ＳＯＦ前駆体の反応による、共有結合性有機骨格として配列した複数のセグメントと複数の連結基とを含む構造化有機薄膜（ＳＯＦ）の製造法であって、構造化有機薄膜は、複数セグメントの厚さの構造化有機薄膜とすることができる。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
構造化有機薄膜（ＳＯＦ）の製造法であって、
前記製造法は、
（ａ）それぞれが１つのセグメントといくつかの官能基とを含む、複数の分子構成要素を含んでいる、液体を含む反応混合物を調製する工程と、
（ｂ）前記反応混合物中でＳＯＦ前駆体を生成する工程と、
（ｃ）前記反応混合物をウェットフィルムとして堆積する工程と、
（ｄ）前記ウェットフィルムの変化を促進し、乾燥ＳＯＦを生成する工程と、
を含むことを特徴とする、構造化有機薄膜の製造法。
【請求項２】
前記反応混合物は触媒を更に含むことを特徴とする、請求項１に記載の製造法。
【請求項３】
前記触媒は、ブレンステッド酸、ルイス酸、ブレンステッド塩基、ルイス塩基、遊離基開始剤、遷移金属錯体から成る群より選ばれることを特徴とする、請求項２に記載の製造法。
【請求項４】
前記分子構成要素の総重量で除した前記触媒の重量は、約０．０００１から約０．２５までであることを特徴とする、請求項２に記載の製造法。
【請求項５】
前記ＳＯＦ前駆体生成工程は、触媒存在下で前記反応混合物を加熱する工程を含むことを特徴とする、請求項１に記載の製造法。
【請求項６】
前記触媒は、前記乾燥ＳＯＦ中に存在しないことを特徴とする、請求項２に記載の製造法。
【請求項７】
前記触媒は、前記乾燥ＳＯＦ中に存在することを特徴とする、請求項２に記載の製造法。
【請求項８】
前記ＳＯＦ前駆体生成工程は、前記反応混合物の沸点よりも低い温度で前記反応混合物を加熱する工程を含むことを特徴とする、請求項１に記載の製造法。
【請求項９】
前記ＳＯＦ前駆体生成工程は、前記反応混合物をＵＶ線に曝露する工程を含むことを特徴とする、請求項１に記載の製造法。
【請求項１０】
前記ＳＯＦ前駆体生成工程の継続時間は、約１０秒間から約４８時間までであることを特徴とする、請求項１に記載の製造法。
【請求項１１】
前記乾燥ＳＯＦは、実質的に欠陥のない薄膜であることを特徴とする、請求項１に記載の製造法。
【請求項１２】
複合材構造化有機薄膜（ＳＯＦ）の製造法であって、
前記製造法は、
（ａ）二次的成分と、
それぞれが１つのセグメントといくつかの官能基とを含む、複数の分子構成要素と、
を含んでいる、液体を含む反応混合物を調製する工程と、
（ｂ）前記反応混合物中でＳＯＦ前駆体を生成する工程と、
（ｃ）前記反応混合物をウェットフィルムとして堆積する工程と、
（ｄ）前記ウェットフィルムの変化を促進し、前記二次的成分を組み込んだ乾燥ＳＯＦを生成する工程と、
を含むことを特徴とする、複合材構造化有機薄膜の製造法。
【請求項１３】
前記ＳＯＦ前駆体生成工程は、触媒存在下で前記反応混合物を加熱する工程を含むことを特徴とする、請求項１２に記載の製造法。
【請求項１４】
前記乾燥ＳＯＦは、実質的に欠陥のない薄膜であることを特徴とする、請求項１２に記載の製造法。
【請求項１５】
構造化有機薄膜（ＳＯＦ）の製造法であって、
前記製造法は、
（ａ）第１の溶媒と、
第２の溶媒と、
それぞれがセグメントと官能基とを含む、複数の分子構成要素と、
を含んでいる、液体を含む反応混合物を調製する工程と、
（ｂ）ＳＯＦ前駆体を生成する工程と、
（ｃ）前記反応混合物をウェットフィルムとして堆積する工程と、
（ｄ）前記ウェットフィルムの変化を促進し、乾燥ＳＯＦを生成する工程と、
を含むことを特徴とする、構造化有機薄膜の製造法。
【請求項１６】
前記ＳＯＦ前駆体生成工程は、触媒存在下で前記反応混合物を加熱する工程を含むことを特徴とする、請求項１５に記載の製造法。
【請求項１７】
前記乾燥ＳＯＦは、実質的に欠陥のない薄膜であることを特徴とする、請求項１５に記載の製造法。
【請求項１８】
追加された機能性を持つ構造化有機薄膜の製造法であって、
前記製造法は、
（ａ）液体を含む反応混合物を調製する工程と、
（ｂ）前記反応混合物中でＳＯＦ前駆体を生成する工程と、
（ｃ）前記反応混合物をウェットフィルムとして基材上に堆積する工程と、
（ｄ）前記ウェットフィルムの変化を促進し、追加機能性を持つ乾燥ＳＯＦを生成する工程と、
を含み、
前記反応混合物は、それぞれがセグメントと官能基とを含む、複数の分子構成要素を含んでおり、前記分子構成要素は、ＳＯＦ内で追加機能性を生じるよう選択されている、
ことを特徴とする、構造化有機薄膜の製造法。
【請求項１９】
前記ＳＯＦ前駆体生成工程は、触媒存在下で前記反応混合物を加熱する工程を含むことを特徴とする、請求項１８に記載の製造法。
【請求項２０】
前記乾燥ＳＯＦは、実質的に欠陥のない薄膜であることを特徴とする、請求項１８に記載の製造法。

【図１】

【図２】

【図３】

【図４】

【図５】

【図６】

【図７】

【図８】

【図９】

【図１０】

【図１１】

【図１２】

【図１３】

【図１４】

【図１５】

【公表番号】特表２０１２−５１９５８５（Ｐ２０１２−５１９５８５Ａ）
【公表日】平成２４年８月３０日（２０１２．８．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５５３０８９（Ｐ２０１１−５５３０８９）
【出願日】平成２２年３月３日（２０１０．３．３）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２０１０／０２６１００
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／１０２０４３
【国際公開日】平成２２年９月１０日（２０１０．９．１０）
【公序良俗違反の表示】
（特許庁注：以下のものは登録商標）
１．テフロン
【出願人】（５９６１７０１７０）ゼロックス　コーポレイション (1,961)
【氏名又は名称原語表記】ＸＥＲＯＸ　ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ
【Ｆターム（参考）】