液晶表示装置及び電子機器
【課題】電極形状に局所的な形状のバラツキが発生した場合でも、表示ムラが発生しにくく、画像表示領域全体で均一な画質を得ることができる液晶表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の液晶表示装置は、同一基板上に画素電極９と共通電極１９とが絶縁膜を介して積層されてなるＦＦＳ方式の液晶表示装置であって、画素電極９には複数の帯状電極９ｃが設けられ、帯状電極９ｃの幅をＬ、隣接する帯状電極同士の間に配置されたスリットＳｃの幅をＳ、スリットＳｃの長さをＭ、帯状電極９ｃとＸ軸との成す角度をθとしたときに、画素電極９は、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成された電極パターンを備えている。
【解決手段】本発明の液晶表示装置は、同一基板上に画素電極９と共通電極１９とが絶縁膜を介して積層されてなるＦＦＳ方式の液晶表示装置であって、画素電極９には複数の帯状電極９ｃが設けられ、帯状電極９ｃの幅をＬ、隣接する帯状電極同士の間に配置されたスリットＳｃの幅をＳ、スリットＳｃの長さをＭ、帯状電極９ｃとＸ軸との成す角度をθとしたときに、画素電極９は、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成された電極パターンを備えている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置及び電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の一形態として、液晶層に基板面方向の電界を作用させて液晶分子の配向制御を行う方式（以下、横電界方式と称する。）が知られている。横電界方式としては、ＩＰＳ（In-Plane Switching）方式やＦＦＳ（Fringe-Field Switching）方式が知られている。横電界方式の液晶表示装置には、１サブ画素領域内に複数の帯状電極が形成され、帯状電極の周縁部に形成される基板水平方向の電界によって液晶分子の配向状態が制御される。帯状電極の形状は画像表示領域内で均一に形成される。例えば、帯状電極の幅をＬ、隣接する帯状電極同士の間に配置されるスリットの幅をＳとした場合に、比Ｌ／Ｓは全ての帯状電極について等しく設計される。こうすることで、画像表示領域全体で均一な表示特性が実現される。
【特許文献１】特開２００３−２３３０８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、スリットの幅Ｓや比Ｌ／Ｓは、製造誤差によって、画像表示領域全体で均一に形成されない場合がある。すなわち、帯状電極は、電極材料の表面に帯状のレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクとして電極材料をエッチングすることにより形成される。レジストパターンは、露光マスクを用いて露光処理及び現像処理することにより形成されるが、露光マスクの撓みや、露光マスクを透過した光の回折等によって、レジストパターンの形状にバラツキが発生する場合がある。例えば、レジストパターンの幅をＳ、隣接するレジストパターン同士の間に配置されるスリットの幅をＬとしたときに、比Ｌ／Ｓが異なる領域が１次元的又は２次元的な広がりを持って形成される場合がある。このような領域は、電圧−透過率特性が他の領域と異なるため、濃淡ムラとして視認され易く、画像の品質を低下させる原因となる。
【０００４】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、画素電極を形成する際に電極形状に局所的な形状のバラツキが発生した場合でも、表示ムラが発生しにくく、画像表示領域全体で均一な画質を得ることができる液晶表示装置及び電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の課題を解決するため、本発明の液晶表示装置は、対向する一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された液晶層と、前記一対の基板のうちの一方の基板の前記液晶層側に設けられた第１電極と、前記一方の基板の前記液晶層側において前記第１電極上に絶縁膜を介して対向配置された複数の第２電極とを備え、複数の前記第２電極が、互いに直交する第１配列軸と第２配列軸とに沿って前記一方の基板上に２次元的に配列されてなる液晶表示装置であって、前記第２電極には複数の帯状電極が設けられ、前記帯状電極の幅をＬ、隣接する帯状電極同士の間に配置されたスリットの幅をＳ、前記スリットの長さをＭ、前記帯状電極と前記第１配列軸との成す角度をθとしたときに、前記第２電極は、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成された電極パターンを備えていることを特徴とする。
この構成によれば、第２電極の形状が製造誤差によって目的とする形状から若干ずれたとしても、もともと比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則にばらついているので、製造誤差によるズレが目立たない。そのため、全体として、均一な画質が得られる。また、仮に製造誤差なく第２電極を形成できるとしても、この構成であれば全体として均一な画質を得ることができる。
【０００６】
本発明においては、前記第２電極毎に、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成された複数種類の電極パターンの中から１種類の電極パターンが選択され、前記第１配列軸に沿って隣接する第２電極同士の間、及び前記第２配列軸に沿って隣接する第２電極同士の間で、選択される電極パターンの種類は不規則であることが望ましい。
この構成によれば、全ての第２電極について異なる電極パターンを設定する必要がないので、第２電極の設計が容易になる。
【０００７】
本発明においては、前記第２電極毎に、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成された複数種類の電極パターンの中から１種類の電極パターンが選択され、互いに隣接する複数の第２電極によって構成される領域を単位領域としたときに、１つの単位領域内に配置される複数の第２電極の電極パターンの種類は互いに等しく、且つ、前記第１配列軸に沿って隣接する単位領域同士の間、及び前記第２配列軸に沿って隣接する単位領域同士の間で、選択される電極パターンの種類は不規則であることが望ましい。
この構成によれば、全ての第２電極について異なる電極パターンを設定する必要がないので、第２電極の設計が容易になる。
【０００８】
本発明の液晶表示装置は、対向する一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された液晶層と、前記一対の基板のうちの一方の基板の前記液晶層側に設けられた第１電極と、前記一方の基板の前記液晶層側において前記第１電極上に絶縁膜を介して対向配置された複数の第２電極とを備え、複数の前記第２電極が、互いに直交する第１配列軸と第２配列軸とに沿って前記一方の基板上に２次元的に配列されてなる液晶表示装置であって、前記第２電極には複数の帯状電極が設けられ、前記帯状電極の幅をＬ、隣接する帯状電極同士の間に配置されたスリットの幅をＳ、前記スリットの長さをＭ、前記帯状電極と前記第１配列軸との成す角度をθとしたときに、前記第２電極毎に、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが異なる複数種類の電極パターンの中から１種類の電極パターンが選択され、前記第１配列軸に沿って隣接する第２電極同士の間、及び前記第２配列軸に沿って隣接する第２電極同士の間で、選択される電極パターンの種類は不規則であることを特徴とする。
この構成によれば、第２電極の形状が製造誤差によって目的とする形状から若干ずれたとしても、もともと比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則にばらついているので、製造誤差によるズレが目立たない。そのため、全体として、均一な画質が得られる。また、全ての第２電極について異なる電極パターンを設定する必要がないので、第２電極の設計が容易になる。
【０００９】
本発明の液晶表示装置は、対向する一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された液晶層と、前記一対の基板のうちの一方の基板の前記液晶層側に設けられた第１電極と、前記一方の基板の前記液晶層側において前記第１電極上に絶縁膜を介して対向配置された複数の第２電極とを備え、複数の前記第２電極が、互いに直交する第１配列軸と第２配列軸とに沿って前記一方の基板上に２次元的に配列されてなる液晶表示装置であって、前記第２電極には複数の帯状電極が設けられ、前記帯状電極の幅をＬ、隣接する帯状電極同士の間に配置されたスリットの幅をＳ、前記スリットの長さをＭ、前記帯状電極と前記第１配列軸との成す角度をθとしたときに、前記第２電極毎に、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが異なる複数種類の電極パターンの中から１種類の電極パターンが選択され、互いに隣接する複数の第２電極によって構成される領域を単位領域としたときに、１つの単位領域内に配置される複数の第２電極の電極パターンの種類は互いに等しく、且つ、前記第１配列軸に沿って隣接する単位領域同士の間、及び前記第２配列軸に沿って隣接する単位領域同士の間で、選択される電極パターンの種類は不規則であることを特徴とする。
この構成によれば、第２電極の形状が製造誤差によって目的とする形状から若干ずれたとしても、もともと比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則にばらついているので、製造誤差によるズレが目立たない。そのため、全体として、均一な画質が得られる。また、全ての第２電極について異なる電極パターンを設定する必要がないので、第２電極の設計が容易になる。
【００１０】
本発明の液晶表示装置は、対向する一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された液晶層と、前記一対の基板のうちの一方の基板の前記液晶層側に設けられた第１電極と、前記一方の基板の前記液晶層側において前記第１電極上に絶縁膜を介して対向配置された複数の第２電極とを備え、複数の前記第２電極が、互いに直交する第１配列軸と第２配列軸とに沿って前記一方の基板上に２次元的に配列されてなる液晶表示装置であって、前記第２電極には複数の帯状電極が設けられ、前記帯状電極の幅をＬ、隣接する帯状電極同士の間に配置されたスリットの幅をＳ、前記スリットの長さをＭ、前記帯状電極と前記第１配列軸との成す角度をθとしたときに、前記第１配列軸に沿って隣接する帯状電極同士の間、及び前記第２配列軸に沿って隣接する帯状電極同士の間で、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成されていることを特徴とする。
この構成によれば、第２電極の形状が製造誤差によって目的とする形状から若干ずれたとしても、もともと比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則にばらついているので、製造誤差によるズレが目立たない。そのため、全体として、均一な画質が得られる。
【００１１】
本発明においては、単位領域の大きさは、肉眼で視認できない大きさであることが望ましい。「肉眼で視認できない」とは、観察者が通常の使用態様で画面全体を直視する場合において視認できない若しくは注意が向かないことを意味し、顕微鏡等を用いて画像表示領域の一部を拡大観察する場合に視認できないことまでは意味しない。肉眼で視認できない大きさとしては、数百μｍ以下の大きさ、より好ましくは１００μｍ以下の大きさを想定している。個人差にもよるが、数百μｍ以下の大きさであれば、肉眼でははっきりと視認できないと考えられるからである。単位領域の大きさは、小さすぎると、単位領域の数が増えるので、帯状電極の設計が複雑になる。したがって、単位領域に含まれる第２電極の数を一定の数以下（例えば１０以下）に制限することが望ましい。
【００１２】
本発明においては、前記電極パターンの種類は３種類以上であることが望ましい。
電極パターンの種類は２種類あれば表示ムラを防止する効果があるが、３種類以上とすることで、表示ムラの発生を確実に防止することができる。
【００１３】
本発明の電子機器は、前述した本発明の液晶表示装置を備えていることを特徴とする。
この構成によれば、高品質な画像表示が可能な電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
［第１の実施の形態］
以下、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置を図面を参照して説明する。なお、以下の説明では、ＸＹＺ直交座標系を用いて部材の配置を説明する。本実施形態では、Ｘ軸方向を走査線の延在方向、Ｙ軸方向をデータ線の延在方向、Ｚ軸方向を観察者による画像表示領域の観察方向とする。各図面においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。
【００１５】
本実施形態の液晶表示装置は、液晶に対し略基板面方向の電界を印加して配向を制御することにより画像表示を行う方式のうち、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）方式と呼ばれる方式を採用した液晶表示装置である。また本実施形態の液晶表示装置は、基板上にカラーフィルタ層を具備したカラー液晶表示装置であり、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色光を出力する３個のサブ画素で１個の画素を構成するものとなっている。以下の説明では、画像表示の最小単位となる領域を「サブ画素領域」と呼び、一組（Ｒ，Ｇ，Ｂ）のサブ画素によって構成される領域を「画素領域」と呼ぶ。また、Ｘ軸方向及び軸方向に２次元的に配列された複数の画素によって構成される領域を「画像表示領域」と呼ぶ。
【００１６】
図１は、本実施形態の液晶表示装置１００の等価回路図である。液晶表示装置１００の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数のサブ画素領域には、画素電極９と画素電極９をスイッチング制御するためのＴＦＴ３０とが形成されている。画素電極９と共通電極１９との間には液晶層５０が介在している。共通電極１９は走査線駆動回路１０２から延びる共通線３ｂと電気的に接続されており、複数のサブ画素において共通の電位に保持されるようになっている。
【００１７】
データ線駆動回路１０１から延びるデータ線６ａがＴＦＴ３０のソースと電気的に接続されている。データ線駆動回路１０１は、画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎを、データ線６ａを介して各サブ画素に供給する。前記画像信号Ｓ１〜Ｓｎはこの順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線６ａ同士に対して、グループ毎に供給するようにしてもよい。
【００１８】
ＴＦＴ３０のゲートには、走査線駆動回路１０２から延びる走査線３ａが電気的に接続されている。走査線駆動回路１０２から所定のタイミングで走査線３ａにパルス的に供給される走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇｍが、この順に線順次でＴＦＴ３０のゲートに印加されるようになっている。
【００１９】
画素電極９は、ＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されている。スイッチング素子であるＴＦＴ３０が走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇｍの入力により一定期間だけオン状態とされることで、データ線６ａから供給される画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎが所定のタイミングで画素電極９に書き込まれるようになっている。画素電極９を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、画素電極９と液晶を介して対向する共通電極１９との間で一定期間保持される。
【００２０】
図２は、液晶表示装置１００の任意の１サブ画素領域の平面図である。液晶表示装置１００のサブ画素領域には、平面視略梯子状を成すＹ軸方向に長手の画素電極（第２電極）９と、画素電極９と平面的に重なって配置された平面略矩形状の共通電極（第１電極）１９とが設けられている。画素電極９は、概略Ｘ軸方向に延びる複数本（図示では１５本）の帯状電極９ｃと、これらの帯状電極９ｃの両端部と接続された平面視略矩形枠状の枠体部９ａとを備えている。
【００２１】
画素電極９には、Ｘ軸と略平行に延在する複数のスリットＳｃ（スリット状の開口部）が設けられている。スリットＳｃの枠体部９ａ側の両端部には、スリットＳｃの中心を通ってＸ軸に平行な軸から離間する方向に湾曲した湾曲部Ｓｅ，Ｓｆが形成されている。スリットＳｃにおいて湾曲部Ｓｅ，Ｓｆ以外の部分は、直線状に形成された直線部Ｓｄとされている。直線部Ｓｄは、Ｘ軸に対して若干傾いて配置されている。本実施形態の場合、直線部Ｓｄは、Ｘ軸から時計回りに鋭角θだけ交差する方向に延びている。湾曲部Ｓｅは、直線部Ｓｄのデータ線６ａとは反対側の端部に設けられており、スリットＳｃ（直線部Ｓｄ）の中央部における中心線（Ｙ軸に平行な線）と比較してデータ線６ａから離間するにしたがって走査線３ａに近接するように湾曲している。湾曲部Ｓｆは、直線部Ｓｄのデータ線６ａ側の端部に設けられており、スリットＳｃ（直線部Ｓｄ）の中央部における中心線（Ｙ軸に平行な線）と比較してデータ線６ａに接近するにしたがって走査線３ａから離間するように湾曲している。
【００２２】
画素電極９には、複数のスリットＳｃにより、互いに平行にＹ軸方向に配列された複数の帯状電極９ｃが形成されている。帯状電極９ｃの枠体部９ａと接続される両端部には、帯状電極９ｃの中心を通ってＸ軸に平行な軸から離間する方向に湾曲した湾曲部９ｅ，９ｆが形成されている。帯状電極９ｃにおいて湾曲部９ｅ，９ｆ以外の部分は、直線状に形成された直線部９ｄとされている。直線部９ｄは、Ｘ軸に対して若干傾いて配置されている。本実施形態の場合、直線部９ｄの延在方向は、Ｘ軸に対して時計回りの方向に角度θだけ鋭角に交差する方向である。湾曲部９ｅは、直線部９ｄのデータ線６ａとは反対側の端部に設けられており、帯状電極９ｃ（直線部９ｄ）の中央部における中心線（Ｙ軸に平行な線）と比較してデータ線６ａから離間するにしたがって走査線３ａに近接するように湾曲している。湾曲部９ｆは、直線部９ｄのデータ線６ａ側の端部に設けられており、帯状電極９ｃ（直線部９ｄ）の中央部における中心線（Ｙ軸に平行な線）と比較してデータ線６ａに接近するにしたがって走査線３ａから離間するように湾曲している。
【００２３】
図２において、湾曲部９ｅ、９ｆは、滑らかな曲線状に形成されているが、湾曲部９ｅ，９ｆを複数の直線部、或いは曲線部と直線部とにより形成しても良い。この場合、直線部や曲線部は、液晶分子が回転する方向と同方向の回転を液晶分子に付与する電界が発生する傾斜部を備えていることが望ましい。図２の液晶表示装置の場合、湾曲部９ｅ，９ｆの端部（枠体部９ａとの接続部）以外の部分が前記傾斜部となっている。
【００２４】
本実施形態の場合、スリットＳｃの直線部Ｓｄの幅Ｓ（直線部Ｓｄと直交する方向の幅）は、全てのスリットＳｃにおいて等しく形成されている。直線部Ｓｄの長さ（直線部Ｓｄの延在方向と平行な方向の長さ）は、画素電極９のＹ軸方向両端部に形成されたスリットＳを除き、全てのスリットＳにおいて等しく形成されている。また、直線部ＳｄとＸ軸との成す角度θは、全てのスリットＳにおいて等しく形成されている。
【００２５】
一方、直線部Ｓｄ同士のＹ軸方向の間隔（Ｓ１，Ｓ２）は、画素電極９内で不規則に形成されている。それにより、帯状電極９ｃの直線部９ｄのＹ軸方向の幅（Ｌ１，Ｌ２）は、画素電極９内で不規則に形成されている。直線部９ｄの該直線部９ｄと直交する方向の幅をＬ、直線部Ｓｄの該直線部Ｓｄと直交する方向の幅をＳとしたときに、１つのサブ画素領域内に配置される複数の帯状電極同士の間で、比Ｌ／Ｓは不規則に形成されている。
【００２６】
なお、図２では１つの画素電極９のみを示したが、画素電極９の形状は各サブ画素領域について共通である。すなわち、画素電極９は、１つのサブ画素領域内では、比Ｌ／Ｓが不規則に形成された電極パターンを備えているが、Ｘ軸方向及びＹ軸方向にマトリクス状に配列された複数のサブ画素領域同士の間では、各画素電極９の電極パターンは全て等しく形成されている。
【００２７】
サブ画素領域には、Ｙ軸方向に延びるデータ線６ａと、Ｘ軸方向に延びる走査線３ａとが形成されている。データ線６ａと走査線３ａとの交差部の近傍には、ＴＦＴ３０が設けられている。ＴＦＴ３０は走査線３ａと部分的に重なるように形成されたアモルファスシリコンからなる半導体層３５と、半導体層３５と一部平面的に重なって形成されたソース電極６ｂ及びドレイン電極３２とを備えている。走査線３ａは半導体層３５と平面的に重なる位置でＴＦＴ３０のゲート電極として機能する。ソース電極６ｂは、データ線６ａから分岐されて半導体層３５に延びている。ドレイン電極３２上には、画素電極９が配置されており、両者が平面的に重なる位置には画素コンタクトホール４５が設けられている。そして、画素コンタクトホール４５を介してドレイン電極３２と画素電極９とが電気的に接続されている。
【００２８】
図３は、図２のＡ−Ａ′線に沿う断面図である。液晶表示装置１００は、ＴＦＴアレイ基板１０と、ＴＦＴアレイ基板１０と対向配置された対向基板２０と、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に挟持された液晶層５０と、ＴＦＴアレイ基板１０の外面側（液晶層５０と反対側）に設けられた第１偏光板１４と、対向基板２０の外面側に設けられた第２偏光板２４と、第１偏光板１４の外面側に設けられた照明装置９０と、を備えている。そして、導光板９１と反射板９２とを備えた照明装置９０によって第１偏光板１４の外面側から照明光が照射される構成となっている。
【００２９】
ＴＦＴアレイ基板１０は、ガラスや石英、プラスチック等の透光性の基板本体１０Ａを基体としてなり、基板本体１０Ａの内面側（液晶層５０側）には、走査線３ａが形成されており、走査線３ａを覆って、酸化シリコン等の透明絶縁膜からなるゲート絶縁膜１１が形成されている。
【００３０】
ゲート絶縁膜１１上には、アモルファスシリコンの半導体層３５が形成されており、半導体層３５に一部乗り上げるようにしてソース電極６ｂと、ドレイン電極３２とが設けられている。半導体層３５は、ゲート絶縁膜１１を介して走査線３ａと対向しており、当該対向領域で走査線３ａがＴＦＴ３０のゲート電極を構成するようになっている。
【００３１】
半導体層３５、ソース電極６ｂ、及びドレイン電極３２を覆って、酸化シリコン等からなる第１層間絶縁膜１２が形成されている。第１層間絶縁膜１２上に、ＩＴＯ等の透明導電材料からなる平面ベタ状の共通電極１９が形成されている。共通電極１９を覆って、酸化シリコン等からなる第２層間絶縁膜１３が形成されており、第２層間絶縁膜１３上にＩＴＯ等の透明導電材料からなる画素電極９がパターン形成されている。
【００３２】
第１層間絶縁膜１２及び第２層間絶縁膜１３を貫通してドレイン電極３２に達する画素コンタクトホール４５が形成されている。そして、画素コンタクトホール４５内に画素電極９の一部が埋設されて、画素電極９とドレイン電極３２とが電気的に接続されている。画素コンタクトホール４５の形成領域に対応して共通電極１９にも開口部が設けられており、共通電極１９と画素電極９とが接触しないようになっている。
【００３３】
画素電極９を覆う第２層間絶縁膜１３上の領域には、ポリイミド等からなる第１配向膜１８が形成されている。第１配向膜１８はラビング処理等の配向処理を施されて液晶を所定方向に配向させるようになっている。第１配向膜１８による配向規制方向は、本実施形態の場合、走査線３ａの延在方向と平行であり、画素電極９のスリットＳの延在方向とは交差する方向である。
【００３４】
対向基板２０は、ガラスや石英、プラスチック等の透光性の基板本体２０Ａを基体としてなり、基板本体２０Ａの内面側（液晶層５０側）には、カラーフィルタ層２２が設けられている。カラーフィルタ層２２は、サブ画素領域に対応して配置されており、例えばアクリルなどで構成されて各サブ画素の表示色に対応する色材を含有している。
【００３５】
カラーフィルタ層２２の内面側には、ポリイミド等からなる第２配向膜２８が形成されている。第２配向膜２８はＴＦＴアレイ基板１０側の第１配向膜１８と同様の構成であり、第２配向膜２８による配向規制方向は、第１配向膜１８の配向規制方向と反平行であり、したがって液晶層５０は、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で、水平配向の初期配向状態を呈する。
【００３６】
図４は、液晶表示装置１００を構成する光学素子等の光学軸の配置関係の説明図である。第１偏光板１４の透過軸１５５はＹ軸と平行である。第２偏光板２４の透過軸１５３はＸ軸と平行である。配向膜１８，２８は平面視同一方向にラビング処理されており、その方向は、ラビング方向１５１である。ラビング方向（配向規制方向）１５１はＸ軸方向と平行である。画素電極９と共通電極１９との間に発生する横電界の方向１５８は、画素電極に形成される帯状電極９ｃの延在方向と直交する方向である。帯状電極９ｃはＸ軸から時計回りに５°〜１５°で交差する方向に延びている。そのため、画素電極９と共通電極１９との間に発生する横電界の方向１５８は、Ｙ軸から時計回りに５°〜１５°（図４では符号θＥで示している）を成す方向である。
【００３７】
上記構成の液晶表示装置１００では、ＴＦＴ３０を介して画素電極９に画像信号（電圧）を供給することで、画素電極９と共通電極１９との間に基板面方向の電界を生じさせ、この電界によって液晶を駆動する。そして、サブ画素領域毎に透過率を変更させて表示を行う。すなわち、画素電極９に電圧を印加しない状態において、液晶層５０を構成する液晶分子は、ラビング方向と平行に水平配向している。そして、画素電極９及び共通電極１９を介して画素電極９を構成する帯状電極９ｃの延在方向に対して直交する方向の電界を液晶層５０に発生させると、液晶分子が基板面内で回転し、電界の方向と平行な方向に配向する。
【００３８】
照明装置９０から射出された照明光は、第１偏光板１４を透過することで、第１偏光板１４の透過軸に沿う直線偏光に変換され、液晶層５０に入射する。そして、液晶層５０がオフ状態（非選択状態）であれば、液晶層５０に入射した直線偏光は、入射時と同一の偏光状態で液晶層５０から出射する。この直線偏光は、直線偏光と直交する透過軸を有する第２偏光板２４に吸収されて、サブ画素領域が暗表示となる。一方、液晶層５０がオン状態（選択状態）であれば、液晶層５０に入射した直線偏光は、液晶層５０により所定の位相差（１／２波長）が付与されて、入射時の偏光方向から９０°回転した直線偏光に変換されて液晶層５０から射出される。この直線偏光は、第２偏光板２４の透過軸と平行であるため、偏光板２４を透過して表示光として視認され、サブ画素領域が明表示となる。以上により、ノーマリブラックモードの液晶表示装置が実現される。
【００３９】
ここで、図２に示したように、１画素電極内には、帯状電極９ｃの幅ＬとスリットＳｃの幅Ｓとの比Ｌ／ＳがＹ軸方向において不規則に形成された電極パターンが形成されている。そのため、画素電極９を形成する工程で、製造誤差によって、画素電極の形状が目的とする形状から若干ずれたとしても、もともと比Ｌ／Ｓの大きさが不規則にばらついているので、製造誤差によるズレが目立たない。そのため、全体として、均一な画質が得られる。
【００４０】
なお、本実施形態では、画素電極９の電極パターンを全ての画素電極について等しく形成したが、画素電極９の電極パターンは、画素電極９毎、或いは複数の画素電極９からなる単位領域毎に異ならせても良い。
【００４１】
図５（ａ）は、画素電極９の電極パターンをＸ軸方向及びＹ軸方向において不規則に形成した場合の画像表示領域の平面模式図である。図５（ａ）では、比Ｌ／Ｓが不規則に形成された電極パターンを３種類用意し（電極パターンＡ１、電極パターンＡ２、電極パターンＡ３）、画素電極９毎に、３種類の電極パターンＡ１、Ａ２、Ａ３の中から１種類の電極パターンを選択している。Ｘ軸に沿って隣接する画素電極９同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する画素電極９同士の間では、選択される電極パターンの種類は不規則である。
【００４２】
なお、図５（ａ）では電極パターンの種類を３種類としたが、電極パターンの種類は３種類に限らず、２種類、又は４種類以上とすることもできる。
【００４３】
図５（ｂ）は、互いに隣接する複数の画素電極９によって構成される領域を単位領域とし、単位領域毎に、画素電極９の電極パターンを不規則に形成した場合の画像表示領域の平面模式図である。図５（ｂ）では、比Ｌ／Ｓが不規則に形成された電極パターンを３種類用意し（電極パターンＡ１、電極パターンＡ２、電極パターンＡ３）、Ｘ軸に沿って隣接する３つの画素電極９によって構成される単位領域毎（この場合、画素領域毎）に、３種類の電極パターンＡ１、Ａ２、Ａ３の中から１種類の電極パターンを選択している。１つの単位領域内に配置される複数の画素電極９の電極パターンの種類は互いに等しいが、Ｘ軸に沿って隣接する単位領域同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する単位領域同士の間では、選択される電極パターンの種類は不規則である。
【００４４】
なお、図５（ｂ）では電極パターンの種類を３種類としたが、電極パターンの種類は３種類に限らず、２種類、又は４種類以上とすることもできる。
【００４５】
また、単位領域は、Ｘ軸に沿って隣接する３つの画素電極９によって構成される領域に限らず、Ｘ軸に沿って隣接する２つ又は４つ以上の画素電極９によって構成される領域、或いはＹ軸に沿って隣接する２つ以上の画素電極９によって構成される領域としても良い。さらに、Ｘ軸に沿って隣接するｍ列分の画素電極及びＹ軸に沿って隣接するｎ行分の画素電極によって構成される領域（ｍ列×ｎ行分の複数の画素電極９からなる領域）を単位領域として、単位領域毎に、選択される画素電極９の電極パターンを不規則に形成しても良い。
【００４６】
この場合、単位領域の大きさは、肉眼で視認できない大きさであることが望ましい。「肉眼で視認できない」とは、観察者が通常の使用態様で画面全体を直視する場合において視認できない若しくは注意が向かないことを意味し、顕微鏡等を用いて画像表示領域の一部を拡大観察する場合に視認できないことまでは意味しない。肉眼で視認できない大きさとしては、数百μｍ以下の大きさ、より好ましくは１００μｍ以下の大きさを想定している。個人差にもよるが、数百μｍ以下の大きさであれば、肉眼でははっきりと視認できないと考えられるからである。単位領域の大きさは、小さすぎると、単位領域の数が増えるので、帯状電極の設計が複雑になる。したがって、単位領域に含まれる画素電極９の数を一定の数以下（例えば１０以下）に制限することが望ましい。
【００４７】
図５（ｃ）は、画素電極９の電極パターンを全ての画素電極９について異ならせた場合の画像表示領域の平面模式図である。図５（ｃ）では、比Ｌ／Ｓが不規則に形成された電極パターンをサブ画素領域の数だけ用意する。この場合、Ｘ軸に沿って隣接する帯状電極同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する帯状電極同士の間で、比Ｌ／Ｓが不規則に形成されることとなる。
【００４８】
［第２の実施の形態］
図６は、本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置２００の任意の１サブ画素領域における平面構成図である。本実施形態において、第１実施形態に係る液晶表示装置と共通の構成については、同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００４９】
本実施形態の場合、スリットＳｃの直線部Ｓｄの幅Ｓ（直線部Ｓｄと直交する方向の幅）は、全てのスリットＳｃにおいて等しく形成されている。しかしながら、直線部Ｓｄ同士のＹ軸方向の間隔は、画素電極９内で不規則に形成されている。また、直線部Ｓｄの長さ（直線部Ｓｄの延在方向と平行な方向の長さ、或いはＸ軸方向の長さ（Ｗ１，Ｗ２））や、直線部ＳｄとＸ軸との成す角度（θ１，θ２）も、画素電極９内で不規則に形成されている。そのため、直線部Ｓｄの長さをＭ、直線部ＳｄとＸ軸との成す角度をθとしたときに、１画素電極内で、長さＭ及び角度θが不規則に形成された電極パターンが形成されている。
【００５０】
なお、図６では１つの画素電極９のみを示したが、画素電極９の形状は各サブ画素領域について共通である。すなわち、画素電極９は、１つのサブ画素領域内では、長さＭ及び角度θが不規則に形成された電極パターンを備えているが、Ｘ軸方向及びＹ軸方向にマトリクス状に配列された複数のサブ画素領域同士の間では、各画素電極９の電極パターンは全て等しく形成されている。
【００５１】
本実施形態の液晶表示装置２００によれば、画素電極９を形成する工程で、製造誤差によって、画素電極の形状が目的とする形状から若干ずれたとしても、もともと長さＭ及び角度θが不規則にばらついているので、製造誤差によるズレが目立たない。そのため、全体として、均一な画質が得られる。
【００５２】
なお、本実施形態では、１画素電極内において、長さＭ及び角度θの全てを不規則に形成したが、長さＭと角度θは、少なくとも一方が不規則に形成されていれば良く、それにより本実施形態と同様の効果が得られる。
【００５３】
また、本実施形態では、画素電極９の電極パターンを全ての画素電極について等しく形成したが、画素電極９の電極パターンは、画素電極９毎、或いは複数の画素電極９からなる単位領域毎に異ならせても良い。
【００５４】
例えば、図５（ａ）に示したように、長さＭと角度θとのうちの少なくとも１つが不規則に形成された電極パターンを複数種類用意し（図５（ａ）では電極パターンＡ１、電極パターンＡ２、電極パターンＡ３）、画素電極９毎に、複数種類の電極パターンＡ１、Ａ２、Ａ３の中から１種類の電極パターンを選択しても良い。この場合、Ｘ軸に沿って隣接する画素電極９同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する画素電極９同士の間では、選択される電極パターンの種類は不規則である。
【００５５】
また、図５（ｂ）に示したように、長さＭと角度θとのうちの少なくとも１つが不規則に形成された電極パターンを複数種類用意し（図５（ｂ）では電極パターンＡ１、電極パターンＡ２、電極パターンＡ３）、互いに隣接する複数の画素電極９によって構成される単位領域毎に、前記複数種類の電極パターンＡ１、Ａ２、Ａ３の中から１種類の電極パターンを選択しても良い。１つの単位領域内に配置される複数の画素電極９の電極パターンの種類は互いに等しいが、Ｘ軸に沿って隣接する単位領域同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する単位領域同士の間では、選択される電極パターンの種類は不規則である。
【００５６】
また、図５（ｃ）に示したように、長さＭと角度θとのうちの少なくとも１つが不規則に形成された電極パターンをサブ画素領域の数だけ用意し、全ての画素電極の電極パターンを異ならせても良い。この場合、Ｘ軸に沿って隣接する帯状電極同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する帯状電極同士の間で、長さＭと角度θとのうちの少なくとも１つが不規則に形成されることとなる。
【００５７】
［第３の実施の形態］
図７は、本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置３００の任意の１サブ画素領域における平面構成図である。本実施形態において、第１実施形態及び第２実施形態に係る液晶表示装置と共通の構成については、同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００５８】
本実施形態の液晶表示装置３００は、画素電極９がいわゆるマルチドメイン構造となっている。すなわち、画素電極９に形成されるスリットＳｃの延在方向は、サブ画素領域において走査線３ａに近接する側の半分の領域と走査線３ａから離間する側の他の半分の領域とで異なっている。複数のスリットＳｃのうち走査線３ａに近接する側の半分の領域に形成されたスリットＳｃは、データ線６ａから離間するにしたがって走査線３ａから離間するように延在している。また、複数のスリットＳｃのうち走査線３ａから離間する側の半分の領域に形成されたスリットＳｃは、データ線６ａから離間するにしたがって走査線３ａに近接するように延在している。スリットＳｃには湾曲部は形成されていない。したがって、スリットＳｃは直線部のみで形成されており、帯状電極９ｃにも湾曲部は形成されない。
【００５９】
本実施形態の場合、スリットＳｃの長さ（スリットＳｃの延在方向と平行な方向の長さ）は、全てのスリットＳｃにおいて等しく形成されている。しかしながら、スリット同士のＹ軸方向の間隔は、画素電極内で不規則に形成されている。また、スリットＳｃの幅（スリットＳｃと直交する方向の幅）や、スリットＳｃとＸ軸との成す角度も、画素電極９内で不規則に形成されている。そのため、スリットＳｃの長さをＭ、スリットＳｃとＸ軸との成す角度をθとしたときに、１画素電極内で、角度θが不規則に形成された電極パターンが形成されている。
【００６０】
なお、図７では１つの画素電極９のみを示したが、画素電極９の形状は各サブ画素領域について共通である。すなわち、画素電極９は、１つのサブ画素領域内では、角度θが不規則に形成された電極パターンを備えているが、Ｘ軸方向及びＹ軸方向にマトリクス状に配列された複数のサブ画素領域同士の間では、各画素電極９の電極パターンは全て等しく形成されている。
【００６１】
本実施形態の液晶表示装置３００によれば、画素電極９を形成する工程で、製造誤差によって、画素電極の形状が目的とする形状から若干ずれたとしても、もともと角度θが不規則にばらついているので、製造誤差によるズレが目立たない。そのため、全体として、均一な画質が得られる。
【００６２】
なお、本実施形態では、１画素電極内において角度θを不規則に形成したが、角度θの代わりに、帯状電極の幅Ｌとスリットの幅Ｓとの比Ｌ／Ｓや、スリットの長さＭを不規則に形成してもよく、それにより本実施形態と同様の効果が得られる。
【００６３】
また、本実施形態では、画素電極９の電極パターンを全ての画素電極について等しく形成したが、画素電極９の電極パターンは、画素電極９毎、或いは複数の画素電極９からなる単位領域毎に異ならせても良い。
【００６４】
例えば、図５（ａ）に示したように、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、又は角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成された電極パターンを複数種類用意し（図５（ａ）では電極パターンＡ１、電極パターンＡ２、電極パターンＡ３）、画素電極９毎に、複数種類の電極パターンＡ１、Ａ２、Ａ３の中から１種類の電極パターンを選択しても良い。この場合、Ｘ軸に沿って隣接する画素電極９同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する画素電極９同士の間では、選択される電極パターンの種類は不規則である。
【００６５】
また、図５（ｂ）に示したように、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、又は角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成された電極パターンを複数種類用意し（図５（ｂ）では電極パターンＡ１、電極パターンＡ２、電極パターンＡ３）、互いに隣接する複数の画素電極９によって構成される単位領域毎に、前記複数種類の電極パターンＡ１、Ａ２、Ａ３の中から１種類の電極パターンを選択しても良い。１つの単位領域内に配置される複数の画素電極９の電極パターンの種類は互いに等しいが、Ｘ軸に沿って隣接する単位領域同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する単位領域同士の間では、選択される電極パターンの種類は不規則である。
【００６６】
また、図５（ｃ）に示したように、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、又は角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成された電極パターンをサブ画素領域の数だけ用意し、全ての画素電極の電極パターンを異ならせても良い。この場合、Ｘ軸に沿って隣接する帯状電極同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する帯状電極同士の間で、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、又は角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成されることとなる。
【００６７】
［第４の実施の形態］
図８は、本発明の第４実施形態に係る液晶表示装置の任意の１サブ画素領域における平面構成図である。本実施形態において、第１実施形態及び第２実施形態に係る液晶表示装置と共通の構成については、同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００６８】
第１実施形態から第３実施形態までの液晶表示装置では、１画素電極内に、スリットの形状又は配置が不規則に形成された電極パターンが形成されていた。すなわち、帯状電極の幅をＬ、隣接する帯状電極同士の間に配置されたスリットの幅をＳ、スリットの長さをＭ、帯状電極とＸ軸との成す角度をθとしたときに、画素電極は、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成された電極パターンを備えていた。しかしながら、図５のような構成の場合、１画素電極内で、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θは必ずしも不規則に形成されている必要はない。
【００６９】
例えば、図８（ａ）に示した電極パターンＡ１と、図８（ｂ）に示した電極パターンＡ２と、図８（ｃ）に示した電極パターンＡ３とを用意し、画素電極毎に、電極パターンＡ１、電極パターンＡ２、及び電極パターンＡ３の中から１種類の電極パターンを選択する。そして、図５（ａ）に示したように、Ｘ軸に沿って隣接する画素電極同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する画素電極同士の間で、選択される電極パターンの種類を不規則に形成する。
【００７０】
電極パターンＡ１、電極パターンＡ２、及び電極パターンＡ３は、比Ｌ／Ｓの大きさが互いに異なっている。すなわち、電極パターンＡ１では、スリットＳｃの幅はＳ１、帯状電極９ｃの幅はＬ１であり、１画素電極内で、比Ｌ１／Ｓ１は一定の大きさで形成されている。また、長さＭ及び角度θも、全てのスリットＳｃで等しく形成されている。電極パターンＡ２では、スリットＳｃの幅はＳ１、帯状電極９ｃの幅はＬ２（＜Ｌ１）であり、１画素電極内で、比Ｌ２／Ｓ１は一定の大きさで形成されている。また、長さＭ及び角度θも、全てのスリットＳｃで等しく形成されている。電極パターンＡ３では、スリットＳｃの幅はＳ１、帯状電極９ｃの幅はＬ３（＜Ｌ２）であり、１画素電極内で、比Ｌ３／Ｓ１は一定の大きさで形成されている。また、長さＭ及び角度θも、全てのスリットＳｃで等しく形成されている。
【００７１】
図８では、比Ｌ／Ｓの大きさを互いに異ならせた３つの電極パターンを用意したが、電極パターンの種類はこのようなものに限定されない。すなわち、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが異なる複数種類の電極パターンを用意し、画素電極毎に、前記複数種類の電極パターンの中から１種類の電極パターンを選択すれば良い。そして、図５（ａ）に示したように、Ｘ軸に沿って隣接する画素電極同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する画素電極同士の間で、選択される電極パターンの種類を不規則に形成する。異なる電極パターン同士の間では、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θは、少なくとも１つが異なっていれば良く、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θが画素電極内で不規則に形成されている必要はない。
【００７２】
同様の電極パターンを用いて、図５（ｂ）に示したような電極パターンの配置を行うこともできる。すなわち、互いに隣接する複数の画素電極によって構成される領域を単位領域としたときに、１つの単位領域内に配置される複数の画素電極の電極パターンの種類を互いに等しくし、且つ、Ｘ軸に沿って隣接する単位領域同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する単位領域同士の間で、選択される電極パターンの種類を不規則に形成する。
【００７３】
さらに、同様の電極パターンを用いて、図５（ｃ）に示したような電極パターンの配置を行うこともできる。すなわち、電極パターンをサブ画素領域の数だけ用意し、全ての画素電極の電極パターンを異ならせても良い。この場合、Ｘ軸に沿って隣接する帯状電極同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する帯状電極同士の間で、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つを不規則に形成される。
【００７４】
いずれの場合も、画素電極を形成する工程で、製造誤差によって、画素電極の形状が目的とする形状から若干ずれたとしても、もともと画素電極同士の間で、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則にばらついているので、製造誤差によるズレが目立たない。そのため、全体として、均一な画質が得られる。
【００７５】
［電子機器］
図９は、本発明の電子機器の一例である携帯電話１３００の斜視図である。携帯電話１３００は、本発明の液晶表示装置を小サイズの表示部１３０１として備え、複数の操作ボタン１３０２、受話口１３０３、及び送話口１３０４を備えて構成されている。携帯電話１３００は、前述した実施形態の液晶表示装置を備えているので、均一な画質を有する画像表示が可能である。
【００７６】
なお、上記実施の形態の液晶表示装置は、上記携帯電話に限らず、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、いずれの電子機器においても、均一な画質を有する画像表示が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】第１実施形態の液晶表示装置の等価回路図である。
【図２】液晶表示装置の１サブ画素の平面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ′断面図である。
【図４】液晶表示装置の光学軸の配置関係の説明図である。
【図５】電極パターンの配置のバリエーションを示す平面模式図である。
【図６】第２実施形態の液晶表示装置の１サブ画素の平面図である。
【図７】第３実施形態の液晶表示装置の１サブ画素の平面図である。
【図８】第４実施形態の液晶表示装置の電極パターンの説明図である。
【図９】電子機器の一例である携帯電話の斜視図である。
【符号の説明】
【００７８】
９…画素電極（第２電極）、９ｃ…帯状電極、１０…ＴＦＴアレイ基板、１３…第２層間絶縁膜、１９…共通電極（第１電極）、２０…対向基板、５０…液晶層、１００，２００，３００…液晶表示装置、１３００…携帯電話（電子機器）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置及び電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の一形態として、液晶層に基板面方向の電界を作用させて液晶分子の配向制御を行う方式（以下、横電界方式と称する。）が知られている。横電界方式としては、ＩＰＳ（In-Plane Switching）方式やＦＦＳ（Fringe-Field Switching）方式が知られている。横電界方式の液晶表示装置には、１サブ画素領域内に複数の帯状電極が形成され、帯状電極の周縁部に形成される基板水平方向の電界によって液晶分子の配向状態が制御される。帯状電極の形状は画像表示領域内で均一に形成される。例えば、帯状電極の幅をＬ、隣接する帯状電極同士の間に配置されるスリットの幅をＳとした場合に、比Ｌ／Ｓは全ての帯状電極について等しく設計される。こうすることで、画像表示領域全体で均一な表示特性が実現される。
【特許文献１】特開２００３−２３３０８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、スリットの幅Ｓや比Ｌ／Ｓは、製造誤差によって、画像表示領域全体で均一に形成されない場合がある。すなわち、帯状電極は、電極材料の表面に帯状のレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクとして電極材料をエッチングすることにより形成される。レジストパターンは、露光マスクを用いて露光処理及び現像処理することにより形成されるが、露光マスクの撓みや、露光マスクを透過した光の回折等によって、レジストパターンの形状にバラツキが発生する場合がある。例えば、レジストパターンの幅をＳ、隣接するレジストパターン同士の間に配置されるスリットの幅をＬとしたときに、比Ｌ／Ｓが異なる領域が１次元的又は２次元的な広がりを持って形成される場合がある。このような領域は、電圧−透過率特性が他の領域と異なるため、濃淡ムラとして視認され易く、画像の品質を低下させる原因となる。
【０００４】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、画素電極を形成する際に電極形状に局所的な形状のバラツキが発生した場合でも、表示ムラが発生しにくく、画像表示領域全体で均一な画質を得ることができる液晶表示装置及び電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の課題を解決するため、本発明の液晶表示装置は、対向する一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された液晶層と、前記一対の基板のうちの一方の基板の前記液晶層側に設けられた第１電極と、前記一方の基板の前記液晶層側において前記第１電極上に絶縁膜を介して対向配置された複数の第２電極とを備え、複数の前記第２電極が、互いに直交する第１配列軸と第２配列軸とに沿って前記一方の基板上に２次元的に配列されてなる液晶表示装置であって、前記第２電極には複数の帯状電極が設けられ、前記帯状電極の幅をＬ、隣接する帯状電極同士の間に配置されたスリットの幅をＳ、前記スリットの長さをＭ、前記帯状電極と前記第１配列軸との成す角度をθとしたときに、前記第２電極は、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成された電極パターンを備えていることを特徴とする。
この構成によれば、第２電極の形状が製造誤差によって目的とする形状から若干ずれたとしても、もともと比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則にばらついているので、製造誤差によるズレが目立たない。そのため、全体として、均一な画質が得られる。また、仮に製造誤差なく第２電極を形成できるとしても、この構成であれば全体として均一な画質を得ることができる。
【０００６】
本発明においては、前記第２電極毎に、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成された複数種類の電極パターンの中から１種類の電極パターンが選択され、前記第１配列軸に沿って隣接する第２電極同士の間、及び前記第２配列軸に沿って隣接する第２電極同士の間で、選択される電極パターンの種類は不規則であることが望ましい。
この構成によれば、全ての第２電極について異なる電極パターンを設定する必要がないので、第２電極の設計が容易になる。
【０００７】
本発明においては、前記第２電極毎に、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成された複数種類の電極パターンの中から１種類の電極パターンが選択され、互いに隣接する複数の第２電極によって構成される領域を単位領域としたときに、１つの単位領域内に配置される複数の第２電極の電極パターンの種類は互いに等しく、且つ、前記第１配列軸に沿って隣接する単位領域同士の間、及び前記第２配列軸に沿って隣接する単位領域同士の間で、選択される電極パターンの種類は不規則であることが望ましい。
この構成によれば、全ての第２電極について異なる電極パターンを設定する必要がないので、第２電極の設計が容易になる。
【０００８】
本発明の液晶表示装置は、対向する一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された液晶層と、前記一対の基板のうちの一方の基板の前記液晶層側に設けられた第１電極と、前記一方の基板の前記液晶層側において前記第１電極上に絶縁膜を介して対向配置された複数の第２電極とを備え、複数の前記第２電極が、互いに直交する第１配列軸と第２配列軸とに沿って前記一方の基板上に２次元的に配列されてなる液晶表示装置であって、前記第２電極には複数の帯状電極が設けられ、前記帯状電極の幅をＬ、隣接する帯状電極同士の間に配置されたスリットの幅をＳ、前記スリットの長さをＭ、前記帯状電極と前記第１配列軸との成す角度をθとしたときに、前記第２電極毎に、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが異なる複数種類の電極パターンの中から１種類の電極パターンが選択され、前記第１配列軸に沿って隣接する第２電極同士の間、及び前記第２配列軸に沿って隣接する第２電極同士の間で、選択される電極パターンの種類は不規則であることを特徴とする。
この構成によれば、第２電極の形状が製造誤差によって目的とする形状から若干ずれたとしても、もともと比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則にばらついているので、製造誤差によるズレが目立たない。そのため、全体として、均一な画質が得られる。また、全ての第２電極について異なる電極パターンを設定する必要がないので、第２電極の設計が容易になる。
【０００９】
本発明の液晶表示装置は、対向する一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された液晶層と、前記一対の基板のうちの一方の基板の前記液晶層側に設けられた第１電極と、前記一方の基板の前記液晶層側において前記第１電極上に絶縁膜を介して対向配置された複数の第２電極とを備え、複数の前記第２電極が、互いに直交する第１配列軸と第２配列軸とに沿って前記一方の基板上に２次元的に配列されてなる液晶表示装置であって、前記第２電極には複数の帯状電極が設けられ、前記帯状電極の幅をＬ、隣接する帯状電極同士の間に配置されたスリットの幅をＳ、前記スリットの長さをＭ、前記帯状電極と前記第１配列軸との成す角度をθとしたときに、前記第２電極毎に、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが異なる複数種類の電極パターンの中から１種類の電極パターンが選択され、互いに隣接する複数の第２電極によって構成される領域を単位領域としたときに、１つの単位領域内に配置される複数の第２電極の電極パターンの種類は互いに等しく、且つ、前記第１配列軸に沿って隣接する単位領域同士の間、及び前記第２配列軸に沿って隣接する単位領域同士の間で、選択される電極パターンの種類は不規則であることを特徴とする。
この構成によれば、第２電極の形状が製造誤差によって目的とする形状から若干ずれたとしても、もともと比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則にばらついているので、製造誤差によるズレが目立たない。そのため、全体として、均一な画質が得られる。また、全ての第２電極について異なる電極パターンを設定する必要がないので、第２電極の設計が容易になる。
【００１０】
本発明の液晶表示装置は、対向する一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された液晶層と、前記一対の基板のうちの一方の基板の前記液晶層側に設けられた第１電極と、前記一方の基板の前記液晶層側において前記第１電極上に絶縁膜を介して対向配置された複数の第２電極とを備え、複数の前記第２電極が、互いに直交する第１配列軸と第２配列軸とに沿って前記一方の基板上に２次元的に配列されてなる液晶表示装置であって、前記第２電極には複数の帯状電極が設けられ、前記帯状電極の幅をＬ、隣接する帯状電極同士の間に配置されたスリットの幅をＳ、前記スリットの長さをＭ、前記帯状電極と前記第１配列軸との成す角度をθとしたときに、前記第１配列軸に沿って隣接する帯状電極同士の間、及び前記第２配列軸に沿って隣接する帯状電極同士の間で、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成されていることを特徴とする。
この構成によれば、第２電極の形状が製造誤差によって目的とする形状から若干ずれたとしても、もともと比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則にばらついているので、製造誤差によるズレが目立たない。そのため、全体として、均一な画質が得られる。
【００１１】
本発明においては、単位領域の大きさは、肉眼で視認できない大きさであることが望ましい。「肉眼で視認できない」とは、観察者が通常の使用態様で画面全体を直視する場合において視認できない若しくは注意が向かないことを意味し、顕微鏡等を用いて画像表示領域の一部を拡大観察する場合に視認できないことまでは意味しない。肉眼で視認できない大きさとしては、数百μｍ以下の大きさ、より好ましくは１００μｍ以下の大きさを想定している。個人差にもよるが、数百μｍ以下の大きさであれば、肉眼でははっきりと視認できないと考えられるからである。単位領域の大きさは、小さすぎると、単位領域の数が増えるので、帯状電極の設計が複雑になる。したがって、単位領域に含まれる第２電極の数を一定の数以下（例えば１０以下）に制限することが望ましい。
【００１２】
本発明においては、前記電極パターンの種類は３種類以上であることが望ましい。
電極パターンの種類は２種類あれば表示ムラを防止する効果があるが、３種類以上とすることで、表示ムラの発生を確実に防止することができる。
【００１３】
本発明の電子機器は、前述した本発明の液晶表示装置を備えていることを特徴とする。
この構成によれば、高品質な画像表示が可能な電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
［第１の実施の形態］
以下、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置を図面を参照して説明する。なお、以下の説明では、ＸＹＺ直交座標系を用いて部材の配置を説明する。本実施形態では、Ｘ軸方向を走査線の延在方向、Ｙ軸方向をデータ線の延在方向、Ｚ軸方向を観察者による画像表示領域の観察方向とする。各図面においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。
【００１５】
本実施形態の液晶表示装置は、液晶に対し略基板面方向の電界を印加して配向を制御することにより画像表示を行う方式のうち、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）方式と呼ばれる方式を採用した液晶表示装置である。また本実施形態の液晶表示装置は、基板上にカラーフィルタ層を具備したカラー液晶表示装置であり、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色光を出力する３個のサブ画素で１個の画素を構成するものとなっている。以下の説明では、画像表示の最小単位となる領域を「サブ画素領域」と呼び、一組（Ｒ，Ｇ，Ｂ）のサブ画素によって構成される領域を「画素領域」と呼ぶ。また、Ｘ軸方向及び軸方向に２次元的に配列された複数の画素によって構成される領域を「画像表示領域」と呼ぶ。
【００１６】
図１は、本実施形態の液晶表示装置１００の等価回路図である。液晶表示装置１００の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数のサブ画素領域には、画素電極９と画素電極９をスイッチング制御するためのＴＦＴ３０とが形成されている。画素電極９と共通電極１９との間には液晶層５０が介在している。共通電極１９は走査線駆動回路１０２から延びる共通線３ｂと電気的に接続されており、複数のサブ画素において共通の電位に保持されるようになっている。
【００１７】
データ線駆動回路１０１から延びるデータ線６ａがＴＦＴ３０のソースと電気的に接続されている。データ線駆動回路１０１は、画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎを、データ線６ａを介して各サブ画素に供給する。前記画像信号Ｓ１〜Ｓｎはこの順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線６ａ同士に対して、グループ毎に供給するようにしてもよい。
【００１８】
ＴＦＴ３０のゲートには、走査線駆動回路１０２から延びる走査線３ａが電気的に接続されている。走査線駆動回路１０２から所定のタイミングで走査線３ａにパルス的に供給される走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇｍが、この順に線順次でＴＦＴ３０のゲートに印加されるようになっている。
【００１９】
画素電極９は、ＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されている。スイッチング素子であるＴＦＴ３０が走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇｍの入力により一定期間だけオン状態とされることで、データ線６ａから供給される画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎが所定のタイミングで画素電極９に書き込まれるようになっている。画素電極９を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、画素電極９と液晶を介して対向する共通電極１９との間で一定期間保持される。
【００２０】
図２は、液晶表示装置１００の任意の１サブ画素領域の平面図である。液晶表示装置１００のサブ画素領域には、平面視略梯子状を成すＹ軸方向に長手の画素電極（第２電極）９と、画素電極９と平面的に重なって配置された平面略矩形状の共通電極（第１電極）１９とが設けられている。画素電極９は、概略Ｘ軸方向に延びる複数本（図示では１５本）の帯状電極９ｃと、これらの帯状電極９ｃの両端部と接続された平面視略矩形枠状の枠体部９ａとを備えている。
【００２１】
画素電極９には、Ｘ軸と略平行に延在する複数のスリットＳｃ（スリット状の開口部）が設けられている。スリットＳｃの枠体部９ａ側の両端部には、スリットＳｃの中心を通ってＸ軸に平行な軸から離間する方向に湾曲した湾曲部Ｓｅ，Ｓｆが形成されている。スリットＳｃにおいて湾曲部Ｓｅ，Ｓｆ以外の部分は、直線状に形成された直線部Ｓｄとされている。直線部Ｓｄは、Ｘ軸に対して若干傾いて配置されている。本実施形態の場合、直線部Ｓｄは、Ｘ軸から時計回りに鋭角θだけ交差する方向に延びている。湾曲部Ｓｅは、直線部Ｓｄのデータ線６ａとは反対側の端部に設けられており、スリットＳｃ（直線部Ｓｄ）の中央部における中心線（Ｙ軸に平行な線）と比較してデータ線６ａから離間するにしたがって走査線３ａに近接するように湾曲している。湾曲部Ｓｆは、直線部Ｓｄのデータ線６ａ側の端部に設けられており、スリットＳｃ（直線部Ｓｄ）の中央部における中心線（Ｙ軸に平行な線）と比較してデータ線６ａに接近するにしたがって走査線３ａから離間するように湾曲している。
【００２２】
画素電極９には、複数のスリットＳｃにより、互いに平行にＹ軸方向に配列された複数の帯状電極９ｃが形成されている。帯状電極９ｃの枠体部９ａと接続される両端部には、帯状電極９ｃの中心を通ってＸ軸に平行な軸から離間する方向に湾曲した湾曲部９ｅ，９ｆが形成されている。帯状電極９ｃにおいて湾曲部９ｅ，９ｆ以外の部分は、直線状に形成された直線部９ｄとされている。直線部９ｄは、Ｘ軸に対して若干傾いて配置されている。本実施形態の場合、直線部９ｄの延在方向は、Ｘ軸に対して時計回りの方向に角度θだけ鋭角に交差する方向である。湾曲部９ｅは、直線部９ｄのデータ線６ａとは反対側の端部に設けられており、帯状電極９ｃ（直線部９ｄ）の中央部における中心線（Ｙ軸に平行な線）と比較してデータ線６ａから離間するにしたがって走査線３ａに近接するように湾曲している。湾曲部９ｆは、直線部９ｄのデータ線６ａ側の端部に設けられており、帯状電極９ｃ（直線部９ｄ）の中央部における中心線（Ｙ軸に平行な線）と比較してデータ線６ａに接近するにしたがって走査線３ａから離間するように湾曲している。
【００２３】
図２において、湾曲部９ｅ、９ｆは、滑らかな曲線状に形成されているが、湾曲部９ｅ，９ｆを複数の直線部、或いは曲線部と直線部とにより形成しても良い。この場合、直線部や曲線部は、液晶分子が回転する方向と同方向の回転を液晶分子に付与する電界が発生する傾斜部を備えていることが望ましい。図２の液晶表示装置の場合、湾曲部９ｅ，９ｆの端部（枠体部９ａとの接続部）以外の部分が前記傾斜部となっている。
【００２４】
本実施形態の場合、スリットＳｃの直線部Ｓｄの幅Ｓ（直線部Ｓｄと直交する方向の幅）は、全てのスリットＳｃにおいて等しく形成されている。直線部Ｓｄの長さ（直線部Ｓｄの延在方向と平行な方向の長さ）は、画素電極９のＹ軸方向両端部に形成されたスリットＳを除き、全てのスリットＳにおいて等しく形成されている。また、直線部ＳｄとＸ軸との成す角度θは、全てのスリットＳにおいて等しく形成されている。
【００２５】
一方、直線部Ｓｄ同士のＹ軸方向の間隔（Ｓ１，Ｓ２）は、画素電極９内で不規則に形成されている。それにより、帯状電極９ｃの直線部９ｄのＹ軸方向の幅（Ｌ１，Ｌ２）は、画素電極９内で不規則に形成されている。直線部９ｄの該直線部９ｄと直交する方向の幅をＬ、直線部Ｓｄの該直線部Ｓｄと直交する方向の幅をＳとしたときに、１つのサブ画素領域内に配置される複数の帯状電極同士の間で、比Ｌ／Ｓは不規則に形成されている。
【００２６】
なお、図２では１つの画素電極９のみを示したが、画素電極９の形状は各サブ画素領域について共通である。すなわち、画素電極９は、１つのサブ画素領域内では、比Ｌ／Ｓが不規則に形成された電極パターンを備えているが、Ｘ軸方向及びＹ軸方向にマトリクス状に配列された複数のサブ画素領域同士の間では、各画素電極９の電極パターンは全て等しく形成されている。
【００２７】
サブ画素領域には、Ｙ軸方向に延びるデータ線６ａと、Ｘ軸方向に延びる走査線３ａとが形成されている。データ線６ａと走査線３ａとの交差部の近傍には、ＴＦＴ３０が設けられている。ＴＦＴ３０は走査線３ａと部分的に重なるように形成されたアモルファスシリコンからなる半導体層３５と、半導体層３５と一部平面的に重なって形成されたソース電極６ｂ及びドレイン電極３２とを備えている。走査線３ａは半導体層３５と平面的に重なる位置でＴＦＴ３０のゲート電極として機能する。ソース電極６ｂは、データ線６ａから分岐されて半導体層３５に延びている。ドレイン電極３２上には、画素電極９が配置されており、両者が平面的に重なる位置には画素コンタクトホール４５が設けられている。そして、画素コンタクトホール４５を介してドレイン電極３２と画素電極９とが電気的に接続されている。
【００２８】
図３は、図２のＡ−Ａ′線に沿う断面図である。液晶表示装置１００は、ＴＦＴアレイ基板１０と、ＴＦＴアレイ基板１０と対向配置された対向基板２０と、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間に挟持された液晶層５０と、ＴＦＴアレイ基板１０の外面側（液晶層５０と反対側）に設けられた第１偏光板１４と、対向基板２０の外面側に設けられた第２偏光板２４と、第１偏光板１４の外面側に設けられた照明装置９０と、を備えている。そして、導光板９１と反射板９２とを備えた照明装置９０によって第１偏光板１４の外面側から照明光が照射される構成となっている。
【００２９】
ＴＦＴアレイ基板１０は、ガラスや石英、プラスチック等の透光性の基板本体１０Ａを基体としてなり、基板本体１０Ａの内面側（液晶層５０側）には、走査線３ａが形成されており、走査線３ａを覆って、酸化シリコン等の透明絶縁膜からなるゲート絶縁膜１１が形成されている。
【００３０】
ゲート絶縁膜１１上には、アモルファスシリコンの半導体層３５が形成されており、半導体層３５に一部乗り上げるようにしてソース電極６ｂと、ドレイン電極３２とが設けられている。半導体層３５は、ゲート絶縁膜１１を介して走査線３ａと対向しており、当該対向領域で走査線３ａがＴＦＴ３０のゲート電極を構成するようになっている。
【００３１】
半導体層３５、ソース電極６ｂ、及びドレイン電極３２を覆って、酸化シリコン等からなる第１層間絶縁膜１２が形成されている。第１層間絶縁膜１２上に、ＩＴＯ等の透明導電材料からなる平面ベタ状の共通電極１９が形成されている。共通電極１９を覆って、酸化シリコン等からなる第２層間絶縁膜１３が形成されており、第２層間絶縁膜１３上にＩＴＯ等の透明導電材料からなる画素電極９がパターン形成されている。
【００３２】
第１層間絶縁膜１２及び第２層間絶縁膜１３を貫通してドレイン電極３２に達する画素コンタクトホール４５が形成されている。そして、画素コンタクトホール４５内に画素電極９の一部が埋設されて、画素電極９とドレイン電極３２とが電気的に接続されている。画素コンタクトホール４５の形成領域に対応して共通電極１９にも開口部が設けられており、共通電極１９と画素電極９とが接触しないようになっている。
【００３３】
画素電極９を覆う第２層間絶縁膜１３上の領域には、ポリイミド等からなる第１配向膜１８が形成されている。第１配向膜１８はラビング処理等の配向処理を施されて液晶を所定方向に配向させるようになっている。第１配向膜１８による配向規制方向は、本実施形態の場合、走査線３ａの延在方向と平行であり、画素電極９のスリットＳの延在方向とは交差する方向である。
【００３４】
対向基板２０は、ガラスや石英、プラスチック等の透光性の基板本体２０Ａを基体としてなり、基板本体２０Ａの内面側（液晶層５０側）には、カラーフィルタ層２２が設けられている。カラーフィルタ層２２は、サブ画素領域に対応して配置されており、例えばアクリルなどで構成されて各サブ画素の表示色に対応する色材を含有している。
【００３５】
カラーフィルタ層２２の内面側には、ポリイミド等からなる第２配向膜２８が形成されている。第２配向膜２８はＴＦＴアレイ基板１０側の第１配向膜１８と同様の構成であり、第２配向膜２８による配向規制方向は、第１配向膜１８の配向規制方向と反平行であり、したがって液晶層５０は、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で、水平配向の初期配向状態を呈する。
【００３６】
図４は、液晶表示装置１００を構成する光学素子等の光学軸の配置関係の説明図である。第１偏光板１４の透過軸１５５はＹ軸と平行である。第２偏光板２４の透過軸１５３はＸ軸と平行である。配向膜１８，２８は平面視同一方向にラビング処理されており、その方向は、ラビング方向１５１である。ラビング方向（配向規制方向）１５１はＸ軸方向と平行である。画素電極９と共通電極１９との間に発生する横電界の方向１５８は、画素電極に形成される帯状電極９ｃの延在方向と直交する方向である。帯状電極９ｃはＸ軸から時計回りに５°〜１５°で交差する方向に延びている。そのため、画素電極９と共通電極１９との間に発生する横電界の方向１５８は、Ｙ軸から時計回りに５°〜１５°（図４では符号θＥで示している）を成す方向である。
【００３７】
上記構成の液晶表示装置１００では、ＴＦＴ３０を介して画素電極９に画像信号（電圧）を供給することで、画素電極９と共通電極１９との間に基板面方向の電界を生じさせ、この電界によって液晶を駆動する。そして、サブ画素領域毎に透過率を変更させて表示を行う。すなわち、画素電極９に電圧を印加しない状態において、液晶層５０を構成する液晶分子は、ラビング方向と平行に水平配向している。そして、画素電極９及び共通電極１９を介して画素電極９を構成する帯状電極９ｃの延在方向に対して直交する方向の電界を液晶層５０に発生させると、液晶分子が基板面内で回転し、電界の方向と平行な方向に配向する。
【００３８】
照明装置９０から射出された照明光は、第１偏光板１４を透過することで、第１偏光板１４の透過軸に沿う直線偏光に変換され、液晶層５０に入射する。そして、液晶層５０がオフ状態（非選択状態）であれば、液晶層５０に入射した直線偏光は、入射時と同一の偏光状態で液晶層５０から出射する。この直線偏光は、直線偏光と直交する透過軸を有する第２偏光板２４に吸収されて、サブ画素領域が暗表示となる。一方、液晶層５０がオン状態（選択状態）であれば、液晶層５０に入射した直線偏光は、液晶層５０により所定の位相差（１／２波長）が付与されて、入射時の偏光方向から９０°回転した直線偏光に変換されて液晶層５０から射出される。この直線偏光は、第２偏光板２４の透過軸と平行であるため、偏光板２４を透過して表示光として視認され、サブ画素領域が明表示となる。以上により、ノーマリブラックモードの液晶表示装置が実現される。
【００３９】
ここで、図２に示したように、１画素電極内には、帯状電極９ｃの幅ＬとスリットＳｃの幅Ｓとの比Ｌ／ＳがＹ軸方向において不規則に形成された電極パターンが形成されている。そのため、画素電極９を形成する工程で、製造誤差によって、画素電極の形状が目的とする形状から若干ずれたとしても、もともと比Ｌ／Ｓの大きさが不規則にばらついているので、製造誤差によるズレが目立たない。そのため、全体として、均一な画質が得られる。
【００４０】
なお、本実施形態では、画素電極９の電極パターンを全ての画素電極について等しく形成したが、画素電極９の電極パターンは、画素電極９毎、或いは複数の画素電極９からなる単位領域毎に異ならせても良い。
【００４１】
図５（ａ）は、画素電極９の電極パターンをＸ軸方向及びＹ軸方向において不規則に形成した場合の画像表示領域の平面模式図である。図５（ａ）では、比Ｌ／Ｓが不規則に形成された電極パターンを３種類用意し（電極パターンＡ１、電極パターンＡ２、電極パターンＡ３）、画素電極９毎に、３種類の電極パターンＡ１、Ａ２、Ａ３の中から１種類の電極パターンを選択している。Ｘ軸に沿って隣接する画素電極９同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する画素電極９同士の間では、選択される電極パターンの種類は不規則である。
【００４２】
なお、図５（ａ）では電極パターンの種類を３種類としたが、電極パターンの種類は３種類に限らず、２種類、又は４種類以上とすることもできる。
【００４３】
図５（ｂ）は、互いに隣接する複数の画素電極９によって構成される領域を単位領域とし、単位領域毎に、画素電極９の電極パターンを不規則に形成した場合の画像表示領域の平面模式図である。図５（ｂ）では、比Ｌ／Ｓが不規則に形成された電極パターンを３種類用意し（電極パターンＡ１、電極パターンＡ２、電極パターンＡ３）、Ｘ軸に沿って隣接する３つの画素電極９によって構成される単位領域毎（この場合、画素領域毎）に、３種類の電極パターンＡ１、Ａ２、Ａ３の中から１種類の電極パターンを選択している。１つの単位領域内に配置される複数の画素電極９の電極パターンの種類は互いに等しいが、Ｘ軸に沿って隣接する単位領域同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する単位領域同士の間では、選択される電極パターンの種類は不規則である。
【００４４】
なお、図５（ｂ）では電極パターンの種類を３種類としたが、電極パターンの種類は３種類に限らず、２種類、又は４種類以上とすることもできる。
【００４５】
また、単位領域は、Ｘ軸に沿って隣接する３つの画素電極９によって構成される領域に限らず、Ｘ軸に沿って隣接する２つ又は４つ以上の画素電極９によって構成される領域、或いはＹ軸に沿って隣接する２つ以上の画素電極９によって構成される領域としても良い。さらに、Ｘ軸に沿って隣接するｍ列分の画素電極及びＹ軸に沿って隣接するｎ行分の画素電極によって構成される領域（ｍ列×ｎ行分の複数の画素電極９からなる領域）を単位領域として、単位領域毎に、選択される画素電極９の電極パターンを不規則に形成しても良い。
【００４６】
この場合、単位領域の大きさは、肉眼で視認できない大きさであることが望ましい。「肉眼で視認できない」とは、観察者が通常の使用態様で画面全体を直視する場合において視認できない若しくは注意が向かないことを意味し、顕微鏡等を用いて画像表示領域の一部を拡大観察する場合に視認できないことまでは意味しない。肉眼で視認できない大きさとしては、数百μｍ以下の大きさ、より好ましくは１００μｍ以下の大きさを想定している。個人差にもよるが、数百μｍ以下の大きさであれば、肉眼でははっきりと視認できないと考えられるからである。単位領域の大きさは、小さすぎると、単位領域の数が増えるので、帯状電極の設計が複雑になる。したがって、単位領域に含まれる画素電極９の数を一定の数以下（例えば１０以下）に制限することが望ましい。
【００４７】
図５（ｃ）は、画素電極９の電極パターンを全ての画素電極９について異ならせた場合の画像表示領域の平面模式図である。図５（ｃ）では、比Ｌ／Ｓが不規則に形成された電極パターンをサブ画素領域の数だけ用意する。この場合、Ｘ軸に沿って隣接する帯状電極同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する帯状電極同士の間で、比Ｌ／Ｓが不規則に形成されることとなる。
【００４８】
［第２の実施の形態］
図６は、本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置２００の任意の１サブ画素領域における平面構成図である。本実施形態において、第１実施形態に係る液晶表示装置と共通の構成については、同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００４９】
本実施形態の場合、スリットＳｃの直線部Ｓｄの幅Ｓ（直線部Ｓｄと直交する方向の幅）は、全てのスリットＳｃにおいて等しく形成されている。しかしながら、直線部Ｓｄ同士のＹ軸方向の間隔は、画素電極９内で不規則に形成されている。また、直線部Ｓｄの長さ（直線部Ｓｄの延在方向と平行な方向の長さ、或いはＸ軸方向の長さ（Ｗ１，Ｗ２））や、直線部ＳｄとＸ軸との成す角度（θ１，θ２）も、画素電極９内で不規則に形成されている。そのため、直線部Ｓｄの長さをＭ、直線部ＳｄとＸ軸との成す角度をθとしたときに、１画素電極内で、長さＭ及び角度θが不規則に形成された電極パターンが形成されている。
【００５０】
なお、図６では１つの画素電極９のみを示したが、画素電極９の形状は各サブ画素領域について共通である。すなわち、画素電極９は、１つのサブ画素領域内では、長さＭ及び角度θが不規則に形成された電極パターンを備えているが、Ｘ軸方向及びＹ軸方向にマトリクス状に配列された複数のサブ画素領域同士の間では、各画素電極９の電極パターンは全て等しく形成されている。
【００５１】
本実施形態の液晶表示装置２００によれば、画素電極９を形成する工程で、製造誤差によって、画素電極の形状が目的とする形状から若干ずれたとしても、もともと長さＭ及び角度θが不規則にばらついているので、製造誤差によるズレが目立たない。そのため、全体として、均一な画質が得られる。
【００５２】
なお、本実施形態では、１画素電極内において、長さＭ及び角度θの全てを不規則に形成したが、長さＭと角度θは、少なくとも一方が不規則に形成されていれば良く、それにより本実施形態と同様の効果が得られる。
【００５３】
また、本実施形態では、画素電極９の電極パターンを全ての画素電極について等しく形成したが、画素電極９の電極パターンは、画素電極９毎、或いは複数の画素電極９からなる単位領域毎に異ならせても良い。
【００５４】
例えば、図５（ａ）に示したように、長さＭと角度θとのうちの少なくとも１つが不規則に形成された電極パターンを複数種類用意し（図５（ａ）では電極パターンＡ１、電極パターンＡ２、電極パターンＡ３）、画素電極９毎に、複数種類の電極パターンＡ１、Ａ２、Ａ３の中から１種類の電極パターンを選択しても良い。この場合、Ｘ軸に沿って隣接する画素電極９同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する画素電極９同士の間では、選択される電極パターンの種類は不規則である。
【００５５】
また、図５（ｂ）に示したように、長さＭと角度θとのうちの少なくとも１つが不規則に形成された電極パターンを複数種類用意し（図５（ｂ）では電極パターンＡ１、電極パターンＡ２、電極パターンＡ３）、互いに隣接する複数の画素電極９によって構成される単位領域毎に、前記複数種類の電極パターンＡ１、Ａ２、Ａ３の中から１種類の電極パターンを選択しても良い。１つの単位領域内に配置される複数の画素電極９の電極パターンの種類は互いに等しいが、Ｘ軸に沿って隣接する単位領域同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する単位領域同士の間では、選択される電極パターンの種類は不規則である。
【００５６】
また、図５（ｃ）に示したように、長さＭと角度θとのうちの少なくとも１つが不規則に形成された電極パターンをサブ画素領域の数だけ用意し、全ての画素電極の電極パターンを異ならせても良い。この場合、Ｘ軸に沿って隣接する帯状電極同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する帯状電極同士の間で、長さＭと角度θとのうちの少なくとも１つが不規則に形成されることとなる。
【００５７】
［第３の実施の形態］
図７は、本発明の第３実施形態に係る液晶表示装置３００の任意の１サブ画素領域における平面構成図である。本実施形態において、第１実施形態及び第２実施形態に係る液晶表示装置と共通の構成については、同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００５８】
本実施形態の液晶表示装置３００は、画素電極９がいわゆるマルチドメイン構造となっている。すなわち、画素電極９に形成されるスリットＳｃの延在方向は、サブ画素領域において走査線３ａに近接する側の半分の領域と走査線３ａから離間する側の他の半分の領域とで異なっている。複数のスリットＳｃのうち走査線３ａに近接する側の半分の領域に形成されたスリットＳｃは、データ線６ａから離間するにしたがって走査線３ａから離間するように延在している。また、複数のスリットＳｃのうち走査線３ａから離間する側の半分の領域に形成されたスリットＳｃは、データ線６ａから離間するにしたがって走査線３ａに近接するように延在している。スリットＳｃには湾曲部は形成されていない。したがって、スリットＳｃは直線部のみで形成されており、帯状電極９ｃにも湾曲部は形成されない。
【００５９】
本実施形態の場合、スリットＳｃの長さ（スリットＳｃの延在方向と平行な方向の長さ）は、全てのスリットＳｃにおいて等しく形成されている。しかしながら、スリット同士のＹ軸方向の間隔は、画素電極内で不規則に形成されている。また、スリットＳｃの幅（スリットＳｃと直交する方向の幅）や、スリットＳｃとＸ軸との成す角度も、画素電極９内で不規則に形成されている。そのため、スリットＳｃの長さをＭ、スリットＳｃとＸ軸との成す角度をθとしたときに、１画素電極内で、角度θが不規則に形成された電極パターンが形成されている。
【００６０】
なお、図７では１つの画素電極９のみを示したが、画素電極９の形状は各サブ画素領域について共通である。すなわち、画素電極９は、１つのサブ画素領域内では、角度θが不規則に形成された電極パターンを備えているが、Ｘ軸方向及びＹ軸方向にマトリクス状に配列された複数のサブ画素領域同士の間では、各画素電極９の電極パターンは全て等しく形成されている。
【００６１】
本実施形態の液晶表示装置３００によれば、画素電極９を形成する工程で、製造誤差によって、画素電極の形状が目的とする形状から若干ずれたとしても、もともと角度θが不規則にばらついているので、製造誤差によるズレが目立たない。そのため、全体として、均一な画質が得られる。
【００６２】
なお、本実施形態では、１画素電極内において角度θを不規則に形成したが、角度θの代わりに、帯状電極の幅Ｌとスリットの幅Ｓとの比Ｌ／Ｓや、スリットの長さＭを不規則に形成してもよく、それにより本実施形態と同様の効果が得られる。
【００６３】
また、本実施形態では、画素電極９の電極パターンを全ての画素電極について等しく形成したが、画素電極９の電極パターンは、画素電極９毎、或いは複数の画素電極９からなる単位領域毎に異ならせても良い。
【００６４】
例えば、図５（ａ）に示したように、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、又は角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成された電極パターンを複数種類用意し（図５（ａ）では電極パターンＡ１、電極パターンＡ２、電極パターンＡ３）、画素電極９毎に、複数種類の電極パターンＡ１、Ａ２、Ａ３の中から１種類の電極パターンを選択しても良い。この場合、Ｘ軸に沿って隣接する画素電極９同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する画素電極９同士の間では、選択される電極パターンの種類は不規則である。
【００６５】
また、図５（ｂ）に示したように、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、又は角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成された電極パターンを複数種類用意し（図５（ｂ）では電極パターンＡ１、電極パターンＡ２、電極パターンＡ３）、互いに隣接する複数の画素電極９によって構成される単位領域毎に、前記複数種類の電極パターンＡ１、Ａ２、Ａ３の中から１種類の電極パターンを選択しても良い。１つの単位領域内に配置される複数の画素電極９の電極パターンの種類は互いに等しいが、Ｘ軸に沿って隣接する単位領域同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する単位領域同士の間では、選択される電極パターンの種類は不規則である。
【００６６】
また、図５（ｃ）に示したように、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、又は角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成された電極パターンをサブ画素領域の数だけ用意し、全ての画素電極の電極パターンを異ならせても良い。この場合、Ｘ軸に沿って隣接する帯状電極同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する帯状電極同士の間で、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、又は角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成されることとなる。
【００６７】
［第４の実施の形態］
図８は、本発明の第４実施形態に係る液晶表示装置の任意の１サブ画素領域における平面構成図である。本実施形態において、第１実施形態及び第２実施形態に係る液晶表示装置と共通の構成については、同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００６８】
第１実施形態から第３実施形態までの液晶表示装置では、１画素電極内に、スリットの形状又は配置が不規則に形成された電極パターンが形成されていた。すなわち、帯状電極の幅をＬ、隣接する帯状電極同士の間に配置されたスリットの幅をＳ、スリットの長さをＭ、帯状電極とＸ軸との成す角度をθとしたときに、画素電極は、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成された電極パターンを備えていた。しかしながら、図５のような構成の場合、１画素電極内で、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θは必ずしも不規則に形成されている必要はない。
【００６９】
例えば、図８（ａ）に示した電極パターンＡ１と、図８（ｂ）に示した電極パターンＡ２と、図８（ｃ）に示した電極パターンＡ３とを用意し、画素電極毎に、電極パターンＡ１、電極パターンＡ２、及び電極パターンＡ３の中から１種類の電極パターンを選択する。そして、図５（ａ）に示したように、Ｘ軸に沿って隣接する画素電極同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する画素電極同士の間で、選択される電極パターンの種類を不規則に形成する。
【００７０】
電極パターンＡ１、電極パターンＡ２、及び電極パターンＡ３は、比Ｌ／Ｓの大きさが互いに異なっている。すなわち、電極パターンＡ１では、スリットＳｃの幅はＳ１、帯状電極９ｃの幅はＬ１であり、１画素電極内で、比Ｌ１／Ｓ１は一定の大きさで形成されている。また、長さＭ及び角度θも、全てのスリットＳｃで等しく形成されている。電極パターンＡ２では、スリットＳｃの幅はＳ１、帯状電極９ｃの幅はＬ２（＜Ｌ１）であり、１画素電極内で、比Ｌ２／Ｓ１は一定の大きさで形成されている。また、長さＭ及び角度θも、全てのスリットＳｃで等しく形成されている。電極パターンＡ３では、スリットＳｃの幅はＳ１、帯状電極９ｃの幅はＬ３（＜Ｌ２）であり、１画素電極内で、比Ｌ３／Ｓ１は一定の大きさで形成されている。また、長さＭ及び角度θも、全てのスリットＳｃで等しく形成されている。
【００７１】
図８では、比Ｌ／Ｓの大きさを互いに異ならせた３つの電極パターンを用意したが、電極パターンの種類はこのようなものに限定されない。すなわち、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが異なる複数種類の電極パターンを用意し、画素電極毎に、前記複数種類の電極パターンの中から１種類の電極パターンを選択すれば良い。そして、図５（ａ）に示したように、Ｘ軸に沿って隣接する画素電極同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する画素電極同士の間で、選択される電極パターンの種類を不規則に形成する。異なる電極パターン同士の間では、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θは、少なくとも１つが異なっていれば良く、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θが画素電極内で不規則に形成されている必要はない。
【００７２】
同様の電極パターンを用いて、図５（ｂ）に示したような電極パターンの配置を行うこともできる。すなわち、互いに隣接する複数の画素電極によって構成される領域を単位領域としたときに、１つの単位領域内に配置される複数の画素電極の電極パターンの種類を互いに等しくし、且つ、Ｘ軸に沿って隣接する単位領域同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する単位領域同士の間で、選択される電極パターンの種類を不規則に形成する。
【００７３】
さらに、同様の電極パターンを用いて、図５（ｃ）に示したような電極パターンの配置を行うこともできる。すなわち、電極パターンをサブ画素領域の数だけ用意し、全ての画素電極の電極パターンを異ならせても良い。この場合、Ｘ軸に沿って隣接する帯状電極同士の間、及びＹ軸に沿って隣接する帯状電極同士の間で、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つを不規則に形成される。
【００７４】
いずれの場合も、画素電極を形成する工程で、製造誤差によって、画素電極の形状が目的とする形状から若干ずれたとしても、もともと画素電極同士の間で、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則にばらついているので、製造誤差によるズレが目立たない。そのため、全体として、均一な画質が得られる。
【００７５】
［電子機器］
図９は、本発明の電子機器の一例である携帯電話１３００の斜視図である。携帯電話１３００は、本発明の液晶表示装置を小サイズの表示部１３０１として備え、複数の操作ボタン１３０２、受話口１３０３、及び送話口１３０４を備えて構成されている。携帯電話１３００は、前述した実施形態の液晶表示装置を備えているので、均一な画質を有する画像表示が可能である。
【００７６】
なお、上記実施の形態の液晶表示装置は、上記携帯電話に限らず、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、いずれの電子機器においても、均一な画質を有する画像表示が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】第１実施形態の液晶表示装置の等価回路図である。
【図２】液晶表示装置の１サブ画素の平面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ′断面図である。
【図４】液晶表示装置の光学軸の配置関係の説明図である。
【図５】電極パターンの配置のバリエーションを示す平面模式図である。
【図６】第２実施形態の液晶表示装置の１サブ画素の平面図である。
【図７】第３実施形態の液晶表示装置の１サブ画素の平面図である。
【図８】第４実施形態の液晶表示装置の電極パターンの説明図である。
【図９】電子機器の一例である携帯電話の斜視図である。
【符号の説明】
【００７８】
９…画素電極（第２電極）、９ｃ…帯状電極、１０…ＴＦＴアレイ基板、１３…第２層間絶縁膜、１９…共通電極（第１電極）、２０…対向基板、５０…液晶層、１００，２００，３００…液晶表示装置、１３００…携帯電話（電子機器）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された液晶層と、前記一対の基板のうちの一方の基板の前記液晶層側に設けられた第１電極と、前記一方の基板の前記液晶層側において前記第１電極上に絶縁膜を介して対向配置された複数の第２電極とを備え、複数の前記第２電極が、互いに直交する第１配列軸と第２配列軸とに沿って前記一方の基板上に２次元的に配列されてなる液晶表示装置であって、
前記第２電極には複数の帯状電極が設けられ、
前記帯状電極の幅をＬ、隣接する帯状電極同士の間に配置されたスリットの幅をＳ、前記スリットの長さをＭ、前記帯状電極と前記第１配列軸との成す角度をθとしたときに、前記第２電極は、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成された電極パターンを備えていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記第２電極毎に、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成された複数種類の電極パターンの中から１種類の電極パターンが選択され、
前記第１配列軸に沿って隣接する第２電極同士の間、及び前記第２配列軸に沿って隣接する第２電極同士の間で、選択される電極パターンの種類は不規則であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第２電極毎に、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成された複数種類の電極パターンの中から１種類の電極パターンが選択され、
互いに隣接する複数の第２電極によって構成される領域を単位領域としたときに、１つの単位領域内に配置される複数の第２電極の電極パターンの種類は互いに等しく、且つ、前記第１配列軸に沿って隣接する単位領域同士の間、及び前記第２配列軸に沿って隣接する単位領域同士の間で、選択される電極パターンの種類は不規則であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
対向する一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された液晶層と、前記一対の基板のうちの一方の基板の前記液晶層側に設けられた第１電極と、前記一方の基板の前記液晶層側において前記第１電極上に絶縁膜を介して対向配置された複数の第２電極とを備え、複数の前記第２電極が、互いに直交する第１配列軸と第２配列軸とに沿って前記一方の基板上に２次元的に配列されてなる液晶表示装置であって、
前記第２電極には複数の帯状電極が設けられ、
前記帯状電極の幅をＬ、隣接する帯状電極同士の間に配置されたスリットの幅をＳ、前記スリットの長さをＭ、前記帯状電極と前記第１配列軸との成す角度をθとしたときに、前記第２電極毎に、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが異なる複数種類の電極パターンの中から１種類の電極パターンが選択され、
前記第１配列軸に沿って隣接する第２電極同士の間、及び前記第２配列軸に沿って隣接する第２電極同士の間で、選択される電極パターンの種類は不規則であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
対向する一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された液晶層と、前記一対の基板のうちの一方の基板の前記液晶層側に設けられた第１電極と、前記一方の基板の前記液晶層側において前記第１電極上に絶縁膜を介して対向配置された複数の第２電極とを備え、複数の前記第２電極が、互いに直交する第１配列軸と第２配列軸とに沿って前記一方の基板上に２次元的に配列されてなる液晶表示装置であって、
前記第２電極には複数の帯状電極が設けられ、
前記帯状電極の幅をＬ、隣接する帯状電極同士の間に配置されたスリットの幅をＳ、前記スリットの長さをＭ、前記帯状電極と前記第１配列軸との成す角度をθとしたときに、前記第２電極毎に、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが異なる複数種類の電極パターンの中から１種類の電極パターンが選択され、
互いに隣接する複数の第２電極によって構成される領域を単位領域としたときに、１つの単位領域内に配置される複数の第２電極の電極パターンの種類は互いに等しく、且つ、前記第１配列軸に沿って隣接する単位領域同士の間、及び前記第２配列軸に沿って隣接する単位領域同士の間で、選択される電極パターンの種類は不規則であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
対向する一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された液晶層と、前記一対の基板のうちの一方の基板の前記液晶層側に設けられた第１電極と、前記一方の基板の前記液晶層側において前記第１電極上に絶縁膜を介して対向配置された複数の第２電極とを備え、複数の前記第２電極が、互いに直交する第１配列軸と第２配列軸とに沿って前記一方の基板上に２次元的に配列されてなる液晶表示装置であって、
前記第２電極には複数の帯状電極が設けられ、
前記帯状電極の幅をＬ、隣接する帯状電極同士の間に配置されたスリットの幅をＳ、前記スリットの長さをＭ、前記帯状電極と前記第１配列軸との成す角度をθとしたときに、前記第１配列軸に沿って隣接する帯状電極同士の間、及び前記第２配列軸に沿って隣接する帯状電極同士の間で、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
１つの単位領域に含まれる前記第２電極の数は１０以下であることを特徴とする請求項３又は５に記載の液晶表示領域。
【請求項８】
前記電極パターンの種類は３種類以上であることを特徴とする請求項２〜５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の液晶表示装置を備えていることを特徴とする電子機器。
【請求項１】
対向する一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された液晶層と、前記一対の基板のうちの一方の基板の前記液晶層側に設けられた第１電極と、前記一方の基板の前記液晶層側において前記第１電極上に絶縁膜を介して対向配置された複数の第２電極とを備え、複数の前記第２電極が、互いに直交する第１配列軸と第２配列軸とに沿って前記一方の基板上に２次元的に配列されてなる液晶表示装置であって、
前記第２電極には複数の帯状電極が設けられ、
前記帯状電極の幅をＬ、隣接する帯状電極同士の間に配置されたスリットの幅をＳ、前記スリットの長さをＭ、前記帯状電極と前記第１配列軸との成す角度をθとしたときに、前記第２電極は、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成された電極パターンを備えていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記第２電極毎に、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成された複数種類の電極パターンの中から１種類の電極パターンが選択され、
前記第１配列軸に沿って隣接する第２電極同士の間、及び前記第２配列軸に沿って隣接する第２電極同士の間で、選択される電極パターンの種類は不規則であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第２電極毎に、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成された複数種類の電極パターンの中から１種類の電極パターンが選択され、
互いに隣接する複数の第２電極によって構成される領域を単位領域としたときに、１つの単位領域内に配置される複数の第２電極の電極パターンの種類は互いに等しく、且つ、前記第１配列軸に沿って隣接する単位領域同士の間、及び前記第２配列軸に沿って隣接する単位領域同士の間で、選択される電極パターンの種類は不規則であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
対向する一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された液晶層と、前記一対の基板のうちの一方の基板の前記液晶層側に設けられた第１電極と、前記一方の基板の前記液晶層側において前記第１電極上に絶縁膜を介して対向配置された複数の第２電極とを備え、複数の前記第２電極が、互いに直交する第１配列軸と第２配列軸とに沿って前記一方の基板上に２次元的に配列されてなる液晶表示装置であって、
前記第２電極には複数の帯状電極が設けられ、
前記帯状電極の幅をＬ、隣接する帯状電極同士の間に配置されたスリットの幅をＳ、前記スリットの長さをＭ、前記帯状電極と前記第１配列軸との成す角度をθとしたときに、前記第２電極毎に、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが異なる複数種類の電極パターンの中から１種類の電極パターンが選択され、
前記第１配列軸に沿って隣接する第２電極同士の間、及び前記第２配列軸に沿って隣接する第２電極同士の間で、選択される電極パターンの種類は不規則であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
対向する一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された液晶層と、前記一対の基板のうちの一方の基板の前記液晶層側に設けられた第１電極と、前記一方の基板の前記液晶層側において前記第１電極上に絶縁膜を介して対向配置された複数の第２電極とを備え、複数の前記第２電極が、互いに直交する第１配列軸と第２配列軸とに沿って前記一方の基板上に２次元的に配列されてなる液晶表示装置であって、
前記第２電極には複数の帯状電極が設けられ、
前記帯状電極の幅をＬ、隣接する帯状電極同士の間に配置されたスリットの幅をＳ、前記スリットの長さをＭ、前記帯状電極と前記第１配列軸との成す角度をθとしたときに、前記第２電極毎に、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが異なる複数種類の電極パターンの中から１種類の電極パターンが選択され、
互いに隣接する複数の第２電極によって構成される領域を単位領域としたときに、１つの単位領域内に配置される複数の第２電極の電極パターンの種類は互いに等しく、且つ、前記第１配列軸に沿って隣接する単位領域同士の間、及び前記第２配列軸に沿って隣接する単位領域同士の間で、選択される電極パターンの種類は不規則であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
対向する一対の基板と、前記一対の基板間に挟持された液晶層と、前記一対の基板のうちの一方の基板の前記液晶層側に設けられた第１電極と、前記一方の基板の前記液晶層側において前記第１電極上に絶縁膜を介して対向配置された複数の第２電極とを備え、複数の前記第２電極が、互いに直交する第１配列軸と第２配列軸とに沿って前記一方の基板上に２次元的に配列されてなる液晶表示装置であって、
前記第２電極には複数の帯状電極が設けられ、
前記帯状電極の幅をＬ、隣接する帯状電極同士の間に配置されたスリットの幅をＳ、前記スリットの長さをＭ、前記帯状電極と前記第１配列軸との成す角度をθとしたときに、前記第１配列軸に沿って隣接する帯状電極同士の間、及び前記第２配列軸に沿って隣接する帯状電極同士の間で、比Ｌ／Ｓ、長さＭ、及び角度θのうちの少なくとも１つが不規則に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
１つの単位領域に含まれる前記第２電極の数は１０以下であることを特徴とする請求項３又は５に記載の液晶表示領域。
【請求項８】
前記電極パターンの種類は３種類以上であることを特徴とする請求項２〜５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の液晶表示装置を備えていることを特徴とする電子機器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２００９−２３７２２８（Ｐ２００９−２３７２２８Ａ）
【公開日】平成２１年１０月１５日（２００９．１０．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−８２８２０（Ｐ２００８−８２８２０）
【出願日】平成２０年３月２７日（２００８．３．２７）
【出願人】（３０４０５３８５４）エプソンイメージングデバイス株式会社 (2,386)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年１０月１５日（２００９．１０．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年３月２７日（２００８．３．２７）
【出願人】（３０４０５３８５４）エプソンイメージングデバイス株式会社 (2,386)
【Ｆターム（参考）】
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