し、第１の吸引ノズルが、基板の基板移動方向と直交する方向の幅に渡って設けられ、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引すると共に、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引するものである。
【００１３】
また、本発明の基板乾燥方法は、基板を水平に移動し、第１の吸引ノズルを、基板の基板移動方向と直交する方向の幅に渡って設け、第１の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引すると共に、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引するものである。
【００１４】
基板を水平に移動しながら基板の乾燥を行う場合、第１の吸引ノズルを、基板の基板移動方向と直交する方向の幅に渡って設け、第１の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引すると共に、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引するので、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストが基板の表面又は裏面に再付着して乾燥むらが発生するのが抑制される。
【００１５】
あるいは、本発明の基板乾燥装置は、基板移動手段が、水平に対して基板移動方向と直交する方向に傾けて設置された複数のローラを有し、第１の吸引ノズルが、複数のローラにより移動される傾斜した基板の下側の上方又は下方に配置され、複数のローラにより移動される傾斜した基板の上側の上方又は下方に配置され、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引する第２の吸引ノズルを備えたものである。
【００１６】
また、本発明の基板乾燥方法は、基板を水平に対して基板移動方向と直交する方向に傾斜した状態で移動し、第１の吸引ノズルを、傾斜した基板の下側の上方又は下方に配置し、第１の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引すると共に、第２の吸引ノズルを、傾斜した基板の上側の上方又は下方に配置し、第２の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引するものである。
【００１７】
基板を水平に対して基板移動方向と直交する方向に傾斜した状態で移動しながら基板の乾燥を行う場合、第２の吸引ノズルを、傾斜した基板の上側の上方又は下方に配置し、第２の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引するので、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストが基板の表面に再付着して乾燥むらが発生するのが抑制される。
【００１８】
本発明の表示用パネル基板の製造方法は、上記のいずれかの基板乾燥装置又は基板乾燥方法を用いて基板の乾燥を行うものである。基板を乾燥させる能力が向上し、また乾燥むらが抑制されるので、高品質な表示用パネル基板が効率良く製造される。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の基板乾燥装置及び基板乾燥方法によれば、基板の上方又は下方のエアナイフより上流側に設けた第１の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引することにより、エアナイフの下流側に設備を追加することなく、基板を乾燥させる能力を向上させることができる。
【００２０】
さらに、基板を水平に移動し、第１の吸引ノズルを、基板の基板移動方向と直交する方向の幅に渡って設け、第１の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引すると共に、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引することにより、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストが基板の表面又は裏面に再付着して乾燥むらが発生するのを抑制することができる。
【００２１】
あるいは、基板を水平に対して基板移動方向と直交する方向に傾斜した状態で移動し、第１の吸引ノズルを、傾斜した基板の下側の上方又は下方に配置し、第１の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引すると共に、第２の吸引ノズルを、傾斜した基板の上側の上方又は下方に配置し、第２の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引することにより、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストが基板の表面又は裏面に再付着して乾燥むらが発生するのを抑制することができる。
【００２２】
本発明の表示用パネル基板の製造方法によれば、基板を乾燥させる能力を向上させることができ、また乾燥むらを抑制することができるので、高品質な表示用パネル基板を効率良く製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】図１（ａ）は本発明の一実施の形態による基板乾燥装置の上面図、図１（ｂ）は同側面図である。
【図２】図２（ａ）は吸引ノズルの側面図、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ部の断面図である。
【図３】本発明の一実施の形態による基板乾燥装置の吸引ノズルの動作を説明する図である。
【図４】図４（ａ）は本発明の他の実施の形態による基板乾燥装置の上面図、図４（ｂ）は同正面図である。
【図５】本発明の他の実施の形態による基板乾燥装置の吸引ノズルの動作を説明する図である。
【図６】液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【図７】液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
図１（ａ）は本発明の一実施の形態による基板乾燥装置の上面図、図１（ｂ）は同側面図である。本実施の形態は、基板を水平に移動しながら基板の乾燥を行う基板乾燥装置の例を示している。基板乾燥装置は、ローラ１０、エアナイフ３０、及び吸引ノズル４０を含んで構成されている。なお、後述する様に、エアナイフ３０と吸引ノズル４０との間には、空気が吸引ノズル４０側からエアナイフ３０側へ回り込むのを防止するための壁が設けられているが、図１（ａ），（ｂ）ではこの壁が省略されている。
【００２５】
図１（ａ），（ｂ）において、基板１は、複数のローラ１０上に搭載され、ローラ１０の回転により、矢印で示す基板移動方向へ移動される。各ローラ１０は、水平に設置されており、図示しない駆動機構により回転されて、基板１を水平に移動する。
【００２６】
ローラ１０により移動される基板１の上方及び下方の基板乾燥装置より上流側（図１（ａ），（ｂ）の図面左側）には、ノズルヘッダー２０が、基板１の基板移動方向と直交する方向の幅Ｌに渡って、基板１と平行に設置されている。図１（ｂ）において、ノズルヘッダー２０には、基板移動方向と直交する方向（図１（ｂ）の図面奥行き方向）に、複数のノズル２０ａが設けられている。図示しない洗浄液供給源からノズルヘッダー２０へ、洗浄液が供給される。ノズルヘッダー２０は、ノズル２０ａから、洗浄液をローラ１０により移動される基板１の表面又は裏面へ供給する。表面及び裏面に洗浄液が供給された基板１は、ローラ１０により、基板乾燥装置へ搬入される。
【００２７】
なお、本実施の形態では、ノズルヘッダー２０が１つだけ設けられているが、ノズルヘッダー２０を基板移動方向に２つ以上設けてもよい。
【００２８】
図１（ａ）において、ローラ１０により移動される基板１の上方及び下方には、エアナイフ３０が、基板１の基板移動方向と直交する方向の幅Ｌに渡って、基板１と平行に設置されている。エアナイフ３０は、基板１の基板移動方向と直交する方向に対して、所定の角度θ１だけ傾けて設けられている。エアナイフ３０は、例えば、長尺のケーシングの内部に加圧室を形成し、加圧室に通じるエア通路を長手方向にスリット状に設けて構成されている。図示しないエア供給源からエアナイフ３０へ、エアが供給される。エアナイフ３０は、エア通路の先端から、エアを基板１の表面又は裏面へ基板移動方向と反対側の向きに所定の入射角度で長手方向に渡って均一に吹き付ける。
【００２９】
さらに、ローラ１０により移動される基板１の上方及び下方のエアナイフ３０より上流側（図面左側）には、吸引ノズル４０が、基板１の基板移動方向と直交する方向の幅Ｌに渡って、基板１と平行に設置されている。吸引ノズル４０は、エアナイフ３０と同様、基板１の基板移動方向と直交する方向に対して、所定の角度θ１だけ傾けて設けられている。
【００３０】
図２（ａ）は吸引ノズルの側面図、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ部の断面図である。図２（ａ）に示す様に、吸引ノズル４０は、長尺のケーシング４０ａと、ケーシング４０ａの一端に設けられた継手４０ｂとを含んで構成されている。図２（ｂ）に示す様に、ケーシング４０ａは、断面の外形が菱形で、内部に空間が形成されている。ケーシング４０ａの下端には、内部の空間に通じる幅Ｗの吸引口４０ｃが、長手方向（図２（ｂ）の図面手前方向及び図面奥行き方向）にスリット状に設けられている。継手４０ｂの内部には、ケーシング４０ａの内部の空間に通じる吸引路４０ｄが設けられており、吸引路４０ｄは、図示しないポンプへ接続されている。図示しないポンプを作動すると、吸引口４０ｃから吸引された液体又は気体が、ケーシング４０ａの内部の空間から吸引路４０ｄを通ってポンプへ吸引される。
【００３１】
図３は、本発明の一実施の形態による基板乾燥装置の吸引ノズルの動作を説明する図である。図３に示す様に、エアナイフ３０と吸引ノズル４０との間には、空気が吸引ノズル４０側からエアナイフ３０側へ回り込むのを防止するための壁５０が設けられている。基板１の表面及び裏面の洗浄液２は、エアナイフ３０から吹き付けたエアにより、基板移動方向と反対側へ押し流される。吸引ノズル４０は、エアナイフ３０からのエアにより押し流された洗浄液２を基板１の表面又は裏面から吸引する。
【００３２】
実験の結果、吸引圧力を１．８ｋＰａとしたとき、洗浄液２を吸引可能な吸引ノズル４０の設置高さ（洗浄液２の液面から吸引口４０ｃまでの高さ）の最大は、３．５±０．５ｍｍであった。また、吸引圧力を５．０ｋＰａとしたとき、洗浄液２を吸引可能な吸引ノズル４０の設置高さの最大は、４．３±０．５ｍｍであった。また、吸引圧力を８．８ｋＰａとしたとき、洗浄液２を吸引可能な吸引ノズル４０の設置高さの最大は、５．１±０．５ｍｍであった。
【００３３】
図３において、吸引ノズル４０が洗浄液２を基板１の表面又は裏面から吸引することにより、基板１の表面又は裏面のエアナイフ３０からのエアが当たる部分では、洗浄液２の液膜の厚さが薄く制御され、エアナイフ３０からのエアによって洗浄液２の液膜が容易に除去される。従って、基板１を乾燥させる能力が向上し、また、吸引ノズル４０を、基板１の上方又は下方のエアナイフ３０より上流側に設けるので、エアナイフ３０の下流側には設備が追加されず、装置の設置面積が増加しない。
【００３４】
基板１の表面側及び裏面側では、エアナイフ３０からのエアにより洗浄液２が飛び散り、洗浄液のミストが発生する。エアナイフ３０と吸引ノズル４０との間に設けられた壁５０は、洗浄液のミストを含む空気が吸引ノズル４０側からエアナイフ３０側へ回り込むのを防止する。吸引ノズル４０は、エアナイフ３０からのエアにより押し流された洗浄液２を基板１の表面又は裏面から吸引すると共に、エアナイフ３０からのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引する。図３では、この洗浄液のミストの流れが矢印で示されている。
【００３５】
基板１を水平に移動しながら基板１の乾燥を行う場合、吸引ノズル４０を、基板１の基板移動方向と直交する方向の幅Ｌに渡って設け、吸引ノズル４０により、エアナイフ３０からのエアにより押し流された洗浄液２を基板１の表面又は裏面から吸引すると共に、エアナイフ３０からのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引するので、エアナイフ３０からのエアにより飛び散った洗浄液のミストが基板１の表面又は裏面に再付着して乾燥むらが発生するのが抑制される。
【００３６】
図４（ａ）は本発明の他の実施の形態による基板乾燥装置の上面図、図４（ｂ）は同正面図である。本実施の形態は、基板を水平に対して基板移動方向と直交する方向に傾斜した状態で移動しながら基板の乾燥を行う基板乾燥装置の例を示している。基板乾燥装置は、ローラ１１、エアナイフ３１、及び吸引ノズル４１，４２を含んで構成されている。なお、図４（ｂ）では、基板１の下方に設けられた洗浄液ノズル２１、エアナイフ３１、及び吸引ノズル４１，４２が省略されている。
【００３７】
図４（ａ）において、基板１は、複数のローラ１１上に搭載され、ローラ１１の回転により、矢印で示す基板移動方向へ移動される。図４（ｂ）に示す様に、各ローラ１１は、水平に対して基板移動方向と直交する方向に所定の角度αだけ傾けて設置されており、図示しない駆動機構により回転されて、基板１を水平に対して基板移動方向と直交する方向に傾斜した状態で移動する。傾けて設置された一番下側のローラ１１には、基板１の側面を案内するためのフランジ１２が設けられている。
【００３８】
図４（ａ）において、ローラ１１により移動される基板１の上方及び下方の基板乾燥装置より上流側（図４（ａ）の図面左側）には、洗浄液ノズル２１が設置されている。洗浄液ノズル２１は、例えば、長尺のケーシングに、ノズル口を長手方向にスリット状に又は所定の間隔で設けて構成され、傾斜した基板１の上側の上方に、基板移動方向に沿って設けられている。図示しない洗浄液供給源から洗浄液ノズル２１へ、洗浄液が供給される。洗浄液ノズル２１は、ノズル口から、洗浄液を基板１の表面又は裏面の上側へ供給する。基板１の表面及び裏面の上側へ供給された洗浄液は、基板１の傾斜に沿って基板１の表面及び裏面の下側へ流れ落ちる。表面及び裏面に洗浄液が供給された基板１は、ローラ１１により、基板乾燥装置へ搬入される。
【００３９】
ローラ１１により移動される基板１の上方及び下方には、エアナイフ３１が、基板１の基板移動方向と直交する方向の幅Ｌに渡って、基板１と平行に設置されている。エアナイフ３１は、基板１の基板移動方向と直交する方向に対して、所定の角度θ２だけ傾けて設けられている。エアナイフ３１は、例えば、長尺のケーシングの内部に加圧室を形成し、加圧室に通じるエア通路を長手方向にスリット状に設けて構成されている。図示しないエア供給源からエアナイフ３１へ、エアが供給される。エアナイフ３１は、エア通路の先端から、エアを基板１の表面又は裏面へ基板移動方向と反対側の向きに所定の入射角度で長手方向に渡って均一に吹き付ける。
【００４０】
さらに、ローラ１１により移動される基板１の上方及び下方のエアナイフ３１より上流側（図４（ａ）の図面左側）には、吸引ノズル４１，４２が、基板１と平行に設置されている。吸引ノズル４１は、傾斜した基板１の下側の上方又は下方に、基板移動方向に沿って設けられている。吸引ノズル４２は、傾斜した基板１の上側の上方又は下方に、基板移動方向に沿って設けられている。吸引ノズル４１，４２の構造は、図２に示した吸引ノズル４０の構造と同様である。
【００４１】
図５は、本発明の他の実施の形態による基板乾燥装置の吸引ノズルの動作を説明する図である。洗浄液ノズル２１から基板１の表面及び裏面の上側へ供給された洗浄液２は、基板１の傾斜に沿って基板１の下側へ流れ落ちながら、エアナイフ３１から吹き付けたエアにより、基板移動方向と反対側へ押し流される。図５（ａ）において、傾斜した基板１の下側の上方に設置された吸引ノズル４１は、エアナイフ３１からのエアにより押し流された洗浄液２を基板１の表面から吸引する。吸引ノズル４１が洗浄液２を基板１の表面から吸引することにより、基板１の表面のエアナイフ３１からのエアが当たる部分では、洗浄液２の液膜の厚さが薄く制御され、エアナイフ３１からのエアによって洗浄液２の液膜が容易に除去される。従って、基板１を乾燥させる能力が向上し、また、吸引ノズル４１を、基板１の上方のエアナイフ３１より上流側に設けるので、エアナイフ３１の下流側には設備が追加されず、装置の設置面積が増加しない。
【００４２】
基板１の表面側及び裏面側では、エアナイフ３１からのエアにより洗浄液２が飛び散り、洗浄液のミストが発生する。図５（ｂ）において、傾斜した基板１の上側の上方に設置された吸引ノズル４２は、エアナイフ３１からのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引する。図５（ｂ）では、この洗浄液のミストの流れが矢印で示されている。
【００４３】
基板１を水平に対して基板移動方向と直交する方向に傾斜した状態で移動しながら基板１の乾燥を行う場合、吸引ノズル４１を、傾斜した基板の上側の上方又は下方に配置し、吸引ノズル４１により、エアナイフ３１からのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引するので、エアナイフ３１からのエアにより飛び散った洗浄液のミストが基板１の表面に再付着して乾燥むらが発生するのが抑制される。
【００４４】
以上説明した実施の形態によれば、基板１の上方又は下方のエアナイフ３０，３１より上流側に設けた吸引ノズル４０，４１により、エアナイフ３０，３１からのエアにより押し流された洗浄液２を基板１の表面又は裏面から吸引することにより、エアナイフ３０，３１の下流側に設備を追加することなく、基板１を乾燥させる能力を向上させることができる。
【００４５】
さらに、基板１を水平に移動し、吸引ノズル４０を、基板１の基板移動方向と直交する方向の幅Ｌに渡って設け、吸引ノズル４０により、エアナイフ３０からのエアにより押し流された洗浄液２を基板１の表面又は裏面から吸引すると共に、エアナイフ３０からのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引することにより、エアナイフ３０からのエアにより飛び散った洗浄液のミストが基板１の表面又は裏面に再付着して乾燥むらが発生するのを抑制することができる。
【００４６】
あるいは、基板１を水平に対して基板移動方向と直交する方向に傾斜した状態で移動し、吸引ノズル４１を、傾斜した基板１の下側の上方又は下方に配置し、吸引ノズル４１により、エアナイフ３１からのエアにより押し流された洗浄液を基板１の表面又は裏面から吸引すると共に、吸引ノズル４２を、傾斜した基板１の上側の上方又は下方に配置し、吸引ノズル４２により、エアナイフ３１からのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引することにより、エアナイフ３１からのエアにより飛び散った洗浄液のミストが基板１の表面又は裏面に再付着して乾燥むらが発生するのを抑制することができる。
【００４７】
図６は、液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。薄膜形成工程（ステップ１０１）では、スパッタ法やプラズマ化学気相成長（ＣＶＤ）法等により、基板上に液晶駆動用の透明電極となる導電体膜や絶縁体膜等の薄膜を形成する。レジスト塗布工程（ステップ１０２）では、ロール塗布法等により感光樹脂材料（フォトレジスト）を塗布して、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜上にフォトレジスト膜を形成する。露光工程（ステップ１０３）では、プロキシミティ露光装置や投影露光装置等を用いて、マスクのパターンをフォトレジスト膜に転写する。現像工程（ステップ１０４）では、シャワー現像法等により現像液をフォトレジスト膜上に供給して、フォトレジスト膜の不要部分を除去する。エッチング工程（ステップ１０５）では、ウエットエッチングにより、薄膜形成工程（ステップ１０１）で形成した薄膜の内、フォトレジスト膜でマスクされていない部分を除去する。剥離工程（ステップ１０６）では、エッチング工程（ステップ１０５）でのマスクの役目を終えたフォトレジスト膜を、剥離液によって剥離する。これらの各工程の前又は後には、必要に応じて、基板の洗浄工程及び乾燥工程が実施される。これらの工程を数回繰り返して、基板上にＴＦＴアレイが形成される。
【００４８】
また、図７は、液晶ディスプレイ装置のカラーフィルタ基板の製造工程の一例を示すフローチャートである。ブラックマトリクス形成工程（ステップ２０１）では、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、剥離等の処理により、基板上にブラックマトリクスを形成する。着色パターン形成工程（ステップ２０２）では、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法等により、基板上に着色パターンを形成する。この工程を、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色パターンについて繰り返す。保護膜形成工程（ステップ２０３）では、着色パターンの上に保護膜を形成し、透明電極膜形成工程（ステップ２０４）では、保護膜の上に透明電極膜を形成する。これらの各工程の前、途中又は後には、必要に応じて、基板の洗浄工程及び乾燥工程が実施される。
【００４９】
本発明の基板乾燥装置又は基板乾燥方法を用いて基板の乾燥を行うことにより、基板を乾燥させる能力を向上させることができ、また乾燥むらを抑制することができるので、高品質な表示用パネル基板を効率良く製造することができる。
【符号の説明】
【００５０】
１ 基板
２ 洗浄液
１０，１１ ローラ
１２ フランジ
２０ ノズルヘッダー
２１ 洗浄液ノズル
３０，３１ エアナイフ
４０，４１，４２ 吸引ノズル
４０ａ ケーシング
４０ｂ 継手
４０ｃ 吸引口
４０ｄ 吸引路
５０ 壁
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面又は裏面に洗浄液が供給された基板を移動する基板移動手段と、
前記基板移動手段により移動される基板の上方又は下方に、基板の基板移動方向と直交する方向の幅に渡って設けられ、基板の表面又は裏面へエアを吹き付けるエアナイフと、
前記基板移動手段により移動される基板の上方又は下方の前記エアナイフより上流側に設けられ、前記エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引する第１の吸引ノズルとを備えたことを特徴とする基板乾燥装置。
【請求項２】
前記基板移動手段は、水平に設置された複数のローラを有し、
前記第１の吸引ノズルは、基板の基板移動方向と直交する方向の幅に渡って設けられ、前記エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引すると共に、前記エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引することを特徴とする請求項１に記載の基板乾燥装置。
【請求項３】
前記基板移動手段は、水平に対して基板移動方向と直交する方向に傾けて設置された複数のローラを有し、
前記第１の吸引ノズルは、前記複数のローラにより移動される傾斜した基板の下側の上方又は下方に配置され、
前記複数のローラにより移動される傾斜した基板の上側の上方又は下方に配置され、前記エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引する第２の吸引ノズルを備えたことを特徴とする請求項１に記載の基板乾燥装置。
【請求項４】
表面又は裏面に洗浄液が供給された基板を移動しながら、
基板の上方又は下方に基板の基板移動方向と直交する方向の幅に渡って設けたエアナイフから、基板の表面又は裏面へエアを吹き付け、
基板の上方又は下方のエアナイフより上流側に設けた第１の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引することを特徴とする基板乾燥方法。
【請求項５】
基板を水平に移動し、
第１の吸引ノズルを、基板の基板移動方向と直交する方向の幅に渡って設け、
第１の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引すると共に、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引することを特徴とする請求項４に記載の基板乾燥方法。
【請求項６】
基板を水平に対して基板移動方向と直交する方向に傾斜した状態で移動し、
第１の吸引ノズルを、傾斜した基板の下側の上方又は下方に配置し、第１の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引すると共に、
第２の吸引ノズルを、傾斜した基板の上側の上方又は下方に配置し、第２の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引することを特徴とする請求項４に記載の基板乾燥方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の基板乾燥装置を用いて基板の乾燥を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【請求項８】
請求項４乃至請求項６のいずれか一項に記載の基板乾燥方法を用いて基板の乾燥を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【請求項１】
表面又は裏面に洗浄液が供給された基板を移動する基板移動手段と、
前記基板移動手段により移動される基板の上方又は下方に、基板の基板移動方向と直交する方向の幅に渡って設けられ、基板の表面又は裏面へエアを吹き付けるエアナイフと、
前記基板移動手段により移動される基板の上方又は下方の前記エアナイフより上流側に設けられ、前記エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引する第１の吸引ノズルとを備えたことを特徴とする基板乾燥装置。
【請求項２】
前記基板移動手段は、水平に設置された複数のローラを有し、
前記第１の吸引ノズルは、基板の基板移動方向と直交する方向の幅に渡って設けられ、前記エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引すると共に、前記エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引することを特徴とする請求項１に記載の基板乾燥装置。
【請求項３】
前記基板移動手段は、水平に対して基板移動方向と直交する方向に傾けて設置された複数のローラを有し、
前記第１の吸引ノズルは、前記複数のローラにより移動される傾斜した基板の下側の上方又は下方に配置され、
前記複数のローラにより移動される傾斜した基板の上側の上方又は下方に配置され、前記エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引する第２の吸引ノズルを備えたことを特徴とする請求項１に記載の基板乾燥装置。
【請求項４】
表面又は裏面に洗浄液が供給された基板を移動しながら、
基板の上方又は下方に基板の基板移動方向と直交する方向の幅に渡って設けたエアナイフから、基板の表面又は裏面へエアを吹き付け、
基板の上方又は下方のエアナイフより上流側に設けた第１の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引することを特徴とする基板乾燥方法。
【請求項５】
基板を水平に移動し、
第１の吸引ノズルを、基板の基板移動方向と直交する方向の幅に渡って設け、
第１の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引すると共に、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引することを特徴とする請求項４に記載の基板乾燥方法。
【請求項６】
基板を水平に対して基板移動方向と直交する方向に傾斜した状態で移動し、
第１の吸引ノズルを、傾斜した基板の下側の上方又は下方に配置し、第１の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより押し流された洗浄液を基板の表面又は裏面から吸引すると共に、
第２の吸引ノズルを、傾斜した基板の上側の上方又は下方に配置し、第２の吸引ノズルにより、エアナイフからのエアにより飛び散った洗浄液のミストを吸引することを特徴とする請求項４に記載の基板乾燥方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の基板乾燥装置を用いて基板の乾燥を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【請求項８】
請求項４乃至請求項６のいずれか一項に記載の基板乾燥方法を用いて基板の乾燥を行うことを特徴とする表示用パネル基板の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１０−１８１７６１（Ｐ２０１０−１８１７６１Ａ）
【公開日】平成２２年８月１９日（２０１０．８．１９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２６９５３（Ｐ２００９−２６９５３）
【出願日】平成２１年２月９日（２００９．２．９）
【出願人】（５０１３８７８３９）株式会社日立ハイテクノロジーズ (4,325)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年８月１９日（２０１０．８．１９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年２月９日（２００９．２．９）
【出願人】（５０１３８７８３９）株式会社日立ハイテクノロジーズ (4,325)
【Ｆターム（参考）】
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