新規化合物、感放射線性組成物、硬化膜及びその形成方法
【課題】光重合開始剤として使用する場合に高い放射線感度を有すると共に、感放射線性組成物への溶解性及び得られる硬化膜の透明性に優れた化合物、及び高い透明性及び表面硬度を有する硬化膜を得ることができる感放射線性組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、下記式（１）で表される化合物である。下記式（１）において、Ｒ４は、脂環式炭化水素基であり、この水素原子の一部又は全部が炭素数１〜１２のアルキル基で置換されていてもよい。また、本発明は、［Ａ］光重合開始剤としての上記化合物、及び［Ｂ］エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物を含有する感放射線性組成物である。上記感放射線性組成物は［Ｃ］アルカリ可溶性樹脂をさらに含有することが好ましい。
【解決手段】本発明は、下記式（１）で表される化合物である。下記式（１）において、Ｒ４は、脂環式炭化水素基であり、この水素原子の一部又は全部が炭素数１〜１２のアルキル基で置換されていてもよい。また、本発明は、［Ａ］光重合開始剤としての上記化合物、及び［Ｂ］エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物を含有する感放射線性組成物である。上記感放射線性組成物は［Ｃ］アルカリ可溶性樹脂をさらに含有することが好ましい。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光重合開始剤として有用な新規化合物、この新規化合物を含む感放射線性組成物、この組成物から形成される硬化膜、及びこの形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
感放射線性組成物は、塗布プロセスによって硬化物を大量かつ容易に形成することができ、その硬化物の微細加工も容易である等の利点から、液晶デバイス、半導体デバイス作成用材料等の他、光硬化性インキ、感光性印刷版等にも広く使用されている。このような感放射線性組成物は、代表的には、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物及び光重合開始剤を含有する。上記硬化物形成プロセスでは、この感放射線性組成物をガラス基板等の上に塗布して被膜を形成し、次いで、この被膜に対し水銀ランプ等の光源を具備した露光装置で露光することにより、硬化物としての硬化膜を形成する。
【０００３】
このような感放射線性樹脂組成物において、水銀ランプの波長に対して優れた感度を有し、高い硬度を有する硬化膜を形成することができる光重合開始剤として種々のオキシムエステル化合物が開発されている（例えば、特表２００４−５３４７９７号公報、特開２００６−３０８０９号公報、特開２００８−１００９５５号公報等参照）。
【０００４】
しかしながら、上述のような従来のオキシムエステル化合物は、可視領域に若干の吸収帯を有するためか、これらを光重合開始剤として用いて得られた硬化膜は、透明性が十分であるとはいえない。そのため、このような硬化膜は、例えば液晶デバイス等の可視領域に高い透明性を必要とする硬化膜には適用できない場合がある。また、上記オキシムエステル化合物は、感放射線性樹脂組成物への溶解性も十分とはいえず、改善の余地がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特表２００４−５３４７９７号公報
【特許文献２】特開２００６−３０８０９号公報
【特許文献３】特開２００８−１００９５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記のような事情に基づいてなされたものであり、光重合開始剤として使用する場合に高い放射線感度を有することに加え、高い透明性及び感放射線性組成物への優れた溶解性を備える化合物、高い透明性及び表面硬度を有する硬化膜及びこの形成方法、並びにこの硬化膜を形成可能な感放射線性組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するためになされた発明は、下記式（１）で示される化合物である。
【０００８】
【化１】
【０００９】
（式（１）において、Ｒ１は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数４〜２０の脂環式炭化水素基、炭素数１〜６のハロアルキル基、２−フリル基、２−フルフリル基、２−チエニル基、２−テニル基、フェニル基又はナフチル基であり、このフェニル基又はナフチル基の水素原子の一部又は全部が、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数４〜２０の脂環式炭化水素基である。
Ｒ４は、脂環式炭化水素基であり、この水素原子の一部又は全部が炭素数１〜１２のアルキル基で置換されていてもよい。）
【００１０】
当該化合物は、光重合開始剤として使用する場合に高い放射線感度を発現し、結果として、露光量が小さくても、正確なパターン及び十分な表面硬度を有する硬化膜を得ることができる。また、当該化合物は、上記式（１）で示される構造を有することから、可視光領域における吸収が少なく、透明性に優れており、光重合開始剤として使用する場合に高い透明性を有する硬化膜を得ることができる。さらには、当該化合物は、末端に嵩高い脂環式炭化水素基を有することから、結晶性が低く、感放射線性組成物に対して高い溶解性を有する。
【００１１】
当該化合物において、上記Ｒ１が、炭素数１〜８のアルキル基又はフェニル基であり、上記Ｒ２及びＲ３が、それぞれ独立して炭素数１〜８のアルキル基であり、上記Ｒ４が、１位に水素原子又は炭素数１〜４の直鎖状のアルキル基を有する炭素数４〜３０の脂環式炭化水素基であるとよい。このような構造を当該化合物に導入することにより、当該化合物の調製が容易となると共に、透明性及び感放射線性組成物への溶解性をより向上させることができ、加えて、感放射線性組成物の放射線感度及び得られる硬化物の硬度をより高めることができる。
【００１２】
本発明の感放射線性組成物は、［Ａ］光重合開始剤としての上記化合物、及び［Ｂ］エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物を含有する。このような感放射線性組成物は、上記化合物を含むことから、高い放射線感度及び透明性を有する。また、このような感放射線性組成物は、高い表面硬度及び透明性を有する硬化膜を形成することができる。
【００１３】
当該感放射線性組成物は、［Ｃ］成分としてアルカリ可溶性樹脂をさらに含有することが好ましい。当該感放射線性組成物がアルカリ可溶性樹脂を含有することによって、このアルカリ可溶性樹脂が現像工程において用いられるアルカリに対して可溶性を示し、その結果、高い現像性が発現され、正確なパターンを有する硬化膜を形成することができる。
【００１４】
本発明の硬化膜は上記感放射線性組成物から形成される。当該硬化膜は、上述のように優れた透明性及び高い硬度を備えている。
【００１５】
本発明の硬化膜は、
（１）上記感放射線性組成物の被膜を基板上に形成する工程、
（２）工程（１）で形成した被膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）工程（２）で放射線を照射された被膜を現像する工程、及び
（４）工程（３）で現像された被膜を加熱する工程
を含む方法により好適に形成することができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の新規な化合物は、光重合開始剤として使用する場合に高い放射線感度を有することに加え、高い透明性及び感放射線性組成物への優れた溶解性を有する。従って、本発明の化合物を含有する感放射線性組成物によれば、小さい露光量によって正確なパターンを形成することができ、この形成された硬化膜は、充分な表面硬度と優れた透明性を有するため、例えば液晶デバイス等の保護膜、絶縁膜等として好適に用いることができる。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
（新規化合物）
本発明の新規化合物は、上記式（１）で示される化合物である。
上記式（１）において、Ｒ１の炭素数１〜１２のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ドデシル基等の直鎖状のアルキル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ネオペンチル基、２−エチルヘキシル基等の分岐状のアルキル基等が挙げられる。これらの中では、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基等の炭素数１〜８のアルキル基が好ましく、炭素数１〜３のアルキル基が特に好ましい。
【００１８】
上記式（１）において、Ｒ１の炭素数４〜２０の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の単環式飽和炭化水素基、ノルボルニル基、アダマンチル基等の多環式飽和炭化水素基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロへプチニル基、シクロオクチニル基等の単環式不飽和炭化水素基、ノルボルネニル基等の多環式不飽和炭化水素基等が挙げられる。
【００１９】
上記式（１）において、Ｒ１の炭素数１〜６のハロアルキル基は、炭素数１〜６のアルキル基の水素原子の一部又は全部をハロゲン原子で置換した基であり、例えば、クロロメチル基、クロロエチル基、クロロプロピル基、クロロブチル基、クロロヘキシル基等が挙げられる。
【００２０】
上記式（１）において、Ｒ１のフェニル基又はナフチル基の水素原子と置換される炭素数１〜６のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基等が挙げられる。
【００２１】
上記式（１）において、Ｒ２及びＲ３の炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数４〜２０の脂環式炭化水素基としては、Ｒ１と同様の基が挙げられる。上記Ｒ２及びＲ３としては、それぞれ独立に、炭素数１〜８の直鎖状又は分岐状のアルキル基が好ましく、炭素数１〜４の直鎖状のアルキル基がさらに好ましい。
【００２２】
上記式（１）において、Ｒ４の脂環式炭化水素基としては、例えば、
シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の単環式飽和炭化水素基；
ノルボルニル基、ジノルボルニル基、トリノルボルニル基、アダマンチル基等の多環式飽和炭化水素基；
シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロへプチニル基、シクロオクチニル基等の単環式不飽和炭化水素基；
ノルボルネニル基、ジノルボルネニル基等の多環式不飽和炭化水素基
等が挙げられる。また、Ｒ４の脂環式炭化水素基の水素原子を置換する炭素数１〜１２のアルキル基としては、Ｒ１と同様の基が挙げられる。
【００２３】
上記Ｒ４としては、シクロヘキサン骨格、シクロヘキセン骨格、ノルボルナン骨格、ノルボルネン骨格、アダマンタン骨格等、カルボニル基と連結する炭素原子を含めて６員環を形成している脂環式炭化水素基が好ましい。
【００２４】
Ｒ４の具体例としては、下記式（２−１）〜（２−２０）で表される基が挙げられる。
【００２５】
【化２】
【００２６】
当該化合物は、末端の位置であるＲ４として、このように嵩高い脂環式炭化水素基を有することから結晶性が低く、感放射線性組成物に対して高い溶解性を示す。また、当該化合物はＲ４としてこのような脂環式炭化水素基を有するため、放射線に対する高い感度を備えつつ、可視光線に対する高い透過性を発揮することができる。
【００２７】
上記Ｒ４としては、１位に水素原子を有する脂環式炭化水素基（例えば、上記式（２−１）、（２−４）、（２−５）、（２−１０）、（２−１１）、（２−１４）、（２−２０）で表される基等）や、１位に炭素数１〜４の直鎖状のアルキル基を有する炭素数脂環式炭化水素基（例えば、上記式（２−２）、（２−３）、（２−６）〜（２−９）、（２−１２）、（２−１３）、（２−１５）〜（２−１７）で表される基等）も、合成が容易である点などから好ましい。ここで「１位」とは、Ｒ４において隣接するカルボニル基と結合する炭素原子の位置をいい、１位に水素原子又は直鎖状のアルキル基を有するとは、１位の炭素原子と結合する水素原子又は直鎖状のアルキル基を有することをいう。
【００２８】
上記式（１）で表される化合物の具体例としては、下記式（３）〜（１１）で表される化合物を挙げることができる。
【００２９】
【化３】
【００３０】
【化４】
【００３１】
【化５】
【００３２】
【化６】
【００３３】
【化７】
【００３４】
【化８】
【００３５】
【化９】
【００３６】
【化１０】
【００３７】
【化１１】
【００３８】
当該化合物において、上記Ｒ１が、炭素数１〜８のアルキル基又はフェニル基であり、上記Ｒ２及びＲ３が、それぞれ独立して炭素数１〜８のアルキル基であり、上記Ｒ４が、脂環式脂環式炭化水素基であるとよく、特に炭素数が４〜３０の脂環式炭化水素基であることが好ましい。このような立体構造を有した脂環式炭化水素基であることによって、Ｒ４が芳香族置換基の場合に比較して、合成時のジオキシムエステル化による副生成物の生成を抑制することが可能で、高純度で目的化合物を得ることができる。さらに、Ｒ４としてこのような脂環式炭化水素基を当該化合物に導入することにより、当該化合物の調製が容易となるとともに、透明性及び感放射線性組成物への溶解性をより向上させることができ、また、感放射線性組成物の放射線感度及び得られる硬化物の硬度を高めることができる。このような構造を有する化合物の具体例としては、上記式（３）〜（７）、（９）〜（１１）で表される化合物を挙げることができる。
【００３９】
当該化合物は、光重合開始剤として使用する場合に高い放射線感度を発現し、結果として、小さい露光量によって、正確なパターン及び十分な表面硬度を有する硬化膜を得ることができる。また、当該化合物は、末端に嵩高い脂環式炭化水素基を有することから結晶性が低く、感放射線性組成物に対して高い溶解性を示す。さらに、当該化合物は、上記式（１）で示される構造を有することから、可視光領域における吸収が少なく、透明性に優れており、当該化合物を光重合開始剤として使用する場合には、高い透明性を有する硬化膜を得ることができる。
【００４０】
（新規化合物の合成方法）
本発明の新規化合物の合成方法としては特に限定されず、公知の技術を組み合わせて合成することができ、例えば、以下の手順を挙げることができる。塩化アルミニウムの存在下、Ｒ４に対応する脂肪族炭化水素基を有するカルボン酸ハロゲン化物又は無水物等を３−アシル−９−アルキルカルバゾールと反応させ、ジケトン体を得る。このジケトン体をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドに溶解させ、塩基条件下、塩化ヒドロキシルアンモニウムにて非環状のアルキルケトン部分のみを選択的にオキシム化して、最後に、ヒドロキシル基をアセチル化することで目的の化合物を得ることができる。
【００４１】
上記Ｒ４に対応する脂肪族炭化水素基を有するカルボン酸ハロゲン化物としては、例えば、シクロヘキサンカルボン酸塩化物等のシクロアルカンカルボン酸塩化物、５−ノルボルネン−２−メチル−２−カルボン酸塩化物、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルカルボン酸塩化物、１−アダマンタンカルボン酸塩化物等の多環構造を有するカルボン酸塩化物等を挙げることができる。
【００４２】
（感放射線性組成物）
本発明の感放射線性組成物は、［Ａ］光重合開始剤としての上記化合物及び［Ｂ］エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物を含有すると共に、好適な成分として［Ｃ］アルカリ可溶性樹脂、及びその他の任意成分として［Ｄ］上記の［Ａ］成分以外の感放射線性重合開始剤（以下、単に「その他の感放射線性重合開始剤」ともいう）、［Ｅ］多官能エポキシ化合物、［Ｆ］密着助剤、［Ｇ］界面活性剤等を含有していてもよい。
【００４３】
（［Ａ］光重合開始剤）
当該感放射線性組成物に用いられる［Ａ］成分の光重合開始剤は、上記式（１）で表される化合物である。ここで、光重合開始剤とは、可視光線、紫外線、遠紫外線等の照射により、［Ｂ］成分の重合性化合物の重合を開始しうる活性種を発生することができる成分をいう。当該化合物については、上述のとおりであるから、ここでは説明を省略する。
【００４４】
（［Ｂ］エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物）
当該感放射線性組成物に用いられるエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物の好ましい例としては、単官能（メタ）アクリレート、２官能（メタ）アクリレート、又は３官能以上の（メタ）アクリレートを挙げることができる。当該感放射線性組成物中に、これらの化合物を用いることによって、透明性と表面硬度が高度にバランスされた硬化膜を形成することができる。
【００４５】
単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート等が挙げられる。これらの単官能（メタ）アクリレートの市販品の例としては、アロニックスＭ−１０１、同Ｍ−１１１、同Ｍ−１１４（東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＣ−１１０Ｓ、同ＴＣ−１２０Ｓ（日本化薬（株）製）、ビスコート１５８、同２３１１（大阪有機化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００４６】
２官能（メタ）アクリレートとしては、例えばエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの２官能（メタ）アクリレートの市販品としては、例えば、アロニックスＭ−２１０、同Ｍ−２４０、同Ｍ−６２００（東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤＤＡ、同ＨＸ−２２０、同Ｒ−６０４（日本化薬（株）製）、ビスコート２６０、同３１２、同３３５ＨＰ（大阪有機化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００４７】
３官能以上の（メタ）アクリレートとしては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリ（（メタ）アクリロイルオキシエチル）フォスフェート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ−［３−（３−（メタ）アクリロイルオキシ−２，２−ビス−（メタ）アクリロイルオキシメチル−プロポキシ）−２，２−ビス−（メタ）アクリロイルオキシメチル−プロピル］エステル、コハク酸変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの３官能以上の（メタ）アクリレートの市販品としては、例えばアロニックスＭ−３０９、同Ｍ−４００、同Ｍ−４０５、同Ｍ−４５０、同Ｍ−７１００、同Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０、同ＴＯ−７５６（東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＭＰＴＡ、同ＤＰＨＡ、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰＣＡ−１２０（日本化薬（株）製）、ビスコート２９５、同３００、同３６０、同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（大阪有機化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００４８】
これらのエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物のうち、感放射線性組成物の硬化性の観点から、３官能以上の（メタ）アクリレートが好ましく用いられる。その中でも、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ−［３−（３−（メタ）アクリロイルオキシ−２，２−ビス−（メタ）アクリロイルオキシメチル−プロポキシ）−２，２−ビス−（メタ）アクリロイルオキシメチル−プロピル］エステル、コハク酸変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートが特に好ましい。これらのエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
【００４９】
当該感放射線性組成物における［Ｂ］成分のエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物の使用量は、特に限定されるものではないが、［Ａ］成分の光重合開始剤１質量部に対して、好ましくは１０〜２００質量部、より好ましくは２０〜１５０質量部である。このような重合性化合物の使用量を上記範囲とすることによって、放射線感度、及び得られる硬化膜の透明性が高度にバランスされた感放射線性組成物を得ることができる。
【００５０】
（［Ｃ］アルカリ可溶性樹脂）
当該感放射線性組成物に含有されてもよい［Ｃ］アルカリ可溶性樹脂としては、当該成分を含む感放射線性組成物の現像処理工程において用いられるアルカリ現像液に対して可溶性を示すものであれば、特に限定されるものではない。このようなアルカリ可溶性樹脂としては、カルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂が好ましく、（ａ１）不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも１種（以下、「化合物（ａ１）」という。）と、（ａ２）（ａ１）以外の不飽和化合物（以下、「化合物（ａ２）」という。）との共重合体（以下、共重合体［α］という。）が特に好ましい。
【００５１】
化合物（ａ１）の具体例としては、
アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、２−アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸等のモノカルボン酸；
マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸等のジカルボン酸；
上記ジカルボン酸の酸無水物等を挙げることができる。
【００５２】
これらの化合物（ａ１）のうち、共重合反応性や得られる共重合体のアルカリ現像液に対する溶解性の観点から、アクリル酸、メタクリル酸、２−アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、無水マレイン酸等が好ましい。
【００５３】
共重合体［α］において、化合物（ａ１）は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。共重合体［α］において、化合物（ａ１）に由来する繰り返し単位の含有率は、好ましくは５〜６０質量％、さらに好ましくは７〜５０質量％、特に好ましくは８〜４０質量％である。化合物（ａ１）に由来する繰り返し単位の含有率を５〜６０質量％とすることによって、放射線感度及び現像性等の諸特性がより高いレベルでバランスされた感放射線性組成物が得られる。
【００５４】
化合物（ａ２）の具体例としては、
アクリル酸メチル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸ｉ−プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル等のアクリル酸アルキルエステル；
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸ｉ−プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｓｅｃ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル等のメタクリル酸アルキルエステル；
アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸２−メチルシクロヘキシル、アクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル、アクリル酸２−（トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルオキシ）エチル、アクリル酸イソボロニル等のアクリル酸脂環式エステル；
メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸２−メチルシクロヘキシル、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル、メタクリル酸２−（トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルオキシ）エチル、メタクリル酸イソボロニル等のメタクリル酸脂環式エステル；
アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル等のアクリル酸のアリールエステルあるいはアラルキルエステル；
メタクリル酸２−ヒドロキシエチルエステル、メタクリル酸３−ヒドロキシプロピルエステル等のメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステル類；
メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル等のメタクリル酸のアリールエステルあるいはアラルキルエステル；
【００５５】
マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル等の不飽和ジカルボン酸ジアルキルエステル；
アクリル酸テトラヒドロフラン−２−イル、アクリル酸テトラヒドロピラン−２−イル、アクリル酸２−メチルテトラヒドロピラン−２−イル等の含酸素複素５員環あるいは含酸素複素６員環を有するアクリル酸エステル；
メタクリル酸テトラヒドロフラン−２−イル、メタクリル酸テトラヒドロピラン−２−イル、メタクリル酸２−メチルテトラヒドロピラン−２−イル等の含酸素複素５員環あるいは含酸素複素６員環を有するメタクリル酸エステル；
スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等のビニル芳香族化合物；
１，３−ブタジエン、イソプレン等の共役ジエン系化合物；
その他、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド等を挙げることができる。
【００５６】
これらの化合物（ａ２）のうち、共重合反応性の観点から、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル、スチレン、ｐ−メトキシスチレン、メタクリル酸テトラヒドロフラン−２−イル、１，３−ブタジエン、メタクリル酸２−ヒドロキシエチルエステル等が好ましい。
【００５７】
共重合体［α］において、化合物（ａ２）は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。共重合体［α］において、化合物（ａ２）に由来する繰り返し単位の含有率は、好ましくは１０〜７０質量％、さらに好ましくは２０〜５０質量％、特に好ましくは３０〜５０質量％である。化合物（ａ２）の繰り返し単位の含有率を１０〜７０質量％とすることによって、共重合体の分子量の制御が容易となり、現像性、放射線感度等がより高いレベルでバランスされた感放射線性組成物が得られる。
【００５８】
共重合体［α］は、適当な溶媒中、ラジカル重合開始剤の存在下で構成成分の単量体を重合することにより製造することができる。このような重合に用いられる溶媒としては、ジエチレングリコールアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、アルコキシプロピオン酸アルキル、酢酸エステル等が好ましい。これらの溶媒は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
【００５９】
また、上記ラジカル重合開始剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス−（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、４，４’−アゾビス（４―シアノバレリン酸）、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物を挙げることができる。これらのラジカル重合開始剤は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
【００６０】
共重合体［α］のゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算質量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、好ましくは２，０００〜１００，０００、より好ましくは５，０００〜５０，０００である。共重合体［α］のＭｗを２，０００〜１００，０００とすることによって、現像性、放射線感度等がより高いレベルでバランスされた感放射線性組成物、並びに耐熱性が高い硬化膜を得ることができる。
【００６１】
当該感放射線性組成物における［Ｃ］成分のアルカリ可溶性樹脂の使用量は、［Ａ］成分の光重合開始剤１質量部に対して、好ましくは１０〜２００質量部、より好ましくは２０〜１５０質量部である。アルカリ可溶性樹脂の使用量を上記範囲とすることによって、現像性に優れた感放射線性組成物を得ることができる。
【００６２】
（［Ｄ］その他の感放射線性重合開始剤）
当該感放射線性組成物には、［Ａ］成分以外に、［Ｄ］成分として、その他の感放射線性重合開始剤を加えることができる。感放射線性重合開始剤としては、放射線に感応してエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物の重合を開始しうる活性種を生じる成分である限り、特に限定されるものではない。このようなその他の感放射線性重合開始剤の例としては、Ｏ−アシルオキシム化合物、アセトフェノン化合物、ビイミダゾール化合物等を挙げることができる。
【００６３】
上記Ｏ−アシルオキシム化合物の具体例としては、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、１−〔９−エチル−６−ベンゾイル−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−オクタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート、１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾエート、１−〔９−ｎ−ブチル−６−（２−エチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾエート、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル｝−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等が挙げられる（ただし、［Ａ］成分を除く）。
【００６４】
これらのうちで、好ましいＯ−アシルオキシム化合物としては、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル｝−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）を挙げることができる。これらのＯ−アシルオキシム化合物は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
【００６５】
上記アセトフェノン化合物としては、例えばα−アミノケトン化合物、α−ヒドロキシケトン化合物を挙げることができる。
【００６６】
α−アミノケトン化合物の具体例としては、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等を挙げることができる。
【００６７】
α−ヒドロキシケトン化合物の具体例としては、１−フェニル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ｉ−プロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等を挙げることができる。
【００６８】
これらのアセトフェノン化合物のうちα−アミノケトン化合物が好ましく、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オンが特に好ましい。これらのアセトフェノン化合物は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
【００６９】
上記ビイミダゾール化合物の具体例としては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール等を挙げることができる。
【００７０】
これらのビイミダゾール化合物のうち、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールが好ましく、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールが特に好ましい。これらのビイミダゾール化合物は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
【００７１】
本発明の感放射線性組成物において、［Ｄ］成分の感放射線性重合開始剤としてビイミダゾール化合物を使用する場合、これを増感するために、ジアルキルアミノ基を有する脂肪族又は芳香族化合物（以下、「アミノ系増感剤」という。）を添加することができる。
【００７２】
かかるアミノ系増感剤としては、例えば４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等を挙げることができる。これらのアミノ系増感剤のうち、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが特に好ましい。上記アミノ系増感剤は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
【００７３】
さらに、当該感放射線性組成物においてビイミダゾール化合物とアミノ系増感剤とを併用する場合、水素ラジカル供与剤としてチオール化合物を添加することができる。ビイミダゾール化合物は、アミノ系増感剤によって増感されて開裂し、イミダゾールラジカルを発生するが、そのままでは高い重合開始能が発現しない場合がある。しかし、ビイミダゾール化合物とアミノ系増感剤とが共存する系に、チオール化合物を添加することにより、イミダゾールラジカルにチオール化合物から水素ラジカルが供与される。その結果、イミダゾールラジカルが中性のイミダゾールに変換されると共に、重合開始能の高い硫黄ラジカルを有する成分が発生し、それにより低放射線照射量であっても表面硬度の高い硬化膜を形成することができる。
【００７４】
かかるチオール化合物の具体例としては、
２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプト−５−メトキシベンゾチアゾール等の芳香族チオール化合物；
３−メルカプトプロピオン酸、３−メルカプトプロピオン酸メチル等の脂肪族モノチオール化合物；
ペンタエリストールテトラ（メルカプトアセテート）、ペンタエリストールテトラ（３−メルカプトプロピオネート）等の２官能以上の脂肪族チオール化合物を挙げることができる。これらのチオール化合物の中でも、２−メルカプトベンゾチアゾールが特に好ましい。
【００７５】
ビイミダゾール化合物とアミノ系増感剤とを併用する場合、アミノ系増感剤の使用量としては、ビイミダゾール化合物１００質量部に対して、好ましくは０．１〜５０質量部であり、より好ましくは１〜２０質量部である。アミノ系増感剤の使用量を０．１〜５０質量部とすることによって、感放射線性組成物の露光時の硬化反応性が向上し、得られる硬化膜の表面硬度を高めることができる。
【００７６】
また、ビイミダゾール化合物、アミノ系増感剤及びチオール化合物を併用する場合、チオール化合物の使用量としては、ビイミダゾール化合物１００質量部に対して、好ましくは０．１〜５０質量部であり、より好ましくは１〜２０質量部である。チオール化合物の使用量を０．１〜５０質量部とすることによって、得られる硬化膜の表面硬度を改善することができる。
【００７７】
当該感放射線性組成物は、［Ｄ］成分の感放射線性重合開始剤として、Ｏ−アシルオキシム化合物及びアセトフェノン化合物からなる群より選択される少なくとも１種を含有することが好ましい。また、当該感放射線性組成物は、［Ｄ］成分の感放射線性重合開始剤として、Ｏ−アシルオキシム化合物及びアセトフェノン化合物からなる群より選択される少なくとも１種、並びにビイミダゾール化合物を含有するものであってもよい。
【００７８】
当該感放射線性組成物における［Ｄ］成分の感放射線性重合開始剤の使用量は、［Ａ］成分１質量部に対して、好ましくは０．０５〜１０質量部、より好ましくは０．１〜５質量部である。［Ｄ］成分の使用量を上記範囲とすることによって、当該感放射線性組成物は、低露光量の場合でも、高い放射線感度を示し、充分な表面硬度を有する硬化膜を形成することができる。
【００７９】
（［Ｅ］多官能エポキシ化合物）
［Ｅ］多官能エポキシ化合物は、重合反応性を高め、感放射線性組成物から形成される硬化膜の表面硬度をより向上させるために、感放射線性組成物に添加することができる。多官能エポキシ化合物としては、１分子中に２個以上のエポキシ基を有するカチオン重合性化合物が用いられる。
【００８０】
このような１分子中に２個以上のエポキシ基を有するカチオン重合性化合物の具体例としては、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡＤジグリシジルエーテル等のビスフェノールのポリグリシジルエーテル類；１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに１種又は２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールの脂肪族ポリグリシジルエーテル類；１分子中に２個以上の３，４−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物；ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂；クレゾールノボラック型エポキシ樹脂；ポリフェノール型エポキシ樹脂；環状脂肪族エポキシ樹脂；脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；高級脂肪酸のグリシジルエステル類；エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油等を挙げることができる。これらの１分子中に２個以上のエポキシ基を有するカチオン重合性化合物のうち、フェノールノボラック型エポキシ樹脂及びポリフェノール型エポキシ樹脂が好ましい。
【００８１】
１分子中に２個以上の３，４−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物の具体例としては、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、ラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等を挙げることができる。
【００８２】
１分子中に２個以上のエポキシ基を有する化合物の市販品としては、例えばビスフェノールＡ型エポキシ樹脂として、エピコート１００１、同１００２、同１００３、同１００４、同１００７、同１００９、同１０１０、同８２８（ジャパンエポキシレジン（株）製）；ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂として、エピコート８０７（ジャパンエポキシレジン（株）製）；フェノールノボラック型エポキシ樹脂（ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂等）として、エピコート１５２、同１５４、同１５７Ｓ６５（ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（日本化薬（株）製）；クレゾールノボラック型エポキシ樹脂として、ＥＯＣＮ１０２、同１０３Ｓ、同１０４Ｓ、１０２０、１０２５、１０２７（日本化薬（株）製）、エピコート１８０Ｓ７５（ジャパンエポキシレジン（株）製）；ポリフェノール型エポキシ樹脂として、エピコート１０３２Ｈ６０、同ＸＹ−４０００（ジャパンエポキシレジン（株）製）；環状脂肪族エポキシ樹脂として、ＣＹ−１７５、同１７７、同１７９、アラルダイトＣＹ−１８２、同１９２、１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ＥＲＬ−４２３４、４２９９、４２２１、４２０６（Ｕ．Ｃ．Ｃ社製）、ショーダイン５０９（昭和電工（株）製）、エピクロン２００、同４００（大日本インキ（株）製）、エピコート８７１、同８７２（ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＤ−５６６１、同５６６２（セラニーズコーティング社製）；脂肪族ポリグリシジルエーテルとして、エポライト１００ＭＦ（共栄社化学（株）製）、エピオールＴＭＰ（日本油脂（株）製）が挙げられる。
【００８３】
これらの［Ｅ］成分の多官能エポキシ化合物は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。当該感放射線性組成物における［Ｅ］成分の多官能エポキシ化合物の使用量は、［Ａ］成分の光重合開始剤１質量部に対して、好ましくは０．０５〜１０質量部であり、より好ましくは０．１〜５質量部である。［Ｅ］成分の使用量を０．０５〜１０質量部とすることによって、重合反応性を向上させると共に、形成される硬化膜の表面硬度を高度なレベルに保つことができる。
【００８４】
（［Ｆ］密着助剤）
［Ｆ］成分の密着助剤は、得られる硬化膜と基板との密着性をさらに向上させるために使用することができる。このような密着助剤としては、カルボキシル基、メタクリロイル基、ビニル基、イソシアネート基、オキシラニル基等の反応性官能基を有する官能性シランカップリング剤が好ましい。密着助剤の具体例としては、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等を挙げることができる。これらの密着助剤は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
【００８５】
当該感放射線性組成物における［Ｆ］成分の密着助剤の使用量は、［Ａ］成分１質量部に対して、０．０５〜１０質量部であり、より好ましくは０．０５〜８質量部である。密着助剤の使用量を上記範囲とすることによって、基板に対する硬化膜の密着性を改善しつつ、パターン形成能を高いレベルに保つことができる。
【００８６】
（［Ｇ］界面活性剤）
［Ｇ］成分の界面活性剤は、感放射線性組成物の被膜形成性をより向上させるために使用することができる。このような界面活性剤としては、例えばフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、及びその他の界面活性剤を挙げることができる。
【００８７】
フッ素系界面活性剤としては、末端、主鎖及び側鎖の少なくともいずれかの部位にフルオロアルキル基及び／又はフルオロアルキレン基を有する化合物が好ましい。フッ素系界面活性剤の例としては、１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−オクチル（１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−プロピル）エーテル、１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−オクチル（ｎ−ヘキシル）エーテル、ヘキサエチレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロ−ｎ−ペンチル）エーテル、オクタエチレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−ブチル）エーテル、ヘキサプロピレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロ−ｎ−ペンチル）エーテル、オクタプロピレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−ブチル）エーテル、パーフルオロ−ｎ−ドデカンスルホン酸ナトリウム、１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロ−ｎ−デカン、１，１，２，２，３，３，９，９，１０，１０−デカフルオロ−ｎ−ドデカン、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキルリン酸ナトリウム、フルオロアルキルカルボン酸ナトリウム、ジグリセリンテトラキス（フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル）、フルオロアルキルアンモニウムヨージド、フルオロアルキルベタイン、他のフルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、パーフルオロアルキルポリオキシエタノール、パーフルオロアルキルアルコキシレート、カルボン酸フルオロアルキルエステル等を挙げることができる。
【００８８】
フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００（以上、ＢＭ ＣＨＥＭＩＥ社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３、同Ｆ１７８、同Ｆ１９１、同Ｆ４７１、同Ｆ４７６（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ−１７０Ｃ、同−１７１、同−４３０、同−４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−１１２、同−１１３、同−１３１、同−１４１、同−１４５、同−３８２、サーフロンＳＣ−１０１、同−１０２、同−１０３、同−１０４、同−１０５、同−１０６（以上、旭硝子（株）製）、エフトップＥＦ３０１、同３０３、同３５２（以上、新秋田化成（株）製）、フタージェントＦＴ−１００、同−１１０、同−１４０Ａ、同−１５０、同−２５０、同−２５１、同−３００、同−３１０、同−４００Ｓ、フタージェントＦＴＸ−２１８、同−２５１（以上、（株）ネオス製）等を挙げることができる。
【００８９】
シリコーン系界面活性剤の具体例としては、市販されている商品名で、例えばトーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＤＣ７ＰＡ、同ＳＨ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、同ＳＨ−１９０、同ＳＨ−１９３、同ＳＺ−６０３２、同ＳＦ−８４２８、同ＤＣ−５７、同ＤＣ−１９０、ＳＨ ８４００ ＦＬＵＩＤ（以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）、ＴＳＦ−４４４０、ＴＳＦ−４３００、ＴＳＦ−４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ−４４６０、ＴＳＦ−４４５２（以上、ＧＥ東芝シリコーン（株）製）、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）等を挙げることができる。
【００９０】
これらの［Ｇ］成分の界面活性剤は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。当該感放射線性組成物における［Ｇ］成分の界面活性剤の使用量は、［Ａ］成分１質量部に対して、０．００１〜１質量部であり、より好ましくは０．００５〜０．５質量部である。界面活性剤の使用量を上記範囲とすることによって、基板上に被膜を形成する際の塗布ムラを低減することができる。
【００９１】
（感放射線性組成物の調製）
本発明の感放射線性組成物は、上記の［Ａ］光重合開始剤、及び［Ｂ］エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物、並びに上記のような任意的に添加されるその他の成分を均一に混合することによって調製される。この感放射線性組成物は、好ましくは適当な溶媒に溶解されて溶液状態で用いられる。例えば、［Ａ］光重合開始剤及び［Ｂ］エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物、並びに任意的に添加されるその他の成分を、溶媒中において所定の割合で混合することにより、溶液状態の感放射線性組成物を調製することができる。
【００９２】
当該感放射線性組成物の調製に用いられる溶媒としては、［Ａ］光重合開始剤、及び［Ｂ］エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物、並びにその他の任意成分の各成分を均一に溶解すると同時に、各成分と反応しないものが用いられる。このような溶媒としては、［Ｃ］アルカリ可溶性樹脂を製造するために使用できる溶媒として上で例示したものと同様のものを挙げることができる。
【００９３】
このような溶媒のうち、各成分の溶解性、各成分との非反応性、被膜形成の容易性等の観点から、例えば、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、シクロヘキサノールアセテート、ベンジルアルコール、３−メトキシブタノールを特に好ましく使用することができる。これらの溶媒は、一種のみを単独で使用してもよいし、二種以上を混合して使用してもよい。
【００９４】
当該感放射線性組成物を溶液状態として調製する場合、固形分濃度（組成物溶液中に占める溶媒以外の成分、すなわち上記の［Ａ］成分及び［Ｂ］成分並びにその他の任意成分の合計量の割合）は、使用目的や所望の膜厚の値等に応じて任意の濃度（例えば５〜５０質量％）に設定することができる。こうして調製された感放射線性組成物の溶液は、孔径０．２〜０．５μｍ程度のミリポアフィルタ等を用いてろ過した後、使用に供することもできる。
【００９５】
（硬化膜）
本発明の感放射線性組成物から形成された硬化膜は、後述の実施例からも明らかなように、高い表面硬度及び優れた透明性を有する。このような硬化膜は、高い表面硬度や透明性を要する技術用途に好適に用いることができ、例えば液晶デバイスや半導体デバイスの保護膜、絶縁膜及びパターン形成用材料として好適に用いることができる。
【００９６】
（硬化膜の形成方法）
次に、本発明の感放射線性組成物を用いて硬化膜を形成する方法について説明する。当該感放射線性組成物を用いた硬化膜の形成方法は、少なくとも下記の工程（１）〜（４）を下記に記載の順で含むことを特徴とするものである。工程（３）は、パターン形成が必要な場合において行うことができる。
【００９７】
すなわち、硬化膜の形成方法は、
（１）本発明の感放射線性組成物の被膜を基板上に形成する工程、
（２）工程（１）で形成した被膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）工程（２）で放射線を照射された被膜を現像する工程、及び
（４）工程（３）で現像された被膜を加熱する工程を含む。
【００９８】
以下、これらの各工程について順次説明する。
【００９９】
（１）本発明の感放射線性組成物の被膜を基板上に形成する工程
ここで用いられる基板としては特に限定されず、透明基板や金属基板等が挙げられる。この透明基板としては、例えばガラス基板、樹脂基板等を挙げることができ、その具体例としては、ソーダライムガラス、無アルカリガラス等のガラス基板；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリイミド等のプラスチックからなる樹脂基板を挙げることができる。このような透明基板の片面に透明導電膜を形成し、該透明導電膜の上に感放射線性組成物の被膜を形成することができる。
【０１００】
上記透明基板の片面に設けられる透明導電膜としては、酸化スズ（ＳｎＯ２）からなるＮＥＳＡ膜（米国ＰＰＧ社の登録商標）、酸化インジウム−酸化スズ（Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２）からなるＩＴＯ膜等を挙げることができる。
【０１０１】
塗布法により被膜を形成する場合、透明導電膜上に感放射線性組成物の溶液を塗布した後、好ましくは塗布面を加熱（プレベーク）することによって被膜を形成することができる。塗布法に用いる組成物溶液の固形分濃度は、好ましくは５〜５０質量％であり、より好ましくは１０〜４０質量％であり、さらに好ましくは１５〜３５質量％である。組成物溶液の塗布方法としては、特に限定されず、例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法（スピンコート法）、スリットダイ塗布法、バー塗布法、インクジェット塗布法等の適宜の方法を採用することができる。これらの塗布方法の中でも、特にスピンコート法又はスリットダイ塗布法が好ましい。
【０１０２】
上記プレベークの条件は、各成分の種類や配合割合等によっても異なるが、好ましくは７０〜１２０℃で１〜１５分間程度である。プレベーク後の被膜の膜厚としては、好ましくは０．５〜１０μｍであり、より好ましくは１．０〜７．０μｍ程度である。
【０１０３】
（２）工程（１）で形成した被膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程
次いで、形成された被膜の少なくとも一部に放射線を照射する。このとき、被膜の一部にのみ照射する際には、例えば所定のパターンを有するフォトマスクを介して照射する方法によることができる。
【０１０４】
照射に使用される放射線としては、可視光線、紫外線、遠紫外線等を挙げることができる。このうち波長が２５０〜５５０ｎｍの範囲にある放射線が好ましい。
【０１０５】
放射線照射量（露光量）は、照射される放射線の波長３６５ｎｍにおける強度を照度計（ＯＡＩ ｍｏｄｅｌ ３５６、Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ Ｉｎｃ．製）により測定した値として、好ましくは１００〜５，０００Ｊ／ｍ２、より好ましくは２００〜３，０００Ｊ／ｍ２である。
【０１０６】
（３）工程（２）で放射線を照射された被膜を現像する工程
次に、放射線照射後の被膜を現像することにより、不要な部分を除去して、所定のパターンを形成する。
【０１０７】
現像に使用される現像液としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム等の無機アルカリ、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の４級アンモニウム塩等のアルカリ（塩基性化合物）の水溶液を使用することができる。これらのアルカリ水溶液には、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒及び／又は界面活性剤を適当量添加して使用することもできる。アルカリ水溶液におけるアルカリの濃度は、適当な現像性を得る観点から、好ましくは０．１質量％以上５質量％以下とすることができる。現像方法としては、液盛り法、ディッピング法、シャワー法等のいずれでもよく、現像時間は、常温で１０〜１８０秒間程度とすることが好ましい。
【０１０８】
（４）工程（３）で現像された被膜を加熱する工程
上記現像処理の後、パターニングされた被膜に対して、好ましくは流水洗浄を３０〜９０秒間行った後、圧縮空気や圧縮窒素で風乾することができる。次いで、得られたパターン状の被膜を、ホットプレート、オーブン等の適当な加熱装置により、所定温度、例えば１００〜２５０℃で、所定時間、例えばホットプレート上では５〜３０分間、オーブン中では３０〜１８０分間、加熱（ポストベーク）することにより、高い表面硬度を有する硬化膜を得ることができる。
【実施例】
【０１０９】
以下、合成例及び実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【０１１０】
＜［Ａ］成分の化合物（光重合開始剤）の合成例＞
［実施例１］（化合物（Ａ−１）の合成）
下記合成スキームに従って、最終生成物としての化合物（Ａ−１）（上記式（３）で表される化合物）を合成した。
【０１１１】
【化１２】
【０１１２】
ステップ（Ｉ）：中間体（ａ）の合成
３００ｍｌのナス型フラスコに、５−ノルボルネン−２−カルボン酸８．５ｇ（６１．５ｍｍｏｌ）を加え、エタノール６０ｍｌに溶解し、窒素置換を行なった。次いで、５％パラジウム−カーボン０．５ｇを加えた後、４０℃、常圧にて、水素による接触還元を行なった。１６時間攪拌した後、吸引ろ過装置にろ紙及びセライトをのせ、吸引ろ過を行なった。ろ液を減圧留去し、中間体（ａ）を８．６ｇ得た。
【０１１３】
この中間体（ａ）の１Ｈ−ＮＭＲを測定したところ、以下の通りであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）化学シフトδ：２．７４ｐｐｍ、２．６０ｐｐｍ、（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．３６ｐｐｍ（１Ｈ）、２．０６ｐｐｍ（１Ｈ）、１．７〜１．２ｐｐｍ（８Ｈ）
【０１１４】
ステップ（ＩＩ）：中間体（ｂ）の合成
３００ｍｌのナス型フラスコに、中間体（ａ）１４ｇ（１０ｍｍｏｌ）及び塩化チオニル１６ｍｌ（２２０ｍｍｏｌ）を加え、室温２５℃にて攪拌し、次いで、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド０．１ｍｌを加え、さらに２０時間攪拌した。反応液を減圧留去し、中間体（ｂ）を１５．９ｇ得た。
【０１１５】
ステップ（ＩＩＩ）：中間体（ｃ）の合成
１０００ｍｌのナス型フラスコに、３−アセチル−９−エチルカルバゾール２４ｇ（１０１ｍｍｏｌ）を加え、塩化メチレン４００ｍｌに溶解し、この溶液に塩化アルミニウム４３ｇ（３５０ｍｍｏｌ）を添加した後氷冷し、１０℃まで反応液温度を降温させた。この反応液に対して、中間体（ｂ）３５ｇ（２２０ｍｏｌ）を塩化メチレン５０ｍｌに溶解し、滴下した。滴下中は、反応液温度を１０〜２０℃に保持した。滴下終了後、反応液を２０℃で２０時間攪拌した。反応液を氷水１５０ｇ中にクエンチして攪拌し、更に水２００ｍｌ加え、クロロホルム２００ｍｌで３回抽出した。有機層を集め、飽和炭酸水素ナトリウムで洗浄、次いで、蒸留水で洗浄し、溶媒を減圧留去し、粗生成物を得た。この粗成生物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、中間体（ｃ）２５．５ｇ得た。
【０１１６】
この化合物の１Ｈ−ＮＭＲを測定したところ、以下の通りであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）化学シフトδ：８．８０ｐｐｍ、８．７６ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．５７ｐｐｍ、８．５４ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．２１ｐｐｍ、８．１８ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．９７ｐｐｍ、７．９５ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．４４ｐｐｍ（２Ｈ）、４．４０ｐｐｍ（２Ｈ）、３．９２ｐｐｍ、３．４０ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．７４ｐｐｍ、２．６０ｐｐｍ、（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．３６ｐｐｍ（１Ｈ）、２．３０ｐｐｍ（３Ｈ）、２．０６ｐｐｍ（１Ｈ）、１．７〜１．２ｐｐｍ（１０Ｈ）
【０１１７】
ステップ（ＩＶ）：中間体（ｄ）の合成
５００ｍｌのナス型フラスコに、中間体（ｃ）２５．５ｇ（７０．９ｍｍｏｌ）を加えジメチルアセトアミド２５０ｍｌに溶解し、水酸化ナトリウム４．５ｇ（１１２ｍｍｏｌ）を加え、６５℃で１時間攪拌した。次いで、この反応液に塩化ヒドロキシルアンモニウム９．０ｇ（１２５ｍｍｏｌ）を加え９０℃に昇温させ、この温度で１時間攪拌した。次いで、反応液を室温まで冷却し、蒸留水２００ｍｌを加え、酢酸エチル２００ｍｌで３回抽出した。有機層を集め、蒸留水２００ｍｌで洗浄し、有機層を減圧留去し、中間体（ｄ）を得た。
【０１１８】
ステップ（Ｖ）：化合物（Ａ−１）の合成
５００ｍｌのナス型フラスコに、中間体（ｄ）２５．５ｇ（７０．９ｍｍｏｌ）を加え酢酸ｎ−ブチル１００ｍｌに溶解し、無水酢酸１０ｇ（９８ｍｍｏｌ）を加え、９０℃で１時間攪拌した。反応液を室温まで冷却し、水２００ｍｌを加え、有機層を抽出し、さらに酢酸ｎ−ブチル１００ｍｌで２回抽出した。この有機層をまとめ、蒸留水２００ｍｌで洗浄し、減圧留去して粗生成物を得た。この粗成生物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物（Ａ−１）２１．１ｇを得た。
【０１１９】
この化合物の１Ｈ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲ、質量分析、ＵＶを測定したところ、以下の通りであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）化学シフトδ：８．８０ｐｐｍ、８．７６ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．５７ｐｐｍ、８．５４ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．２１ｐｐｍ、８．１８ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．９７ｐｐｍ、７．９５ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．４４ｐｐｍ（２Ｈ）、４．４０ｐｐｍ（２Ｈ）、３．９２ｐｐｍ、３．４０ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．７４ｐｐｍ、２．６０ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．５３ｐｐｍ（３Ｈ）、２．３６ｐｐｍ（１Ｈ）、２．３０ｐｐｍ（３Ｈ）、２．０６ｐｐｍ（１Ｈ）、１．７〜１．２ｐｐｍ（１０Ｈ）
ＦＴ−ＩＲ（ＫＢｒ）：３０７２ｃｍ−１、２９５６ｃｍ−１、２８６９ｃｍ−１、２８２１ｃｍ−１、１７６４ｃｍ−１、１６６６ｃｍ−１、１６２７ｃｍ−１、１５９２ｃｍ−１
ＬＣ−ＭＳ［Ｍ＋Ｈ］：ｍ／ｚ＝４１７
ＵＶ（λｍａｘ）：２５８ｎｍ，２９２ｎｍ
【０１２０】
［実施例２］（化合物（Ａ−２）の合成）
上記化合物（Ａ−１）の合成スキームにおけるステップ（Ｉ）において、水素による接触還元を行わなかったこと以外は、実施例１と同様にして行い、実施例２の化合物（Ａ−２）（上記式（４）で表される化合物）を得た。
【０１２１】
化合物（Ａ−２）の１Ｈ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲ、質量分析、ＵＶを測定したところ、以下の通りであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）化学シフトδ：８．８１ｐｐｍ、８．７５ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．５７ｐｐｍ、８．５４ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．２３ｐｐｍ、８．１４ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．９６ｐｐｍ、７．９５ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．４４ｐｐｍ（２Ｈ）、５．９８ｐｐｍ（２Ｈ）、４．４０ｐｐｍ（２Ｈ）、３．９４ｐｐｍ、３．４０ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．７７ｐｐｍ、２．６４ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．５４ｐｐｍ（３Ｈ）、２．３７ｐｐｍ（１Ｈ）、２．３０ｐｐｍ（３Ｈ）、２．０６ｐｐｍ（１Ｈ）、１．７〜１．２ｐｐｍ（８Ｈ）
ＦＴ−ＩＲ（ＫＢｒ）：３０７５ｃｍ−１、２９５０ｃｍ−１、２８６０９ｃｍ−１、２８２８ｃｍ−１、１７７０ｃｍ−１、１６５８ｃｍ−１、１６１５ｃｍ−１、１５８４ｃｍ−１
ＬＣ−ＭＳ［Ｍ＋Ｈ］：ｍ／ｚ＝４１５
ＵＶ（λｍａｘ）：２６５ｎｍ，２９８ｎｍ
【０１２２】
［実施例３］（化合物（Ａ−３）の合成）
上記化合物（Ａ−１）の合成スキームにおけるステップ（Ｉ）において、５−ノルボルネン−２−カルボン酸の代わりに、５−ノルボルネン−２−メチル−２−カルボン酸を用いたこと以外は、実施例１と同様にして行い、実施例３の化合物（Ａ−３）（上記式（５）で表される化合物）を得た。
【０１２３】
化合物（Ａ−３）の１Ｈ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲ、質量分析、ＵＶを測定したところ、以下の通りであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）化学シフトδ：８．８４ｐｐｍ、８．７２ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．５４ｐｐｍ、８．５３ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．２３ｐｐｍ、８．１５ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．９７ｐｐｍ、７．９５ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．４４ｐｐｍ（２Ｈ）、４．４０ｐｐｍ（２Ｈ）、３．９４ｐｐｍ、３．４０ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．７４ｐｐｍ、２．６３ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．５８ｐｐｍ（３Ｈ）、２．３４ｐｐｍ（１Ｈ）、２．３６ｐｐｍ（３Ｈ）、２．０１ｐｐｍ（１Ｈ）、１．７〜１．２ｐｐｍ（１２Ｈ）
ＦＴ−ＩＲ（ＫＢｒ）：３０７４ｃｍ−１、２９５８ｃｍ−１、２８７５ｃｍ−１、２８３２ｃｍ−１、１７６４ｃｍ−１、１６６８ｃｍ−１、１６２０ｃｍ−１、１５９７ｃｍ−１
ＬＣ−ＭＳ［Ｍ＋Ｈ］：ｍ／ｚ＝４３０
ＵＶ（λｍａｘ）：２５７ｎｍ，２９０ｎｍ
【０１２４】
［実施例４］（化合物（Ａ−４）の合成）
上記化合物（Ａ−１）の合成スキームにおけるステップ（Ｉ）において、５−ノルボルネン−２−カルボン酸の代わりに、シクロヘキサンカルボン酸を用い、水素による接触還元を行わなかったこと以外は、実施例１と同様に行い、実施例４の化合物（Ａ−４）（上記式（６）で表される化合物）を得た。
【０１２５】
化合物（Ａ−４）の１Ｈ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲ、質量分析、ＵＶを測定したところ、以下の通りであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）化学シフトδ：８．８６ｐｐｍ、８．７７ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．５３ｐｐｍ、８．５６ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．２３ｐｐｍ、８．１８ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．９１ｐｐｍ、７．９４ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．４２ｐｐｍ（２Ｈ）、４．４５ｐｐｍ（２Ｈ）、３．９８ｐｐｍ、３．４３ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．７６ｐｐｍ、２．６５ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．６５ｐｐｍ（３Ｈ）、２．３６ｐｐｍ（１Ｈ）、２．３８ｐｐｍ（３Ｈ）、２．１０ｐｐｍ（１Ｈ）、１．７〜１．２ｐｐｍ（１０Ｈ）
ＦＴ−ＩＲ（ＫＢｒ）：３０７８ｃｍ−１、２９６３ｃｍ−１、２８７８ｃｍ−１、２８３５ｃｍ−１、１７６６ｃｍ−１、１６５８ｃｍ−１、１６１５ｃｍ−１、１５９０ｃｍ−１
ＬＣ−ＭＳ［Ｍ＋Ｈ］：ｍ／ｚ＝４０４
ＵＶ（λｍａｘ）：２６０ｎｍ，２８８ｎｍ
【０１２６】
［実施例５］（化合物（Ａ−５）の合成）
上記化合物（Ａ−１）の合成スキームにおけるステップ（Ｉ）において、５−ノルボルネン−２−カルボン酸の代わりに、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルカルボン酸を用い、水素による接触還元を行わなかったこと以外は、実施例１と同様にして行い、実施例５の化合物（Ａ−５）（上記式（７）で表される化合物）を得た。
【０１２７】
化合物（Ａ−４）の１Ｈ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲ、質量分析、ＵＶを測定したところ、以下の通りであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）化学シフトδ：８．９２ｐｐｍ、８．６９ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．５４ｐｐｍ、８．５６ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．２８ｐｐｍ、８．１５ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．９２ｐｐｍ、７．９２ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．４４ｐｐｍ（２Ｈ）、４．４１ｐｐｍ（２Ｈ）、３．９２ｐｐｍ、３．４２ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．７４ｐｐｍ、２．６１ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．６７ｐｐｍ（３Ｈ）、２．３２ｐｐｍ（１Ｈ）、２．３２ｐｐｍ（３Ｈ）、２．１４ｐｐｍ（１Ｈ）、１．７〜１．１ｐｐｍ（１４Ｈ）
ＦＴ−ＩＲ（ＫＢｒ）：３０８３ｃｍ−１、２９７０ｃｍ−１、２８７２ｃｍ−１、２８３８ｃｍ−１、１７６１ｃｍ−１、１６５２ｃｍ−１、１６１２ｃｍ−１、１５９８ｃｍ−１
ＬＣ−ＭＳ［Ｍ＋Ｈ］：ｍ／ｚ＝４５６
ＵＶ（λｍａｘ）：２６３ｎｍ，２９１ｎｍ
【０１２８】
［実施例６］（化合物（Ａ−６）の合成）
上記化合物（Ａ−１）の合成スキームにおけるステップ（Ｉ）において、５−ノルボルネン−２−カルボン酸の代わりに１−アダマンタンカルボン酸を用い、水素による接触還元を行わなかったこと、及びステップ（ＩＩ）において、３−アセチル−９−エチルカルバゾールの代わりに３−オクタノイル−９−メチルカルバゾールを用いたこと以外は、実施例１と同様にして行い、実施例６の化合物（Ａ−６）（上記式（８）で表される化合物）を得た。
【０１２９】
化合物（Ａ−６）の１Ｈ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲ、質量分析、ＵＶを測定したところ、以下の通りであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）化学シフトδ：８．９２ｐｐｍ、８．６９ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．５３ｐｐｍ、８．５２ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．２３ｐｐｍ、８．１０ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．９２ｐｐｍ、７．９２ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．４８ｐｐｍ（２Ｈ）、４．４１ｐｐｍ（２Ｈ）、３．９５ｐｐｍ、３．４３ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．７４ｐｐｍ、２．６１ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．６２ｐｐｍ（３Ｈ）、２．３５ｐｐｍ（１Ｈ）、２．３６ｐｐｍ（３Ｈ）、２．１８ｐｐｍ（１Ｈ）、１．７〜１．１ｐｐｍ（１６Ｈ）
ＦＴ−ＩＲ（ＫＢｒ）：３０８８ｃｍ−１、２９８０ｃｍ−１、２８７８ｃｍ−１、２８４０ｃｍ−１、１７６５ｃｍ−１、１６５８ｃｍ−１、１６２２ｃｍ−１、１５６０ｃｍ−１
ＬＣ−ＭＳ［Ｍ＋Ｈ］：ｍ／ｚ＝５７８
ＵＶ（λｍａｘ）：２５６ｎｍ，２８７ｎｍ
【０１３０】
＜［Ｃ］成分のアルカリ可溶性樹脂（共重合体）の合成例＞
［合成例Ｃ−１］（共重合体（Ｃ−１）の合成）
冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル５質量部及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２５０質量部を仕込み、続いてメタクリル酸１８質量部、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル２５質量部、スチレン５質量部、メタクリル酸２―ヒドロキシエチルエステル３０質量部、及びメタクリル酸ベンジル２２質量部を仕込んで、窒素置換した。次いで、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持して重合することにより、固形分濃度２８．８％の共重合体（Ｃ−１）溶液を得た。得られた共重合体（Ｃ−１）について、以下の装置及び条件を用いてＭｗを測定したところ、１３，０００であった。
装置：ＧＰＣ−１０１（昭和電工（株）製）
カラム：ＧＰＣ−ＫＦ−８０１、ＧＰＣ−ＫＦ−８０２、ＧＰＣ−ＫＦ−８０３及びＧＰＣ−ＫＦ−８０４を結合
移動相：テトラヒドロフラン
【０１３１】
＜光重合開始剤の有機溶剤に対する溶解度の評価＞
化合物（Ａ−１）〜（Ａ−６）及び化合物（Ｄ−１）（エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム：下記式（１２）で表される化合物）（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製の「イルガキュアＯＸＥ０２」）のＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）１００ｇ又はシクロヘキサノン１００ｇに対する２０℃での溶解度を測定した。結果を表１に示す。
【０１３２】
【化１３】
【０１３３】
【表１】
【０１３４】
＜感放射線性組成物の調製＞
［実施例７］
［Ａ］成分として実施例１の化合物（Ａ−１）１質量部（固形分）、［Ｂ］成分としてジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物（日本化薬（株）製の「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ」）１００質量部、［Ｆ］成分としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン５質量部及び［Ｇ］成分としてフッ素系界面活性剤（（株）ネオス製の「ＦＴＸ−２１８」）０．３質量部を混合し、固形分濃度が３０質量％となるようにジエチレングリコールエチルメチルエーテルに溶解させた後、孔径０．２μｍのメンブランフィルタでろ過して、実施例７の感放射線性組成物の溶液を調製した。
【０１３５】
［実施例８〜１６及び比較例１〜５］
［Ａ］〜［Ｇ］成分として、表１に記載のとおりの種類及び量を使用した他は、実施例１と同様にして実施例８〜１６及び比較例１〜５の感放射線性樹脂組成物の溶液を調製した。
【０１３６】
表１中、［Ｂ］、［Ｄ］、［Ｅ］、［Ｆ］及び［Ｇ］成分についての略号は、それぞれ次の化合物を意味する。
【０１３７】
Ｂ−１：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（（日本化薬（株）製の「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ」）
Ｂ−２：コハク酸変性ペンタエリスリトールトリアクリレート（東亞合成（株）製の「アロニックスＴＯ−７５６」）
Ｄ−１：エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製の「イルガキュアＯＸＥ０２」）
Ｄ−２：２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製の「イルガキュア３７９」）
Ｄ−３：２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製の「イルガキュア９０７」）
Ｅ−１：フェノールノボラック型エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン（株）製の「エピコート１５２」）
Ｅ−２：ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン（株）製の「エピコート１５７Ｓ６５」）
Ｆ−１：γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
Ｇ−１：フッ素系界面活性剤（（株）ネオス製の「ＦＴＸ−２１８」）
【０１３８】
＜感放射線性組成物及び硬化膜の特性評価＞
上記のようにして調製した実施例７〜１６及び比較例１〜５の感放射線性組成物、及びこれらから形成された硬化膜の評価を以下のように実施した。評価結果を表２に示す。
【０１３９】
（１）感放射線性組成物の放射線感度の評価
無アルカリガラス基板上に、感放射線性組成物の溶液をそれぞれスピンナーにより塗布した後、８０℃のホットプレート上で３分間プレベークすることにより、感放射線性組成物の被膜（膜厚４．０μｍ）を形成した。得られた被膜上に、直径１５μｍの丸状残しパターンを複数有するフォトマスクを使用して露光した。このとき、被膜表面とフォトマスクとの間に所定の間隙（露光ギャップ）を設けた。次いで、高圧水銀ランプを用い、上記フォトマスクを介して、露光量を変量しつつ被膜に露光を行った。続いて、濃度を０．０５質量％とした水酸化カリウム水溶液を用いて、２５℃にて２０秒の現像時間でシャワー法により現像した後、純水洗浄を１分間行い、さらにオーブン中２３０℃にて２０分間ポストベークすることにより、丸状パターンを形成した。ポストベーク後のこの丸状パターンの高さを、レーザー顕微鏡（キーエンス製ＶＫ−８５００）を用いて測定した。この値を下記式へ適用することで残膜率（％）を求めた。
残膜率（％）＝（ポストベーク後のパターン高さ／初期膜厚４．０μｍ）×１００
【０１４０】
この残膜率が９０％以上になる露光量を、感放射線性組成物の放射線感度とした。露光量が９００Ｊ／ｍ２以下の場合、放射線感度が良好であると言える。
【０１４１】
（２）硬化膜の透明性の評価
フォトマスクを使用せず、露光量を６００Ｊ／ｍ２とした以外は、上記「（１）感放射線性組成物の放射線感度の評価」と同様にして、ガラス基板（「ＮＡ３５（ＮＨテクノグラス（株）社製）」）上に硬化膜を形成した。分光光度計「１５０−２０型ダブルビーム（（株）日立製作所製）」を用い、この硬化膜を有するガラス基板の光線透過率を、保護膜を有さないガラス基板を参照側として４００〜８００ｎｍの範囲の波長で測定した。そのときの最低光線透過率の値を硬化膜の透明性の評価とした。この値が９５％以上のとき硬化膜の透明性は良好であると言える。
【０１４２】
（３）硬化膜の鉛筆硬度（表面硬度）の測定
上記「（２）硬化膜の透明性の評価」と同様に形成した硬化膜を有する基板について、ＪＩＳＫ−５４００−１９９０の８．４．１鉛筆引っかき試験により、硬化膜の鉛筆硬度（表面硬度）を測定した。この値が３Ｈ以上のとき、硬化膜の表面硬度は良好であると言える。
【０１４３】
【表２】
【０１４４】
表１に示されるように、実施例１〜６で合成された本発明の化合物（Ａ−１）〜（Ａ−６）は、溶媒であるＰＧＭＥＡ及びシクロヘキサノンのそれぞれに対して高い溶解性を有することがわかる。また、表２に示されるように、本発明の化合物（Ａ−１）〜（Ａ−６）を光重合開始剤として含有する実施例７〜１６の感放射線性組成物は、比較例１〜５と同等又は高い放射線感度を示し、得られる硬化膜の透明性及び表面硬度が優れていることが分かった。
【産業上の利用可能性】
【０１４５】
本発明の新規な化合物は、光重合開始剤として使用する場合に高い放射線感度を示すと共に優れた溶解性を有し、かつ高い透明性と充分な表面硬度を有する硬化膜を形成することが可能であるため、感放射線性組成物の成分として極めて有用である。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光重合開始剤として有用な新規化合物、この新規化合物を含む感放射線性組成物、この組成物から形成される硬化膜、及びこの形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
感放射線性組成物は、塗布プロセスによって硬化物を大量かつ容易に形成することができ、その硬化物の微細加工も容易である等の利点から、液晶デバイス、半導体デバイス作成用材料等の他、光硬化性インキ、感光性印刷版等にも広く使用されている。このような感放射線性組成物は、代表的には、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物及び光重合開始剤を含有する。上記硬化物形成プロセスでは、この感放射線性組成物をガラス基板等の上に塗布して被膜を形成し、次いで、この被膜に対し水銀ランプ等の光源を具備した露光装置で露光することにより、硬化物としての硬化膜を形成する。
【０００３】
このような感放射線性樹脂組成物において、水銀ランプの波長に対して優れた感度を有し、高い硬度を有する硬化膜を形成することができる光重合開始剤として種々のオキシムエステル化合物が開発されている（例えば、特表２００４−５３４７９７号公報、特開２００６−３０８０９号公報、特開２００８−１００９５５号公報等参照）。
【０００４】
しかしながら、上述のような従来のオキシムエステル化合物は、可視領域に若干の吸収帯を有するためか、これらを光重合開始剤として用いて得られた硬化膜は、透明性が十分であるとはいえない。そのため、このような硬化膜は、例えば液晶デバイス等の可視領域に高い透明性を必要とする硬化膜には適用できない場合がある。また、上記オキシムエステル化合物は、感放射線性樹脂組成物への溶解性も十分とはいえず、改善の余地がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特表２００４−５３４７９７号公報
【特許文献２】特開２００６−３０８０９号公報
【特許文献３】特開２００８−１００９５５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記のような事情に基づいてなされたものであり、光重合開始剤として使用する場合に高い放射線感度を有することに加え、高い透明性及び感放射線性組成物への優れた溶解性を備える化合物、高い透明性及び表面硬度を有する硬化膜及びこの形成方法、並びにこの硬化膜を形成可能な感放射線性組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するためになされた発明は、下記式（１）で示される化合物である。
【０００８】
【化１】
【０００９】
（式（１）において、Ｒ１は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数４〜２０の脂環式炭化水素基、炭素数１〜６のハロアルキル基、２−フリル基、２−フルフリル基、２−チエニル基、２−テニル基、フェニル基又はナフチル基であり、このフェニル基又はナフチル基の水素原子の一部又は全部が、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数４〜２０の脂環式炭化水素基である。
Ｒ４は、脂環式炭化水素基であり、この水素原子の一部又は全部が炭素数１〜１２のアルキル基で置換されていてもよい。）
【００１０】
当該化合物は、光重合開始剤として使用する場合に高い放射線感度を発現し、結果として、露光量が小さくても、正確なパターン及び十分な表面硬度を有する硬化膜を得ることができる。また、当該化合物は、上記式（１）で示される構造を有することから、可視光領域における吸収が少なく、透明性に優れており、光重合開始剤として使用する場合に高い透明性を有する硬化膜を得ることができる。さらには、当該化合物は、末端に嵩高い脂環式炭化水素基を有することから、結晶性が低く、感放射線性組成物に対して高い溶解性を有する。
【００１１】
当該化合物において、上記Ｒ１が、炭素数１〜８のアルキル基又はフェニル基であり、上記Ｒ２及びＲ３が、それぞれ独立して炭素数１〜８のアルキル基であり、上記Ｒ４が、１位に水素原子又は炭素数１〜４の直鎖状のアルキル基を有する炭素数４〜３０の脂環式炭化水素基であるとよい。このような構造を当該化合物に導入することにより、当該化合物の調製が容易となると共に、透明性及び感放射線性組成物への溶解性をより向上させることができ、加えて、感放射線性組成物の放射線感度及び得られる硬化物の硬度をより高めることができる。
【００１２】
本発明の感放射線性組成物は、［Ａ］光重合開始剤としての上記化合物、及び［Ｂ］エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物を含有する。このような感放射線性組成物は、上記化合物を含むことから、高い放射線感度及び透明性を有する。また、このような感放射線性組成物は、高い表面硬度及び透明性を有する硬化膜を形成することができる。
【００１３】
当該感放射線性組成物は、［Ｃ］成分としてアルカリ可溶性樹脂をさらに含有することが好ましい。当該感放射線性組成物がアルカリ可溶性樹脂を含有することによって、このアルカリ可溶性樹脂が現像工程において用いられるアルカリに対して可溶性を示し、その結果、高い現像性が発現され、正確なパターンを有する硬化膜を形成することができる。
【００１４】
本発明の硬化膜は上記感放射線性組成物から形成される。当該硬化膜は、上述のように優れた透明性及び高い硬度を備えている。
【００１５】
本発明の硬化膜は、
（１）上記感放射線性組成物の被膜を基板上に形成する工程、
（２）工程（１）で形成した被膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）工程（２）で放射線を照射された被膜を現像する工程、及び
（４）工程（３）で現像された被膜を加熱する工程
を含む方法により好適に形成することができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の新規な化合物は、光重合開始剤として使用する場合に高い放射線感度を有することに加え、高い透明性及び感放射線性組成物への優れた溶解性を有する。従って、本発明の化合物を含有する感放射線性組成物によれば、小さい露光量によって正確なパターンを形成することができ、この形成された硬化膜は、充分な表面硬度と優れた透明性を有するため、例えば液晶デバイス等の保護膜、絶縁膜等として好適に用いることができる。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
（新規化合物）
本発明の新規化合物は、上記式（１）で示される化合物である。
上記式（１）において、Ｒ１の炭素数１〜１２のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ドデシル基等の直鎖状のアルキル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ネオペンチル基、２−エチルヘキシル基等の分岐状のアルキル基等が挙げられる。これらの中では、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基等の炭素数１〜８のアルキル基が好ましく、炭素数１〜３のアルキル基が特に好ましい。
【００１８】
上記式（１）において、Ｒ１の炭素数４〜２０の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の単環式飽和炭化水素基、ノルボルニル基、アダマンチル基等の多環式飽和炭化水素基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロへプチニル基、シクロオクチニル基等の単環式不飽和炭化水素基、ノルボルネニル基等の多環式不飽和炭化水素基等が挙げられる。
【００１９】
上記式（１）において、Ｒ１の炭素数１〜６のハロアルキル基は、炭素数１〜６のアルキル基の水素原子の一部又は全部をハロゲン原子で置換した基であり、例えば、クロロメチル基、クロロエチル基、クロロプロピル基、クロロブチル基、クロロヘキシル基等が挙げられる。
【００２０】
上記式（１）において、Ｒ１のフェニル基又はナフチル基の水素原子と置換される炭素数１〜６のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基等が挙げられる。
【００２１】
上記式（１）において、Ｒ２及びＲ３の炭素数１〜１２のアルキル基及び炭素数４〜２０の脂環式炭化水素基としては、Ｒ１と同様の基が挙げられる。上記Ｒ２及びＲ３としては、それぞれ独立に、炭素数１〜８の直鎖状又は分岐状のアルキル基が好ましく、炭素数１〜４の直鎖状のアルキル基がさらに好ましい。
【００２２】
上記式（１）において、Ｒ４の脂環式炭化水素基としては、例えば、
シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の単環式飽和炭化水素基；
ノルボルニル基、ジノルボルニル基、トリノルボルニル基、アダマンチル基等の多環式飽和炭化水素基；
シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロへプチニル基、シクロオクチニル基等の単環式不飽和炭化水素基；
ノルボルネニル基、ジノルボルネニル基等の多環式不飽和炭化水素基
等が挙げられる。また、Ｒ４の脂環式炭化水素基の水素原子を置換する炭素数１〜１２のアルキル基としては、Ｒ１と同様の基が挙げられる。
【００２３】
上記Ｒ４としては、シクロヘキサン骨格、シクロヘキセン骨格、ノルボルナン骨格、ノルボルネン骨格、アダマンタン骨格等、カルボニル基と連結する炭素原子を含めて６員環を形成している脂環式炭化水素基が好ましい。
【００２４】
Ｒ４の具体例としては、下記式（２−１）〜（２−２０）で表される基が挙げられる。
【００２５】
【化２】
【００２６】
当該化合物は、末端の位置であるＲ４として、このように嵩高い脂環式炭化水素基を有することから結晶性が低く、感放射線性組成物に対して高い溶解性を示す。また、当該化合物はＲ４としてこのような脂環式炭化水素基を有するため、放射線に対する高い感度を備えつつ、可視光線に対する高い透過性を発揮することができる。
【００２７】
上記Ｒ４としては、１位に水素原子を有する脂環式炭化水素基（例えば、上記式（２−１）、（２−４）、（２−５）、（２−１０）、（２−１１）、（２−１４）、（２−２０）で表される基等）や、１位に炭素数１〜４の直鎖状のアルキル基を有する炭素数脂環式炭化水素基（例えば、上記式（２−２）、（２−３）、（２−６）〜（２−９）、（２−１２）、（２−１３）、（２−１５）〜（２−１７）で表される基等）も、合成が容易である点などから好ましい。ここで「１位」とは、Ｒ４において隣接するカルボニル基と結合する炭素原子の位置をいい、１位に水素原子又は直鎖状のアルキル基を有するとは、１位の炭素原子と結合する水素原子又は直鎖状のアルキル基を有することをいう。
【００２８】
上記式（１）で表される化合物の具体例としては、下記式（３）〜（１１）で表される化合物を挙げることができる。
【００２９】
【化３】
【００３０】
【化４】
【００３１】
【化５】
【００３２】
【化６】
【００３３】
【化７】
【００３４】
【化８】
【００３５】
【化９】
【００３６】
【化１０】
【００３７】
【化１１】
【００３８】
当該化合物において、上記Ｒ１が、炭素数１〜８のアルキル基又はフェニル基であり、上記Ｒ２及びＲ３が、それぞれ独立して炭素数１〜８のアルキル基であり、上記Ｒ４が、脂環式脂環式炭化水素基であるとよく、特に炭素数が４〜３０の脂環式炭化水素基であることが好ましい。このような立体構造を有した脂環式炭化水素基であることによって、Ｒ４が芳香族置換基の場合に比較して、合成時のジオキシムエステル化による副生成物の生成を抑制することが可能で、高純度で目的化合物を得ることができる。さらに、Ｒ４としてこのような脂環式炭化水素基を当該化合物に導入することにより、当該化合物の調製が容易となるとともに、透明性及び感放射線性組成物への溶解性をより向上させることができ、また、感放射線性組成物の放射線感度及び得られる硬化物の硬度を高めることができる。このような構造を有する化合物の具体例としては、上記式（３）〜（７）、（９）〜（１１）で表される化合物を挙げることができる。
【００３９】
当該化合物は、光重合開始剤として使用する場合に高い放射線感度を発現し、結果として、小さい露光量によって、正確なパターン及び十分な表面硬度を有する硬化膜を得ることができる。また、当該化合物は、末端に嵩高い脂環式炭化水素基を有することから結晶性が低く、感放射線性組成物に対して高い溶解性を示す。さらに、当該化合物は、上記式（１）で示される構造を有することから、可視光領域における吸収が少なく、透明性に優れており、当該化合物を光重合開始剤として使用する場合には、高い透明性を有する硬化膜を得ることができる。
【００４０】
（新規化合物の合成方法）
本発明の新規化合物の合成方法としては特に限定されず、公知の技術を組み合わせて合成することができ、例えば、以下の手順を挙げることができる。塩化アルミニウムの存在下、Ｒ４に対応する脂肪族炭化水素基を有するカルボン酸ハロゲン化物又は無水物等を３−アシル−９−アルキルカルバゾールと反応させ、ジケトン体を得る。このジケトン体をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドに溶解させ、塩基条件下、塩化ヒドロキシルアンモニウムにて非環状のアルキルケトン部分のみを選択的にオキシム化して、最後に、ヒドロキシル基をアセチル化することで目的の化合物を得ることができる。
【００４１】
上記Ｒ４に対応する脂肪族炭化水素基を有するカルボン酸ハロゲン化物としては、例えば、シクロヘキサンカルボン酸塩化物等のシクロアルカンカルボン酸塩化物、５−ノルボルネン−２−メチル−２−カルボン酸塩化物、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルカルボン酸塩化物、１−アダマンタンカルボン酸塩化物等の多環構造を有するカルボン酸塩化物等を挙げることができる。
【００４２】
（感放射線性組成物）
本発明の感放射線性組成物は、［Ａ］光重合開始剤としての上記化合物及び［Ｂ］エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物を含有すると共に、好適な成分として［Ｃ］アルカリ可溶性樹脂、及びその他の任意成分として［Ｄ］上記の［Ａ］成分以外の感放射線性重合開始剤（以下、単に「その他の感放射線性重合開始剤」ともいう）、［Ｅ］多官能エポキシ化合物、［Ｆ］密着助剤、［Ｇ］界面活性剤等を含有していてもよい。
【００４３】
（［Ａ］光重合開始剤）
当該感放射線性組成物に用いられる［Ａ］成分の光重合開始剤は、上記式（１）で表される化合物である。ここで、光重合開始剤とは、可視光線、紫外線、遠紫外線等の照射により、［Ｂ］成分の重合性化合物の重合を開始しうる活性種を発生することができる成分をいう。当該化合物については、上述のとおりであるから、ここでは説明を省略する。
【００４４】
（［Ｂ］エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物）
当該感放射線性組成物に用いられるエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物の好ましい例としては、単官能（メタ）アクリレート、２官能（メタ）アクリレート、又は３官能以上の（メタ）アクリレートを挙げることができる。当該感放射線性組成物中に、これらの化合物を用いることによって、透明性と表面硬度が高度にバランスされた硬化膜を形成することができる。
【００４５】
単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート等が挙げられる。これらの単官能（メタ）アクリレートの市販品の例としては、アロニックスＭ−１０１、同Ｍ−１１１、同Ｍ−１１４（東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＣ−１１０Ｓ、同ＴＣ−１２０Ｓ（日本化薬（株）製）、ビスコート１５８、同２３１１（大阪有機化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００４６】
２官能（メタ）アクリレートとしては、例えばエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの２官能（メタ）アクリレートの市販品としては、例えば、アロニックスＭ−２１０、同Ｍ−２４０、同Ｍ−６２００（東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤＤＡ、同ＨＸ−２２０、同Ｒ−６０４（日本化薬（株）製）、ビスコート２６０、同３１２、同３３５ＨＰ（大阪有機化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００４７】
３官能以上の（メタ）アクリレートとしては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリ（（メタ）アクリロイルオキシエチル）フォスフェート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ−［３−（３−（メタ）アクリロイルオキシ−２，２−ビス−（メタ）アクリロイルオキシメチル−プロポキシ）−２，２−ビス−（メタ）アクリロイルオキシメチル−プロピル］エステル、コハク酸変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの３官能以上の（メタ）アクリレートの市販品としては、例えばアロニックスＭ−３０９、同Ｍ−４００、同Ｍ−４０５、同Ｍ−４５０、同Ｍ−７１００、同Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０、同ＴＯ−７５６（東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＭＰＴＡ、同ＤＰＨＡ、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰＣＡ−１２０（日本化薬（株）製）、ビスコート２９５、同３００、同３６０、同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（大阪有機化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００４８】
これらのエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物のうち、感放射線性組成物の硬化性の観点から、３官能以上の（メタ）アクリレートが好ましく用いられる。その中でも、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、コハク酸モノ−［３−（３−（メタ）アクリロイルオキシ−２，２−ビス−（メタ）アクリロイルオキシメチル−プロポキシ）−２，２−ビス−（メタ）アクリロイルオキシメチル−プロピル］エステル、コハク酸変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートが特に好ましい。これらのエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
【００４９】
当該感放射線性組成物における［Ｂ］成分のエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物の使用量は、特に限定されるものではないが、［Ａ］成分の光重合開始剤１質量部に対して、好ましくは１０〜２００質量部、より好ましくは２０〜１５０質量部である。このような重合性化合物の使用量を上記範囲とすることによって、放射線感度、及び得られる硬化膜の透明性が高度にバランスされた感放射線性組成物を得ることができる。
【００５０】
（［Ｃ］アルカリ可溶性樹脂）
当該感放射線性組成物に含有されてもよい［Ｃ］アルカリ可溶性樹脂としては、当該成分を含む感放射線性組成物の現像処理工程において用いられるアルカリ現像液に対して可溶性を示すものであれば、特に限定されるものではない。このようなアルカリ可溶性樹脂としては、カルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂が好ましく、（ａ１）不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群より選択される少なくとも１種（以下、「化合物（ａ１）」という。）と、（ａ２）（ａ１）以外の不飽和化合物（以下、「化合物（ａ２）」という。）との共重合体（以下、共重合体［α］という。）が特に好ましい。
【００５１】
化合物（ａ１）の具体例としては、
アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、２−アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸等のモノカルボン酸；
マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸等のジカルボン酸；
上記ジカルボン酸の酸無水物等を挙げることができる。
【００５２】
これらの化合物（ａ１）のうち、共重合反応性や得られる共重合体のアルカリ現像液に対する溶解性の観点から、アクリル酸、メタクリル酸、２−アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸、無水マレイン酸等が好ましい。
【００５３】
共重合体［α］において、化合物（ａ１）は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。共重合体［α］において、化合物（ａ１）に由来する繰り返し単位の含有率は、好ましくは５〜６０質量％、さらに好ましくは７〜５０質量％、特に好ましくは８〜４０質量％である。化合物（ａ１）に由来する繰り返し単位の含有率を５〜６０質量％とすることによって、放射線感度及び現像性等の諸特性がより高いレベルでバランスされた感放射線性組成物が得られる。
【００５４】
化合物（ａ２）の具体例としては、
アクリル酸メチル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸ｉ−プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル等のアクリル酸アルキルエステル；
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸ｉ−プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｓｅｃ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル等のメタクリル酸アルキルエステル；
アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸２−メチルシクロヘキシル、アクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル、アクリル酸２−（トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルオキシ）エチル、アクリル酸イソボロニル等のアクリル酸脂環式エステル；
メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸２−メチルシクロヘキシル、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル、メタクリル酸２−（トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルオキシ）エチル、メタクリル酸イソボロニル等のメタクリル酸脂環式エステル；
アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル等のアクリル酸のアリールエステルあるいはアラルキルエステル；
メタクリル酸２−ヒドロキシエチルエステル、メタクリル酸３−ヒドロキシプロピルエステル等のメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステル類；
メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル等のメタクリル酸のアリールエステルあるいはアラルキルエステル；
【００５５】
マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル等の不飽和ジカルボン酸ジアルキルエステル；
アクリル酸テトラヒドロフラン−２−イル、アクリル酸テトラヒドロピラン−２−イル、アクリル酸２−メチルテトラヒドロピラン−２−イル等の含酸素複素５員環あるいは含酸素複素６員環を有するアクリル酸エステル；
メタクリル酸テトラヒドロフラン−２−イル、メタクリル酸テトラヒドロピラン−２−イル、メタクリル酸２−メチルテトラヒドロピラン−２−イル等の含酸素複素５員環あるいは含酸素複素６員環を有するメタクリル酸エステル；
スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等のビニル芳香族化合物；
１，３−ブタジエン、イソプレン等の共役ジエン系化合物；
その他、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド等を挙げることができる。
【００５６】
これらの化合物（ａ２）のうち、共重合反応性の観点から、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル、スチレン、ｐ−メトキシスチレン、メタクリル酸テトラヒドロフラン−２−イル、１，３−ブタジエン、メタクリル酸２−ヒドロキシエチルエステル等が好ましい。
【００５７】
共重合体［α］において、化合物（ａ２）は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。共重合体［α］において、化合物（ａ２）に由来する繰り返し単位の含有率は、好ましくは１０〜７０質量％、さらに好ましくは２０〜５０質量％、特に好ましくは３０〜５０質量％である。化合物（ａ２）の繰り返し単位の含有率を１０〜７０質量％とすることによって、共重合体の分子量の制御が容易となり、現像性、放射線感度等がより高いレベルでバランスされた感放射線性組成物が得られる。
【００５８】
共重合体［α］は、適当な溶媒中、ラジカル重合開始剤の存在下で構成成分の単量体を重合することにより製造することができる。このような重合に用いられる溶媒としては、ジエチレングリコールアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、アルコキシプロピオン酸アルキル、酢酸エステル等が好ましい。これらの溶媒は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
【００５９】
また、上記ラジカル重合開始剤としては、特に限定されるものではなく、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス−（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、４，４’−アゾビス（４―シアノバレリン酸）、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物を挙げることができる。これらのラジカル重合開始剤は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
【００６０】
共重合体［α］のゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算質量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、好ましくは２，０００〜１００，０００、より好ましくは５，０００〜５０，０００である。共重合体［α］のＭｗを２，０００〜１００，０００とすることによって、現像性、放射線感度等がより高いレベルでバランスされた感放射線性組成物、並びに耐熱性が高い硬化膜を得ることができる。
【００６１】
当該感放射線性組成物における［Ｃ］成分のアルカリ可溶性樹脂の使用量は、［Ａ］成分の光重合開始剤１質量部に対して、好ましくは１０〜２００質量部、より好ましくは２０〜１５０質量部である。アルカリ可溶性樹脂の使用量を上記範囲とすることによって、現像性に優れた感放射線性組成物を得ることができる。
【００６２】
（［Ｄ］その他の感放射線性重合開始剤）
当該感放射線性組成物には、［Ａ］成分以外に、［Ｄ］成分として、その他の感放射線性重合開始剤を加えることができる。感放射線性重合開始剤としては、放射線に感応してエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物の重合を開始しうる活性種を生じる成分である限り、特に限定されるものではない。このようなその他の感放射線性重合開始剤の例としては、Ｏ−アシルオキシム化合物、アセトフェノン化合物、ビイミダゾール化合物等を挙げることができる。
【００６３】
上記Ｏ−アシルオキシム化合物の具体例としては、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、１−〔９−エチル−６−ベンゾイル−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−オクタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート、１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾエート、１−〔９−ｎ−ブチル−６−（２−エチルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾエート、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル｝−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等が挙げられる（ただし、［Ａ］成分を除く）。
【００６４】
これらのうちで、好ましいＯ−アシルオキシム化合物としては、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル｝−９．Ｈ．−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）を挙げることができる。これらのＯ−アシルオキシム化合物は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
【００６５】
上記アセトフェノン化合物としては、例えばα−アミノケトン化合物、α−ヒドロキシケトン化合物を挙げることができる。
【００６６】
α−アミノケトン化合物の具体例としては、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等を挙げることができる。
【００６７】
α−ヒドロキシケトン化合物の具体例としては、１−フェニル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ｉ−プロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等を挙げることができる。
【００６８】
これらのアセトフェノン化合物のうちα−アミノケトン化合物が好ましく、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オンが特に好ましい。これらのアセトフェノン化合物は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
【００６９】
上記ビイミダゾール化合物の具体例としては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール等を挙げることができる。
【００７０】
これらのビイミダゾール化合物のうち、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールが好ましく、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールが特に好ましい。これらのビイミダゾール化合物は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
【００７１】
本発明の感放射線性組成物において、［Ｄ］成分の感放射線性重合開始剤としてビイミダゾール化合物を使用する場合、これを増感するために、ジアルキルアミノ基を有する脂肪族又は芳香族化合物（以下、「アミノ系増感剤」という。）を添加することができる。
【００７２】
かかるアミノ系増感剤としては、例えば４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等を挙げることができる。これらのアミノ系増感剤のうち、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが特に好ましい。上記アミノ系増感剤は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
【００７３】
さらに、当該感放射線性組成物においてビイミダゾール化合物とアミノ系増感剤とを併用する場合、水素ラジカル供与剤としてチオール化合物を添加することができる。ビイミダゾール化合物は、アミノ系増感剤によって増感されて開裂し、イミダゾールラジカルを発生するが、そのままでは高い重合開始能が発現しない場合がある。しかし、ビイミダゾール化合物とアミノ系増感剤とが共存する系に、チオール化合物を添加することにより、イミダゾールラジカルにチオール化合物から水素ラジカルが供与される。その結果、イミダゾールラジカルが中性のイミダゾールに変換されると共に、重合開始能の高い硫黄ラジカルを有する成分が発生し、それにより低放射線照射量であっても表面硬度の高い硬化膜を形成することができる。
【００７４】
かかるチオール化合物の具体例としては、
２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプト−５−メトキシベンゾチアゾール等の芳香族チオール化合物；
３−メルカプトプロピオン酸、３−メルカプトプロピオン酸メチル等の脂肪族モノチオール化合物；
ペンタエリストールテトラ（メルカプトアセテート）、ペンタエリストールテトラ（３−メルカプトプロピオネート）等の２官能以上の脂肪族チオール化合物を挙げることができる。これらのチオール化合物の中でも、２−メルカプトベンゾチアゾールが特に好ましい。
【００７５】
ビイミダゾール化合物とアミノ系増感剤とを併用する場合、アミノ系増感剤の使用量としては、ビイミダゾール化合物１００質量部に対して、好ましくは０．１〜５０質量部であり、より好ましくは１〜２０質量部である。アミノ系増感剤の使用量を０．１〜５０質量部とすることによって、感放射線性組成物の露光時の硬化反応性が向上し、得られる硬化膜の表面硬度を高めることができる。
【００７６】
また、ビイミダゾール化合物、アミノ系増感剤及びチオール化合物を併用する場合、チオール化合物の使用量としては、ビイミダゾール化合物１００質量部に対して、好ましくは０．１〜５０質量部であり、より好ましくは１〜２０質量部である。チオール化合物の使用量を０．１〜５０質量部とすることによって、得られる硬化膜の表面硬度を改善することができる。
【００７７】
当該感放射線性組成物は、［Ｄ］成分の感放射線性重合開始剤として、Ｏ−アシルオキシム化合物及びアセトフェノン化合物からなる群より選択される少なくとも１種を含有することが好ましい。また、当該感放射線性組成物は、［Ｄ］成分の感放射線性重合開始剤として、Ｏ−アシルオキシム化合物及びアセトフェノン化合物からなる群より選択される少なくとも１種、並びにビイミダゾール化合物を含有するものであってもよい。
【００７８】
当該感放射線性組成物における［Ｄ］成分の感放射線性重合開始剤の使用量は、［Ａ］成分１質量部に対して、好ましくは０．０５〜１０質量部、より好ましくは０．１〜５質量部である。［Ｄ］成分の使用量を上記範囲とすることによって、当該感放射線性組成物は、低露光量の場合でも、高い放射線感度を示し、充分な表面硬度を有する硬化膜を形成することができる。
【００７９】
（［Ｅ］多官能エポキシ化合物）
［Ｅ］多官能エポキシ化合物は、重合反応性を高め、感放射線性組成物から形成される硬化膜の表面硬度をより向上させるために、感放射線性組成物に添加することができる。多官能エポキシ化合物としては、１分子中に２個以上のエポキシ基を有するカチオン重合性化合物が用いられる。
【００８０】
このような１分子中に２個以上のエポキシ基を有するカチオン重合性化合物の具体例としては、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡＤジグリシジルエーテル等のビスフェノールのポリグリシジルエーテル類；１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに１種又は２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールの脂肪族ポリグリシジルエーテル類；１分子中に２個以上の３，４−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物；ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂等のフェノールノボラック型エポキシ樹脂；クレゾールノボラック型エポキシ樹脂；ポリフェノール型エポキシ樹脂；環状脂肪族エポキシ樹脂；脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；高級脂肪酸のグリシジルエステル類；エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油等を挙げることができる。これらの１分子中に２個以上のエポキシ基を有するカチオン重合性化合物のうち、フェノールノボラック型エポキシ樹脂及びポリフェノール型エポキシ樹脂が好ましい。
【００８１】
１分子中に２個以上の３，４−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物の具体例としては、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、ラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等を挙げることができる。
【００８２】
１分子中に２個以上のエポキシ基を有する化合物の市販品としては、例えばビスフェノールＡ型エポキシ樹脂として、エピコート１００１、同１００２、同１００３、同１００４、同１００７、同１００９、同１０１０、同８２８（ジャパンエポキシレジン（株）製）；ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂として、エピコート８０７（ジャパンエポキシレジン（株）製）；フェノールノボラック型エポキシ樹脂（ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂等）として、エピコート１５２、同１５４、同１５７Ｓ６５（ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（日本化薬（株）製）；クレゾールノボラック型エポキシ樹脂として、ＥＯＣＮ１０２、同１０３Ｓ、同１０４Ｓ、１０２０、１０２５、１０２７（日本化薬（株）製）、エピコート１８０Ｓ７５（ジャパンエポキシレジン（株）製）；ポリフェノール型エポキシ樹脂として、エピコート１０３２Ｈ６０、同ＸＹ−４０００（ジャパンエポキシレジン（株）製）；環状脂肪族エポキシ樹脂として、ＣＹ−１７５、同１７７、同１７９、アラルダイトＣＹ−１８２、同１９２、１８４（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）、ＥＲＬ−４２３４、４２９９、４２２１、４２０６（Ｕ．Ｃ．Ｃ社製）、ショーダイン５０９（昭和電工（株）製）、エピクロン２００、同４００（大日本インキ（株）製）、エピコート８７１、同８７２（ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＤ−５６６１、同５６６２（セラニーズコーティング社製）；脂肪族ポリグリシジルエーテルとして、エポライト１００ＭＦ（共栄社化学（株）製）、エピオールＴＭＰ（日本油脂（株）製）が挙げられる。
【００８３】
これらの［Ｅ］成分の多官能エポキシ化合物は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。当該感放射線性組成物における［Ｅ］成分の多官能エポキシ化合物の使用量は、［Ａ］成分の光重合開始剤１質量部に対して、好ましくは０．０５〜１０質量部であり、より好ましくは０．１〜５質量部である。［Ｅ］成分の使用量を０．０５〜１０質量部とすることによって、重合反応性を向上させると共に、形成される硬化膜の表面硬度を高度なレベルに保つことができる。
【００８４】
（［Ｆ］密着助剤）
［Ｆ］成分の密着助剤は、得られる硬化膜と基板との密着性をさらに向上させるために使用することができる。このような密着助剤としては、カルボキシル基、メタクリロイル基、ビニル基、イソシアネート基、オキシラニル基等の反応性官能基を有する官能性シランカップリング剤が好ましい。密着助剤の具体例としては、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等を挙げることができる。これらの密着助剤は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
【００８５】
当該感放射線性組成物における［Ｆ］成分の密着助剤の使用量は、［Ａ］成分１質量部に対して、０．０５〜１０質量部であり、より好ましくは０．０５〜８質量部である。密着助剤の使用量を上記範囲とすることによって、基板に対する硬化膜の密着性を改善しつつ、パターン形成能を高いレベルに保つことができる。
【００８６】
（［Ｇ］界面活性剤）
［Ｇ］成分の界面活性剤は、感放射線性組成物の被膜形成性をより向上させるために使用することができる。このような界面活性剤としては、例えばフッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、及びその他の界面活性剤を挙げることができる。
【００８７】
フッ素系界面活性剤としては、末端、主鎖及び側鎖の少なくともいずれかの部位にフルオロアルキル基及び／又はフルオロアルキレン基を有する化合物が好ましい。フッ素系界面活性剤の例としては、１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−オクチル（１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−プロピル）エーテル、１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−オクチル（ｎ−ヘキシル）エーテル、ヘキサエチレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロ−ｎ−ペンチル）エーテル、オクタエチレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−ブチル）エーテル、ヘキサプロピレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロ−ｎ−ペンチル）エーテル、オクタプロピレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフルオロ−ｎ−ブチル）エーテル、パーフルオロ−ｎ−ドデカンスルホン酸ナトリウム、１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロ−ｎ−デカン、１，１，２，２，３，３，９，９，１０，１０−デカフルオロ−ｎ−ドデカン、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキルリン酸ナトリウム、フルオロアルキルカルボン酸ナトリウム、ジグリセリンテトラキス（フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル）、フルオロアルキルアンモニウムヨージド、フルオロアルキルベタイン、他のフルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、パーフルオロアルキルポリオキシエタノール、パーフルオロアルキルアルコキシレート、カルボン酸フルオロアルキルエステル等を挙げることができる。
【００８８】
フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００（以上、ＢＭ ＣＨＥＭＩＥ社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８３、同Ｆ１７８、同Ｆ１９１、同Ｆ４７１、同Ｆ４７６（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ−１７０Ｃ、同−１７１、同−４３０、同−４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−１１２、同−１１３、同−１３１、同−１４１、同−１４５、同−３８２、サーフロンＳＣ−１０１、同−１０２、同−１０３、同−１０４、同−１０５、同−１０６（以上、旭硝子（株）製）、エフトップＥＦ３０１、同３０３、同３５２（以上、新秋田化成（株）製）、フタージェントＦＴ−１００、同−１１０、同−１４０Ａ、同−１５０、同−２５０、同−２５１、同−３００、同−３１０、同−４００Ｓ、フタージェントＦＴＸ−２１８、同−２５１（以上、（株）ネオス製）等を挙げることができる。
【００８９】
シリコーン系界面活性剤の具体例としては、市販されている商品名で、例えばトーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＤＣ７ＰＡ、同ＳＨ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、同ＳＨ−１９０、同ＳＨ−１９３、同ＳＺ−６０３２、同ＳＦ−８４２８、同ＤＣ−５７、同ＤＣ−１９０、ＳＨ ８４００ ＦＬＵＩＤ（以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）、ＴＳＦ−４４４０、ＴＳＦ−４３００、ＴＳＦ−４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ−４４６０、ＴＳＦ−４４５２（以上、ＧＥ東芝シリコーン（株）製）、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）等を挙げることができる。
【００９０】
これらの［Ｇ］成分の界面活性剤は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。当該感放射線性組成物における［Ｇ］成分の界面活性剤の使用量は、［Ａ］成分１質量部に対して、０．００１〜１質量部であり、より好ましくは０．００５〜０．５質量部である。界面活性剤の使用量を上記範囲とすることによって、基板上に被膜を形成する際の塗布ムラを低減することができる。
【００９１】
（感放射線性組成物の調製）
本発明の感放射線性組成物は、上記の［Ａ］光重合開始剤、及び［Ｂ］エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物、並びに上記のような任意的に添加されるその他の成分を均一に混合することによって調製される。この感放射線性組成物は、好ましくは適当な溶媒に溶解されて溶液状態で用いられる。例えば、［Ａ］光重合開始剤及び［Ｂ］エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物、並びに任意的に添加されるその他の成分を、溶媒中において所定の割合で混合することにより、溶液状態の感放射線性組成物を調製することができる。
【００９２】
当該感放射線性組成物の調製に用いられる溶媒としては、［Ａ］光重合開始剤、及び［Ｂ］エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物、並びにその他の任意成分の各成分を均一に溶解すると同時に、各成分と反応しないものが用いられる。このような溶媒としては、［Ｃ］アルカリ可溶性樹脂を製造するために使用できる溶媒として上で例示したものと同様のものを挙げることができる。
【００９３】
このような溶媒のうち、各成分の溶解性、各成分との非反応性、被膜形成の容易性等の観点から、例えば、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、シクロヘキサノールアセテート、ベンジルアルコール、３−メトキシブタノールを特に好ましく使用することができる。これらの溶媒は、一種のみを単独で使用してもよいし、二種以上を混合して使用してもよい。
【００９４】
当該感放射線性組成物を溶液状態として調製する場合、固形分濃度（組成物溶液中に占める溶媒以外の成分、すなわち上記の［Ａ］成分及び［Ｂ］成分並びにその他の任意成分の合計量の割合）は、使用目的や所望の膜厚の値等に応じて任意の濃度（例えば５〜５０質量％）に設定することができる。こうして調製された感放射線性組成物の溶液は、孔径０．２〜０．５μｍ程度のミリポアフィルタ等を用いてろ過した後、使用に供することもできる。
【００９５】
（硬化膜）
本発明の感放射線性組成物から形成された硬化膜は、後述の実施例からも明らかなように、高い表面硬度及び優れた透明性を有する。このような硬化膜は、高い表面硬度や透明性を要する技術用途に好適に用いることができ、例えば液晶デバイスや半導体デバイスの保護膜、絶縁膜及びパターン形成用材料として好適に用いることができる。
【００９６】
（硬化膜の形成方法）
次に、本発明の感放射線性組成物を用いて硬化膜を形成する方法について説明する。当該感放射線性組成物を用いた硬化膜の形成方法は、少なくとも下記の工程（１）〜（４）を下記に記載の順で含むことを特徴とするものである。工程（３）は、パターン形成が必要な場合において行うことができる。
【００９７】
すなわち、硬化膜の形成方法は、
（１）本発明の感放射線性組成物の被膜を基板上に形成する工程、
（２）工程（１）で形成した被膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）工程（２）で放射線を照射された被膜を現像する工程、及び
（４）工程（３）で現像された被膜を加熱する工程を含む。
【００９８】
以下、これらの各工程について順次説明する。
【００９９】
（１）本発明の感放射線性組成物の被膜を基板上に形成する工程
ここで用いられる基板としては特に限定されず、透明基板や金属基板等が挙げられる。この透明基板としては、例えばガラス基板、樹脂基板等を挙げることができ、その具体例としては、ソーダライムガラス、無アルカリガラス等のガラス基板；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリイミド等のプラスチックからなる樹脂基板を挙げることができる。このような透明基板の片面に透明導電膜を形成し、該透明導電膜の上に感放射線性組成物の被膜を形成することができる。
【０１００】
上記透明基板の片面に設けられる透明導電膜としては、酸化スズ（ＳｎＯ２）からなるＮＥＳＡ膜（米国ＰＰＧ社の登録商標）、酸化インジウム−酸化スズ（Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２）からなるＩＴＯ膜等を挙げることができる。
【０１０１】
塗布法により被膜を形成する場合、透明導電膜上に感放射線性組成物の溶液を塗布した後、好ましくは塗布面を加熱（プレベーク）することによって被膜を形成することができる。塗布法に用いる組成物溶液の固形分濃度は、好ましくは５〜５０質量％であり、より好ましくは１０〜４０質量％であり、さらに好ましくは１５〜３５質量％である。組成物溶液の塗布方法としては、特に限定されず、例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法（スピンコート法）、スリットダイ塗布法、バー塗布法、インクジェット塗布法等の適宜の方法を採用することができる。これらの塗布方法の中でも、特にスピンコート法又はスリットダイ塗布法が好ましい。
【０１０２】
上記プレベークの条件は、各成分の種類や配合割合等によっても異なるが、好ましくは７０〜１２０℃で１〜１５分間程度である。プレベーク後の被膜の膜厚としては、好ましくは０．５〜１０μｍであり、より好ましくは１．０〜７．０μｍ程度である。
【０１０３】
（２）工程（１）で形成した被膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程
次いで、形成された被膜の少なくとも一部に放射線を照射する。このとき、被膜の一部にのみ照射する際には、例えば所定のパターンを有するフォトマスクを介して照射する方法によることができる。
【０１０４】
照射に使用される放射線としては、可視光線、紫外線、遠紫外線等を挙げることができる。このうち波長が２５０〜５５０ｎｍの範囲にある放射線が好ましい。
【０１０５】
放射線照射量（露光量）は、照射される放射線の波長３６５ｎｍにおける強度を照度計（ＯＡＩ ｍｏｄｅｌ ３５６、Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ Ｉｎｃ．製）により測定した値として、好ましくは１００〜５，０００Ｊ／ｍ２、より好ましくは２００〜３，０００Ｊ／ｍ２である。
【０１０６】
（３）工程（２）で放射線を照射された被膜を現像する工程
次に、放射線照射後の被膜を現像することにより、不要な部分を除去して、所定のパターンを形成する。
【０１０７】
現像に使用される現像液としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム等の無機アルカリ、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の４級アンモニウム塩等のアルカリ（塩基性化合物）の水溶液を使用することができる。これらのアルカリ水溶液には、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒及び／又は界面活性剤を適当量添加して使用することもできる。アルカリ水溶液におけるアルカリの濃度は、適当な現像性を得る観点から、好ましくは０．１質量％以上５質量％以下とすることができる。現像方法としては、液盛り法、ディッピング法、シャワー法等のいずれでもよく、現像時間は、常温で１０〜１８０秒間程度とすることが好ましい。
【０１０８】
（４）工程（３）で現像された被膜を加熱する工程
上記現像処理の後、パターニングされた被膜に対して、好ましくは流水洗浄を３０〜９０秒間行った後、圧縮空気や圧縮窒素で風乾することができる。次いで、得られたパターン状の被膜を、ホットプレート、オーブン等の適当な加熱装置により、所定温度、例えば１００〜２５０℃で、所定時間、例えばホットプレート上では５〜３０分間、オーブン中では３０〜１８０分間、加熱（ポストベーク）することにより、高い表面硬度を有する硬化膜を得ることができる。
【実施例】
【０１０９】
以下、合成例及び実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【０１１０】
＜［Ａ］成分の化合物（光重合開始剤）の合成例＞
［実施例１］（化合物（Ａ−１）の合成）
下記合成スキームに従って、最終生成物としての化合物（Ａ−１）（上記式（３）で表される化合物）を合成した。
【０１１１】
【化１２】
【０１１２】
ステップ（Ｉ）：中間体（ａ）の合成
３００ｍｌのナス型フラスコに、５−ノルボルネン−２−カルボン酸８．５ｇ（６１．５ｍｍｏｌ）を加え、エタノール６０ｍｌに溶解し、窒素置換を行なった。次いで、５％パラジウム−カーボン０．５ｇを加えた後、４０℃、常圧にて、水素による接触還元を行なった。１６時間攪拌した後、吸引ろ過装置にろ紙及びセライトをのせ、吸引ろ過を行なった。ろ液を減圧留去し、中間体（ａ）を８．６ｇ得た。
【０１１３】
この中間体（ａ）の１Ｈ−ＮＭＲを測定したところ、以下の通りであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）化学シフトδ：２．７４ｐｐｍ、２．６０ｐｐｍ、（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．３６ｐｐｍ（１Ｈ）、２．０６ｐｐｍ（１Ｈ）、１．７〜１．２ｐｐｍ（８Ｈ）
【０１１４】
ステップ（ＩＩ）：中間体（ｂ）の合成
３００ｍｌのナス型フラスコに、中間体（ａ）１４ｇ（１０ｍｍｏｌ）及び塩化チオニル１６ｍｌ（２２０ｍｍｏｌ）を加え、室温２５℃にて攪拌し、次いで、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド０．１ｍｌを加え、さらに２０時間攪拌した。反応液を減圧留去し、中間体（ｂ）を１５．９ｇ得た。
【０１１５】
ステップ（ＩＩＩ）：中間体（ｃ）の合成
１０００ｍｌのナス型フラスコに、３−アセチル−９−エチルカルバゾール２４ｇ（１０１ｍｍｏｌ）を加え、塩化メチレン４００ｍｌに溶解し、この溶液に塩化アルミニウム４３ｇ（３５０ｍｍｏｌ）を添加した後氷冷し、１０℃まで反応液温度を降温させた。この反応液に対して、中間体（ｂ）３５ｇ（２２０ｍｏｌ）を塩化メチレン５０ｍｌに溶解し、滴下した。滴下中は、反応液温度を１０〜２０℃に保持した。滴下終了後、反応液を２０℃で２０時間攪拌した。反応液を氷水１５０ｇ中にクエンチして攪拌し、更に水２００ｍｌ加え、クロロホルム２００ｍｌで３回抽出した。有機層を集め、飽和炭酸水素ナトリウムで洗浄、次いで、蒸留水で洗浄し、溶媒を減圧留去し、粗生成物を得た。この粗成生物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、中間体（ｃ）２５．５ｇ得た。
【０１１６】
この化合物の１Ｈ−ＮＭＲを測定したところ、以下の通りであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）化学シフトδ：８．８０ｐｐｍ、８．７６ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．５７ｐｐｍ、８．５４ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．２１ｐｐｍ、８．１８ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．９７ｐｐｍ、７．９５ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．４４ｐｐｍ（２Ｈ）、４．４０ｐｐｍ（２Ｈ）、３．９２ｐｐｍ、３．４０ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．７４ｐｐｍ、２．６０ｐｐｍ、（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．３６ｐｐｍ（１Ｈ）、２．３０ｐｐｍ（３Ｈ）、２．０６ｐｐｍ（１Ｈ）、１．７〜１．２ｐｐｍ（１０Ｈ）
【０１１７】
ステップ（ＩＶ）：中間体（ｄ）の合成
５００ｍｌのナス型フラスコに、中間体（ｃ）２５．５ｇ（７０．９ｍｍｏｌ）を加えジメチルアセトアミド２５０ｍｌに溶解し、水酸化ナトリウム４．５ｇ（１１２ｍｍｏｌ）を加え、６５℃で１時間攪拌した。次いで、この反応液に塩化ヒドロキシルアンモニウム９．０ｇ（１２５ｍｍｏｌ）を加え９０℃に昇温させ、この温度で１時間攪拌した。次いで、反応液を室温まで冷却し、蒸留水２００ｍｌを加え、酢酸エチル２００ｍｌで３回抽出した。有機層を集め、蒸留水２００ｍｌで洗浄し、有機層を減圧留去し、中間体（ｄ）を得た。
【０１１８】
ステップ（Ｖ）：化合物（Ａ−１）の合成
５００ｍｌのナス型フラスコに、中間体（ｄ）２５．５ｇ（７０．９ｍｍｏｌ）を加え酢酸ｎ−ブチル１００ｍｌに溶解し、無水酢酸１０ｇ（９８ｍｍｏｌ）を加え、９０℃で１時間攪拌した。反応液を室温まで冷却し、水２００ｍｌを加え、有機層を抽出し、さらに酢酸ｎ−ブチル１００ｍｌで２回抽出した。この有機層をまとめ、蒸留水２００ｍｌで洗浄し、減圧留去して粗生成物を得た。この粗成生物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、化合物（Ａ−１）２１．１ｇを得た。
【０１１９】
この化合物の１Ｈ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲ、質量分析、ＵＶを測定したところ、以下の通りであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）化学シフトδ：８．８０ｐｐｍ、８．７６ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．５７ｐｐｍ、８．５４ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．２１ｐｐｍ、８．１８ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．９７ｐｐｍ、７．９５ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．４４ｐｐｍ（２Ｈ）、４．４０ｐｐｍ（２Ｈ）、３．９２ｐｐｍ、３．４０ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．７４ｐｐｍ、２．６０ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．５３ｐｐｍ（３Ｈ）、２．３６ｐｐｍ（１Ｈ）、２．３０ｐｐｍ（３Ｈ）、２．０６ｐｐｍ（１Ｈ）、１．７〜１．２ｐｐｍ（１０Ｈ）
ＦＴ−ＩＲ（ＫＢｒ）：３０７２ｃｍ−１、２９５６ｃｍ−１、２８６９ｃｍ−１、２８２１ｃｍ−１、１７６４ｃｍ−１、１６６６ｃｍ−１、１６２７ｃｍ−１、１５９２ｃｍ−１
ＬＣ−ＭＳ［Ｍ＋Ｈ］：ｍ／ｚ＝４１７
ＵＶ（λｍａｘ）：２５８ｎｍ，２９２ｎｍ
【０１２０】
［実施例２］（化合物（Ａ−２）の合成）
上記化合物（Ａ−１）の合成スキームにおけるステップ（Ｉ）において、水素による接触還元を行わなかったこと以外は、実施例１と同様にして行い、実施例２の化合物（Ａ−２）（上記式（４）で表される化合物）を得た。
【０１２１】
化合物（Ａ−２）の１Ｈ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲ、質量分析、ＵＶを測定したところ、以下の通りであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）化学シフトδ：８．８１ｐｐｍ、８．７５ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．５７ｐｐｍ、８．５４ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．２３ｐｐｍ、８．１４ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．９６ｐｐｍ、７．９５ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．４４ｐｐｍ（２Ｈ）、５．９８ｐｐｍ（２Ｈ）、４．４０ｐｐｍ（２Ｈ）、３．９４ｐｐｍ、３．４０ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．７７ｐｐｍ、２．６４ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．５４ｐｐｍ（３Ｈ）、２．３７ｐｐｍ（１Ｈ）、２．３０ｐｐｍ（３Ｈ）、２．０６ｐｐｍ（１Ｈ）、１．７〜１．２ｐｐｍ（８Ｈ）
ＦＴ−ＩＲ（ＫＢｒ）：３０７５ｃｍ−１、２９５０ｃｍ−１、２８６０９ｃｍ−１、２８２８ｃｍ−１、１７７０ｃｍ−１、１６５８ｃｍ−１、１６１５ｃｍ−１、１５８４ｃｍ−１
ＬＣ−ＭＳ［Ｍ＋Ｈ］：ｍ／ｚ＝４１５
ＵＶ（λｍａｘ）：２６５ｎｍ，２９８ｎｍ
【０１２２】
［実施例３］（化合物（Ａ−３）の合成）
上記化合物（Ａ−１）の合成スキームにおけるステップ（Ｉ）において、５−ノルボルネン−２−カルボン酸の代わりに、５−ノルボルネン−２−メチル−２−カルボン酸を用いたこと以外は、実施例１と同様にして行い、実施例３の化合物（Ａ−３）（上記式（５）で表される化合物）を得た。
【０１２３】
化合物（Ａ−３）の１Ｈ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲ、質量分析、ＵＶを測定したところ、以下の通りであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）化学シフトδ：８．８４ｐｐｍ、８．７２ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．５４ｐｐｍ、８．５３ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．２３ｐｐｍ、８．１５ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．９７ｐｐｍ、７．９５ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．４４ｐｐｍ（２Ｈ）、４．４０ｐｐｍ（２Ｈ）、３．９４ｐｐｍ、３．４０ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．７４ｐｐｍ、２．６３ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．５８ｐｐｍ（３Ｈ）、２．３４ｐｐｍ（１Ｈ）、２．３６ｐｐｍ（３Ｈ）、２．０１ｐｐｍ（１Ｈ）、１．７〜１．２ｐｐｍ（１２Ｈ）
ＦＴ−ＩＲ（ＫＢｒ）：３０７４ｃｍ−１、２９５８ｃｍ−１、２８７５ｃｍ−１、２８３２ｃｍ−１、１７６４ｃｍ−１、１６６８ｃｍ−１、１６２０ｃｍ−１、１５９７ｃｍ−１
ＬＣ−ＭＳ［Ｍ＋Ｈ］：ｍ／ｚ＝４３０
ＵＶ（λｍａｘ）：２５７ｎｍ，２９０ｎｍ
【０１２４】
［実施例４］（化合物（Ａ−４）の合成）
上記化合物（Ａ−１）の合成スキームにおけるステップ（Ｉ）において、５−ノルボルネン−２−カルボン酸の代わりに、シクロヘキサンカルボン酸を用い、水素による接触還元を行わなかったこと以外は、実施例１と同様に行い、実施例４の化合物（Ａ−４）（上記式（６）で表される化合物）を得た。
【０１２５】
化合物（Ａ−４）の１Ｈ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲ、質量分析、ＵＶを測定したところ、以下の通りであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）化学シフトδ：８．８６ｐｐｍ、８．７７ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．５３ｐｐｍ、８．５６ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．２３ｐｐｍ、８．１８ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．９１ｐｐｍ、７．９４ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．４２ｐｐｍ（２Ｈ）、４．４５ｐｐｍ（２Ｈ）、３．９８ｐｐｍ、３．４３ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．７６ｐｐｍ、２．６５ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．６５ｐｐｍ（３Ｈ）、２．３６ｐｐｍ（１Ｈ）、２．３８ｐｐｍ（３Ｈ）、２．１０ｐｐｍ（１Ｈ）、１．７〜１．２ｐｐｍ（１０Ｈ）
ＦＴ−ＩＲ（ＫＢｒ）：３０７８ｃｍ−１、２９６３ｃｍ−１、２８７８ｃｍ−１、２８３５ｃｍ−１、１７６６ｃｍ−１、１６５８ｃｍ−１、１６１５ｃｍ−１、１５９０ｃｍ−１
ＬＣ−ＭＳ［Ｍ＋Ｈ］：ｍ／ｚ＝４０４
ＵＶ（λｍａｘ）：２６０ｎｍ，２８８ｎｍ
【０１２６】
［実施例５］（化合物（Ａ−５）の合成）
上記化合物（Ａ−１）の合成スキームにおけるステップ（Ｉ）において、５−ノルボルネン−２−カルボン酸の代わりに、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルカルボン酸を用い、水素による接触還元を行わなかったこと以外は、実施例１と同様にして行い、実施例５の化合物（Ａ−５）（上記式（７）で表される化合物）を得た。
【０１２７】
化合物（Ａ−４）の１Ｈ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲ、質量分析、ＵＶを測定したところ、以下の通りであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）化学シフトδ：８．９２ｐｐｍ、８．６９ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．５４ｐｐｍ、８．５６ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．２８ｐｐｍ、８．１５ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．９２ｐｐｍ、７．９２ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．４４ｐｐｍ（２Ｈ）、４．４１ｐｐｍ（２Ｈ）、３．９２ｐｐｍ、３．４２ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．７４ｐｐｍ、２．６１ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．６７ｐｐｍ（３Ｈ）、２．３２ｐｐｍ（１Ｈ）、２．３２ｐｐｍ（３Ｈ）、２．１４ｐｐｍ（１Ｈ）、１．７〜１．１ｐｐｍ（１４Ｈ）
ＦＴ−ＩＲ（ＫＢｒ）：３０８３ｃｍ−１、２９７０ｃｍ−１、２８７２ｃｍ−１、２８３８ｃｍ−１、１７６１ｃｍ−１、１６５２ｃｍ−１、１６１２ｃｍ−１、１５９８ｃｍ−１
ＬＣ−ＭＳ［Ｍ＋Ｈ］：ｍ／ｚ＝４５６
ＵＶ（λｍａｘ）：２６３ｎｍ，２９１ｎｍ
【０１２８】
［実施例６］（化合物（Ａ−６）の合成）
上記化合物（Ａ−１）の合成スキームにおけるステップ（Ｉ）において、５−ノルボルネン−２−カルボン酸の代わりに１−アダマンタンカルボン酸を用い、水素による接触還元を行わなかったこと、及びステップ（ＩＩ）において、３−アセチル−９−エチルカルバゾールの代わりに３−オクタノイル−９−メチルカルバゾールを用いたこと以外は、実施例１と同様にして行い、実施例６の化合物（Ａ−６）（上記式（８）で表される化合物）を得た。
【０１２９】
化合物（Ａ−６）の１Ｈ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲ、質量分析、ＵＶを測定したところ、以下の通りであった。
１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３）化学シフトδ：８．９２ｐｐｍ、８．６９ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．５３ｐｐｍ、８．５２ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、８．２３ｐｐｍ、８．１０ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．９２ｐｐｍ、７．９２ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、７．４８ｐｐｍ（２Ｈ）、４．４１ｐｐｍ（２Ｈ）、３．９５ｐｐｍ、３．４３ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．７４ｐｐｍ、２．６１ｐｐｍ（２種の異性体のピーク合わせて１Ｈ）、２．６２ｐｐｍ（３Ｈ）、２．３５ｐｐｍ（１Ｈ）、２．３６ｐｐｍ（３Ｈ）、２．１８ｐｐｍ（１Ｈ）、１．７〜１．１ｐｐｍ（１６Ｈ）
ＦＴ−ＩＲ（ＫＢｒ）：３０８８ｃｍ−１、２９８０ｃｍ−１、２８７８ｃｍ−１、２８４０ｃｍ−１、１７６５ｃｍ−１、１６５８ｃｍ−１、１６２２ｃｍ−１、１５６０ｃｍ−１
ＬＣ−ＭＳ［Ｍ＋Ｈ］：ｍ／ｚ＝５７８
ＵＶ（λｍａｘ）：２５６ｎｍ，２８７ｎｍ
【０１３０】
＜［Ｃ］成分のアルカリ可溶性樹脂（共重合体）の合成例＞
［合成例Ｃ−１］（共重合体（Ｃ−１）の合成）
冷却管及び撹拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル５質量部及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２５０質量部を仕込み、続いてメタクリル酸１８質量部、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イル２５質量部、スチレン５質量部、メタクリル酸２―ヒドロキシエチルエステル３０質量部、及びメタクリル酸ベンジル２２質量部を仕込んで、窒素置換した。次いで、緩やかに攪拌しつつ、溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持して重合することにより、固形分濃度２８．８％の共重合体（Ｃ−１）溶液を得た。得られた共重合体（Ｃ−１）について、以下の装置及び条件を用いてＭｗを測定したところ、１３，０００であった。
装置：ＧＰＣ−１０１（昭和電工（株）製）
カラム：ＧＰＣ−ＫＦ−８０１、ＧＰＣ−ＫＦ−８０２、ＧＰＣ−ＫＦ−８０３及びＧＰＣ−ＫＦ−８０４を結合
移動相：テトラヒドロフラン
【０１３１】
＜光重合開始剤の有機溶剤に対する溶解度の評価＞
化合物（Ａ−１）〜（Ａ−６）及び化合物（Ｄ−１）（エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム：下記式（１２）で表される化合物）（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製の「イルガキュアＯＸＥ０２」）のＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）１００ｇ又はシクロヘキサノン１００ｇに対する２０℃での溶解度を測定した。結果を表１に示す。
【０１３２】
【化１３】
【０１３３】
【表１】
【０１３４】
＜感放射線性組成物の調製＞
［実施例７］
［Ａ］成分として実施例１の化合物（Ａ−１）１質量部（固形分）、［Ｂ］成分としてジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物（日本化薬（株）製の「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ」）１００質量部、［Ｆ］成分としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン５質量部及び［Ｇ］成分としてフッ素系界面活性剤（（株）ネオス製の「ＦＴＸ−２１８」）０．３質量部を混合し、固形分濃度が３０質量％となるようにジエチレングリコールエチルメチルエーテルに溶解させた後、孔径０．２μｍのメンブランフィルタでろ過して、実施例７の感放射線性組成物の溶液を調製した。
【０１３５】
［実施例８〜１６及び比較例１〜５］
［Ａ］〜［Ｇ］成分として、表１に記載のとおりの種類及び量を使用した他は、実施例１と同様にして実施例８〜１６及び比較例１〜５の感放射線性樹脂組成物の溶液を調製した。
【０１３６】
表１中、［Ｂ］、［Ｄ］、［Ｅ］、［Ｆ］及び［Ｇ］成分についての略号は、それぞれ次の化合物を意味する。
【０１３７】
Ｂ−１：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（（日本化薬（株）製の「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ」）
Ｂ−２：コハク酸変性ペンタエリスリトールトリアクリレート（東亞合成（株）製の「アロニックスＴＯ−７５６」）
Ｄ−１：エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製の「イルガキュアＯＸＥ０２」）
Ｄ−２：２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製の「イルガキュア３７９」）
Ｄ−３：２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製の「イルガキュア９０７」）
Ｅ−１：フェノールノボラック型エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン（株）製の「エピコート１５２」）
Ｅ−２：ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン（株）製の「エピコート１５７Ｓ６５」）
Ｆ−１：γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
Ｇ−１：フッ素系界面活性剤（（株）ネオス製の「ＦＴＸ−２１８」）
【０１３８】
＜感放射線性組成物及び硬化膜の特性評価＞
上記のようにして調製した実施例７〜１６及び比較例１〜５の感放射線性組成物、及びこれらから形成された硬化膜の評価を以下のように実施した。評価結果を表２に示す。
【０１３９】
（１）感放射線性組成物の放射線感度の評価
無アルカリガラス基板上に、感放射線性組成物の溶液をそれぞれスピンナーにより塗布した後、８０℃のホットプレート上で３分間プレベークすることにより、感放射線性組成物の被膜（膜厚４．０μｍ）を形成した。得られた被膜上に、直径１５μｍの丸状残しパターンを複数有するフォトマスクを使用して露光した。このとき、被膜表面とフォトマスクとの間に所定の間隙（露光ギャップ）を設けた。次いで、高圧水銀ランプを用い、上記フォトマスクを介して、露光量を変量しつつ被膜に露光を行った。続いて、濃度を０．０５質量％とした水酸化カリウム水溶液を用いて、２５℃にて２０秒の現像時間でシャワー法により現像した後、純水洗浄を１分間行い、さらにオーブン中２３０℃にて２０分間ポストベークすることにより、丸状パターンを形成した。ポストベーク後のこの丸状パターンの高さを、レーザー顕微鏡（キーエンス製ＶＫ−８５００）を用いて測定した。この値を下記式へ適用することで残膜率（％）を求めた。
残膜率（％）＝（ポストベーク後のパターン高さ／初期膜厚４．０μｍ）×１００
【０１４０】
この残膜率が９０％以上になる露光量を、感放射線性組成物の放射線感度とした。露光量が９００Ｊ／ｍ２以下の場合、放射線感度が良好であると言える。
【０１４１】
（２）硬化膜の透明性の評価
フォトマスクを使用せず、露光量を６００Ｊ／ｍ２とした以外は、上記「（１）感放射線性組成物の放射線感度の評価」と同様にして、ガラス基板（「ＮＡ３５（ＮＨテクノグラス（株）社製）」）上に硬化膜を形成した。分光光度計「１５０−２０型ダブルビーム（（株）日立製作所製）」を用い、この硬化膜を有するガラス基板の光線透過率を、保護膜を有さないガラス基板を参照側として４００〜８００ｎｍの範囲の波長で測定した。そのときの最低光線透過率の値を硬化膜の透明性の評価とした。この値が９５％以上のとき硬化膜の透明性は良好であると言える。
【０１４２】
（３）硬化膜の鉛筆硬度（表面硬度）の測定
上記「（２）硬化膜の透明性の評価」と同様に形成した硬化膜を有する基板について、ＪＩＳＫ−５４００−１９９０の８．４．１鉛筆引っかき試験により、硬化膜の鉛筆硬度（表面硬度）を測定した。この値が３Ｈ以上のとき、硬化膜の表面硬度は良好であると言える。
【０１４３】
【表２】
【０１４４】
表１に示されるように、実施例１〜６で合成された本発明の化合物（Ａ−１）〜（Ａ−６）は、溶媒であるＰＧＭＥＡ及びシクロヘキサノンのそれぞれに対して高い溶解性を有することがわかる。また、表２に示されるように、本発明の化合物（Ａ−１）〜（Ａ−６）を光重合開始剤として含有する実施例７〜１６の感放射線性組成物は、比較例１〜５と同等又は高い放射線感度を示し、得られる硬化膜の透明性及び表面硬度が優れていることが分かった。
【産業上の利用可能性】
【０１４５】
本発明の新規な化合物は、光重合開始剤として使用する場合に高い放射線感度を示すと共に優れた溶解性を有し、かつ高い透明性と充分な表面硬度を有する硬化膜を形成することが可能であるため、感放射線性組成物の成分として極めて有用である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で表される化合物。
【化１】
（式（１）において、Ｒ１は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数４〜２０の脂環式炭化水素基、炭素数１〜６のハロアルキル基、２−フリル基、２−フルフリル基、２−チエニル基、２−テニル基、フェニル基又はナフチル基であり、このフェニル基又はナフチル基の水素原子の一部又は全部が、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数４〜２０の脂環式炭化水素基である。
Ｒ４は、脂環式炭化水素基であり、この水素原子の一部又は全部が炭素数１〜１２のアルキル基で置換されていてもよい。）
【請求項２】
上記Ｒ１が、炭素数１〜８のアルキル基又はフェニル基であり、
上記Ｒ２及びＲ３が、それぞれ独立して、炭素数１〜８のアルキル基であり、
上記Ｒ４が、１位に水素原子又は炭素数１〜４の直鎖状のアルキル基を有する炭素数４〜３０の脂環式炭化水素基である請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
［Ａ］光重合開始剤としての請求項１又は請求項２に記載の化合物、及び
［Ｂ］エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物
を含有する感放射線性組成物。
【請求項４】
［Ｃ］アルカリ可溶性樹脂をさらに含有する請求項３に記載の感放射線性組成物。
【請求項５】
請求項３又は請求項４に記載の感放射線性組成物から形成された硬化膜。
【請求項６】
（１）請求項３又は請求項４に記載の感放射線性組成物の被膜を基板上に形成する工程、
（２）工程（１）で形成した被膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）工程（２）で放射線を照射された被膜を現像する工程、及び
（４）工程（３）で現像された被膜を加熱する工程
を含む硬化膜の形成方法。
【請求項１】
下記式（１）で表される化合物。
【化１】
（式（１）において、Ｒ１は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数４〜２０の脂環式炭化水素基、炭素数１〜６のハロアルキル基、２−フリル基、２−フルフリル基、２−チエニル基、２−テニル基、フェニル基又はナフチル基であり、このフェニル基又はナフチル基の水素原子の一部又は全部が、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数４〜２０の脂環式炭化水素基である。
Ｒ４は、脂環式炭化水素基であり、この水素原子の一部又は全部が炭素数１〜１２のアルキル基で置換されていてもよい。）
【請求項２】
上記Ｒ１が、炭素数１〜８のアルキル基又はフェニル基であり、
上記Ｒ２及びＲ３が、それぞれ独立して、炭素数１〜８のアルキル基であり、
上記Ｒ４が、１位に水素原子又は炭素数１〜４の直鎖状のアルキル基を有する炭素数４〜３０の脂環式炭化水素基である請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
［Ａ］光重合開始剤としての請求項１又は請求項２に記載の化合物、及び
［Ｂ］エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物
を含有する感放射線性組成物。
【請求項４】
［Ｃ］アルカリ可溶性樹脂をさらに含有する請求項３に記載の感放射線性組成物。
【請求項５】
請求項３又は請求項４に記載の感放射線性組成物から形成された硬化膜。
【請求項６】
（１）請求項３又は請求項４に記載の感放射線性組成物の被膜を基板上に形成する工程、
（２）工程（１）で形成した被膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）工程（２）で放射線を照射された被膜を現像する工程、及び
（４）工程（３）で現像された被膜を加熱する工程
を含む硬化膜の形成方法。
【公開番号】特開２０１１−２２５４８４（Ｐ２０１１−２２５４８４Ａ）
【公開日】平成２３年１１月１０日（２０１１．１１．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−９７０９２（Ｐ２０１０−９７０９２）
【出願日】平成２２年４月２０日（２０１０．４．２０）
【出願人】（０００００４１７８）ＪＳＲ株式会社 (3,320)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１１月１０日（２０１１．１１．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年４月２０日（２０１０．４．２０）
【出願人】（０００００４１７８）ＪＳＲ株式会社 (3,320)
【Ｆターム（参考）】
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