説明

水処理方法及び水処理システム

【課題】劣悪な水質の硬水を用いても、高い塩除去率及び透過水量を維持できる水処理方法を提供する。
【解決手段】軟水の脱気処理工程及び脱気処理された処理水の第1逆浸透膜分離工程を備え、且つ原水の軟化プロセス;陽イオン交換樹脂床の全体を対向流により再生させる再生プロセスを含み、再生プロセスでは、硬度リーク防止床に対し再生レベル1〜6eq/L−Rの再生液量を供給し、軟化プロセスでは、電気伝導率150mS/m以下且つ全硬度500mgCaCO/L以下の原水を供給し、更にRO膜モジュール6bは、膜表面に架橋全芳香族ポリアミドからなる負荷電性のスキン層が形成され、濃度500mg/L、pH7.0、温度25℃の塩化ナトリウム水溶液を、操作圧力0.7MPa、回収率15%で供給したときの水透過係数が1.5×10−11・m−2・s−1・Pa−1以上、且つ塩除去率99%以上の逆浸透膜を有する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、逆浸透膜分離装置を用いた水処理方法及び水処理システムに関する。
【背景技術】
【0002】
従来、半導体製造工程や電子部品の洗浄、医療器具の洗浄等においては、不純物を含まない高純度の純水が使用される。この種の純水は、一般に、地下水や水道水等の原水を逆浸透膜(以下、「RO膜」ともいう)で処理することにより製造される。
【0003】
RO膜を用いた純水の製造システムでは、原水中に含まれる鉄分(典型的には、不溶状態のコロイド状鉄)がRO膜の膜面等に沈着する、いわゆるファウリングと呼ばれる現象が発生して、塩除去率及び透過水量が低下する。このため、除鉄装置による前処理を行なうのが一般的である。
【0004】
除鉄装置は、原水に酸化剤を注入して、鉄分を不溶化して除去する設備である。しかし、RO膜への供給水に酸化剤が残留すると膜自体が劣化するため、除鉄装置の後段に、更に活性炭濾過装置を設ける必要がある。従って、従来の純水の製造システムでは、原水に残留する酸化剤を除去するための前処理が複雑となり、造水のコストが高くなることが避けられなかった。
【0005】
そこで、本出願人は、硬度が5mgCaCO/L以下の軟水をRO膜に供給することにより、RO膜の酸化劣化を抑制しつつ、塩除去率を高めて高純度の純水を安定供給することができる純水の製造方法を提案した(特許文献1参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0006】
【特許文献1】特開2010−82610号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
しかしながら、従来の硬水軟化装置では、劣悪な水質の硬水に対しては、硬度リーク量が十分に低減された高純度の軟水を製造することや、実用的な採水量を確保することが困難であった。例えば、特許文献1に開示された向流再生方式の硬水軟化装置では、再生プロセス中にイオン交換樹脂床が流動しやすい。このため、イオン交換樹脂床の再生率が低くなる傾向にあり、RO膜に対して高純度の軟水を恒常的に供給することが困難となっていた。また、特許文献1に開示されたスプリット・フロー再生方式の硬水軟化装置では、劣悪な水質の硬水を使用するに際して、出口領域をほぼ完全に再生する必要があり、その再生条件を最適化することが求められている。
【0008】
従って、本発明は、劣悪な水質の硬水を用いた場合においても、高い塩除去率及び透過水量を維持することができる水処理方法及び水処理システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明は、原水を陽イオン交換樹脂床塔で軟化処理して軟水を製造する硬水軟化工程と、硬水軟化工程で製造された軟水を第1逆浸透膜モジュールで透過水と濃縮水とに分離する第1逆浸透膜分離工程と、を含み、前記陽イオン交換樹脂床塔においては、深さが300〜1500mmの陽イオン交換樹脂床に対し、原水を下降流で通過させて軟水を製造する軟化プロセス;再生液を前記陽イオン交換樹脂床の頂部及び底部の両側から配液しながら、中間部で集液することにより再生液の対向流を生成して、前記陽イオン交換樹脂床の全体を再生させる再生プロセスを含んで運転され、再生プロセスでは、前記陽イオン交換樹脂床の底部を基点として深さ100mmに設定された硬度リーク防止床に対し、再生レベルが1〜6eq/L−Rとなる再生液量を供給する一方で、再生プロセス後の軟化プロセスでは、電気伝導率が150mS/m以下、且つ全硬度が500mgCaCO/L以下の硬水を供給し、前記第1逆浸透膜モジュールは、膜表面に架橋全芳香族ポリアミドからなる負荷電性のスキン層が形成された逆浸透膜を有し、当該逆浸透膜は、濃度500mg/L、pH7.0、温度25℃の塩化ナトリウム水溶液を、操作圧力0.7MPa、回収率15%で供給したときの水透過係数が1.5×10−11・m−2・s−1・Pa−1以上、且つ塩除去率が99%以上である、水処理方法に関する。
【0010】
また、第1逆浸透膜分離工程で得られた透過水を、電気脱イオンモジュール、イオン交換樹脂混床塔又は陽イオン交換樹脂単床塔で脱イオン処理する脱イオン処理工程を含むことが好ましい。
【0011】
また、第1逆浸透膜分離工程で得られた透過水を、更に第2逆浸透膜モジュールで透過水と濃縮水とに分離する第2逆浸透膜分離工程を含むことが好ましい。
【0012】
また、第2逆浸透膜分離工程を含む場合においては、第2逆浸透膜分離工程で得られた透過水を、電気脱イオンモジュール、イオン交換樹脂混床塔又は陽イオン交換樹脂単床塔で脱イオン処理する脱イオン処理工程を含むことが好ましい。
【0013】
また、前記陽イオン交換樹脂床塔においては、再生プロセスの後に、原水を前記陽イオン交換樹脂床の頂部及び底部の両側から配液しながら、中間部で集液することにより原水の対向流を生成して、導入された再生液を押し出す押出プロセスを含んで運転され、再生プロセスでは、前記陽イオン交換樹脂床に対して再生液を0.7〜2m/hの線速度で通過させると共に、押出プロセスでは、前記陽イオン交換樹脂床に対して原水を0.7〜2m/hの線速度、且つ0.4〜2.5BVの押出量で通過させることが好ましい。
【0014】
また、本発明は、原水を陽イオン交換樹脂床塔で軟化処理して軟水を製造する硬水軟化装置と、前記硬水軟化装置で製造された軟水を第1逆浸透膜モジュールで透過水と濃縮水とに分離する第1逆浸透膜分離装置と、前記陽イオン交換樹脂床塔に収容された、深さが300〜1500mmの陽イオン交換樹脂床に対し、原水を下降流で通過させて軟水を製造する軟化プロセス;再生液を前記陽イオン交換樹脂床の頂部及び底部の両側から配液しながら、中間部で集液することにより再生液の対向流を生成して、前記陽イオン交換樹脂床の全体を再生させる再生プロセスに切り換え可能なバルブ手段と、再生プロセスにおいて、前記陽イオン交換樹脂床の底部を基点として深さが100mmに設定された硬度リーク防止床に対し、再生レベルが1〜6eq/L−Rとなる再生液量を供給する再生液供給手段と、再生プロセス後の軟化プロセスにおいて、電気伝導率が150mS/m以下、且つ全硬度が500mgCaCO/L以下の原水を供給する原水供給手段と、を備え、前記第1逆浸透膜モジュールは、膜表面に架橋全芳香族ポリアミドからなる負荷電性のスキン層が形成された逆浸透膜を有し、当該逆浸透膜は、濃度500mg/L、pH7.0、温度25℃の塩化ナトリウム水溶液を、操作圧力0.7MPa、回収率15%で供給したときの水透過係数が1.5×10−11・m−2・s−1・Pa−1以上、且つ塩除去率が99%以上である、水処理システムに関する。
【0015】
また、前記第1逆浸透膜分離装置で得られた透過水を脱イオン処理する、電気脱イオンモジュール、イオン交換樹脂混床塔又は陽イオン交換樹脂単床塔を備えることが好ましい。
【0016】
また、前記第1逆浸透膜分離装置で得られた透過水を、更に第2逆浸透膜モジュールで透過水と濃縮水とに分離する第2逆浸透膜分離装置を備えることが好ましい。
【0017】
また、第2逆浸透膜分離装置を備える構成においては、前記第2逆浸透膜分離装置で得られた透過水を脱イオン処理する、電気脱イオンモジュール、イオン交換樹脂混床塔又は陽イオン交換樹脂単床塔を備えることが好ましい。
【0018】
また、前記バルブ手段は、再生プロセスの後に、原水を前記陽イオン交換樹脂床の頂部及び底部の両側から配液しながら、中間部で集液することにより原水の対向流を生成して、導入された再生液を押し出す押出プロセスに切り換え可能に構成され、前記再生液供給手段は、再生プロセスにおいて、前記陽イオン交換樹脂床に対して再生液を0.7〜2m/hの線速度で通過させるように構成され、前記原水供給手段は、押出プロセスにおいて、前記陽イオン交換樹脂床に対して原水を0.7〜2m/hの線速度、且つ0.4〜2.5BVの押出量で通過させるように構成されることが好ましい。
【発明の効果】
【0019】
本発明によれば、劣悪な水質の硬水を用いた場合においても、高い塩除去率及び透過水量を維持することができる水処理方法及び水処理システムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0020】
【図1】第1実施形態に係る水処理システム1の全体構成図である。
【図2】硬水軟化装置3の概略断面図である。
【図3】制御部10により実行されるプロセスのフローチャートである。
【図4】(a),(b)は、制御部10により実行される基本プロセスを示す説明図である。
【図5】第2実施形態に係る水処理システム1Aの全体構成図である。
【図6】第3実施形態に係る水処理システム1Bの全体構成図である。
【発明を実施するための形態】
【0021】
(第1実施形態)
まず、本発明の第1実施形態に係る水処理システム1について、図面を参照しながら説明する。水処理システム1は、例えば、淡水から純水を製造する純水製造システムに適用される。図1は、第1実施形態に係る水処理システム1の全体構成図である。図2は、硬水軟化装置3の概略断面図である。図3は、制御部10により実行されるプロセスのフローチャートである。図4(a),(b)は、制御部10により実行される基本プロセスを示す説明図である。
【0022】
図1に示すように、本実施形態に係る水処理システム1は、原水ポンプ2と、硬水軟化装置3と、塩水タンク4と、脱気処理装置5と、逆浸透膜分離装置6と、制御部10と、を備える。また、水処理システム1は、原水ラインL1と、軟水ラインL2と、塩水ラインL3と、排水ラインL4と、通水ラインL5,L6と、濃縮水ラインL7と、を備える。
なお、本明細書における「ライン」とは、流路、径路、管路等の流体の流通が可能なラインの総称である。
【0023】
原水ラインL1の上流側の端部は、原水W1の供給源(不図示)に接続されている。一方、原水ラインL1の下流側の端部は、硬水軟化装置3のプロセス制御バルブ32(後述)に接続されている。
【0024】
原水ポンプ2は、原水ラインL1に設けられている。原水ポンプ2は、供給源から供給された水道水や地下水等の原水W1を、硬水軟化装置3に向けて圧送する。原水ポンプ2は、制御部10(後述)と不図示の信号線を介して電気的に接続されている。原水ポンプ2は、制御部10により運転(駆動及び停止)が制御される。
【0025】
原水ラインL1には、原水通水弁(不図示)が設けられている。原水通水弁は、原水ラインL1を開閉する。原水通水弁は、弁体の駆動部が不図示の信号線を介して制御部10と電気的に接続されている。原水通水弁における弁の開閉は、制御部10により制御される。
【0026】
原水ラインL1、原水ポンプ2、不図示の原水通水弁、不図示の原水流量計(又はタイマ)は、本実施形態における原水供給手段を構成する。
【0027】
また、原水ラインL1、原水ポンプ2及び不図示の原水通水弁は、後述する再生プロセスST3後の軟化プロセスST1において、電気伝導率が150mS/m以下、且つ全硬度が500mgCaCO/L以下の原水W1を、硬水軟化装置3に供給する原水供給手段としても機能する。
【0028】
硬水軟化装置3は、原水W1に含まれる硬度成分(カルシウムイオン及びマグネシウムイオン)を、陽イオン交換樹脂床311(後述)においてナトリウムイオン(又はカリウムイオン)に置換して軟水W2を製造する設備である。硬水軟化装置3は、図2に示すように、陽イオン交換樹脂床塔としての圧力タンク31と、バルブ手段としてのプロセス制御バルブ32と、を主体に構成されている。
【0029】
圧力タンク31は、上部に開口部を有する有底の筒状体であり、開口部が蓋部材で密閉されている。圧力タンク31の内部には、陽イオン交換樹脂ビーズからなる陽イオン交換樹脂床311、及び濾過砂利からなる支持床312が収容されている。
【0030】
陽イオン交換樹脂床311は、原水W1を軟水化する処理材として機能する。陽イオン交換樹脂床311は、圧力タンク31の内部において、支持床312の上部に積層されている。陽イオン交換樹脂床311の深さD1は、300〜1500mmの範囲に設定されている。
【0031】
支持床312は、陽イオン交換樹脂床311に対する流体の整流部材として機能する。支持床312は、圧力タンク31の底部側に収容されている。
【0032】
圧力タンク31において、陽イオン交換樹脂床311の頂部には、陽イオン交換樹脂ビーズの流出を防止する頂部スクリーン321が設けられている。頂部スクリーン321は、不図示の第1流路を介してプロセス制御バルブ32を構成する各種ラインとそれぞれ接続されている。
【0033】
頂部スクリーン321による配液位置及び集液位置は、陽イオン交換樹脂床311の頂部付近に設定される。頂部スクリーン321は、陽イオン交換樹脂床311の頂部に設けられる頂部配液部、及び陽イオン交換樹脂床311の頂部に設けられる頂部集液部として機能する。
【0034】
圧力タンク31において、陽イオン交換樹脂床311の底部には、陽イオン交換樹脂ビーズの流出を防止する底部スクリーン322が設けられている。底部スクリーン322は、不図示の第2流路を介してプロセス制御バルブ32を構成する各種ラインとそれぞれ接続されている。
【0035】
底部スクリーン322による配液位置及び集液位置は、陽イオン交換樹脂床311の底部付近に設定される。底部スクリーン322は、陽イオン交換樹脂床311の底部に設けられる底部配液部、及び陽イオン交換樹脂床311の底部に設けられる底部集液部として機能する。
【0036】
圧力タンク31において、硬度リーク防止床313(後述)より上部であって、陽イオン交換樹脂床311の深さ方向の中間部には、陽イオン交換樹脂ビーズの流出を防止する中間部スクリーン323が設けられている。中間部スクリーン323は、不図示の第3流路を介してプロセス制御バルブ32を構成する各種ラインとそれぞれ接続されている。
【0037】
中間部スクリーン323による集液位置は、陽イオン交換樹脂床311の中間部付近に設定される。中間部スクリーン323は、陽イオン交換樹脂床311の中間部に設けられる中間部集液部として機能する。
【0038】
プロセス制御バルブ32は、その内部に、各種のライン、弁等を備える。プロセス制御バルブ32は、陽イオン交換樹脂床311に対して、少なくとも、原水W1を下降流で通過させて軟水W2を製造する軟化プロセスST1における原水W1の流れ;再生液としての塩水W3を陽イオン交換樹脂床311の頂部及び底部の両側から配液しながら、中間部で集液することにより塩水W3の対向流を生成して、陽イオン交換樹脂床311の全体を再生させる再生プロセスST3における塩水W3の流れ、を切り換え可能に構成されている。
【0039】
本実施形態における再生プロセスST3では、図2に示すように、陽イオン交換樹脂床311の底部(すなわち、底面)を基点として深さD2が100mmに設定された硬度リーク防止床313(後述)に対し、再生レベルが1〜6eq/L−Rとなる量の塩水W3を供給する。ここで、再生レベルとは、単位容積のイオン交換樹脂の再生に使用される再生剤量をいう。また、再生剤として塩化ナトリウムを用いる場合、1eqは、58.5gに相当する。
【0040】
硬度リーク防止床313とは、軟化プロセスST1での硬度リークを極力防止するために、陽イオン交換樹脂床311において十分に再生する必要のある領域である。硬度リーク防止床313の深さは100mmあればよく、少なくともこの限定された領域を所定の再生レベルで再生すれば、硬度リークを極力防止できる。
【0041】
また、プロセス制御バルブ32は、陽イオン交換樹脂床311に対して、再生プロセスST3の後に、原水W1を陽イオン交換樹脂床311の頂部及び底部の両側から配液しながら、中間部で集液することにより原水W1の対向流を生成して、導入された塩水W3を押し出す押出プロセスST4における原水W1の流れ、を切り換え可能に構成されている。
【0042】
プロセス制御バルブ32には、排水ラインL4の上流側の端部が接続されている。排水ラインL4からは、再生プロセスや押出プロセス等において使用された塩水W3や原水W1が排水W4として排出される。
【0043】
更に、プロセス制御バルブ32において、内部に備えられた弁体の駆動部は、制御部10と不図示の信号線を介して電気的に接続されている。プロセス制御バルブ32における弁の切り換えは、制御部10により制御される。
【0044】
ここで、硬水軟化装置3において実施される各プロセスについて説明する。
本実施形態の水処理システム1において、後述する制御部10は、プロセス制御バルブ32の流路を切り換えることにより、図3に示す以下のプロセスST1〜ST6の運転を実施する。
(ST1)原水W1を陽イオン交換樹脂床311の全体に対して上から下へ通過させる軟化プロセス
(ST2)洗浄水としての原水W1を陽イオン交換樹脂床311の全体に対して下から上へ通過させる逆洗浄プロセス
(ST3)再生液としての塩水W3を陽イオン交換樹脂床311に対して上から下へ通過させると共に、原水W1を陽イオン交換樹脂床311の主に硬度リーク防止床313に対して下から上へ通過させる再生プロセス
(ST4)押出水としての原水W1を陽イオン交換樹脂床311に対して上から下へ通過させると共に、原水W1を陽イオン交換樹脂床311の主に硬度リーク防止床313に対して下から上へ通過させる押出プロセス
(ST5)濯ぎ水としての原水W1を陽イオン交換樹脂床311に対して上から下へ通過させるリンス・プロセス
(ST6)補給水としての原水W1を塩水タンク4へ供給する補水プロセス
【0045】
次に、上記プロセスST1〜ST6のうち、主要なプロセスである軟化プロセスST1、再生プロセスST3、及び押出プロセスST4の運転方法について説明する。
【0046】
軟化プロセスST1では、図4(a)に示すように、原水W1を頂部スクリーン321から配液して、陽イオン交換樹脂床311の全体に対し、原水W1を下降流で通過させて、軟水W2を製造する。製造された軟水W2は、底部スクリーン322から集液される。
後述する再生プロセスST3後の軟化プロセスST1では、電気伝導率が150mS/m以下、且つ全硬度が500mgCaCO/L以下の原水W1を供給する。
【0047】
再生プロセスST3では、図4(b)に示すように、塩水W3を頂部スクリーン321から配液して、陽イオン交換樹脂床311に対し、塩水W3を下降流で通過させる。同時に、塩水W3を底部スクリーン322からも配液して、陽イオン交換樹脂床311に対し、塩水W3を上昇流で通過させる。これにより、塩水W3の対向流を生成して、陽イオン交換樹脂床311を再生する。再生プロセスST3では、塩水W3を、陽イオン交換樹脂床311に対して0.7〜2m/hの線速度で通過させる。また、硬度リーク防止床313に対しては、再生レベルが1〜6eq/L−Rとなる量の塩水W3を供給する。陽イオン交換樹脂床311を再生した使用済みの塩水W3は、中間部スクリーン323から集液される。この再生プロセスST3では、塩水W3の対向流を生成するスプリット・フロー再生により、陽イオン交換樹脂床311の全体を再生させる。特に、本発明のスプリット・フロー再生では、硬度リーク防止床313に対して特定の再生レベルとなる塩水W3を供給することから、陽イオン交換樹脂床311の硬度リーク防止床313を含む下側領域を十分に再生することができる。
【0048】
再生プロセスST3の終了後に実施される押出プロセスST4では、図4(b)に示すように、原水W1を頂部スクリーン321から配液して、陽イオン交換樹脂床311に対し、原水W1を下降流で通過させる。同時に、原水W1を底部スクリーン322からも配液して、陽イオン交換樹脂床311に対し、原水W1を上昇流で通過させる。これにより、原水W1の対向流を生成して、陽イオン交換樹脂床311に導入された塩水W3を押し出す。陽イオン交換樹脂床311を通過した原水W1は、中間部スクリーン323から集液される。押出プロセスST4では、原水W1を、陽イオン交換樹脂床311に対して、0.7〜2m/hの線速度、且つ0.4〜2.5BVの押出量で通過させる。
【0049】
再生プロセスST3では、陽イオン交換樹脂床311の全体に対して、スプリット・フロー再生が行われる。そのため、陽イオン交換樹脂床311の全体がほぼ均等に再生されるが、特に硬度リーク防止床313を含む下側領域を十分に再生することができる。従って、軟化プロセスST1では、純度の高い軟水W2の採水量を最大限にまで高められる。また、スプリット・フロー再生においては、再生剤の押し出しに原水を使用しつつも、押出量を制限しているため、硬度リーク防止床313の汚染がほとんどなく、目標純度の軟水W2を製造することができる。
【0050】
この再生プロセスST3を実施することにより、後の軟化プロセスST1において、電気伝導率が150mS/m以下、且つ全硬度が500mgCaCO/L以下の原水W1を供給した場合に、硬度リーク量が0.8mgCaCO/L以下の高純度の軟水W2を製造することができる。
【0051】
なお、逆洗浄プロセスST2、リンス・プロセスST5、及び補水プロセスST6については、図示による説明を省略する。
【0052】
再び、図1を参照しながら水処理システム1の構成について説明する。
塩水タンク4は、陽イオン交換樹脂床311を再生する塩水W3を貯留する。塩水タンク4には、塩水ラインL3の上流側の端部が接続されている。塩水ラインL3の下流側の端部は、プロセス制御バルブ32と連通し、プロセス制御バルブ32を構成する各種ラインとそれぞれ接続されている。塩水ラインL3には、塩水弁(不図示)が設けられている。塩水弁は、塩水ラインL3を開閉する。塩水弁は、プロセス制御バルブ32に組み込まれており、弁体の駆動部が制御部10と不図示の信号線を介して電気的に接続されている。塩水弁における弁の開閉は、制御部10により制御される。塩水タンク4は、再生プロセスST3において、陽イオン交換樹脂床311を再生する塩水W3を圧力タンク31へ送出する。
塩水タンク4、不図示の塩水弁、不図示のエゼクタ及び塩水流量計は、本実施形態における再生液供給手段を構成する。
【0053】
脱気処理装置5は、硬水軟化装置3により製造された軟水W2に含まれる遊離炭酸(炭酸ガス)を、気体分離膜モジュールにより脱気処理して、処理水としての脱気水W5を得る設備である。脱気処理装置5は、硬水軟化装置3(プロセス制御バルブ32)と逆浸透膜分離装置6との間に設けられている。すなわち、脱気処理装置5は、軟水ラインL2を介して硬水軟化装置3の下流側に接続されると共に、通水ラインL5を介して逆浸透膜分離装置6の上流側に接続されている。
【0054】
本実施形態の脱気処理装置5では、中空糸膜からなる内部灌流式の気体分離膜モジュールが用いられる。この様な用途に適した気体分離膜モジュールとしては、例えば、DIC社製:製品名「SEPAREL PF−015」,「SEPAREL PF−030」等が挙げられる。
【0055】
逆浸透膜分離装置6は、脱気処理装置5により脱気処理された脱気水W5を、逆浸透膜(後述のRO膜モジュール6b)により、溶存塩類等が除去された透過水W6と、溶存塩類等が濃縮された濃縮水W7とに膜分離処理する設備である。逆浸透膜分離装置6は、通水ラインL5を介して脱気処理装置5の下流側に接続されている。
【0056】
逆浸透膜分離装置6は、加圧ポンプ6aと、逆浸透膜としてのRO膜モジュール6bと、を備える。加圧ポンプ6aは、脱気処理装置5から送出された脱気水W5を加圧し、RO膜モジュール6bに送出する。RO膜モジュール6bは、単一又は複数のRO膜エレメント(不図示)を備える。逆浸透膜分離装置6は、これらRO膜エレメントにより軟水W2を膜分離処理し、透過水W6及び濃縮水W7を製造する。
【0057】
RO膜モジュール6bの透過水出口には、通水ラインL6の上流側の端部が接続されている。逆浸透膜分離装置6で得られた透過水W6は、通水ラインL6を介して、脱塩水として二次精製装置や需要箇所に送出される。また、RO膜モジュール6bの濃縮水出口には、濃縮水ラインL7の上流側の端部が接続されている。逆浸透膜分離装置6で得られた濃縮水W7は、濃縮水ラインL7を介して、外部に排出される。なお、膜面での流速を所定範囲に保つため、濃縮水W7の一部を逆浸透膜分離装置6の上流側の通水ラインL5に還流させ、その他の濃縮水W7を外部に排出するように構成してもよい。
【0058】
本実施形態におけるRO膜モジュール6bは、膜表面に架橋全芳香族ポリアミドからなる負荷電性のスキン層が形成された逆浸透膜(不図示)を有する。この逆浸透膜は、濃度500mg/L、pH7.0、温度25℃の塩化ナトリウム水溶液を、操作圧力0.7MPa、回収率15%で供給したときの水透過係数が、1.5×10−11・m−2・s−1・Pa−1以上、且つ塩除去率が99%以上となるものである。このような性能に設定された逆浸透膜は、淡水の脱塩処理において、供給水の硬度が低いほど、電気伝導率(EC)で評価したときの塩除去率(すなわち、(供給水EC−透過水EC)/供給水EC×100)が高くなるという特性を持っている。そのため、スプリット・フロー再生を行う硬水軟化装置3で製造された高純度の軟水W2(実力値として、0.8mgCaCO以下)を、(脱気処理装置5を介して)恒常的に供給することで、高い塩除去率(通常、98.5%以上)を維持することが可能である。
【0059】
ここで、操作圧力とは、JIS K3802−1995「膜用語」で定義される平均操作圧力である。操作圧力は、RO膜モジュール6bの一次側の入口圧力と一次側の出口圧力との平均値を指す。
回収率とは、RO膜モジュール5bへの供給水(ここでは塩化ナトリウム水溶液)の流量Qに対する透過水の流量Qの割合(すなわち、Q/Q×100)をいう。
水透過係数は、透過水量[m/s]を膜面積[m]及び有効圧力[Pa]で除した値であり、逆浸透膜の水の透過性能を示す指標である。すなわち、水透過係数は、単位有効圧力を作用させたときに単位時間に膜の単位面積を透過する水の量を意味する。有効圧力は、JIS K3802−1995「膜用語」で定義され、操作圧力(平均操作圧力)から浸透圧差及び二次側圧力を差し引いた圧力である。
塩除去率は、膜を透過する前後の特定の塩類の濃度(ここでは塩化ナトリウム濃度)から計算される値であり、逆浸透膜の溶質の阻止性能を示す指標である。塩除去率は、RO膜モジュール5bへの入口濃度(C)および透過水の濃度(C)から、(1−C/C)×100により求められる。
【0060】
本実施形態の水透過係数及び塩除去率の条件を満たす逆浸透膜は、逆浸透膜エレメントとして市販されている。逆浸透膜エレメントとしては、例えば、東レ社製:型式名「TMG20−400」、ウンジン・ケミカル社製:型式名「RE8040−BLF」、日東電工社製:型式名「ESPA1」等を用いることができる。
【0061】
制御部10は、CPU及びメモリ含むマイクロプロセッサ(不図示)により構成される。制御部10は、不図示の原水流量計、塩水流量計から入力された検出信号等に基づいて、プロセス制御バルブ32の動作を制御する。メモリには、本実施形態の硬水軟化装置3の運転を実施する制御プログラムが予め記憶されている。CPUは、メモリに記憶された制御プログラムに従って、上述した軟化プロセスST1〜補水プロセスST6を順に切り換えるように、プロセス制御バルブ32を制御する。
【0062】
上記のように構成された水処理システム1において、原水W1の供給源(不図示)から原水ラインL1を介して供給された原水W1は、原水ポンプ2により硬水軟化装置3のプロセス制御バルブ32へ送出される。原水W1は、圧力タンク31の陽イオン交換樹脂床311を通過することにより軟化処理され、軟水W2が製造される。軟水W2は、更に軟水ラインL2を経て脱気処理装置5へ送出される。脱気処理装置5では、軟水W2が気体分離膜モジュールにより脱気処理され、脱気水W5が得られる。脱気水W5は、通水ラインL5を経て逆浸透膜分離装置6へ送出される。逆浸透膜分離装置6では、脱気水W5がRO膜モジュール6bにより膜分離処理され、透過水W6及び濃縮水W7が製造される。この後、得られた透過水W6は、通水ラインL6を介して、脱塩水として二次精製装置や需要箇所に送出される。
【0063】
上述した第1実施形態に係る水処理システム1によれば、例えば、以下のような効果が奏される。
本実施形態の水処理システム1において、硬水軟化装置3の陽イオン交換樹脂床311は、塩水W3を陽イオン交換樹脂床311の頂部スクリーン321及び底部スクリーン322へそれぞれ配液しながら、中間部スクリーン323で集液することにより塩水W3の対向流を生成して、陽イオン交換樹脂床311の全体を再生させる再生プロセスST3を含んで運転される。そのため、硬度リーク量が十分に低減された高純度の軟水W2を実用的な採水量の範囲で最大限に得ることができる。
【0064】
また、本実施形態の水処理システム1において、再生プロセスST3では、陽イオン交換樹脂床311の底部を基点として深さD2(図2参照)が100mmに設定された硬度リーク防止床313に対し、再生レベルが1〜6eq/L−Rとなる量の塩水W3を供給する。そのため、陽イオン交換樹脂床311において、硬度リークの防止に重要な出口領域である硬度リーク防止床313をほぼ完全に再生することができる。これによれば、軟化プロセスST1において、原水W1として硬度レベルの高い劣悪な水質の硬水を用いた場合でも、硬度リーク量を極限にまで抑制した高純度の軟水W2を得ることができる。
【0065】
従って、本実施形態の水処理システム1によれば、軟化プロセスST1において、原水W1として劣悪な水質の硬水を用いた場合でも、逆浸透膜分離装置6に対して高純度の軟水W2を恒常的に供給することができるため、RO膜モジュール6bにおける酸化劣化のみならず、スケーリングやファウリングを抑制して、高い塩除去率を維持することができる。
【0066】
また、本実施形態の水処理システム1では、再生プロセスST3において、硬水軟化装置3の陽イオン交換樹脂床311に対して、塩水W3が0.7〜2m/hの線速度で通過するように運転される。また、押出プロセスST4において、硬水軟化装置3の陽イオン交換樹脂床311に対して、原水W1が0.7〜2m/hの線速度、且つ0.4〜2.5BVの押出量で通過するように運転される。このように、再生プロセス及び押出プロセスにおける通液の線速度を上記のような条件に規定することにより、陽イオン交換樹脂床311の再生効率を高め、軟水W2の採水量を高めることができる。また、押出プロセスの押出量を上記のような条件に制限することにより、押出水として劣悪な水質の硬水を用いた場合でも、硬度成分による硬度リーク防止床313の汚染を抑制し、軟水W2の純度を高めることができる。
【0067】
更に、本実施形態の水処理システム1では、硬水軟化装置3と逆浸透膜分離装置6との間に脱気処理装置5を備える。そのため、逆浸透膜分離装置6で除去することのできない遊離炭酸を、前段の脱気処理装置5において除去することができる。従って、逆浸透膜分離装置6において、より純度の高い純水を製造することができる。また、脱気処理装置5において、軟水W2に含まれる遊離炭酸が除去されるので、逆浸透膜分離装置6(RO膜モジュール6b)の負荷を軽減することができる。
【0068】
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態に係る水処理システム1Aについて、図5を参照しながら説明する。図5は、第2実施形態に係る水処理システム1Aの全体構成図である。なお、第2実施形態では、主に第1実施形態との相違点について説明する。このため、第1実施形態と同一(又は同等)の構成については同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。また、第2実施形態において特に説明しない点については、第1実施形態の説明が適宜に適用される。
【0069】
図5に示すように、本実施形態に係る水処理システム1Aは、原水ポンプ2と、硬水軟化装置3と、塩水タンク4と、脱気処理装置5と、逆浸透膜分離装置6と、電気脱イオンモジュールとしての電気脱イオン装置7と、を備える。また、水処理システム1Aは、原水ラインL1と、軟水ラインL2と、塩水ラインL3と、排水ラインL4と、通水ラインL5,L6,L8と、濃縮水ラインL7,L9と、を備える。
【0070】
なお、本実施形態では、第1実施形態における「濃縮水W7」を「第1濃縮水W7」とし、電気脱イオン装置7で得られた濃縮水を「第2濃縮水W9」とする。
本実施形態では、逆浸透膜分離装置6の下流側に、電気脱イオン装置7を備える点が第1実施形態と異なる。その他の構成は第1実施形態と同じであるため、詳細な説明を省略する。
【0071】
本実施形態において、RO膜モジュール6b(逆浸透膜分離装置6)の透過水出口には、通水ラインL6の上流側の端部が接続されている。電気脱イオン装置7は、逆浸透膜分離装置6の下流側に、通水ラインL6を介して接続されている。逆浸透膜分離装置6で得られた透過水W6は、通水ラインL6を介して、電気脱イオン装置7へ送出される。
【0072】
電気脱イオン装置7は、逆浸透膜分離装置6で得られた透過水W6を、イオン交換膜(不図示)により脱イオン水W8と第2濃縮水W9とに分離する膜分離処理を行なう設備である。
【0073】
具体的には、電気脱イオン装置7は、脱塩室及び濃縮室(いずれも不図示)を備える。脱塩室及び濃縮室は、一対の電極間に陽イオン交換膜及び陰イオン交換膜(いずれも不図示)を交互に配列することにより形成される。このうち、脱塩室には、陽イオン交換樹脂及び陰イオン交換樹脂が収容されている。なお、脱塩室には、少なくとも陽イオン交換樹脂が収容されていればよい(理由は後述)。
【0074】
電気脱イオン装置7は、電源回路(不図示)と電気的に接続されている。また、本実施形態の制御部10は、第1実施形態の機能に加えて、電源回路を介して、電気脱イオン装置7に所定の直流電圧を印加する機能を備える。
【0075】
電気脱イオン装置7において、一対の電極間に直流電圧が印加されると、イオン交換膜を介したイオンの選択的な移動により、逆浸透膜分離装置6で除去しきれなかった透過水W6に含まれる残留イオンが、脱塩室で除去される。これにより、脱塩室において、純水としての脱イオン水W8が製造される。また、電気脱イオン装置7では、濃縮室において、透過水W6からイオン濃度が高い第2濃縮水W9が製造される。
【0076】
電気脱イオン装置7の脱塩室には、通水ラインL8の上流側の端部が接続されている。電気脱イオン装置7で製造された脱イオン水W8は、通水ラインL8を介して、純水として二次精製装置や需要箇所に送出される。一方、電気脱イオン装置7の濃縮室には、濃縮水ラインL9の上流側の端部が接続されている。電気脱イオン装置7で製造された第2濃縮水W9は、濃縮水ラインL9を介して、外部に排出される。なお、第2濃縮水W9は、外部に排出することなく、濃縮水ラインL9を介して、加圧ポンプ6aの上流側の通水ラインL5に返送することもできる。
【0077】
上述した第2実施形態の水処理システム1Aによれば、第1実施形態の水処理システム1と同様の効果が奏される。特に、本実施形態の水処理システム1Aでは、逆浸透膜分離装置6の下流側に、更に電気脱イオン装置7を備える。そのため、逆浸透膜分離装置6で除去しきれなかった透過水W6に含まれるイオンを、電気脱イオン装置7において更に除去することができる。従って、より純度の高い純水を製造することができる。
【0078】
なお、本実施形態では、脱イオン処理を実施する装置として、電気脱イオン装置7を備えた構成について説明したが、これに限らず、イオン交換樹脂混床塔又は陽イオン交換樹脂単床塔を備えた構成としてもよい。
イオン交換樹脂混床塔は、一つの塔内に陽イオン交換樹脂及び陰イオン交換樹脂を混合した状態で収容したものである。イオン交換樹脂混床塔においては、透過水W6に含まれる陽イオン及び陰イオンが同時に除去される。
【0079】
一方、陽イオン交換樹脂単床塔は、一つの塔内に陽イオン交換樹脂のみを収容したものである(カチオンポリッシャとも呼ばれる)。本実施形態のRO膜モジュール6bは、負荷電性のスキン層が形成された逆浸透膜を備える。このため、RO膜モジュール6bでは、陰イオンが除去されやすい一方で、陽イオンが透過しやすい傾向にある(この傾向は、炭酸,ケイ酸(シリカ)、ホウ酸等の弱酸のイオン化を促進するために軟水W2のpHを高くするとより顕著になる)。この場合において、逆浸透膜分離装置6を透過した陽イオンは、下流側に設けられた陽イオン交換樹脂単床塔により除去される。このように、陽イオン交換樹脂単床塔を用いた場合には、陰イオン及び陽イオンが段階的に除去される。
なお、上述した電気脱イオン装置7において、脱塩室に陽イオン交換樹脂のみを収容した場合にも、陽イオン交換樹脂単床塔を用いた場合と同様に、陰イオン及び陽イオンを段階的に除去することができる。すなわち、電気脱イオン装置7では、逆浸透膜分離装置6を透過した陽イオンが除去される。
【0080】
以上のように、脱イオン処理を実施する装置として、イオン交換樹脂混床塔又は陽イオン交換樹脂単床塔を備えた構成とした場合においても、逆浸透膜分離装置6で除去しきれなかった透過水W6に含まれるイオンを更に除去することができる。
【0081】
(第3実施形態)
次に、本発明の第3実施形態に係る水処理システム1Bについて、図6を参照しながら説明する。図6は、第3実施形態に係る水処理システム1Bの全体構成図である。なお、第3実施形態では、主に第1実施形態との相違点について説明する。このため、第1実施形態と同一(又は同等)の構成については同じ符号を付し、詳細な説明を省略する。また、第2実施形態において特に説明しない点については、第1実施形態の説明が適宜に援用される。
【0082】
図6に示すように、本実施形態に係る水処理システム1Bは、原水ポンプ2と、硬水軟化装置3と、塩水タンク4と、脱気処理装置5と、第1逆浸透膜分離装置6と、第2逆浸透膜分離装置8と、制御部10と、を備える。また、水処理システム1は、原水ラインL1と、軟水ラインL2と、塩水ラインL3と、排水ラインL4と、通水ラインL5,L6,L10と、濃縮水ラインL7,L11と、を備える。
【0083】
なお、本実施形態では、第1実施形態における「逆浸透膜分離装置6」を「第1逆浸透膜分離装置6」とする。本実施形態の第1逆浸透膜分離装置6は、脱気水W5を膜分離処理し、第1透過水W6及び第1濃縮水W7を製造する設備である。
本実施形態では、第1実施形態の透過水W6を「第1透過水W6」とし、第1実施形態の濃縮水W7を「第1濃縮水W7」とする。また、本実施形態では、第2逆浸透膜分離装置8で製造された透過水を「第2透過水W10」とし、第2逆浸透膜分離装置8で製造された濃縮水を「第2濃縮水W11」とする。
【0084】
本実施形態に係る水処理システム1Bでは、第1逆浸透膜分離装置6の下流側に、第2逆浸透膜分離装置8を備える点が第1実施形態と異なる。すなわち、第2逆浸透膜分離装置8は、通水ラインL6を介して、第1逆浸透膜分離装置6の下流側に接続されている。その他の構成は第1実施形態と同じであるため、詳細な説明を省略する。
【0085】
本実施形態における第2逆浸透膜分離装置8の構成は、第1逆浸透膜分離装置6と同じである。すなわち、第2逆浸透膜分離装置8の加圧ポンプ8aは、第1逆浸透膜分離装置6の加圧ポンプ6aと同じである。また、第2逆浸透膜分離装置8のRO膜モジュール8bは、第1逆浸透膜分離装置6のRO膜モジュール6bと同じ特性であってもよいし、異なる特性であってもよい。RO膜モジュール8bとしては、例えば、通常の逆浸透膜よりも細孔がルーズなナノ濾過膜を有するNF膜モジュールを用いることもできる。第2逆浸透膜分離装置8は、これらRO膜エレメントにより、第1逆浸透膜分離装置6で製造された第1透過水W6を膜分離処理し、第2透過水W10及び第2濃縮水W11を製造する。
【0086】
RO膜モジュール8bの透過水出口には、通水ラインL10の上流側の端部が接続されている。第2逆浸透膜分離装置8で製造された第2透過水W10は、通水ラインL10を介して、純水として二次精製装置や需要箇所に送出される。また、RO膜モジュール8bの濃縮水出口には、濃縮ラインL11の上流側の端部が接続されている。第2逆浸透膜分離装置8で製造された第2濃縮水W11は、濃縮ラインL11を介して、外部に排出される。なお、第2濃縮水W11は、外部に排出することなく、濃縮水ラインL11を介して、加圧ポンプ6aの上流側の通水ラインL5に返送することもできる。
【0087】
上述した第3実施形態の水処理システム1Bによれば、第1実施形態の水処理システム1と同様の効果が奏される。特に、本実施形態の水処理システム1Bでは、第1逆浸透膜分離装置6の下流側に、更に第2逆浸透膜分離装置8を備える。そのため、第1逆浸透膜分離装置6で除去しきれなかった第1透過水W6に含まれるイオンを、第2逆浸透膜分離装置8において更に除去することができる。従って、より純度の高い純水を製造することができる。
【0088】
なお、本実施形態において、第2逆浸透膜分離装置8の下流側に、脱イオン処理を実施する装置として、第2実施形態に示した電気脱イオン装置7を更に備えた構成としてもよい。また、電気脱イオン装置7の代わりに、イオン交換樹脂混床塔又は陽イオン交換樹脂単床塔を備えた構成としてもよい。このような構成とした場合には、第1逆浸透膜分離装置6及び第2逆浸透膜分離装置8で除去しきれなかった第2透過水W10に含まれるイオンを更に除去することができる。従って、より一層純度の高い純水を製造することができる。
【0089】
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は、前述した実施形態に限定されることなく、種々の形態で実施することができる。
【0090】
例えば、第1〜第3実施形態において、脱気処理装置5と逆浸透膜分離装置(第1逆浸透膜分離装置)6との間にアルカリ剤添加装置(不図示)を設け、逆浸透膜分離装置(第1逆浸透膜分離装置)6に供給される脱気水W5にアルカリ剤を添加する構成としてもよい。アルカリ剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。脱気処理装置5で製造された脱気水W5にアルカリ剤を添加してpHを8以上に上昇させると、脱気処理装置5で除去しきれなかった遊離炭酸がイオン化し、炭酸水素イオンや炭酸イオンに変化する。このため、下流側の逆浸透膜分離装置(第1逆浸透膜分離装置)6において、イオン化した遊離炭酸(炭酸水素イオンや炭酸イオン)を除去することができる。従って、更に純度の高い純水を製造することができる。
【0091】
また、脱気水W5にアルカリ剤を添加すると、脱気水W5に含まれるケイ酸(シリカ)の溶解度が上昇するため、シリカ系スケールの発生を抑制することが可能になり、結果として純水の回収率を向上させることができる。また、脱気水W5にアルカリ剤を添加して、pHを9以上とすることにより、ホウ酸の解離(イオン化)が促進されるため、ホウ酸の除去率を向上させることができる。
【0092】
また、第3実施形態において、第2逆浸透膜分離装置8の下流側にイオン交換樹脂混床塔を設けた場合には、脱気水W5にアルカリ剤を添加することにより、ケイ酸(シリカ)の解離(イオン化)が促進されることで、イオン交換樹脂混床塔の寿命を延ばすことができる。すなわち、第2透過水W10中に解離していないケイ酸が残留している場合には、この非イオン状のケイ酸は、陰イオン交換樹脂の細孔に物理的に吸着して蓄積していくため、陰イオン交換樹脂の再生利用が困難になる。一方、第2透過水W10中に解離したケイ酸が残留している場合には、このイオン状のケイ酸は、陰イオン交換樹脂でイオン交換によって除去されるため、陰イオン交換樹脂の再生利用が可能になる。このため、後者の場合には、イオン交換樹脂混床塔の負荷が軽減され、その寿命を延ばすことができる。
【0093】
また、第1〜第3実施形態において、硬水軟化装置3と脱気処理装置5との間に酸添加装置(不図示)を設け、脱気処理装置5に供給される軟水W2のpHが6以下になるように酸(例えば、塩酸,硫酸等)を添加する構成としてもよい。
【0094】
また、第1〜第3実施形態において、原水W1の供給源とは別に、原水ラインL1に原水W1を供給する原水タンクを設け、この原水タンクを含む設備を原水供給手段としてもよい。この場合には、原水タンクに貯留された原水W1を、洗浄水、押出水、及び濯ぎ水として硬水軟化装置3に供給する。
【符号の説明】
【0095】
1,1A,1B 水処理システム
3 硬水軟化装置
4 塩水タンク
5 逆浸透膜分離装置(第1逆浸透膜分離装置)
5b RO膜モジュール(逆浸透膜)
6 電気脱イオン装置(電気脱イオンモジュール)
8 第2逆浸透膜分離装置
10 制御部
31 圧力タンク(陽イオン交換樹脂床塔)
32 プロセス制御バルブ(バルブ手段)
311 陽イオン交換樹脂床
313 硬度リーク防止床
321 頂部スクリーン
322 底部スクリーン
323 中間部スクリーン
L1 原水ライン
L2 軟水ライン
L3 塩水ライン
L4 排水ライン
L5,L6,L8,L10 通水ライン
L7,L9,L11 濃縮水ライン
W1 原水
W2 軟水
W3 塩水(再生液)
W4 排水
W5 脱気水
W6 透過水(第1透過水)
W7 濃縮水(第1濃縮水)
W8 脱イオン水
W9,W11 第2濃縮水
W10 第2透過水

【特許請求の範囲】
【請求項1】
原水を陽イオン交換樹脂床塔で軟化処理して軟水を製造する硬水軟化工程と、
硬水軟化工程で製造された軟水を第1逆浸透膜モジュールで透過水と濃縮水とに分離する第1逆浸透膜分離工程と、を含み、
前記陽イオン交換樹脂床塔においては、深さが300〜1500mmの陽イオン交換樹脂床に対し、原水を下降流で通過させて軟水を製造する軟化プロセス;再生液を前記陽イオン交換樹脂床の頂部及び底部の両側から配液しながら、中間部で集液することにより再生液の対向流を生成して、前記陽イオン交換樹脂床の全体を再生させる再生プロセスを含んで運転され、
再生プロセスでは、前記陽イオン交換樹脂床の底部を基点として深さ100mmに設定された硬度リーク防止床に対し、再生レベルが1〜6eq/L−Rとなる再生液量を供給する一方で、再生プロセス後の軟化プロセスでは、電気伝導率が150mS/m以下、且つ全硬度が500mgCaCO/L以下の硬水を供給し、
前記第1逆浸透膜モジュールは、膜表面に架橋全芳香族ポリアミドからなる負荷電性のスキン層が形成された逆浸透膜を有し、
当該逆浸透膜は、濃度500mg/L、pH7.0、温度25℃の塩化ナトリウム水溶液を、操作圧力0.7MPa、回収率15%で供給したときの水透過係数が1.5×10−11・m−2・s−1・Pa−1以上、且つ塩除去率が99%以上である、
水処理方法。
【請求項2】
第1逆浸透膜分離工程で得られた透過水を、電気脱イオンモジュール、イオン交換樹脂混床塔又は陽イオン交換樹脂単床塔で脱イオン処理する脱イオン処理工程を含む、
請求項1に記載の水処理方法。
【請求項3】
第1逆浸透膜分離工程で得られた透過水を、更に第2逆浸透膜モジュールで透過水と濃縮水とに分離する第2逆浸透膜分離工程を含む、
請求項1に記載の水処理方法。
【請求項4】
第2逆浸透膜分離工程で得られた透過水を、電気脱イオンモジュール、イオン交換樹脂混床塔又は陽イオン交換樹脂単床塔で脱イオン処理する脱イオン処理工程を含む、
請求項3に記載の水処理方法。
【請求項5】
前記陽イオン交換樹脂床塔においては、再生プロセスの後に、原水を前記陽イオン交換樹脂床の頂部及び底部の両側から配液しながら、中間部で集液することにより原水の対向流を生成して、導入された再生液を押し出す押出プロセスを含んで運転され、
再生プロセスでは、前記陽イオン交換樹脂床に対して再生液を0.7〜2m/hの線速度で通過させると共に、押出プロセスでは、前記陽イオン交換樹脂床に対して原水を0.7〜2m/hの線速度、且つ0.4〜2.5BVの押出量で通過させる、
請求項1〜4のいずれか一項に記載の水処理方法。
【請求項6】
原水を陽イオン交換樹脂床塔で軟化処理して軟水を製造する硬水軟化装置と、
前記硬水軟化装置で製造された軟水を第1逆浸透膜モジュールで透過水と濃縮水とに分離する第1逆浸透膜分離装置と、
前記陽イオン交換樹脂床塔に収容された、深さが300〜1500mmの陽イオン交換樹脂床に対し、原水を下降流で通過させて軟水を製造する軟化プロセス;再生液を前記陽イオン交換樹脂床の頂部及び底部の両側から配液しながら、中間部で集液することにより再生液の対向流を生成して、前記陽イオン交換樹脂床の全体を再生させる再生プロセスに切り換え可能なバルブ手段と、
再生プロセスにおいて、前記陽イオン交換樹脂床の底部を基点として深さが100mmに設定された硬度リーク防止床に対し、再生レベルが1〜6eq/L−Rとなる再生液量を供給する再生液供給手段と、
再生プロセス後の軟化プロセスにおいて、電気伝導率が150mS/m以下、且つ全硬度が500mgCaCO/L以下の原水を供給する原水供給手段と、を備え、
前記第1逆浸透膜モジュールは、膜表面に架橋全芳香族ポリアミドからなる負荷電性のスキン層が形成された逆浸透膜を有し、
当該逆浸透膜は、濃度500mg/L、pH7.0、温度25℃の塩化ナトリウム水溶液を、操作圧力0.7MPa、回収率15%で供給したときの水透過係数が1.5×10−11・m−2・s−1・Pa−1以上、且つ塩除去率が99%以上である、
水処理システム。
【請求項7】
前記第1逆浸透膜分離装置で得られた透過水を脱イオン処理する、電気脱イオンモジュール、イオン交換樹脂混床塔又は陽イオン交換樹脂単床塔を備える、
請求項6に記載の水処理システム。
【請求項8】
前記第1逆浸透膜分離装置で得られた透過水を、更に第2逆浸透膜モジュールで透過水と濃縮水とに分離する第2逆浸透膜分離装置を備える、
請求項6に記載の水処理方法。
【請求項9】
前記第2逆浸透膜分離装置で得られた透過水を脱イオン処理する、電気脱イオンモジュール、イオン交換樹脂混床塔又は陽イオン交換樹脂単床塔を備える、
請求項8に記載の水処理システム。
【請求項10】
前記バルブ手段は、再生プロセスの後に、原水を前記陽イオン交換樹脂床の頂部及び底部の両側から配液しながら、中間部で集液することにより原水の対向流を生成して、導入された再生液を押し出す押出プロセスに切り換え可能に構成され、
前記再生液供給手段は、再生プロセスにおいて、前記陽イオン交換樹脂床に対して再生液を0.7〜2m/hの線速度で通過させるように構成され、
前記原水供給手段は、押出プロセスにおいて、前記陽イオン交換樹脂床に対して原水を0.7〜2m/hの線速度、且つ0.4〜2.5BVの押出量で通過させるように構成された、
請求項6〜9のいずれか一項に記載の水処理システム。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【公開番号】特開2012−183487(P2012−183487A)
【公開日】平成24年9月27日(2012.9.27)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−48314(P2011−48314)
【出願日】平成23年3月4日(2011.3.4)
【出願人】(000175272)三浦工業株式会社 (1,055)
【Fターム(参考)】