波長変換型レーザ装置の製造方法および波長変換型レーザ

【課題】溶接に起因する品質低下を抑制する。
【解決手段】ＸＹ調整用ホルダ（７）にレンズホルダ（４）を溶接したときにレンズホルダ（４）が基本波の光軸の方向に位置ズレすると予測されるズレをキャンセルできるように、第二高調波（Ｌｏ）を実測しながら、レンズホルダ（４）を基本波の光軸の方向にオフセットする。その後、ＸＹ調整用ホルダ（７）にレンズホルダ（４）を溶接する。
【効果】第二高調波（Ｌｏ）を実測しながら、レンズホルダ（４）を基本波の光軸の方向にオフセットするので、溶接前に個々の製品のそれぞれに合った適正なオフセットを行うことができ、溶接に起因する品質低下を抑制できる。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、波長変換型レーザ装置の製造方法および波長変換型レーザ装置に関し、さらに詳しくは、溶接に起因する品質低下を抑制できる波長変換型レーザ装置の製造方法および波長変換型レーザ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体レーザから出射した基本波を集光して波長変換素子に入射するためのレンズを保持したレンズホルダを溶接により固定する際に、溶接に起因する光軸方向のズレをキャンセルできるように溶接前にレンズホルダの位置を光軸方向にオフセットしておくことが記載されている（例えば、特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−１１５９３３号公報（段落［００４１］）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記特許文献１には、レンズホルダの位置を光軸方向にオフセットする方法が開示されていないが、μｍオーダーのオフセット量であるため、マイクロメータの応用によるレンズホルダの機械的移動方法が考えられる。
しかし、マイクロメータの応用によるレンズホルダの機械的移動方法では、レンズホルダの嵌め合い等の公差や製造上のバラツキがあるため、個々の製品のそれぞれに合った調整を行うことが出来ず、溶接に起因する品質低下を十分に抑制できるない問題点があった。例えば、レンズホルダを所定量だけオフセットしたつもりでも、実際には、オフセット量に過不足が生じていることがあった。
そこで、本発明の目的は、溶接前に個々の製品のそれぞれに合った調整を行うことができ、溶接に起因する品質低下を十分に抑制できる波長変換型レーザ装置の製造方法および波長変換型レーザ装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
第１の観点では、本発明は、半導体レーザから出射された基本波を集光して波長変換素子に入射するためのレンズを保持したレンズホルダを溶接により固定するときに、前記波長変換素子からの第二高調波出力が最大になるように前記半導体レーザと前記レンズホルダと前記波長変換素子とを配置し、前記レンズホルダを溶接したときに前記レンズホルダが基本波の光軸の方向に位置ズレすると予測されるズレ量を第二高調波の出力低下分に換算し、その出力低下分を前記第二高調波を実測して確認しながら、前記レンズホルダを基本波の光軸の方向にオフセットし、次いで前記レンズホルダを溶接することを特徴とする波長変換型レーザ装置の製造方法を提供する。
上記第１の観点による波長変換型レーザ装置の製造方法では、第二高調波を実測しながら、レンズホルダを基本波の光軸の方向にオフセットするので、溶接前に個々の製品のそれぞれに合った適正なオフセットを行うことができ、溶接に起因する品質低下を抑制できる。
【０００６】
第２の観点では、本発明は、基本波を第二高調波に変換し出射する波長変換素子を保持した波長変換素子ホルダと、前記波長変換素子ホルダに対して基本波の光軸に垂直な面内で移動可能なＸＹ調整用ホルダと、基本波を集光して前記波長変換素子に入射するレンズを保持し且つ前記ＸＹ調整用ホルダに対して基本波の光軸の方向に移動可能なレンズホルダと、先端部が球面座に形成され且つ前記レンズに向けて基本波を出射する半導体レーザを保持した球面座ホルダとを、前記第二高調波を実測しながら、前記第二高調波が実測上最大出力になるように、前記ＸＹ調整用ホルダと前記レンズホルダと前記球面座ホルダの各位置および姿勢の一方または両方を調整する第一工程と、前記波長変換素子ホルダに前記ＸＹ調整用ホルダを溶接する第二工程と、前記ＸＹ調整用ホルダに前記レンズホルダを溶接したときに前記レンズホルダが基本波の光軸の方向に位置ズレすると予測されるズレをキャンセルできるように、前記第二高調波を実測しながら、前記レンズホルダを基本波の光軸の方向にオフセットする第三工程と、前記ＸＹ調整用ホルダに前記レンズホルダを溶接する第四工程と、溶接した前記波長変換素子ホルダ及び前記ＸＹ調整用ホルダ及び前記レンズホルダを、波長変換素子格納モジュールに収容して固定する第五工程と、前記波長変換素子格納モジュールと該波長変換素子格納モジュールに対して基本波の光軸に垂直な面内で移動可能な連結ホルダとを当接し、前記連結ホルダに前記球面座ホルダの前記先端部を当接し、前記第二高調波を実測しながら、前記第二高調波が実測上最大出力になるように、前記連結ホルダと前記球面座ホルダの各位置および姿勢の一方または両方を調整する第六工程と、前記波長変換素子格納モジュールに前記連結モジュールを溶接する第七工程と、前記第二高調波を実測しながら、前記第二高調波が実測上最大出力になるように、前記球面座ホルダの角度を調整する第八工程と、前記連結ホルダに前記球面座ホルダを溶接する第九工程と、を含むことを特徴とする波長変換型レーザ装置の製造方法を提供する。
【０００７】
上記第２の観点による波長変換型レーザ装置の製造方法では、第一工程において、第二高調波が実測上最大出力になるようにＸＹ調整用ホルダとレンズホルダと球面座ホルダの各位置および姿勢の一方または両方を調整するので、溶接前に個々の製品のそれぞれに合った調整を行うことができ、第二工程において、波長変換素子ホルダにＸＹ調整用ホルダを好適に溶接することが出来る。また、第三工程において、第二高調波を実測しながら、レンズホルダを基本波の光軸の方向にオフセットするので、溶接前に個々の製品のそれぞれに合ったオフセットを行うことができ、第四工程において、ＸＹ調整用ホルダにレンズホルダを好適に溶接することが出来る。また、第六工程において、第二高調波が実測上最大出力になるように連結ホルダと球面座ホルダの各位置および姿勢の一方または両方を調整するので、溶接前に個々の製品のそれぞれに合った調整を行うことができ、第七工程において、波長変換素子格納モジュールに連結モジュールを好適に溶接することが出来る。さらに、第八工程において、第二高調波が実測上最大出力になるように球面座ホルダの角度を調整するので、溶接前に個々の製品のそれぞれに合った調整を行うことができ、第九工程において、連結ホルダに球面座ホルダを好適に溶接することが出来る。これらにより、溶接に起因する品質低下を十分に抑制して、波長変換型レーザ装置を製造できる。
【０００８】
第３の観点では、本発明は、前記第２の観点による波長変換型レーザ装置の製造方法において、前記第三工程では、前記第二高調波の出力が所定の値まで低下するように、前記レンズホルダを基本波の光軸の方向にオフセットすることを特徴とする波長変換型レーザ装置の製造方法を提供する。
レンズホルダをオフセットしたときに生じる第二高調波の出力低下量は計算により予測できる。
そこで、上記第３の観点による波長変換型レーザ装置の製造方法では、第二高調波の出力低下量を実測してオフセットするので、正しく所定量だけレンズホルダをオフセットすることが出来る。
【０００９】
第４の観点では、本発明は、前記第２の観点による波長変換型レーザ装置の製造方法において、前記第三工程では、前記球面座ホルダを基本波の光軸の方向に所定量だけオフセットした状態で前記第二高調波の出力が最大になるように、前記レンズホルダを基本波の光軸の方向にオフセットすることを特徴とする波長変換型レーザ装置の製造方法を提供する。
レンズホルダをオフセットした位置で第二高調波の出力が最大になる球面座ホルダの位置は計算により予測できる。
そこで、上記第４の観点による波長変換型レーザ装置の製造方法では、計算された位置に球面座ホルダを移動し、第二高調波の出力が実測上最大となるようにレンズホルダをオフセットするので、正しく所定量だけレンズホルダをオフセットすることが出来る。
【００１０】
第５の観点では、本発明は、基本波を第二高調波に変換し出射する波長変換素子を保持した波長変換素子ホルダと、前記波長変換素子ホルダに溶接されたＸＹ調整用ホルダと、前記ＸＹ調整用ホルダに溶接され且つ基本波を集光して前記波長変換素子に入射するレンズを保持したレンズホルダと、前記波長変換素子ホルダ及び前記ＸＹ調整用ホルダ及び前記レンズホルダを収容した波長変換素子格納モジュールと、前記波長変換素子格納モジュールに溶接された連結ホルダと、前記連結ホルダに溶接され且つ先端部が球面座に形成され且つ前記レンズに向けて基本波を出射する半導体レーザを保持した球面座ホルダとを具備し、前記ＸＹ調整用ホルダは前記波長変換素子ホルダに対して溶接前は基本波の光軸に垂直な面内で移動可能であり、前記レンズホルダは前記ＸＹ調整用ホルダに対して溶接前は基本波の光軸の方向に移動可能であり、前記連結ホルダは前記波長変換素子格納モジュールに対して溶接前は基本波の光軸に垂直な面内で移動可能であり、前記球面座ホルダは前記連結ホルダに対して溶接前は前記先端部を前記連結ホルダに当接した状態を保って基本波の光軸に対する角度を変更可能であることを特徴とする波長変換型レーザ装置を提供する。
上記第５の観点による波長変換型レーザ装置では、前記第２から第４の観点による波長変換型レーザ装置の製造方法を好適に実施できる。さらに、先端部を球面座に形成した球面座ホルダに半導体レーザを保持したので、半導体レーザから出射する基本波の光軸角度の調整が容易になる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の波長変換型レーザ装置の製造方法および波長変換型レーザ装置によれば、溶接前に個々の製品のそれぞれに合った調整を行うことが出来るため、溶接に起因する品質低下を十分に抑制することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】実施例１に係る波長変換型レーザ装置を示す平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ’断面図である。
【図３】実施例１に係る波長変換型レーザ装置の製造方法を示すフロー図である。
【図４】第一工程を示す断面図である。
【図５】設計された最適位置の説明図である。
【図６】第二工程を示す断面図である。
【図７】第三工程を示す断面図である。
【図８】第四工程を示す断面図である。
【図９】第五工程を示す断面図である。
【図１０】第六工程を示す断面図である。
【図１１】第七工程を示す断面図である。
【図１２】第八工程を示す断面図である。
【図１３】第九工程を示す断面図である。
【図１４】本発明に係る波長変換型レーザ装置における溶接に起因する出力低下の数値例を示す図表である。
【図１５】基本波と波長変換素子の結合面を示す概念図である。
【図１６】基本波の光軸と波長変換素子の光軸がズレたときの出力低下を示す概念図である。
【図１７】基本波と波長変換素子の結合面が光軸方向にズレたときの出力低下を示す概念図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、図に示す実施例により本発明をさらに詳細に説明する。なお、これにより本発明が限定されるものではない。
【実施例】
【００１４】
−実施例１−
図１は、実施例１に係る波長変換型レーザ装置１００を示す平面図である。図２は、図１のＡ−Ａ’断面図である。なお、光軸をＺ軸とし、光軸に垂直な面をＸＹ面とする。
この波長変換型レーザ装置１００は、基本波を第二高調波に変換し出射する波長変換素子５を押え部材６ａで押えるように保持した波長変換素子ホルダ６と、波長変換素子ホルダ６に溶接されたＸＹ調整用ホルダ７と、ＸＹ調整用ホルダ７に溶接され且つ基本波を集光して波長変換素子５に入射するレンズ３を保持したレンズホルダ４と、波長変換素子ホルダ６及びＸＹ調整用ホルダ７及びレンズホルダ４を収容した波長変換素子格納モジュール８と、波長変換素子格納モジュール８に溶接された連結ホルダ９と、連結ホルダ９に溶接され且つ先端部が球面座に形成され且つレンズ３に向けて基本波を出射する半導体レーザ１を保持した球面座ホルダ２とを具備している。
【００１５】
なお、説明の複雑化を避けるために、半導体レーザ１やレンズ３を単一部品として表現するが、これらは複数の単一部品の組み合わせからなる複合部品であってもよい。
また、黒三角を用いて溶接に係る部分を示しているが、これは単なるシンボルであって、溶接部分の断面を示したものではない。
【００１６】
ＸＹ調整用ホルダ７は、波長変換素子ホルダ６に対して、溶接前は、基本波の光軸に垂直な面内で移動可能である。
レンズホルダ４は、ＸＹ調整用ホルダ７に対して、溶接前は、基本波の光軸の方向に移動可能である。
連結ホルダ９は、波長変換素子格納モジュール８に対して、溶接前は、基本波の光軸に垂直な面内で移動可能である。
球面座ホルダ２は、連結ホルダ９に対して、溶接前は、先端部を連結ホルダ９に当接した状態を保って基本波の光軸に対する角度を変更可能である。
【００１７】
波長変換素子５は、四角柱形状であり、モードフィールド径が４μｍ以下の導波路型波長変換素子である。
波長変換素子ホルダ６は、Ｌ形ブロック形状であり、コバール製である。押え部材６ａは、Ｌ形板形状であり、コバール製である。
ＸＹ調整用ホルダ７は、円筒形状であり、ＳＵＳ３０４製である。
レンズ３は、石英製である。
レンズホルダ４は、ＸＹ調整用ホルダ７に嵌合しうる円筒形状であり、ＳＵＳ４３０製である。
波長変換素子格納モジュール８は、四角い箱形状であり、箱の側面はコバール製，底面は銅タングステン製である。また、箱，蓋とも半田，蓋閉め用の金メッキを施している。蓋板８ａを外せば、上面を開放できる。また、基本波の透過窓８ｂと第二高調波の透過窓８ｃとが穿設されてる。透過窓８ｂは、気密を保つため、サファイア板８ｄで塞がれている。透過窓８ｃは、気密を保つため、サファイア板８ｅで塞がれている。
連結ホルダ９は、円筒形状であり、ＳＵＳ４３０製である。
球面座ホルダ２は、先端部が球面に形成された円筒形状であり、ＳＵＳ３０４製である。
【００１８】
図３は、波長変換型レーザ装置１００の製造方法を示すフロー図である。
ステップＳ１では、図４に示すように、端面がＸＹ面に平行になるように波長変換素子ホルダ６を立て、波長変換素子ホルダ６の端面上にＸＹ調整用ホルダ７を乗せ、ＸＹ調整用ホルダ７にレンズホルダ４を嵌合し、レンズホルダ４の上方に球面座ホルダ２を配置する。そして、治具を用いて、ＸＹ調整用ホルダ７のＸＹ位置（＝ＸＹ面上での位置）、レンズホルダ４のＺ位置（＝Ｚ軸上での位置）、球面座ホルダ２のＸＹ位置およびＺ位置およびＺ軸に対する角度を、図５に例示する如き所定の関係に保持する。なお、図５において、２ｗａはレンズ３に入射する基本波のビームウエスト位置での有効径、２ｗｂは波長変換素子５の入射面での基本波の有効径、ｚａはレンズ３に入射する基本波のビームウエスト位置からレンズ３までの距離、ｚｂはレンズ３から波長変換素子５の入射面までの距離であり、これらは設計上の位置である。
【００１９】
次に、半導体レーザ１を駆動して第二高調波Ｌｏの出力を実測し、第二高調波Ｌｏの出力が最大になるように、ＸＹ調整用ホルダ７のＸＹ位置と、レンズホルダ４のＺ位置と、球面座ホルダ２の角度とを、治具を用いて、調整する。
【００２０】
ステップＳ２では、図６に示すように、溶接用レーザビームＢｗを当てて、波長変換素子ホルダ６にＸＹ調整用ホルダ７を、スポット溶接する。溶接箇所の数や位置は、溶接に起因する位置ズレがなるべく残らないように配慮して選択する。
【００２１】
ステップＳ３では、図７に示すように、第二高調波Ｌｏを実測して確認しながら、レンズホルダ４の溶接により生じると予測される位置ずれδだけ逆方向にレンズホルダ４の位置を、治具を用いて、オフセットする。
【００２２】
ステップＳ３の第１具体例では、レンズホルダ４をオフセットしたときに生じる第二高調波Ｌｏの出力低下量を計算しておき、第二高調波の出力低下量を実測して、第二高調波Ｌｏの出力低下が計算値となるようにレンズホルダ４をオフセットする。
【００２３】
ステップＳ３の第２具体例では、レンズホルダ４をオフセットした位置で第二高調波の出力が最大になる球面座ホルダ２の位置を計算しておき、その計算した位置に球面座ホルダ２を移動し、第二高調波Ｌｏの出力が実測上最大となるようにレンズホルダ４をオフセットする。
【００２４】
ステップＳ４では、図８に示すように、ＸＹ調整用ホルダ７にレンズホルダ４を溶接する。
【００２５】
ステップＳ５では、図９に示すように、溶接した波長変換素子ホルダ６とＸＹ調整用ホルダ７とレンズホルダ４とを、波長変換素子格納モジュール８に収容し、半田付けし、一体化する。
【００２６】
ステップＳ６では、図１０に示すように、端面がＸＹ面に平行になるように波長変換素子格納モジュール８を立て、波長変換素子格納モジュール８の端面上に連結ホルダ９を乗せ、連結ホルダ９に球面座ホルダ２を当接する。そして、半導体レーザ１を駆動して第二高調波Ｌｏの出力を実測し、第二高調波Ｌｏの出力が最大になるように、治具を用いて、連結ホルダ９のＸＹ位置、球面座ホルダ２のＺ軸に対する角度を調整する。
【００２７】
ステップＳ７では、図１１に示すように、波長変換素子格納モジュール８に連結ホルダ９を溶接する。
【００２８】
ステップＳ８では、図１２に示すように、半導体レーザ１を駆動して第二高調波Ｌｏの出力を実測し、第二高調波Ｌｏの出力が最大になるように、治具を用いて、球面座ホルダ２のＺ軸に対する角度を調整する。
【００２９】
ステップＳ９では、図１３に示すように、連結ホルダ９に球面座ホルダ２を溶接する。このとき、溶接歪みを利用して、半導体レーザ１から出射される基本波の出射方向の微調整を行う。
【００３０】
図１４は、上記のようにして製造した製品１０個についての、溶接に起因する出力低下の数値例を示す図表である。
数値は、各製品の、レンズホルダ４を溶接する前の第二高調波Ｌｏの出力値に対する、製品となった後の第二高調波Ｌｏの出力値の比である。
すべての製品が９８％以上の第二高調波出力を維持している。
【００３１】
図１５は、基本波と波長変換素子５の結合面を示す概念図である。
図１６は、基本波の光軸と波長変換素子５の光軸がズレた（＝ＸＹ方向軸ズレ）ときの出力低下（計算値）を示す概念図である。
図１７は、基本波と波長変換素子５の結合面が光軸方向にズレた（＝Ｚ方向ズレ）ときの出力低下（計算値）を示す概念図である。
【００３２】
実施例１に係る波長変換型レーザ装置の製造方法および波長変換型レーザ装置１００によれば次の効果が得られる。
（１）ステップＳ１において、第二高調波Ｌｏが実測上最大出力になるようにＸＹ調整用ホルダ７とレンズホルダ４と球面座ホルダ２の各位置および姿勢の一方または両方を調整するので、溶接前に個々の製品のそれぞれに合った調整を行うことができ、ステップＳ２において、波長変換素子ホルダ６にＸＹ調整用ホルダ７を好適に溶接できる。
（２）ステップＳ３において、第二高調波Ｌｏを実測しながら、レンズホルダ４を基本波の光軸の方向にオフセットするので、溶接前に個々の製品のそれぞれに合ったオフセットを行うことができ、ステップＳ４において、ＸＹ調整用ホルダ７にレンズホルダ４を好適に溶接できる。
（３）ステップＳ６において、第二高調波Ｌｏが実測上最大出力になるように連結ホルダ９と球面座ホルダ２の各位置および姿勢の一方または両方を調整するので、溶接前に個々の製品のそれぞれに合った調整を行うことができ、ステップＳ７において、波長変換素子格納モジュール８に連結モジュール９を好適に溶接できる。
（４）ステップＳ８において、第二高調波Ｌｏが実測上最大出力になるように球面座ホルダ２の角度を調整するので、溶接前に個々の製品のそれぞれに合った調整を行うことができ、ステップＳ９において、連結ホルダ９に球面座ホルダ２を好適に溶接できる。
（５）以上により、溶接に起因する品質低下を十分に抑制して、波長変換型レーザ装置１００を製造できる。
（６）先端部を球面座に形成した球面座ホルダ２に半導体レーザ１を保持したので、半導体レーザ１から出射する基本波の光軸角度の調整が容易になる。
【産業上の利用可能性】
【００３３】
本発明の波長変換型レーザ装置の製造方法および波長変換型レーザ装置は、例えば光通信モジュールなどに利用できる。
【符号の説明】
【００３４】
１半導体レーザ
２球面座ホルダ
３レンズ
４レンズホルダ
５波長変換素子
６波長変換素子ホルダ
６ａ押え部材
７ＸＹ調整用ホルダ
８波長変換素子格納モジュール
８ａ蓋板
８ｂ，８ｃ透過窓
８ｄ，８ｅ石英板
９連結ホルダ
１００波長変換型レーザ装置
Ｌｏ第二高調波
Ｂｗ溶接用レーザビーム

【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体レーザから出射された基本波を集光して波長変換素子に入射するためのレンズを保持したレンズホルダを溶接により固定するときに、前記波長変換素子からの第二高調波出力が最大になるように前記半導体レーザと前記レンズホルダと前記波長変換素子とを配置し、前記レンズホルダを溶接したときに前記レンズホルダが基本波の光軸の方向に位置ズレすると予測されるズレ量を第二高調波の出力低下分に換算し、その出力低下分を前記第二高調波を実測して確認しながら、前記レンズホルダを基本波の光軸の方向にオフセットし、次いで前記レンズホルダを溶接することを特徴とする波長変換型レーザ装置の製造方法。
【請求項２】
基本波を第二高調波に変換し出射する波長変換素子を保持した波長変換素子ホルダと、前記波長変換素子ホルダに対して基本波の光軸に垂直な面内で移動可能なＸＹ調整用ホルダと、基本波を集光して前記波長変換素子に入射するレンズを保持し且つ前記ＸＹ調整用ホルダに対して基本波の光軸の方向に移動可能なレンズホルダと、先端部が球面座に形成され且つ前記レンズに向けて基本波を出射する半導体レーザを保持した球面座ホルダとを、前記第二高調波を実測しながら、前記第二高調波が実測上最大出力になるように、前記ＸＹ調整用ホルダと前記レンズホルダと前記球面座ホルダの各位置および姿勢の一方または両方を調整する第一工程と、
前記波長変換素子ホルダに前記ＸＹ調整用ホルダを溶接する第二工程と、
前記ＸＹ調整用ホルダに前記レンズホルダを溶接したときに前記レンズホルダが基本波の光軸の方向に位置ズレすると予測されるズレをキャンセルできるように、前記第二高調波を実測しながら、前記レンズホルダを基本波の光軸の方向にオフセットする第三工程と、
前記ＸＹ調整用ホルダに前記レンズホルダを溶接する第四工程と、
溶接した前記波長変換素子ホルダ及び前記ＸＹ調整用ホルダ及び前記レンズホルダを、波長変換素子格納モジュールに収容して固定する第五工程と、
前記波長変換素子格納モジュールと該波長変換素子格納モジュールに対して基本波の光軸に垂直な面内で移動可能な連結ホルダとを当接し、前記連結ホルダに前記球面座ホルダの前記先端部を当接し、前記第二高調波を実測しながら、前記第二高調波が実測上最大出力になるように、前記連結ホルダと前記球面座ホルダの各位置および姿勢の一方または両方を調整する第六工程と、
前記波長変換素子格納モジュールに前記連結モジュールを溶接する第七工程と、
前記第二高調波を実測しながら、前記第二高調波が実測上最大出力になるように、前記球面座ホルダの角度を調整する第八工程と、
前記連結ホルダに前記球面座ホルダを溶接する第九工程と、
を含むことを特徴とする波長変換型レーザ装置の製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載の波長変換型レーザ装置の製造方法において、前記第三工程では、前記第二高調波の出力が所定の値まで低下するように、前記レンズホルダを基本波の光軸の方向にオフセットすることを特徴とする波長変換型レーザ装置の製造方法。
【請求項４】
請求項２に記載の波長変換型レーザ装置の製造方法において、前記第三工程では、前記球面座ホルダを基本波の光軸の方向に所定量だけオフセットした状態で前記第二高調波の出力が最大になるように、前記レンズホルダを基本波の光軸の方向にオフセットすることを特徴とする波長変換型レーザ装置の製造方法。
【請求項５】
基本波を第二高調波に変換し出射する波長変換素子を保持した波長変換素子ホルダと、前記波長変換素子ホルダに溶接されたＸＹ調整用ホルダと、前記ＸＹ調整用ホルダに溶接され且つ基本波を集光して前記波長変換素子に入射するレンズを保持したレンズホルダと、前記波長変換素子ホルダ及び前記ＸＹ調整用ホルダ及び前記レンズホルダを収容した波長変換素子格納モジュールと、前記波長変換素子格納モジュールに溶接された連結ホルダと、前記連結ホルダに溶接され且つ先端部が球面座に形成され且つ前記レンズに向けて基本波を出射する半導体レーザを保持した球面座ホルダとを具備し、前記ＸＹ調整用ホルダは前記波長変換素子ホルダに対して溶接前は基本波の光軸に垂直な面内で移動可能であり、前記レンズホルダは前記ＸＹ調整用ホルダに対して溶接前は基本波の光軸の方向に移動可能であり、前記連結ホルダは前記波長変換素子格納モジュールに対して溶接前は基本波の光軸に垂直な面内で移動可能であり、前記球面座ホルダは前記連結ホルダに対して溶接前は前記先端部を前記連結ホルダに当接した状態を保って基本波の光軸に対する角度を変更可能であることを特徴とする波長変換型レーザ装置。

【図１】