現像ローラーの製造方法
【課題】煩雑な管理、複雑な装置を必要とせず、異物発生による塗布故障がなく導電性基体の周面に均一の膜厚で樹脂層を形成する塗布方法による現像ローラーの製造方法の提供。
【解決手段】導電性基体の周面上に、現像剤を電子写真感光体に供給する樹脂層を有する現像ローラーの製造方法において、前記樹脂層を形成する樹脂層形成用塗布液を超音波アトマイザーを使用し、前記超音波アトマイザーの噴霧口と前記導電性基体の塗布面までの距離を２０ｍｍから３００ｍｍで前記樹脂層形成用塗布液を前記導電性基体の塗布面に塗布することを特徴とする現像ローラーの製造方法。
【解決手段】導電性基体の周面上に、現像剤を電子写真感光体に供給する樹脂層を有する現像ローラーの製造方法において、前記樹脂層を形成する樹脂層形成用塗布液を超音波アトマイザーを使用し、前記超音波アトマイザーの噴霧口と前記導電性基体の塗布面までの距離を２０ｍｍから３００ｍｍで前記樹脂層形成用塗布液を前記導電性基体の塗布面に塗布することを特徴とする現像ローラーの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は電子写真方式の画像形成装置に使用する現像ローラーの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式の画像形成装置は、近年では高画質フルカラー化、小型化に合わせ高品質化の要求が強く求められている。電子写真方式の画像形成装置は、従来から知られているように、感光体を一様に帯電する帯電部材、感光体上に静電潜像を形成する露光部材、静電潜像をトナー像で現像する現像部材、得られたトナー像を転写体に転写する転写部材、トナー像を転写体上に定着させる定着部材、感光体上の残留トナーをクリーニングするクリーニング部材、感光体上の静電潜像を除去する除電部材等の構成部材を有している。
【０００３】
それぞれの構成部材は、高品質化及び小型化に合わせに合わせ各構成部品の高品質化とローラーの長さを短くする要求がされている。
【０００４】
電子写真方式の画像形成装置は、帯電したトナーを感光体上の静電潜像に接触或いは非接触で供給し、静電潜像を顕像にする現像過程を経て形成したトナー像を転写材に転写し、更に定着して最終画像を形成するものである。
【０００５】
トナー像を形成するための現像方法には、キャリアーとトナーから構成される２成分現像方式と、トナーのみからなる現像剤を現像ローラーにより搬送し、現像剤規制部材との摩擦で耐電させ現像する１成分現像方式とがある。１成分現像方式はキャリアーを使用しないため現像装置が簡略化することが出来、画像形成装置を小型化することが可能となる利点がある。
【０００６】
１成分現像方式に用いる現像ローラーとしては、円筒状（円柱状）の導電性基体の周面に摩擦帯電制御、輸送性制御及び画像欠陥防止のために表面に導電性微粒子を分散した樹脂層を形成したものが知られている。この樹脂層の層厚のバラツキ、欠陥等により、帯電ムラが生じトナーの搬送量にムラが発生し、現像ムラの原因となることが知られている。帯電ムラの発生を抑制する方法として樹脂層に導電性微粒子を添加する方法が知られており、この導電性微粒子により樹脂層の抵抗値や表面粗さを調整することにより、現像ローラーに担持されたトナーの帯電量及び搬送量が適切に制御され現像ゴーストなどの画像欠陥の発生が抑制される。尚、本発明で現像ゴーストとは、トナー濃度（現像剤濃度）のムラに伴い生じる画像不良を言う。
【０００７】
導電性基体の塗布面に樹脂層を形成した現像ローラーの製造方法としては、樹脂層を浸漬塗布法、スプレー塗布法、リング塗布法で形成する方法が知られている。例えば、円筒状又は円柱状の導電性基体の塗布面に粗さ付与粒子を含有する塗布液を塗布して樹脂層を形成する時、塗布直後のＷｅｔ膜厚と乾燥後のＤｒｙ膜厚との膜厚比（Ｄｒｙ膜厚／Ｗｅｔ膜厚）が０．２から０．５になるように制御して浸漬塗布法による塗布する方法が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。しかしながら、特許文献１に記載の方法の問題点として、煩雑な管理を必要とすることが挙げられる。
【０００８】
円筒状又は円柱状の導電性基体の塗布面の周面にリング塗布法で樹脂層を形成する時、基体の外形振れを極小にするため、基体を６軸ロボットの６軸フランジに把持して塗布をすることで塗布ムラをなくす方法が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。しかしながら、特許文献２に記載の方法の問題点として、複雑な装置を必要とすることが挙げられる。
【０００９】
円筒状又は円柱状の導電性基体の塗布面の周面にスプレー塗布法で１μｍ以下の膜の樹脂層を形成する時にプレー塗布回数を規定した方法が開示されている（例えば、特許文献３参照。）。しかしながら、特許文献３に記載のスプレー塗布法は次の問題点を有していることが判った。
１）塗布液を噴霧するため気体と混合することで、塗布液の種類によっては凝集物が出来、塗布異物として塗布され塗布欠陥となる。
２）ノズルから噴霧される塗布液の霧滴濃度が、中心部が高く、周辺が低いため基体表面で膜厚のムラが生じやすく均一膜厚の塗布が難しい。
３）塗布液の飛沫の飛散が生じ、導電性基体の非塗布面へ付着し、付着物の除去に余分な工数が掛かる。
【００１０】
この様な状況から、煩雑な管理、複雑な装置を必要とせず、異物発生による塗布故障がなく導電性基体の塗布面に均一の膜厚で樹脂層を塗布方法により形成する現像ローラーの製造方法の開発が望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００９−５８８６５号公報
【特許文献２】特開２００８−１５２１２７号公報
【特許文献３】特開２００３−９８６９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、この様な状況に鑑みなされたものであり、その目的は、煩雑な管理、複雑な装置を必要とせず、異物発生による塗布故障がなく導電性基体の塗布面の周面に均一の膜厚で樹脂層を塗布方法により形成する現像ローラーの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成された。
【００１４】
１．導電性基体の周面上に、現像剤を電子写真感光体に供給する樹脂層を有する現像ローラーの製造方法において、
前記樹脂層を形成する樹脂層形成用塗布液を超音波アトマイザーを使用し、
前記超音波アトマイザーの噴霧口と前記導電性基体の塗布面までの距離を２０ｍｍから３００ｍｍで前記樹脂層形成用塗布液を前記導電性基体の塗布面に塗布することを特徴とする現像ローラーの製造方法。
【００１５】
２．前記樹脂層形成用塗布液の固形分濃度が３質量％から８質量％であることを特徴とする前記１に記載の現像ローラーの製造方法。
【００１６】
３．前記樹脂層形成用塗布液の粘度が２ｍＰａ・ｓから５０ｍＰａ・ｓであることを特徴とする前記１又は２に記載の現像ローラーの製造方法。
【００１７】
４．前記樹脂層形成用塗布液を前記導電性基体の塗布面上に塗布する時、該導電性基体を６００ｍｍ／ｍｉｎから２０００ｍｍ／ｍｉｎの周速度で回転させながら、且つ、前記超音波アトマイザーを毎秒当たり、該超音波アトマイザーによる塗布幅の５０％から９０％に相当する長さを、該導電性基体の回転軸と平行する方向に移動しながら塗布することを特徴とする前記１から３の何れか１項に記載の現像ローラーの製造方法。
【００１８】
５．前記樹脂層形成用塗布液を前記導電性基体の塗布面上に塗布する時、該超音波アトマイザーを固定し、該導電性基体を６００ｍｍ／ｍｉｎから２０００ｍｍ／ｍｉｎの周速度で回転させながら、且つ、該超音波アトマイザーの噴霧口と該導電性基体の塗布面までの距離を一定に保ちながら、該導電性基体を毎秒当たり、該超音波アトマイザーによる塗布幅の５０％から９０％に相当する長さを、該導電性基体の幅方向に移動しながら塗布することを特徴とする前記１から３の何れか１項に記載の現像ローラーの製造方法。
【００１９】
６．前記超音波アトマイザーの塗布幅が５ｍｍから２００ｍｍであることを特徴とする前記１から５の何れか１項に記載の現像ローラーの製造方法。
【００２０】
７．前記超音波アトマイザーの前記樹脂層形成用塗布液の噴霧量が２ｍｌ／ｍｉｎから３５０ｍｌ／ｍｉｎであることを特徴とする前記１から６の何れか１項に記載の現像ローラーの製造方法。
【発明の効果】
【００２１】
煩雑な管理、複雑な装置を必要とせず、異物発生による塗布故障がなく円筒状又は円柱状の導電性基体の周面に均一の膜厚で樹脂層を塗布方法により形成する現像ローラーの製造方法を提供することが出来た。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】電子写真方式の画像形成装置の一例を示す概略断面構成図である。
【図２】図１に示す現像ローラーの概略図である。
【図３】図１（ａ）に示される他の構成の現像ローラーの概略断面図である。
【図４】導電性基体の塗布面の周面に超音波アトマイザーを使用した塗布方法で樹脂層を形成し、現像ローラーを製造する製造工程の概略図である。
【図５】図４に示す製造工程の塗布装置により導電性基体の塗布面に樹脂層形成用塗布液を超音波アトマイザーで塗布している状態を示すに示す図４のＢ−Ｂ′に沿った概略図である。
【図６】図４に示す製造装置で、超音波アトマイザーを使用して円筒状導電性基体の表面に樹脂層形成用塗布液を塗布する時、超音波アトマイザーと円筒状導電性基体との両方を同時に動かして塗布する場合のフロー図である。
【図７】超音波アトマイザーを使用して円筒状導電性基体の表面に樹脂層形成用塗布液を塗布する時、超音波アトマイザーを固定し、円筒状導電性基体を回転しながら移動し塗布する場合のフロー図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明を実施する形態を図１から図７を参照しながら説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２４】
図１は、電子写真方式の画像形成装置の一例を示す概略断面構成図である。尚、本図はフルカラー画像形成装置の場合を示している。
【００２５】
図中、１はフルカラー画像形成装置を示す。フルカラー画像形成装置１は、複数組の画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋと、転写部としての無端ベルト状中間転写体形成ユニット７と、記録媒体Ｐを搬送する無端ベルト状の給紙搬送手段２１及び定着手段としてのベルト式定着装置２４とを有する。フルカラー画像形成装置１の本体Ａの上部には、原稿画像読み取り装置ＳＣが配置されている。
【００２６】
各感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋに形成される異なる色のトナー像の１つとして、イエロー色の画像を形成する画像形成ユニット１０Ｙは、第１の像担持体としてのドラム状の感光体１Ｙ、感光体１Ｙの周囲に配置された帯電手段２Ｙ、露光手段３Ｙ、現像ローラー４Ｙ１を有する現像手段４Ｙ、一次転写手段としての一次転写ローラー５Ｙ、クリーニング手段６Ｙを有する。
【００２７】
又、別の異なる色のトナー像の１つとして、マゼンタ色の画像を形成する画像形成ユニット１０Ｍは、第１の像担持体としてのドラム状の感光体１Ｍ、感光体１Ｍの周囲に配置された帯電手段２Ｍ、露光手段３Ｍ、現像ローラー４Ｍ１を有する現像手段４Ｍ、一次転写手段としての一次転写ローラー５Ｍ、クリーニング手段６Ｍを有する。
【００２８】
又、更に別の異なる色のトナー像の１つとして、シアン色の画像を形成する画像形成ユニット１０Ｃは、第１の像担持体としてのドラム状の感光体１Ｃ、感光体１Ｃの周囲に配置された帯電手段２Ｃ、露光手段３Ｃ、現像ローラー４Ｃ１を有する現像手段４Ｃ、一次転写手段としての一次転写ローラー５Ｃ、クリーニング手段６Ｃを有する。
【００２９】
又、更に他の異なる色のトナー像の１つとして、黒色画像を形成する画像形成ユニット１０Ｋは、第１の像担持体としてのドラム状の感光体１Ｋ、感光体１Ｋの周囲に配置された帯電手段２Ｋ、露光手段３Ｋ、現像ローラー４Ｋ１を有する現像手段４Ｋ、一次転写手段としての一次転写ローラー５Ｋ、クリーニング手段６Ｋを有する。
【００３０】
無端ベルト状中間転写体形成ユニット７は、複数のローラーにより巻回され、回動可能に支持された半導電性エンドレスベルト状の第２の像担持体として無端の中間転写ベルト７０を有する。
【００３１】
画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋより形成された各色の画像は、一次転写ローラー５Ｙ、５Ｍ、５Ｃ、５Ｋにより、回動する無端の中間転写ベルト７０上に逐次転写されて、合成されたカラー画像が形成される。給紙カセット２０内に収容された記録媒体として用紙等の記録媒体Ｐは、給紙搬送手段２１により給紙され、複数の中間ローラー２２Ａ、２２Ｂ、２２Ｃ、２２Ｄ、レジストローラー２３を経て、二次転写手段としての二次転写ローラー５Ａに搬送され、記録媒体Ｐ上にカラー画像が一括転写される。
【００３２】
カラー画像が転写された記録媒体Ｐは、熱ローラー定着器２７０が装着された定着装置２４により定着処理され、排紙ローラー２５に挟持されて機外の排紙トレイ２６上に載置される。
【００３３】
一方、二次転写ローラー５Ａにより記録媒体Ｐにカラー画像を転写した後、記録媒体Ｐを曲率分離した無端の中間転写ベルト７０は、クリーニング手段６Ａにより残留トナーが除去される。
【００３４】
画像形成処理中、一次転写ローラー５Ｋは常時、感光体１Ｋに圧接している。他の一次転写ローラー５Ｙ、５Ｍ、５Ｃはカラー画像形成時にのみ、それぞれ対応する感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃに圧接する。
【００３５】
二次転写ローラー５Ａは、ここを記録媒体Ｐが通過して二次転写が行われる時にのみ、無端の中間転写ベルト７０に圧接する。
【００３６】
又、装置本体Ａから筐体８を支持レール８２Ｌ、８２Ｒを介して引き出し可能にしてある。筐体８は、画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋと、無端ベルト状中間転写体形成ユニット７とを有する。
【００３７】
画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋは、垂直方向に縦列配置されている。感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋの図示左側方には無端ベルト状中間転写体形成ユニット７が配置されている。無端ベルト状中間転写体形成ユニット７は、ローラー７１、７２、７３、７４、７６を巻回して回動可能な無端の中間転写ベルト７０、一次転写ローラー５Ｙ、５Ｍ、５Ｃ、５Ｋ及びクリーニング手段６Ａとを有している。
【００３８】
筐体８の引き出し操作により、画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋと、無端ベルト状中間転写体形成ユニット７とは、一体となって、本体Ａから引き出される。
【００３９】
この様に感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋの外周面上を帯電、露光し外周面上に潜像を形成した後、現像によりトナー像（顕像）を形成し、無端の中間転写ベルト７０上で各色のトナー像を重ね合わせ、一括して記録媒体Ｐに転写し、ベルト式定着装置２４で加圧及び加熱により固定して定着する。尚、本発明で像形成時とは潜像形成、トナー像（顕像）を記録媒体Ｐに転写し最終画像を形成することを含む。
【００４０】
トナー像を記録媒体Ｐに転移させた後の感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋは、各感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋに配設されたクリーニング手段６Ｙ、６Ｍ、６Ｃ、６Ｋで転写時に感光体に残されたトナーを清掃した後、上記の帯電、露光、現像のサイクルに入り、次の像形成が行われる。
【００４１】
上記カラー画像形成装置では、中間転写体をクリーニングするクリーニング手段６Ａのクリーニング部材として、弾性ブレードを用いる。又、各感光体に脂肪酸金属塩を塗布する手段（１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋ）を設けている。尚、脂肪酸金属塩としては、トナーで用いたと同じものを用いることが出来る。
【００４２】
図２は図１に示す現像ローラーの概略図である。図２（ａ）は図１に示す現像ローラーの概略斜視図である。図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ′に沿った概略断面図である。
【００４３】
図中、４Ｙ１は現像ローラーを示す。現像ローラー４Ｙ１は、本体４Ｙ１１と、本体４Ｙ１１の両側に取り付け部材（不図示）を介して取り付けられた保持部材４Ｙ１２とを有している。４Ｙ１１ａは本体４Ｙ１１の端面を示す。本体４Ｙ１１は円筒状の導電性基体４Ｙ１ａと、円筒状の導電性基体４Ｙ１ａの周面に形成された第１樹脂層４Ｙ１ａ１と、第２樹脂層４Ｙ１ａ２と、第３樹脂層４Ｙ１ａ３とを有している。第１樹脂層４Ｙ１ａ１は接着層として機能を有しており、必要に応じて設けることが可能となっている。第２樹脂層４Ｙ１ａ２は帯電付与機能を有しており必要に応じて複数の層から形成されることもある。第３樹脂層４Ｙ１ａ３は第２樹脂層４Ｙ１ａ２の保護層としての機能を有しており、必要に応じて設けることが可能となっている。
【００４４】
保持部材４Ｙ１２の形状は現像ローラーを取り付ける側の形式により変わるため特に限定はなく、本図に示される保持部材４Ｙ１２は、径が異なる第１保持部材４Ｙ１２ａと第２保持部材４Ｙ１２ｂとから構成されている場合を示している。本図に示される現像ローラー４Ｙ１で、樹脂層が形成されている部分は導電性基体４Ｙ１ａの周面と両端の端面４Ｙ１１ａであり、保持部材４Ｙ１２は樹脂層が形成されていない状態となっている。即ち、本図に示される現像ローラー４Ｙ１では保持部材４Ｙ１２が非塗膜形成領域となっている。
【００４５】
導電性基体４Ｙ１ａの直径は１．０ｍｍから３０ｍｍが好ましい。第１樹脂層４Ｙ１ａ１の乾燥塗膜の厚さは、０．５μｍから１００μｍが好ましい。第２樹脂層４Ｙ１ａ２の乾燥塗膜の厚さは、０．５μｍから２００μｍが好ましい。第２樹脂層４Ｙ１ａ２は単一層であっても複数層からなる多層構成であってもよく、必要に応じて適宜選択することが可能である。第３樹脂層４Ｙ１ａ３の乾燥塗膜の厚さは、０．５μｍから２００μｍが好ましい。
【００４６】
図３は図１（ａ）に示される他の構成の現像ローラーの概略断面図である。
【００４７】
図中、４Ｙ′１１は図２（ａ）に示される現像ローラーの本体を示す。本体４Ｙ′１１は導電性基体４Ｙ′１ａと、導電性基体４Ｙ′１ａの周面に形成された第１樹脂層（弾性層）４Ｙ′１ｂと、第１樹脂層４Ｙ′１ｂの周面に形成された第２樹脂層４Ｙ′１ｃと、第２樹脂層４Ｙ′１ｃの周面に形成された第３樹脂層４Ｙ′１ｄとを有している。第１樹脂層４Ｙ′１ｂは弾性層としての機能を有している。第２樹脂層４Ｙ′１ｃは帯電付与機能を有しており必要に応じて複数の層から形成されることもある。第３樹脂層４Ｙ′１ｄは第２樹脂層４Ｙ′１ｃの保護層としての機能を有している。尚、樹脂層４Ｙ′１ｄは必要に応じて設けることが可能となっている。
【００４８】
導電性基体４Ｙ′１ａは直径が１．０ｍｍから３０ｍｍが好ましい。第１樹脂層（弾性層）４Ｙ′１ｂの乾燥塗膜の厚さは、１０μｍから１０００μｍが好ましい。第２樹脂層の乾燥塗膜の厚さは、０．５μｍから２００μｍが好ましい。第２樹脂層４Ｙ′１ｃは単一層であっても複数層からなる多層構成であってもよく、必要に応じて適宜選択することが可能である。第３樹脂層４Ｙ′１ｄの乾燥塗膜の厚さは、０．５μｍから２００μｍが好ましい。
【００４９】
尚、図１に示す他の現像ローラー４Ｍ１、４Ｃ１、４Ｋ１の構成は図２、図３に示す現像ローラーの構成と同じである。
【００５０】
図２、図３に示される導電性基体は円筒状又は円柱状であってもよく必要に応じて選択することが可能となっている。
【００５１】
本発明で樹脂層とは、図２、図３に示される第１樹脂層、第２樹脂層、第３樹脂層を含むものである。
【００５２】
本発明は、図１から図３に示す現像ローラーの樹脂層の膜厚のバラツキ、欠陥をなくすことで、帯電ムラ、トナーの搬送量のムラをなくした現像ローラーの製造方法に関するものである。
【００５３】
図４は、導電性基体の塗布面の周面に超音波アトマイザーを使用した塗布方法で樹脂層を形成し、現像ローラーを製造する製造工程の概略図である。図４（ａ）は導電性基体の塗布面の周面に超音波アトマイザーを使用した塗布方法で樹脂層を形成し、現像ローラーを製造する製造工程の概略斜視図である。図４（ｂ）は図４（ａ）に示される製造工程の概略正面図である。尚、本図は導電性基体として円柱状の導電性基体を使用している場合を示している。
【００５４】
図中、９は製造工程を示す。製造工程９は保持部９ａと塗布部９ｂとを有している。保持部９ａは第１保持台９ａ１と、第２保持台９ａ２と、駆動用モーター９ａ３とを有している。駆動用モーター９ａ３は第１保持台９ａ１上に配設されており、導電性基体１０の保持部材１０ａと接続部材を介して駆動用モーター９ａ３の回転軸に接続されている。第２保持台９ａ２には導電性基体１０の他方の保持部材１０ｂを受ける受け部９ａ２１が配設されており、これにより、駆動用モーター９ａ３の回転により導電性基体１０を回転させながら保持することが可能となっている。
【００５５】
塗布部９ｂは、塗布装置９ｂ１と、駆動部９ｂ２とを有している。９ｂ１１は塗布装置９ｂ１に樹脂層形成用塗布液を供給する塗布液供給管を示す。塗布装置９ｂ１は取り付け部材９ｂ１２によりガイドレール９ｂ４に円筒状（円柱状）の導電性基体１０の幅方向に沿って平行に移動可能に取り付けられている。尚、本図では塗布装置９ｂ１への塗布液供給部、制御部は省略してある。
【００５６】
駆動部９ｂ２はモーター９ｂ２１とガイドレール取り付け板９ｂ３とを有している。ガイドレール取り付け板９ｂ３には、取り付け部材９ｂ１２を取り付け、保持部９ａに保持された導電性基体１０の回転軸と平行に塗布装置９ｂ１を移動（図中の矢印方向）させるための２本のガイドレール９ｂ４が配設されている。
【００５７】
モーター９ｂ２１は、取り付け部材９ｂ１２の上に取り付けられたスライド用ネジ９ｂ１３と螺合し、取り付け部材９ｂ１２を保持部９ａに保持された導電性基体１０の幅よりも長く移動させる長さの雌ネジ９ｂ２２を有している。
【００５８】
モーター９ｂ２１を駆動させることで、スライド用ネジ９ｂ１３の回転に伴い、取り付け部材９ｂ１２に取り付けられた塗布装置９ｂ１が導電性基体１０の回転軸と平行に幅方向に移動することが可能となっている。
【００５９】
使用する導電性基体１０は円柱状の導電性基体の場合を示しているが円筒状の導電性基体であってもよく、適宜選択することが可能である。
【００６０】
本図は、導電性基体の保持位置を固定した状態で導電性基体を回転させ、塗布装置を導電性基体の回転軸と平行に移動させる方式の塗布装置であるが、塗布装置を固定し、導電性基体を回転させながら導電性基体の幅方向に移動させる方式も可能である。幅方向とは、保持部材１０ｂから保持部材１０ａの方向を言う。塗布装置９ｂ１としては超音波アトマイザーが使用されている。
【００６１】
本発明で超音波アトマイザーとは、加圧することなしに液体を供給し、ピエゾセラミックの振動により超音波アトマイザー（ノズル）を振動させ、そこで供給された液体を振動させ、きめ細かい粒子を形成し噴霧する装置を言う。
【００６２】
超音波アトマイザーとしては市販の超音波アトマイザーの使用が可能である。例えば、超音波アトマイザー（ティックコーポレーション（株）製）、超音波スプレーコーティング装置（ＵＳＩ社製）、超音波スプレーノズルシステム（ソノテック社製）が挙げられる。
【００６３】
本図は導電性基体を横にした状態で塗布をしている場合を示しているが、導電性基体を立てた状態で塗布することも勿論可能である。
【００６４】
図５は図４に示す製造工程の塗布装置により導電性基体の塗布面に樹脂層形成用塗布液を超音波アトマイザーで塗布している状態を示すに示す図４のＢ−Ｂ′に沿った概略図である。図５（ａ）は図４に示す製造工程の塗布装置により導電性基体の塗布面に樹脂層形成用塗布液を超音波アトマイザーで塗布している状態を示すに示す図４のＢ−Ｂ′に沿った概略断面図である。図５（ｂ）は図５（ａ）のＰで示す部分の拡大概略平面図である。尚、本図では取り付け部材、ガイドレール、スライド用ネジ等は省略してある。
【００６５】
図中、Ｊは塗布装置９ｂ１の噴霧口９ｂ１ａから導電性基体１０の塗布面までの距離を示す。距離Ｊは、２０ｍｍから３００ｍｍである。２０ｍｍ未満の場合は、噴霧口９ｂ１ａから噴霧された液滴が導電性基体１０の塗布面から跳ね返ることにより、膜厚と表面粗さが不均一となるため好ましくない。３００ｍｍを超える場合は、噴霧口９ｂ１ａから噴霧された液滴が風（環境）の影響を受け、所望位置を外れ、膜厚と表面粗さとが不均一となるため好ましくない。
【００６６】
Ｋは噴霧口９ｂ１ａから噴霧された液滴により導電性基体１０の塗布面の上に形成された円形の塗布領域Ｌの幅を示す。幅Ｋは塗布領域Ｌの直径を示すと同時に塗布幅も示す。幅Ｋは、液滴同士が隣接することによる液滴の粗大化、液滴間の隙間、膜厚と表面粗さの安定化等を考慮し、５ｍｍから２００ｍｍが好ましい。Ｍは円形の塗布領域Ｌの周辺を示す。Ｎは円形の塗布領域Ｌの中心を示す。
【００６７】
塗布液供給管９ｂ１１から塗布装置９ｂ１に供給される樹脂層形成用塗布液の固形分濃度は、ウエット膜厚、膜厚ムラ、膜厚コントロール、表面粗さ等を考慮し、３質量％から８質量％であることが好ましい。
【００６８】
樹脂層形成用塗布液の粘度は、液滴形成性を考慮し、５０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。更に好ましくは、２ｍＰａ・ｓから５０ｍＰａ・ｓである。
【００６９】
導電性基体を回転させながら、位置を固定し、塗布装置である超音波アトマイザーを導電性基体の回転軸と平行に移動させる塗布方法の場合、導電性基体の回転速度と超音波アトマイザーの移動距離の関係を以下に示す。
【００７０】
樹脂層形成用塗布液を塗布している時、導電性基体１０の回転の周速度は、液滴への搬送時の風邪の影響による膜厚、表面粗さ等を考慮し、６００ｍｍ／ｍｉｎから２０００ｍｍ／ｍｉｎが好ましい。
【００７１】
樹脂層形成用塗布液を塗布している時、導電性基体１０の回転軸方向に平行に移動させる超音波アトマイザーの距離は毎秒当たり、液滴への超音波アトマイザーの移動に伴う風邪の影響による膜厚、表面粗さ等を考慮し、超音波アトマイザーによる塗布幅の５０％から９０％に相当する長さが好ましい。具体的には、幅Ｋが８０ｍｍの場合、超音波アトマイザーは４０ｍｍ／ｓｅｃから７２ｍｍ／ｓｅｃで移動することになる。
【００７２】
超音波アトマイザーを固定し、導電性基体を回転させながら、超音波アトマイザーの噴霧口と導電性基体の塗布面までの距離を一定に保ち、導電性基体を導電性基体の幅方向に移動させる塗布方法の場合、導電性基体の回転速度と超音波アトマイザーの移動距離の関係を以下に示す。
【００７３】
樹脂層形成用塗布液を塗布している時、導電性基体１０の回転する周速度は、液滴への搬送時の風邪の影響による膜厚、表面粗さ等を考慮し、６００ｍｍ／ｍｉｎから２０００ｍｍ／ｍｉｎが好ましい。
【００７４】
導電性基体１０の移動する距離は毎秒当たり、液滴への導電性基体１０の移動に伴う風邪の影響による膜厚、表面粗さ等を考慮し、超音波アトマイザーによる塗布幅の５０％から９０％に相当する長さが好ましい。具体的には、幅Ｋが８０ｍｍの場合、導電性基体１０は４０ｍｍ／ｓｅｃから７２ｍｍ／ｓｅｃで移動することになる。
【００７５】
樹脂層形成用塗布液の導電性基体１０の表面への塗布回数は、必要に応じて適宜設定することが好ましい。尚、塗布回数とは、超音波アトマイザーが導電性基体１０の端辺の塗布開始点で塗布を開始し、対向する導電性基体１０の端辺にまで移動し導電性基体１０の設定された塗布面の全周に塗布した時を塗布１回とした回数を言う。
【００７６】
樹脂層形成用塗布液を塗布する時、超音波アトマイザーからの噴霧量は、液滴形成、液垂れ、導電性基体１０の塗布面からの液滴の跳ね返り等を考慮し、３５０ｍｌ／ｍｉｎ以下であることが好ましい。更に好ましくは２ｍｌ／ｍｉｎから３５０ｍｌ／ｍｉｎである。
【００７７】
次に、図４に示す製造装置で、超音波アトマイザーを使用して導電性基体の塗布面に樹脂層形成用塗布液の塗布するフローを図６に示す。
【００７８】
次に、図４に示す製造装置で、超音波アトマイザーを使用して導電性基体の塗布面に樹脂層形成用塗布液の塗布するフローを図６に示す。
【００７９】
図６は図４に示す製造装置で、超音波アトマイザーを使用して導電性基体の塗布面に樹脂層形成用塗布液を塗布する時、超音波アトマイザーと導電性基体との両方を同時に動かして塗布する場合のフロー図である。
【００８０】
ステップ１は、塗布開始点に超音波アトマイザーを設定し、樹脂層形成用塗布液を塗布する塗布開始の状態を示す。この時、円形の噴霧領域Ｌの辺Ｍは導電性基体１０の端辺の予め設定された位置になる様に、又、超音波アトマイザーの噴霧から導電性基体１０の塗布面までの距離は、２０ｍｍから３００ｍｍに設定される。尚、塗布開始点は噴霧領域Ｌの中心Ｎを言う。
【００８１】
ステップ２は、樹脂層形成用塗布液の塗布が開始された後、数分の状態を示す。塗布は導電性基体１０の位置は固定し、回転している状態で、超音波アトマイザーが同時に導電性基体１０の回転軸と平行方向に移動（噴霧領域Ｌが移動する）（図中の矢印ａ方向）しながら行われる。円筒状（円柱状）の導電性基体１０は、周速度６００ｍｍ／ｍｉｎから２０００ｍｍ／ｍｉｎで回転することが好ましい。超音波アトマイザーは、導電性基体１０の回転軸方向と平行する方向に、毎秒当たり、超音波アトマイザーによる塗布幅（図５に示す塗布領域Ｌの幅Ｋ）の５０％から９０％に相当する長さを移動することが好ましい。本図は超音波アトマイザーを超音波アトマイザーによる塗布幅（図５に示す塗布領域Ｌの幅Ｋ）の５０％に相当する長さを移動しながら塗布を行っている状態を示す。
【００８２】
ステップ３は、超音波アトマイザーが移動（図中の矢印ａ方向）し、噴霧領域Ｌの周辺Ｍが導電性基体１０の塗布を開始した導電性基体１０の端辺と対向する導電性基体１０の端辺に設定された位置に到達した状態を示す。
【００８３】
ステップ４は、ステップ３の状態から導電性基体１０が１回転して導電性基体１０の周面の全面に樹脂層形成用塗布液が塗布された状態を示す。
【００８４】
本発明では、ステップ４に示す状態を塗布１回と言う。以後、必要に応じて、塗布開始した導電性基体１０の端辺に向けて超音波アトマイザーを移動（図中の矢印ｂ方向）し、ステップ２からステップ４の操作を繰り返すことで設定した厚さの樹脂層を形成することが可能である。
【００８５】
図７は超音波アトマイザーを使用して導電性基体の表面に樹脂層形成用塗布液を塗布する時、超音波アトマイザーを固定し、導電性基体を回転しながら移動し塗布する場合のフロー図である。尚、本図は超音波アトマイザーは省略してある。
【００８６】
ステップ１は、塗布開始点に超音波アトマイザーを設定し、樹脂層形成用塗布液を塗布する塗布開始の状態を示す。この時、円形の噴霧領域Ｌの辺Ｍは導電性基体１０の端辺の予め設定された位置になる様に、又、超音波アトマイザーの噴霧から円筒状（円柱状）の導電性基体１０の塗布面までの距離は、２０ｍｍから３００ｍｍに設定される。尚、塗布開始点は噴霧領域Ｌの中心Ｎを言う。
【００８７】
ステップ２は、樹脂層形成用塗布液の塗布が開始された後、数分の状態を示す。塗布は超音波アトマイザーの位置は固定した状態で、導電性基体１０は回転している状態で超音波アトマイザーの噴霧口と導電性基体の塗布面との距離を保ちながら円筒状（円柱状）の導電性基体１０の幅方向（図中の矢印ｃ方向）に移動しながら行われる。
【００８８】
円筒状（円柱状）の導電性基体１０は、周速度６００ｍｍ／ｍｉｎから２０００ｍｍ／ｍｉｎで回転することが好ましい。導電性基体１０の移動は、毎秒当たり、超音波アトマイザーによる塗布幅（図５に示す塗布領域Ｌの幅Ｋ）の５０％から９０％に相当する長さを移動することが好ましい。本図は導電性基体を超音波アトマイザーによる塗布幅（図５に示す塗布領域Ｌの幅Ｋ）の５０％に相当する長さを移動しながら塗布を行っている状態を示す。
【００８９】
ステップ３は、導電性基体１０が移動（図中の矢印ｃ方向）し、噴霧領域Ｌの周辺Ｍが円筒状（円柱状）の導電性基体１０の塗布を開始した端辺と対向する端辺に設定された位置に到達した状態を示す。
【００９０】
ステップ４は、ステップ３の状態から円筒状（円柱状）の導電性基体１０が回転して円筒状（円柱状）の導電性基体１０の周面の全面に樹脂層形成用塗布液が塗布された状態を示す。
【００９１】
本発明では、ステップ４に示す状態を塗布１回と言う。以後、必要に応じて、塗布開始した円筒状（円柱状）の導電性基体１０の端辺に向けて円筒状（円柱状）の導電性基体１０を移動（図中の矢印ｄ方向）し、ステップ２からステップ４の操作を繰り返すことで設定した厚さの樹脂層を形成することが可能である。
【００９２】
超音波アトマイザーを使用して円筒状（円柱状）の導電性基体の塗布面の周面に、超音波アトマイザーの噴霧口と円筒状（円柱状）の導電性基体の表面までの距離を２０ｍｍから３００ｍｍで樹脂層形成用塗布液を塗布し樹脂層を形成することで次の効果が得られた。
１）塗布する際に塗布液の凝集物の発生がなくなり、異物発生による塗布故障がなくなり、トナーの搬送量にムラがなくなり、安定した画像を得ることが可能となった。
２）膜厚のムラがなく、均一の樹脂層が得られ帯電量にムラがなくなり、トナーの搬送量が一定になり、安定した画像を得ることが可能となった。
３）煩雑な管理、複雑な装置を必要とせず、管理に掛ける工数の削減が可能となり生産効率の向上が可能となった。
【００９３】
次に、本発明の現像ローラーを構成している材料に付き説明する。
【００９４】
（導電性基体）
現像ローラー用基体である円筒状又は円柱状基体は、現像ローラーの表面に蓄積される電荷をリークさせる部材も兼ねるため、導電性の金属で構成されることが好ましい。代表的なものとして、直径１．０〜３０ｍｍのステンレス鋼（例えばＳＵＳ３０４）、鉄、アルミニウム、ニッケル、アルミニウム合金、ニッケル合金等の導電性金属があり、又金属の粉体物やカーボンブラック等の導電性材料を樹脂中に充填させた導電性樹脂で構成されるものでもよい。
【００９５】
（弾性層（図３の第１樹脂層に該当する））
弾性層としては一般的にシリコーンゴムが使用されており、例えば、オルガノポリシロキサンに無機充填剤や、過酸化ベンゾイルなどの硬化剤を添加してよく混練、成形後加熱して加硫し硬化させたものが挙げられる。例えば、ジメチルポリシロキサンとメチルビニルシロキサンからなるメチルビニルポリシロキサンを有機過酸化物により架橋させて得ることが出来る。架橋の度合いによりその弾性率は異なるが、ＪＩＳ Ａ 硬度が１０〜６０°程度の弾性体であることが好ましい。
【００９６】
又、この弾性層は抵抗を調整し、低抵抗化したものが使用される。低抵抗化するためには、カーボンブラック、グラファイト、酸化亜鉛、酸化錫、酸化チタンなどの低抵抗成分を含有させることが好ましい。この場合、これらの材料の抵抗としては１×１０−４〜１×１０４Ω・ｃｍの体積固有抵抗を有する材料を使用することが好ましい。特に好ましいものとして、グラファイト、ケッチェンブラック、アセチレンブラックなどを挙げることが出来る。又、添加量は特に限定されるものではないが、弾性層を構成するシリコーンゴム１００質量部に対して１０質量部から１００質量部が好ましい。
【００９７】
（樹脂層（図２の第１樹脂層、第２樹脂層及び図３の第２樹脂層が該当する））
樹脂層を構成する樹脂としては架橋性の樹脂が好ましい。架橋性の樹脂とは、熱や触媒、空気、湿気、電子線等により自己架橋する樹脂、或いは架橋剤や他の架橋性の樹脂との反応により架橋する樹脂を言う。例えば、フッ素樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエーテル樹脂、アミノ樹脂、尿素樹脂、及びこれらの樹脂の混合物等が挙げられる。又、樹脂−シリカハイブリッド体等が挙げられる。樹脂層中には、必要に応じて、導電剤、非導電性フィラー、粗さ粒子（無機粒子、有機粒子）、架橋剤、触媒、分散促進剤など、各種の添加剤を主成分の樹脂材料に適宜配合することが出来る。
【００９８】
導電剤としては、カーボンブラック、グラファイト、アルミニウム、銅、錫、ステンレス鋼などの各種導電性金属又は合金、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化チタン、酸化錫−酸化アンチモン固溶体、酸化錫−酸化インジウム固溶体などの各種導電性金属酸化物、これらの導電性材料で被覆された絶縁性物質などの微粉末を用いることが出来る。これらの内、カーボンブラックは、比較的容易に入手出来、又、主成分の樹脂材料の種類によらず、良好な帯電性が得られるため、好適に利用出来る。又導電性を付与する手段として、導電剤に代えて、或いは、導電剤とともに、導電性高分子化合物を添加する手法も利用出来る。例えば、導電性高分子化合物としては、ホストポリマーとして、ポリアセチレン、ポリ（ｐ−フェニレン）、ポリピロール、ポリチオフェニン、ポリ（ｐ−フェニレンオキシド）、ポリ（ｐ−フェニレンスルフィド）、ポリ（ｐ−フェレンビニレン）、ポリ（２，６−ジメチルフェニレンオキサイド）、ポリ（ビスフェノールａカーボネート）、ポリビニルカルバゾール、ポリジアセチレン、ポリ（ｎ−メチル−４−ビニルピリジン）、ポリアニリン、ポリキノリン、ポリ（フェニレンエーテルスルフォン）などを使用し、これらにドーパントして、ＡｓＦ５、Ｉ２、Ｂｒ２、ＳＯ３、Ｎａ、Ｋ、ＣｌＯ４、ＦｅＣｌ３、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、Ｋｒ等の各イオン、Ｌｉ、ＴＣＮＱ（７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン）等をドープしたものが、従来から用いられている。
【００９９】
非導電性フィラーとしては、珪藻土、石英粉末、乾式シリカ、湿式シリカ、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミノケイ酸、炭酸カルシウム等を挙げることが出来る。
【０１００】
粗さ粒子としての無機粒子としては、上記導電剤、非導電性フィラーに使用した各種無機粒子の使用が可能である。粗さ粒子としての有機粒子としては次の樹脂粒子の使用が可能である。例えば、ＳＢＲ、ＢＲ、ＮＢＲ、ＣＲ、ＥＶＡ、ＥＰ、ＡＣＲ、ＥＰＤＭ、シリコーンゴム等からなるゴム粒子、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド系等の熱可塑性エラストマー粒子、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ナフタレン樹脂、フラン樹脂、キシレン樹脂、ジビニルベンゼン重合体、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体、ポリアクリロニトリル樹脂等からなる樹脂粒子等を挙げることが出来る。
【０１０１】
架橋剤としては、ポリオール化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリアルデヒド化合物、ポリアミン化合物、ポリエポキシ化合物などが挙げられる。又、触媒としては、過酸化物などのラジカル触媒、塩基触媒、酸触媒などが挙げられる。
【０１０２】
（樹脂層（図２の第３樹脂層、図３の第３樹脂層が該当する））
表面側に用いられる樹脂としては、樹脂層に使用した樹脂を使用することが可能であり、これらの中でＪＩＳ Ａ 硬度が６０°から９０°、１００％モジュラスが５×１０６Ｐａから３０×１０６Ｐａのものが好ましい。
【０１０３】
（塗布液調製用の溶媒）
塗布液の調製に用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールなどのアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、イソプロピルエーテルなどのエーテル系溶媒、水及びこれらの混合物などが挙げられる。必要に応じ、レベリング剤として高沸点溶媒やシリコーン化合物などを混合してもよい。
【実施例】
【０１０４】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１０５】
実施例１
現像ローラーとして図２に示す第１樹脂層、第２樹脂層、第３樹脂層の構成を有する現像ローラーを以下に示す方法で作製した。
【０１０６】
（円柱状の導電性基体の準備）
図２に示される現像ローラー用の基体として、両端に直径９ｍｍの第１保持部材と直径７ｍｍの第２保持部材とから構成された保持部材が設けられた、直径１６ｍｍ、肉厚１．５ｍｍ、長さ２４０ｍｍのステンレス鋼（ＳＵＳ３０４）製の円柱状の導電性基体を準備した。
【０１０７】
（樹脂層形成用塗布液の調製）
下記に示す第１樹脂層形成用塗布液、第２樹脂層形成用塗布液、第３樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１０８】
（第１樹脂層形成用塗布液の調製）
プライマーＮｏ．４（信越化学工業） １００質量部
（第２樹脂層形成用塗布液の調製）
ポリウレタン樹脂 ５０質量部
カーボンブラック（ファーネスブラック） １５質量部
架橋アクリル樹脂（粗さ粒子） １０質量部
ＭＥＫ １０００質量部
総固形分濃度は７．０質量％とした。
【０１０９】
粘度３０ｍＰａ・ｓ（ＣＢＣ（株）製ラボ用高精度粘度計ＶＭ−２００Ｔ３を用いて２３℃で測定した。）
（第３樹脂層形成用塗布液の調製）
熱可塑性ポリウレタン樹脂 ５０質量部
カーボンブラック（ファーネスブラック） １５質量部
ＴＨＦ １０００質量部
総固形分濃度は６．１質量％とした。
【０１１０】
粘度１５ｍＰａ・ｓ（ＣＢＣ（株）製ラボ用高精度粘度計ＶＭ−２００Ｔ３を用いて２３℃で測定した。）
（現像ローラーの作製）
第１樹脂層形成用塗布液の塗布
準備した円柱状の導電性基体の周面に図４に示す製造工程で塗布装置として超音波アトマイザー使用し、超音波アトマイザーの噴出口と円筒状の導電性基体の塗布面（表面）との距離１００ｍｍ、塗布幅を８３ｍｍとして以下に示す条件で調製した第１樹脂層形成用塗布液を塗布した後、１４０℃で６０分間乾燥し厚さ１μｍの第１樹脂層を形成した円筒状の導電性基体を作製しＮｏ．ａとした。超音波アトマイザーはティックコーポレーション（株）製を使用した。
【０１１１】
同じ第１樹脂層形成用塗布液を浸漬塗布方式で引上げ速度３ｍｍ／ｓｅｃで、準備した円柱状の導電性基体の周面に塗布した後、同じ条件で乾燥し厚さ１μｍの第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製しＮｏ．ｂとした。尚、他の超音波アトマイザーの塗布条件を以下に示す。
【０１１２】
吐出ノズル直径：２ｍｍ
超音波周波数：１００ｋＨｚ
平均液滴径：２００μｍ
噴霧量：１００ｍｌ／ｓｅｃ
円柱状の導電性基体の回転する時の周速度：６００ｍｍ／ｍｉｎ
超音波アトマイザーの移動の距離：毎秒当たり塗布幅の５０％
塗布回数：５回
第２樹脂層形成用塗布液の塗布
準備した第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体Ｎｏ．ａの第１樹脂層の上に図４に示す製造工程で塗布装置に超音波アトマイザーを使用し、超音波アトマイザーの噴出口と円柱状の導電性基体の塗布面（表面）との距離を１００ｍｍ、塗布幅を８３ｍｍとして以下に示す条件で調製した第２樹脂層形成用塗布液を塗布した後、１４０℃で６０分間乾燥し厚さ１０μｍの第２樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製しＮｏ．１−ａとした。超音波アトマイザーはティックコーポレーション（株）製を使用した。
【０１１３】
同じ第２樹脂層形成用塗布液を浸漬塗布方式で引上げ速度３ｍｍ／ｓｅｃで、準備した第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体Ｎｏ．ｂの周面に塗布した後、同じ条件で乾燥し厚さ１０μｍの第２樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製しＮｏ．１−ｂとした。他の超音波アトマイザーの塗布条件を以下に示す。
【０１１４】
吐出ノズル直径：２ｍｍ
超音波周波数：１００ｋＨｚ
平均液滴径：２００μｍ
噴霧量：１００ｍｌ／ｓｅｃ
円柱状の導電性基体の回転する時の周速度：６００ｍｍ／ｍｉｎ
超音波アトマイザーの移動の距離：毎秒当たり塗布幅の５０％
塗布回数：５回
第３樹脂層形成用塗布液の塗布
準備した第２樹脂層までを形成した円筒状の導電性基体Ｎｏ．１−ａの第２樹脂層の上に図４に示す製造工程で塗布装置として超音波アトマイザー使用し、表１に示す様に超音波アトマイザーの噴出口と円筒状の導電性基体の塗布面（表面）との距離を変えて以下に示す条件で調製した第３樹脂層形成用塗布液を塗布した後、１４０℃で６０分間乾燥し厚さ５μｍの第３樹脂層を形成し、現像ローラーを作製し試料Ｎｏ．１０１から１０６とした。超音波アトマイザーはティックコーポレーション（株）製を使用した。
【０１１５】
同じ第３樹脂層形成用塗布液を浸漬塗布方式で引上げ速度３ｍｍ／ｓｅｃで、準備した円筒状の導電性基体１−ｇの周面に塗布した後、同じ条件で乾燥し厚さ５μｍの第３樹脂層を形成した現像ローラーを作製し比較試料Ｎｏ．１０７とした。尚、他の超音波アトマイザーの塗布条件を以下に示す。
【０１１６】
吐出ノズル直径：２ｍｍ
超音波周波数：１００ｋＨｚ
平均液滴径：２００μｍ
噴霧量：１００ｍｌ／ｓｅｃ
円筒状の導電性基体の回転する時の周速度：６００ｍｍ／ｍｉｎ
超音波アトマイザーの移動の距離：毎秒当たり塗布幅の５０％
塗布回数：５回
【０１１７】
【表１】
【０１１８】
評価
作製した試料Ｎｏ．１０１から１０７に付き、樹脂層厚均一性、細線再現性、カブリ、画像濃度を以下に示す試験方法で試験し、以下に示す評価ランクで評価した結果を表２に示す。
【０１１９】
樹脂層厚均一性
現像ローラーの樹脂層を長さ方向２０点、周面で８点測定し、以下に示す式より計算でバラツキを求め樹脂層厚均一性とした。尚、樹脂層の厚さは、（株）フィッシャー・インストルメンツ（型式ＭＭＳ）で測定した。
【０１２０】
樹脂層厚のバラツキ（％）＝（（最大樹脂層厚−最小樹脂層厚）／平均樹脂層厚）×１００
樹脂層厚均一性の評価ランク
◎：樹脂層厚のバラツキが３％未満
○：樹脂層厚のバラツキが３％以上、５％未満
△：樹脂層厚のバラツキが５％以上、７％未満
×：樹脂層厚のバラツキが７％以上、１０％未満
××：樹脂層厚のバラツキが１０％以上
細線再現性の評価方法
評価装置として、市販のカラーレーザープリンタ「Ｍａｇｉｃｏｌｏｒ ２３００ＤＬ２３００ＤＬ（コニカミノルタビジネステクノロジーズ（株）製）」を用い、作製した現像ローラーＮｏ．２０１〜２０７を現像装置に装填して、常温低湿環境（２０℃、１０％ＲＨ）にて画素率２０％（イエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの各色５％のフルカラーモード）でＡ４サイズにて３０００枚の連続プリントを行い、初期と３０００枚プリント後に画素率が１０％のオリジナル画像（細線画像、人物顔写真、ベタ白画像、ベタ黒画像がそれぞれ１／４等分にあるＡ４サイズのオリジナル画像）をプリントして１０倍のルーペを用いて細線部を拡大し、カスレの有無を目視で評価することにより、解像度の評価を行った。
【０１２１】
細線再現性の評価ランク
◎：殆どカスレなし
○：エッジに僅かにカスレあり（ルーペを用いない場合、カスレは認識出来ない）
△：１／４未満のカスレ
×：１／４以上のカスレ
カブリ
細線再現性の評価に使用したオリジナル画像のベタ白画像部をマクベス反射濃度計「ＲＤ−９１８」で測定し、転写紙の反射濃度を０として相対反射濃度でカブリを評価した。
【０１２２】
カブリの評価ランク
◎：カブリ濃度が０．００以上、０．００３未満
○：カブリ濃度が０．００３以上、０．００５未満
△：カブリ濃度が０．０５以上、０．０１未満
×：カブリ濃度が０．０１以上
（画像濃度）
ベタ黒画像部の濃度を反射濃度計「ＲＤ−９１８」を用いて１２点測定し、その平均反射濃度で評価した。紙の反射濃度を「０」とする相対反射濃度にて評価した。
【０１２３】
◎：ベタ黒画像部の濃度１．３０以上
○：ベタ黒画像部の濃度１．２０以上、１．３０未満
△：ベタ黒画像部の濃度１．１０以上、１．２０未満
×：ベタ黒画像部の濃度１．１０未満
【０１２４】
【表２】
【０１２５】
導電性基体の周面上に、現像剤を電子写真感光体に供給する樹脂層を有する現像ローラーを製造する時、樹脂層を形成する樹脂層形成用塗布液を超音波アトマイザーを使用し、超音波アトマイザーの噴霧口と導電性基体の塗布面までの距離を２０ｍｍから３００ｍｍで樹脂層形成用塗布液を導電性基体の塗布面に塗布することで製造した試料Ｎｏ．１０２から１０５は樹脂層厚均一性、細線再現性、カブリ、画像濃度何れも優れた結果を示した。
【０１２６】
超音波アトマイザーの噴霧口と導電性基体の塗布面までの距離を１０ｍｍ、３５０ｍｍと本発明の範囲から外した条件で第１樹脂層から第３樹脂層の何れかを形成して作製した試料Ｎｏ．１０１、１０６は本発明の試料に対して樹脂層厚均一性、細線再現性、カブリ、画像濃度何れも劣る結果を示した。又、従来の付ける浸漬塗布方法で作製した試料Ｎｏ．１０７は樹脂層厚均一性、細線再現性、カブリ、画像濃度何れも一番劣る結果を示した。本発明の有効性が確認された。
【０１２７】
実施例２
現像ローラーとして図２に示す第１樹脂層、第２樹脂層、第３樹脂層の構成を有する現像ローラーを以下に示す方法で作製した。
【０１２８】
（円柱状の導電性基体の準備）
実施例１と同じ円柱状の導電性基体を準備した。
【０１２９】
（樹脂層の形成）
（第１樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第１樹脂層形成用塗布液と同じ第１樹脂層形成用塗布液を調製する時、固形分濃度を５％とした他は同じ方法で第１樹脂層形成用塗布液を調製した。尚、固形分濃度は、１−プロパノールとメチルイソブチルケトンの添加量を変化させることで行った。又、粘度は増粘剤の添加量で一定となる様に調整することで行った。
【０１３０】
（第２樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第２樹脂層形成用塗布液と同じ第２樹脂層形成用塗布液を調製する時、固形分濃度を５％とした他は同じ方法で第２樹脂層形成用塗布液を調製した。尚、固形分濃度は、１−プロパノールとメチルイソブチルケトンの添加量を変化させることで行った。又、粘度は増粘剤の添加量で一定となる様に調整することで行った。
【０１３１】
（第３樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第３樹脂層形成用塗布液と同じ第３樹脂層形成用塗布液を調製する時、表３に示す様に固形分濃度を変化した他は同じ方法で第３樹脂層形成用塗布液を調製しＮｏ．ａからｅとした。尚、固形分濃度は、１−プロパノールとメチルイソブチルケトンの添加量を変化させることで行った。又、粘度は増粘剤の添加量で一定となる様に調整することで行った。
【０１３２】
【表３】
【０１３３】
（第１樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第１樹脂層形成用塗布液を、実施例１の試料Ｎｏ．１０４を作製した時と同じ塗布条件で準備した円柱状の導電性基体の周面に塗布し、厚さ１μｍの第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製した。
【０１３４】
（第２樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第２樹脂層形成用塗布液を実施例１の試料Ｎｏ．１０４を作製した時と同じ塗布条件で準備した第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体の第１樹脂層の上に厚さ１０μｍの第２樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製した。
【０１３５】
（第３樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第３樹脂層形成用塗布液Ｎｏ．ａからｅを実施例１の試料Ｎｏ．１０４を作製した時と同じ塗布条件で準備した第２樹脂層を形成した円柱状の導電性基体の第２樹脂層の上に厚さ５μｍの第３樹脂層を形成し、現像ローラーを作製し試料Ｎｏ．２０１から２０５とした。
【０１３６】
評価
作製した試料Ｎｏ．２０１から２０５に付き、樹脂層厚均一性、細線再現性、カブリ、画像濃度を実施例１と同じ方法で試験し、同じ評価ランクで評価した結果を表４に示す。
【０１３７】
【表４】
【０１３８】
超音波アトマイザーを使用し、噴出口と感光体の表面までの距離を本発明の５０ｍｍとして樹脂層形成用塗布液を感光層の表面に塗布する際、樹脂層形成用塗布液の固形分濃度が３質量％から８質量％であれば何れも膜厚安定性、表面粗さ安定性、耐久性で優れた性能を示すことが確認された。本発明の有効性が確認された。本発明の有効性が確認された。
【０１３９】
実施例３
現像ローラーとして図２に示す第１樹脂層、第２樹脂層、第３樹脂層の構成を有する現像ローラーを以下に示す方法で作製した。
【０１４０】
（円柱状の導電性基体の準備）
実施例１と同じ円柱状の導電性基体を準備した。
【０１４１】
（樹脂層の形成）
（第１樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第１樹脂層形成用塗布液と同じ第１樹脂層形成用塗布液を調製する時、粘度を１０ｍＰａ・ｓと変化した他は同じ方法で第１樹脂層形成用塗布液を調製した。尚、粘度は、増粘剤の添加量を変化させることで行った。粘度は、ビスコテック（株）製回転式粘度計で測定した値を示す。
【０１４２】
（第２樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第２樹脂層形成用塗布液と同じ第２樹脂層形成用塗布液を調製する時、粘度を１５ｍＰａ・ｓと変化した他は同じ方法で第２樹脂層形成用塗布液を調製した。尚、粘度は、増粘剤の添加量を変化させることで行った。粘度は、ビスコテック（株）製回転式粘度計で測定した値を示す。
【０１４３】
（第３樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第３樹脂層形成用塗布液と同じ第３樹脂層形成用塗布液を調製する時、表５に示す様に粘度を変化した他は同じ方法で第３樹脂層形成用塗布液を調製しＮｏ．３−ａから３−ｆとした。尚、固形分濃度は、１−プロパノールとメチルイソブチルケトンの添加量を変化させることで行った。又、粘度は増粘剤の添加量で一定となる様に調整することで行った。
【０１４４】
【表５】
【０１４５】
（第１樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第１樹脂層形成用塗布液を、実施例１の試料Ｎｏ．１０４を作製した時と同じ塗布条件で準備した円柱状の導電性基体の周面に塗布し、厚さ１μｍの第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製した。
【０１４６】
（第２樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第２樹脂層形成用塗布液を実施例１の試料Ｎｏ．１０４を作製した時と同じ塗布条件で準備した第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体の第１樹脂層の上に塗布し、厚さ１０μｍの第２樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製した。
【０１４７】
（第３樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第３樹脂層形成用塗布液Ｎｏ．３−ａから３−ｆを実施例１の試料Ｎｏ．１０４を作製した時と同じ塗布条件で表６に示す様に、準備した第２樹脂層を形成した円柱状の導電性基体の第２樹脂層の上に塗布し、厚さ５μｍの第３樹脂層を形成し、現像ローラーを作製し試料Ｎｏ．３０１から３０６とした。
【０１４８】
評価
作製した試料Ｎｏ．３０１から３０６に付き、樹脂層厚均一性、細線再現性、カブリ、画像濃度を実施例１と同じ方法で試験し、同じ評価ランクで評価した結果を表６に示す。
【０１４９】
【表６】
【０１５０】
超音波アトマイザーを使用し、噴出口と感光体の表面までの距離を本発明の５０ｍｍとして樹脂層形成用塗布液を塗布する際、樹脂層形成用塗布液の粘度が２ｍＰａ・ｓから５０ｍＰａ・ｓであれば何れも膜厚安定性、表面粗さ安定性、耐久性で優れた性能を示すことが確認された。本発明の有効性が確認された。本発明の有効性が確認された。
【０１５１】
実施例４
現像ローラーとして図２に示す第１樹脂層、第２樹脂層、第３樹脂層の構成を有する現像ローラーを以下に示す方法で作製した。
【０１５２】
（円柱状の導電性基体の準備）
実施例１と同じ円柱状の導電性基体を準備した。
【０１５３】
（樹脂層の形成）
（第１樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第１樹脂層形成用塗布液と同じ第１樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１５４】
（第２樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第２樹脂層形成用塗布液と同じ第２樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１５５】
（第３樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第３樹脂層形成用塗布液と同じ第３樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１５６】
（第１樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第１樹脂層形成用塗布液を、準備した円柱状の導電性基体の周面に塗布する時、円柱状の導電性基体の回転速度（周速度）を１０００ｍｍ／ｍｉｎ、超音波アトマイザーを円筒状の導電性基体の回転軸と平行する方向に移動する距離を超音波アトマイザーによる塗布幅の５０％の長さとし、図６に示すフローに従って５回塗布を行い、第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製した。その他の超音波アトマイザーの条件は実施例１の試料Ｎｏ．１０４と同じ条件で行った。
【０１５７】
（第２樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第２樹脂層形成用塗布液を、準備した第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体の第１樹脂層の上に塗布する時、円柱状の導電性基体の回転速度を１０００ｍｍ／ｍｉｎ、超音波アトマイザーを第１樹脂層を形成した円筒状の導電性基体の回転軸と平行する方向に移動する距離を超音波アトマイザーによる塗布幅の５０％の長さとし、図６に示すフローに従って５回塗布を行い、第２樹脂層迄を形成した円柱状の導電性基体を作製した。その他の超音波アトマイザーの条件は実施例１の試料Ｎｏ．１０４と同じ条件で行った。
【０１５８】
（第３樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第３樹脂層形成用塗布液を、準備した第２樹脂層を形成した円柱状の導電性基体の第２樹脂層の上に塗布する時、表７に示す様に円柱状の導電性基体の回転速度（周速度）と、超音波アトマイザーを第２樹脂層を形成した円筒状の導電性基体の回転軸と平行する方向に移動する距離を変化しながら図６に示すフローに従って５回塗布を行い、第３樹脂層を形成し現像ローラーを作製し試料Ｎｏ．４０１から４１２とした。その他の超音波アトマイザーの条件は実施例１の試料Ｎｏ．１０４と同じ条件で行った。
【０１５９】
【表７】
【０１６０】
評価
作製した試料Ｎｏ．４０１から４１２に付き、樹脂層厚均一性、細線再現性、カブリ、画像濃度を実施例１と同じ方法で試験し、実施例１と同じ評価ランクで評価した結果を表８に示す。
【０１６１】
【表８】
【０１６２】
樹脂層形成用塗布液を円柱状の導電性基体の塗布面に塗布する時、導電性基体を周速度６００ｍｍ／ｍｉｎから２０００ｍｍ／ｍｉｎで回転させながら、且つ前記超音波アトマイザーを毎秒当たり、該超音波アトマイザーによる塗布幅の５０％から９０％に相当する長さを、円筒状の導電性基体の回転軸方向に平行に移動しながら塗布することを繰り返し行い塗布する方法で塗布した試料Ｎｏ．４０２から４０５、４０８から４１１は、何れも樹脂層厚均一性、細線再現性、カブリ濃度で優れた性能を示すことが確認された。本発明の有効性が確認された。
【０１６３】
実施例５
現像ローラーとして図２に示す第１樹脂層、第２樹脂層、第３樹脂層の構成を有する現像ローラーを以下に示す方法で作製した。
【０１６４】
（円柱状の導電性基体の準備）
実施例１と同じ円柱状の導電性基体を準備した。
【０１６５】
（樹脂層の形成）
（第１樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第１樹脂層形成用塗布液と同じ第１樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１６６】
（第２樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第２樹脂層形成用塗布液と同じ第２樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１６７】
（第３樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第３樹脂層形成用塗布液と同じ第３樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１６８】
（第１樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第１樹脂層形成用塗布液を、準備した円柱状の導電性基体の周面に塗布する時、超音波アトマイザーの位置を固定し、円柱状の導電性基体の回転速度（周速度）１０００ｍｍ／ｍｉｎと、円筒状の導電性基体の回転軸方向に移動する距離を超音波アトマイザーによる塗布幅の５０％とし、図７に示すフローに従って５回塗布を行い厚さ１μｍの第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製した。その他の超音波アトマイザーの条件は実施例１の試料Ｎｏ．１０４と同じ条件で行った。
【０１６９】
（第２樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第２樹脂層形成用塗布液を、準備した第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体の第１樹脂層の上に塗布する時、超音波アトマイザーの位置を固定し、円柱状の導電性基体の回転速度（周速度）１０００ｍｍ／ｍｉｎと、円筒状の導電性基体の回転軸方向に移動する距離を超音波アトマイザーによる塗布幅の５０％とし、図７に示すフローに従って５回塗布を行い、厚さ１０μｍの第２樹脂層迄を形成した円柱状の導電性基体を作製した。その他の超音波アトマイザーの条件は実施例１の試料Ｎｏ．１０４と同じ条件で行った。
【０１７０】
（第３樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第３樹脂層形成用塗布液を、準備した第２樹脂層を形成した円柱状の導電性基体の第２樹脂層の上に塗布する時、超音波アトマイザーの位置を固定し、表９に示す様に円柱状の導電性基体の回転速度（周速度）と、円柱状の導電性基体の回転軸方向に移動する距離（超音波アトマイザーによる塗布幅に対する％）を変化しながら図７に示すフローに従って５回塗布を行い、厚さ５μｍの第３樹脂層を形成し現像ローラーを作製し試料Ｎｏ．５０１から５１２とした。その他の超音波アトマイザーの条件は実施例１の試料Ｎｏ．１０４と同じ条件で行った。
【０１７１】
【表９】
【０１７２】
評価
作製した試料Ｎｏ．５０１から５１２に付き、樹脂層厚均一性、細線再現性、カブリ、画像濃度を実施例１と同じ方法で試験し、実施例１と同じ評価ランクで評価した結果を表１０に示す。
【０１７３】
【表１０】
【０１７４】
樹脂層形成用塗布液を円柱状の導電性基体の塗布面に塗布する時、超音波アトマイザーを固定し、導電性基体を周速度６００ｍｍ／ｍｉｎから２０００ｍｍ／ｍｉｎで回転させながら、且つ円柱状の導電性基体を毎秒当たり、超音波アトマイザーによる塗布幅の５０％から９０％に相当する長さを、円筒状の導電性基体の回転軸方向に移動しながら塗布することを繰り返し行い塗布する方法で塗布した試料Ｎｏ．５０２から５０５、５０８から５１１は何れも樹脂層厚均一性、細線再現性、カブリ濃度で優れた性能を示すことが確認された。本発明の有効性が確認された。
【０１７５】
実施例６
現像ローラーとして図２に示す第１樹脂層、第２樹脂層、第３樹脂層の構成を有する現像ローラーを以下に示す方法で作製した。
【０１７６】
（円柱状の導電性基体の準備）
実施例１と同じ円柱状の導電性基体を準備した。
【０１７７】
（樹脂層の形成）
（第１樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第１樹脂層形成用塗布液と同じ第１樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１７８】
（第２樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第２樹脂層形成用塗布液と同じ第２樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１７９】
（第３樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第３樹脂層形成用塗布液と同じ第３樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１８０】
（第１樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第１樹脂層形成用塗布液を準備した円筒状の導電性基体の周面に塗布する際、塗布幅を１００ｍｍとして塗布した以外は、実施例１の試料Ｎｏ．１０４を作製した時と同じ塗布条件で塗布し、厚さ１μｍの第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製した。尚、超音波アトマイザーの塗布幅は超音波アトマイザーの噴出口と感光体の表面までの距離を変えることで行った。
【０１８１】
（第２樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第２樹脂層形成用塗布液を準備した第１樹脂層を形成した円柱状導電性基体の第１樹脂層の上に塗布する際、塗布幅を１００ｍｍとした以外は、実施例１の試料Ｎｏ．１０４を作製した時と同じ塗布条件で塗布し、厚さ１０μｍの第２樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製した。尚、超音波アトマイザーの塗布幅は超音波アトマイザーの噴出口と感光体の表面までの距離を変えることで行った。
【０１８２】
（第３樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第３樹脂層形成用塗布液を準備した第２樹脂層を形成した円筒状の導電性基体の第２樹脂層の上に塗布する際、表１１に示す様に塗布幅を変えて塗布した以外は、実施例１の試料Ｎｏ．１０４を作製した時と同じ塗布条件で塗布し、厚さ５μｍの現像ローラーを作製し試料Ｎｏ．６０１から６０６とした。尚、超音波アトマイザーの塗布幅は超音波アトマイザーの噴出口と感光体の表面までの距離を変えることで行った。
【０１８３】
評価
作製した試料Ｎｏ．６０１から６０６に付き、樹脂層厚均一性、細線再現性、カブリ、画像濃度を実施例１と同じ方法で試験し、実施例１と同じ評価ランクで評価した結果を表１１に示す。
【０１８４】
【表１１】
【０１８５】
超音波アトマイザーを使用し、樹脂層形成用塗布液を円柱状の導電性基体の塗布面に塗布する際、超音波アトマイザーの塗布幅が５ｍｍから２００ｍｍであれば何れも膜厚安定性、表面粗さ安定性、耐久性で優れた性能を示すことが確認された。本発明の有効性が確認された。
【０１８６】
実施例７
現像ローラーとして図２に示す第１樹脂層、第２樹脂層、第３樹脂層の構成を有する現像ローラーを以下に示す方法で作製した。
【０１８７】
（円柱状の導電性基体の準備）
実施例１と同じ円柱状の導電性基体を準備した。
【０１８８】
（樹脂層の形成）
（第１樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第１樹脂層形成用塗布液と同じ第１樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１８９】
（第２樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第２樹脂層形成用塗布液と同じ第２樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１９０】
（第３樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第３樹脂層形成用塗布液と同じ第３樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１９１】
（第１樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第１樹脂層形成用塗布液を準備した円筒状の導電性基体の表面に塗布する際、噴霧量を５ｍｌ／ｍｉｎとした以外は、実施例１の試料Ｎｏ．１０４を作製した時と同じ塗布条件で塗布し、厚さ１μｍの第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製した。
【０１９２】
（第２樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第２樹脂層形成用塗布液を準備した第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体の第１樹脂層の上に塗布する際、噴霧量を１０ｍｌ／ｍｉｎとした以外は、実施例１の試料Ｎｏ．１０４を作製した時と同じ塗布条件で塗布し、厚さ１０μｍの第２樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製した。
【０１９３】
（第３樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第３樹脂層形成用塗布液を準備した第２樹脂層を形成した円柱状の導電性基体の第２樹脂層の上に塗布する際、表１２に示す様に噴霧量を変えて厚さ５μｍの第３樹脂層を形成し現像ローラーを作製し試料Ｎｏ．７０１から７０７とした。尚、その他の条件は、実施例１の試料Ｎｏ．１０４を作製した時と同じ塗布条件で塗布した。
【０１９４】
評価
作製した試料Ｎｏ．７０１から７０７に付き、樹脂層厚均一性、細線再現性、カブリ、画像濃度を実施例１と同じ方法で試験し、実施例１と同じ評価ランクで評価した結果を表１２に示す。
【０１９５】
【表１２】
【０１９６】
超音波アトマイザーを使用し、噴出口と円柱状の導電性基体の塗布面までの距離を本発明の５０ｍｍとして樹脂層形成用塗布液を塗布する際、超音波アトマイザーの噴霧量を２ｍｌ／ｍｉｎから３５０ｍｌ／ｍｉｎであれば何れも膜厚安定性、表面粗さ安定性、耐久性で優れた性能を示すことが確認された。本発明の有効性が確認された。
【符号の説明】
【０１９７】
１フルカラー画像形成装置
１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋ 画像形成ユニット
１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋ 感光体
４Ｙ１、４Ｍ１、４Ｃ１、４Ｋ１ 現像ローラー
４Ｙ１ａ、４Ｙ′１ａ、１０ 導電性基体
４Ｙ１ａ１、４Ｙ′１ｂ 第１樹脂層
４Ｙ１ａ２、４Ｙ′１ｃ 第２樹脂層
４Ｙ１ａ３、４Ｙ′１ｄ 第３樹脂層
７ 無端ベルト状中間転写体形成ユニット
７０ 中間転写ベルト
９ 製造工程
９ａ 保持部
９ｂ 塗布部
９ｂ１ 塗布装置
９ｂ１１ 塗布液供給管
９ｂ２ 駆動部
【技術分野】
【０００１】
本発明は電子写真方式の画像形成装置に使用する現像ローラーの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式の画像形成装置は、近年では高画質フルカラー化、小型化に合わせ高品質化の要求が強く求められている。電子写真方式の画像形成装置は、従来から知られているように、感光体を一様に帯電する帯電部材、感光体上に静電潜像を形成する露光部材、静電潜像をトナー像で現像する現像部材、得られたトナー像を転写体に転写する転写部材、トナー像を転写体上に定着させる定着部材、感光体上の残留トナーをクリーニングするクリーニング部材、感光体上の静電潜像を除去する除電部材等の構成部材を有している。
【０００３】
それぞれの構成部材は、高品質化及び小型化に合わせに合わせ各構成部品の高品質化とローラーの長さを短くする要求がされている。
【０００４】
電子写真方式の画像形成装置は、帯電したトナーを感光体上の静電潜像に接触或いは非接触で供給し、静電潜像を顕像にする現像過程を経て形成したトナー像を転写材に転写し、更に定着して最終画像を形成するものである。
【０００５】
トナー像を形成するための現像方法には、キャリアーとトナーから構成される２成分現像方式と、トナーのみからなる現像剤を現像ローラーにより搬送し、現像剤規制部材との摩擦で耐電させ現像する１成分現像方式とがある。１成分現像方式はキャリアーを使用しないため現像装置が簡略化することが出来、画像形成装置を小型化することが可能となる利点がある。
【０００６】
１成分現像方式に用いる現像ローラーとしては、円筒状（円柱状）の導電性基体の周面に摩擦帯電制御、輸送性制御及び画像欠陥防止のために表面に導電性微粒子を分散した樹脂層を形成したものが知られている。この樹脂層の層厚のバラツキ、欠陥等により、帯電ムラが生じトナーの搬送量にムラが発生し、現像ムラの原因となることが知られている。帯電ムラの発生を抑制する方法として樹脂層に導電性微粒子を添加する方法が知られており、この導電性微粒子により樹脂層の抵抗値や表面粗さを調整することにより、現像ローラーに担持されたトナーの帯電量及び搬送量が適切に制御され現像ゴーストなどの画像欠陥の発生が抑制される。尚、本発明で現像ゴーストとは、トナー濃度（現像剤濃度）のムラに伴い生じる画像不良を言う。
【０００７】
導電性基体の塗布面に樹脂層を形成した現像ローラーの製造方法としては、樹脂層を浸漬塗布法、スプレー塗布法、リング塗布法で形成する方法が知られている。例えば、円筒状又は円柱状の導電性基体の塗布面に粗さ付与粒子を含有する塗布液を塗布して樹脂層を形成する時、塗布直後のＷｅｔ膜厚と乾燥後のＤｒｙ膜厚との膜厚比（Ｄｒｙ膜厚／Ｗｅｔ膜厚）が０．２から０．５になるように制御して浸漬塗布法による塗布する方法が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。しかしながら、特許文献１に記載の方法の問題点として、煩雑な管理を必要とすることが挙げられる。
【０００８】
円筒状又は円柱状の導電性基体の塗布面の周面にリング塗布法で樹脂層を形成する時、基体の外形振れを極小にするため、基体を６軸ロボットの６軸フランジに把持して塗布をすることで塗布ムラをなくす方法が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。しかしながら、特許文献２に記載の方法の問題点として、複雑な装置を必要とすることが挙げられる。
【０００９】
円筒状又は円柱状の導電性基体の塗布面の周面にスプレー塗布法で１μｍ以下の膜の樹脂層を形成する時にプレー塗布回数を規定した方法が開示されている（例えば、特許文献３参照。）。しかしながら、特許文献３に記載のスプレー塗布法は次の問題点を有していることが判った。
１）塗布液を噴霧するため気体と混合することで、塗布液の種類によっては凝集物が出来、塗布異物として塗布され塗布欠陥となる。
２）ノズルから噴霧される塗布液の霧滴濃度が、中心部が高く、周辺が低いため基体表面で膜厚のムラが生じやすく均一膜厚の塗布が難しい。
３）塗布液の飛沫の飛散が生じ、導電性基体の非塗布面へ付着し、付着物の除去に余分な工数が掛かる。
【００１０】
この様な状況から、煩雑な管理、複雑な装置を必要とせず、異物発生による塗布故障がなく導電性基体の塗布面に均一の膜厚で樹脂層を塗布方法により形成する現像ローラーの製造方法の開発が望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００９−５８８６５号公報
【特許文献２】特開２００８−１５２１２７号公報
【特許文献３】特開２００３−９８６９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、この様な状況に鑑みなされたものであり、その目的は、煩雑な管理、複雑な装置を必要とせず、異物発生による塗布故障がなく導電性基体の塗布面の周面に均一の膜厚で樹脂層を塗布方法により形成する現像ローラーの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成された。
【００１４】
１．導電性基体の周面上に、現像剤を電子写真感光体に供給する樹脂層を有する現像ローラーの製造方法において、
前記樹脂層を形成する樹脂層形成用塗布液を超音波アトマイザーを使用し、
前記超音波アトマイザーの噴霧口と前記導電性基体の塗布面までの距離を２０ｍｍから３００ｍｍで前記樹脂層形成用塗布液を前記導電性基体の塗布面に塗布することを特徴とする現像ローラーの製造方法。
【００１５】
２．前記樹脂層形成用塗布液の固形分濃度が３質量％から８質量％であることを特徴とする前記１に記載の現像ローラーの製造方法。
【００１６】
３．前記樹脂層形成用塗布液の粘度が２ｍＰａ・ｓから５０ｍＰａ・ｓであることを特徴とする前記１又は２に記載の現像ローラーの製造方法。
【００１７】
４．前記樹脂層形成用塗布液を前記導電性基体の塗布面上に塗布する時、該導電性基体を６００ｍｍ／ｍｉｎから２０００ｍｍ／ｍｉｎの周速度で回転させながら、且つ、前記超音波アトマイザーを毎秒当たり、該超音波アトマイザーによる塗布幅の５０％から９０％に相当する長さを、該導電性基体の回転軸と平行する方向に移動しながら塗布することを特徴とする前記１から３の何れか１項に記載の現像ローラーの製造方法。
【００１８】
５．前記樹脂層形成用塗布液を前記導電性基体の塗布面上に塗布する時、該超音波アトマイザーを固定し、該導電性基体を６００ｍｍ／ｍｉｎから２０００ｍｍ／ｍｉｎの周速度で回転させながら、且つ、該超音波アトマイザーの噴霧口と該導電性基体の塗布面までの距離を一定に保ちながら、該導電性基体を毎秒当たり、該超音波アトマイザーによる塗布幅の５０％から９０％に相当する長さを、該導電性基体の幅方向に移動しながら塗布することを特徴とする前記１から３の何れか１項に記載の現像ローラーの製造方法。
【００１９】
６．前記超音波アトマイザーの塗布幅が５ｍｍから２００ｍｍであることを特徴とする前記１から５の何れか１項に記載の現像ローラーの製造方法。
【００２０】
７．前記超音波アトマイザーの前記樹脂層形成用塗布液の噴霧量が２ｍｌ／ｍｉｎから３５０ｍｌ／ｍｉｎであることを特徴とする前記１から６の何れか１項に記載の現像ローラーの製造方法。
【発明の効果】
【００２１】
煩雑な管理、複雑な装置を必要とせず、異物発生による塗布故障がなく円筒状又は円柱状の導電性基体の周面に均一の膜厚で樹脂層を塗布方法により形成する現像ローラーの製造方法を提供することが出来た。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】電子写真方式の画像形成装置の一例を示す概略断面構成図である。
【図２】図１に示す現像ローラーの概略図である。
【図３】図１（ａ）に示される他の構成の現像ローラーの概略断面図である。
【図４】導電性基体の塗布面の周面に超音波アトマイザーを使用した塗布方法で樹脂層を形成し、現像ローラーを製造する製造工程の概略図である。
【図５】図４に示す製造工程の塗布装置により導電性基体の塗布面に樹脂層形成用塗布液を超音波アトマイザーで塗布している状態を示すに示す図４のＢ−Ｂ′に沿った概略図である。
【図６】図４に示す製造装置で、超音波アトマイザーを使用して円筒状導電性基体の表面に樹脂層形成用塗布液を塗布する時、超音波アトマイザーと円筒状導電性基体との両方を同時に動かして塗布する場合のフロー図である。
【図７】超音波アトマイザーを使用して円筒状導電性基体の表面に樹脂層形成用塗布液を塗布する時、超音波アトマイザーを固定し、円筒状導電性基体を回転しながら移動し塗布する場合のフロー図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明を実施する形態を図１から図７を参照しながら説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２４】
図１は、電子写真方式の画像形成装置の一例を示す概略断面構成図である。尚、本図はフルカラー画像形成装置の場合を示している。
【００２５】
図中、１はフルカラー画像形成装置を示す。フルカラー画像形成装置１は、複数組の画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋと、転写部としての無端ベルト状中間転写体形成ユニット７と、記録媒体Ｐを搬送する無端ベルト状の給紙搬送手段２１及び定着手段としてのベルト式定着装置２４とを有する。フルカラー画像形成装置１の本体Ａの上部には、原稿画像読み取り装置ＳＣが配置されている。
【００２６】
各感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋに形成される異なる色のトナー像の１つとして、イエロー色の画像を形成する画像形成ユニット１０Ｙは、第１の像担持体としてのドラム状の感光体１Ｙ、感光体１Ｙの周囲に配置された帯電手段２Ｙ、露光手段３Ｙ、現像ローラー４Ｙ１を有する現像手段４Ｙ、一次転写手段としての一次転写ローラー５Ｙ、クリーニング手段６Ｙを有する。
【００２７】
又、別の異なる色のトナー像の１つとして、マゼンタ色の画像を形成する画像形成ユニット１０Ｍは、第１の像担持体としてのドラム状の感光体１Ｍ、感光体１Ｍの周囲に配置された帯電手段２Ｍ、露光手段３Ｍ、現像ローラー４Ｍ１を有する現像手段４Ｍ、一次転写手段としての一次転写ローラー５Ｍ、クリーニング手段６Ｍを有する。
【００２８】
又、更に別の異なる色のトナー像の１つとして、シアン色の画像を形成する画像形成ユニット１０Ｃは、第１の像担持体としてのドラム状の感光体１Ｃ、感光体１Ｃの周囲に配置された帯電手段２Ｃ、露光手段３Ｃ、現像ローラー４Ｃ１を有する現像手段４Ｃ、一次転写手段としての一次転写ローラー５Ｃ、クリーニング手段６Ｃを有する。
【００２９】
又、更に他の異なる色のトナー像の１つとして、黒色画像を形成する画像形成ユニット１０Ｋは、第１の像担持体としてのドラム状の感光体１Ｋ、感光体１Ｋの周囲に配置された帯電手段２Ｋ、露光手段３Ｋ、現像ローラー４Ｋ１を有する現像手段４Ｋ、一次転写手段としての一次転写ローラー５Ｋ、クリーニング手段６Ｋを有する。
【００３０】
無端ベルト状中間転写体形成ユニット７は、複数のローラーにより巻回され、回動可能に支持された半導電性エンドレスベルト状の第２の像担持体として無端の中間転写ベルト７０を有する。
【００３１】
画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋより形成された各色の画像は、一次転写ローラー５Ｙ、５Ｍ、５Ｃ、５Ｋにより、回動する無端の中間転写ベルト７０上に逐次転写されて、合成されたカラー画像が形成される。給紙カセット２０内に収容された記録媒体として用紙等の記録媒体Ｐは、給紙搬送手段２１により給紙され、複数の中間ローラー２２Ａ、２２Ｂ、２２Ｃ、２２Ｄ、レジストローラー２３を経て、二次転写手段としての二次転写ローラー５Ａに搬送され、記録媒体Ｐ上にカラー画像が一括転写される。
【００３２】
カラー画像が転写された記録媒体Ｐは、熱ローラー定着器２７０が装着された定着装置２４により定着処理され、排紙ローラー２５に挟持されて機外の排紙トレイ２６上に載置される。
【００３３】
一方、二次転写ローラー５Ａにより記録媒体Ｐにカラー画像を転写した後、記録媒体Ｐを曲率分離した無端の中間転写ベルト７０は、クリーニング手段６Ａにより残留トナーが除去される。
【００３４】
画像形成処理中、一次転写ローラー５Ｋは常時、感光体１Ｋに圧接している。他の一次転写ローラー５Ｙ、５Ｍ、５Ｃはカラー画像形成時にのみ、それぞれ対応する感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃに圧接する。
【００３５】
二次転写ローラー５Ａは、ここを記録媒体Ｐが通過して二次転写が行われる時にのみ、無端の中間転写ベルト７０に圧接する。
【００３６】
又、装置本体Ａから筐体８を支持レール８２Ｌ、８２Ｒを介して引き出し可能にしてある。筐体８は、画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋと、無端ベルト状中間転写体形成ユニット７とを有する。
【００３７】
画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋは、垂直方向に縦列配置されている。感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋの図示左側方には無端ベルト状中間転写体形成ユニット７が配置されている。無端ベルト状中間転写体形成ユニット７は、ローラー７１、７２、７３、７４、７６を巻回して回動可能な無端の中間転写ベルト７０、一次転写ローラー５Ｙ、５Ｍ、５Ｃ、５Ｋ及びクリーニング手段６Ａとを有している。
【００３８】
筐体８の引き出し操作により、画像形成ユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋと、無端ベルト状中間転写体形成ユニット７とは、一体となって、本体Ａから引き出される。
【００３９】
この様に感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋの外周面上を帯電、露光し外周面上に潜像を形成した後、現像によりトナー像（顕像）を形成し、無端の中間転写ベルト７０上で各色のトナー像を重ね合わせ、一括して記録媒体Ｐに転写し、ベルト式定着装置２４で加圧及び加熱により固定して定着する。尚、本発明で像形成時とは潜像形成、トナー像（顕像）を記録媒体Ｐに転写し最終画像を形成することを含む。
【００４０】
トナー像を記録媒体Ｐに転移させた後の感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋは、各感光体１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋに配設されたクリーニング手段６Ｙ、６Ｍ、６Ｃ、６Ｋで転写時に感光体に残されたトナーを清掃した後、上記の帯電、露光、現像のサイクルに入り、次の像形成が行われる。
【００４１】
上記カラー画像形成装置では、中間転写体をクリーニングするクリーニング手段６Ａのクリーニング部材として、弾性ブレードを用いる。又、各感光体に脂肪酸金属塩を塗布する手段（１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋ）を設けている。尚、脂肪酸金属塩としては、トナーで用いたと同じものを用いることが出来る。
【００４２】
図２は図１に示す現像ローラーの概略図である。図２（ａ）は図１に示す現像ローラーの概略斜視図である。図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ′に沿った概略断面図である。
【００４３】
図中、４Ｙ１は現像ローラーを示す。現像ローラー４Ｙ１は、本体４Ｙ１１と、本体４Ｙ１１の両側に取り付け部材（不図示）を介して取り付けられた保持部材４Ｙ１２とを有している。４Ｙ１１ａは本体４Ｙ１１の端面を示す。本体４Ｙ１１は円筒状の導電性基体４Ｙ１ａと、円筒状の導電性基体４Ｙ１ａの周面に形成された第１樹脂層４Ｙ１ａ１と、第２樹脂層４Ｙ１ａ２と、第３樹脂層４Ｙ１ａ３とを有している。第１樹脂層４Ｙ１ａ１は接着層として機能を有しており、必要に応じて設けることが可能となっている。第２樹脂層４Ｙ１ａ２は帯電付与機能を有しており必要に応じて複数の層から形成されることもある。第３樹脂層４Ｙ１ａ３は第２樹脂層４Ｙ１ａ２の保護層としての機能を有しており、必要に応じて設けることが可能となっている。
【００４４】
保持部材４Ｙ１２の形状は現像ローラーを取り付ける側の形式により変わるため特に限定はなく、本図に示される保持部材４Ｙ１２は、径が異なる第１保持部材４Ｙ１２ａと第２保持部材４Ｙ１２ｂとから構成されている場合を示している。本図に示される現像ローラー４Ｙ１で、樹脂層が形成されている部分は導電性基体４Ｙ１ａの周面と両端の端面４Ｙ１１ａであり、保持部材４Ｙ１２は樹脂層が形成されていない状態となっている。即ち、本図に示される現像ローラー４Ｙ１では保持部材４Ｙ１２が非塗膜形成領域となっている。
【００４５】
導電性基体４Ｙ１ａの直径は１．０ｍｍから３０ｍｍが好ましい。第１樹脂層４Ｙ１ａ１の乾燥塗膜の厚さは、０．５μｍから１００μｍが好ましい。第２樹脂層４Ｙ１ａ２の乾燥塗膜の厚さは、０．５μｍから２００μｍが好ましい。第２樹脂層４Ｙ１ａ２は単一層であっても複数層からなる多層構成であってもよく、必要に応じて適宜選択することが可能である。第３樹脂層４Ｙ１ａ３の乾燥塗膜の厚さは、０．５μｍから２００μｍが好ましい。
【００４６】
図３は図１（ａ）に示される他の構成の現像ローラーの概略断面図である。
【００４７】
図中、４Ｙ′１１は図２（ａ）に示される現像ローラーの本体を示す。本体４Ｙ′１１は導電性基体４Ｙ′１ａと、導電性基体４Ｙ′１ａの周面に形成された第１樹脂層（弾性層）４Ｙ′１ｂと、第１樹脂層４Ｙ′１ｂの周面に形成された第２樹脂層４Ｙ′１ｃと、第２樹脂層４Ｙ′１ｃの周面に形成された第３樹脂層４Ｙ′１ｄとを有している。第１樹脂層４Ｙ′１ｂは弾性層としての機能を有している。第２樹脂層４Ｙ′１ｃは帯電付与機能を有しており必要に応じて複数の層から形成されることもある。第３樹脂層４Ｙ′１ｄは第２樹脂層４Ｙ′１ｃの保護層としての機能を有している。尚、樹脂層４Ｙ′１ｄは必要に応じて設けることが可能となっている。
【００４８】
導電性基体４Ｙ′１ａは直径が１．０ｍｍから３０ｍｍが好ましい。第１樹脂層（弾性層）４Ｙ′１ｂの乾燥塗膜の厚さは、１０μｍから１０００μｍが好ましい。第２樹脂層の乾燥塗膜の厚さは、０．５μｍから２００μｍが好ましい。第２樹脂層４Ｙ′１ｃは単一層であっても複数層からなる多層構成であってもよく、必要に応じて適宜選択することが可能である。第３樹脂層４Ｙ′１ｄの乾燥塗膜の厚さは、０．５μｍから２００μｍが好ましい。
【００４９】
尚、図１に示す他の現像ローラー４Ｍ１、４Ｃ１、４Ｋ１の構成は図２、図３に示す現像ローラーの構成と同じである。
【００５０】
図２、図３に示される導電性基体は円筒状又は円柱状であってもよく必要に応じて選択することが可能となっている。
【００５１】
本発明で樹脂層とは、図２、図３に示される第１樹脂層、第２樹脂層、第３樹脂層を含むものである。
【００５２】
本発明は、図１から図３に示す現像ローラーの樹脂層の膜厚のバラツキ、欠陥をなくすことで、帯電ムラ、トナーの搬送量のムラをなくした現像ローラーの製造方法に関するものである。
【００５３】
図４は、導電性基体の塗布面の周面に超音波アトマイザーを使用した塗布方法で樹脂層を形成し、現像ローラーを製造する製造工程の概略図である。図４（ａ）は導電性基体の塗布面の周面に超音波アトマイザーを使用した塗布方法で樹脂層を形成し、現像ローラーを製造する製造工程の概略斜視図である。図４（ｂ）は図４（ａ）に示される製造工程の概略正面図である。尚、本図は導電性基体として円柱状の導電性基体を使用している場合を示している。
【００５４】
図中、９は製造工程を示す。製造工程９は保持部９ａと塗布部９ｂとを有している。保持部９ａは第１保持台９ａ１と、第２保持台９ａ２と、駆動用モーター９ａ３とを有している。駆動用モーター９ａ３は第１保持台９ａ１上に配設されており、導電性基体１０の保持部材１０ａと接続部材を介して駆動用モーター９ａ３の回転軸に接続されている。第２保持台９ａ２には導電性基体１０の他方の保持部材１０ｂを受ける受け部９ａ２１が配設されており、これにより、駆動用モーター９ａ３の回転により導電性基体１０を回転させながら保持することが可能となっている。
【００５５】
塗布部９ｂは、塗布装置９ｂ１と、駆動部９ｂ２とを有している。９ｂ１１は塗布装置９ｂ１に樹脂層形成用塗布液を供給する塗布液供給管を示す。塗布装置９ｂ１は取り付け部材９ｂ１２によりガイドレール９ｂ４に円筒状（円柱状）の導電性基体１０の幅方向に沿って平行に移動可能に取り付けられている。尚、本図では塗布装置９ｂ１への塗布液供給部、制御部は省略してある。
【００５６】
駆動部９ｂ２はモーター９ｂ２１とガイドレール取り付け板９ｂ３とを有している。ガイドレール取り付け板９ｂ３には、取り付け部材９ｂ１２を取り付け、保持部９ａに保持された導電性基体１０の回転軸と平行に塗布装置９ｂ１を移動（図中の矢印方向）させるための２本のガイドレール９ｂ４が配設されている。
【００５７】
モーター９ｂ２１は、取り付け部材９ｂ１２の上に取り付けられたスライド用ネジ９ｂ１３と螺合し、取り付け部材９ｂ１２を保持部９ａに保持された導電性基体１０の幅よりも長く移動させる長さの雌ネジ９ｂ２２を有している。
【００５８】
モーター９ｂ２１を駆動させることで、スライド用ネジ９ｂ１３の回転に伴い、取り付け部材９ｂ１２に取り付けられた塗布装置９ｂ１が導電性基体１０の回転軸と平行に幅方向に移動することが可能となっている。
【００５９】
使用する導電性基体１０は円柱状の導電性基体の場合を示しているが円筒状の導電性基体であってもよく、適宜選択することが可能である。
【００６０】
本図は、導電性基体の保持位置を固定した状態で導電性基体を回転させ、塗布装置を導電性基体の回転軸と平行に移動させる方式の塗布装置であるが、塗布装置を固定し、導電性基体を回転させながら導電性基体の幅方向に移動させる方式も可能である。幅方向とは、保持部材１０ｂから保持部材１０ａの方向を言う。塗布装置９ｂ１としては超音波アトマイザーが使用されている。
【００６１】
本発明で超音波アトマイザーとは、加圧することなしに液体を供給し、ピエゾセラミックの振動により超音波アトマイザー（ノズル）を振動させ、そこで供給された液体を振動させ、きめ細かい粒子を形成し噴霧する装置を言う。
【００６２】
超音波アトマイザーとしては市販の超音波アトマイザーの使用が可能である。例えば、超音波アトマイザー（ティックコーポレーション（株）製）、超音波スプレーコーティング装置（ＵＳＩ社製）、超音波スプレーノズルシステム（ソノテック社製）が挙げられる。
【００６３】
本図は導電性基体を横にした状態で塗布をしている場合を示しているが、導電性基体を立てた状態で塗布することも勿論可能である。
【００６４】
図５は図４に示す製造工程の塗布装置により導電性基体の塗布面に樹脂層形成用塗布液を超音波アトマイザーで塗布している状態を示すに示す図４のＢ−Ｂ′に沿った概略図である。図５（ａ）は図４に示す製造工程の塗布装置により導電性基体の塗布面に樹脂層形成用塗布液を超音波アトマイザーで塗布している状態を示すに示す図４のＢ−Ｂ′に沿った概略断面図である。図５（ｂ）は図５（ａ）のＰで示す部分の拡大概略平面図である。尚、本図では取り付け部材、ガイドレール、スライド用ネジ等は省略してある。
【００６５】
図中、Ｊは塗布装置９ｂ１の噴霧口９ｂ１ａから導電性基体１０の塗布面までの距離を示す。距離Ｊは、２０ｍｍから３００ｍｍである。２０ｍｍ未満の場合は、噴霧口９ｂ１ａから噴霧された液滴が導電性基体１０の塗布面から跳ね返ることにより、膜厚と表面粗さが不均一となるため好ましくない。３００ｍｍを超える場合は、噴霧口９ｂ１ａから噴霧された液滴が風（環境）の影響を受け、所望位置を外れ、膜厚と表面粗さとが不均一となるため好ましくない。
【００６６】
Ｋは噴霧口９ｂ１ａから噴霧された液滴により導電性基体１０の塗布面の上に形成された円形の塗布領域Ｌの幅を示す。幅Ｋは塗布領域Ｌの直径を示すと同時に塗布幅も示す。幅Ｋは、液滴同士が隣接することによる液滴の粗大化、液滴間の隙間、膜厚と表面粗さの安定化等を考慮し、５ｍｍから２００ｍｍが好ましい。Ｍは円形の塗布領域Ｌの周辺を示す。Ｎは円形の塗布領域Ｌの中心を示す。
【００６７】
塗布液供給管９ｂ１１から塗布装置９ｂ１に供給される樹脂層形成用塗布液の固形分濃度は、ウエット膜厚、膜厚ムラ、膜厚コントロール、表面粗さ等を考慮し、３質量％から８質量％であることが好ましい。
【００６８】
樹脂層形成用塗布液の粘度は、液滴形成性を考慮し、５０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。更に好ましくは、２ｍＰａ・ｓから５０ｍＰａ・ｓである。
【００６９】
導電性基体を回転させながら、位置を固定し、塗布装置である超音波アトマイザーを導電性基体の回転軸と平行に移動させる塗布方法の場合、導電性基体の回転速度と超音波アトマイザーの移動距離の関係を以下に示す。
【００７０】
樹脂層形成用塗布液を塗布している時、導電性基体１０の回転の周速度は、液滴への搬送時の風邪の影響による膜厚、表面粗さ等を考慮し、６００ｍｍ／ｍｉｎから２０００ｍｍ／ｍｉｎが好ましい。
【００７１】
樹脂層形成用塗布液を塗布している時、導電性基体１０の回転軸方向に平行に移動させる超音波アトマイザーの距離は毎秒当たり、液滴への超音波アトマイザーの移動に伴う風邪の影響による膜厚、表面粗さ等を考慮し、超音波アトマイザーによる塗布幅の５０％から９０％に相当する長さが好ましい。具体的には、幅Ｋが８０ｍｍの場合、超音波アトマイザーは４０ｍｍ／ｓｅｃから７２ｍｍ／ｓｅｃで移動することになる。
【００７２】
超音波アトマイザーを固定し、導電性基体を回転させながら、超音波アトマイザーの噴霧口と導電性基体の塗布面までの距離を一定に保ち、導電性基体を導電性基体の幅方向に移動させる塗布方法の場合、導電性基体の回転速度と超音波アトマイザーの移動距離の関係を以下に示す。
【００７３】
樹脂層形成用塗布液を塗布している時、導電性基体１０の回転する周速度は、液滴への搬送時の風邪の影響による膜厚、表面粗さ等を考慮し、６００ｍｍ／ｍｉｎから２０００ｍｍ／ｍｉｎが好ましい。
【００７４】
導電性基体１０の移動する距離は毎秒当たり、液滴への導電性基体１０の移動に伴う風邪の影響による膜厚、表面粗さ等を考慮し、超音波アトマイザーによる塗布幅の５０％から９０％に相当する長さが好ましい。具体的には、幅Ｋが８０ｍｍの場合、導電性基体１０は４０ｍｍ／ｓｅｃから７２ｍｍ／ｓｅｃで移動することになる。
【００７５】
樹脂層形成用塗布液の導電性基体１０の表面への塗布回数は、必要に応じて適宜設定することが好ましい。尚、塗布回数とは、超音波アトマイザーが導電性基体１０の端辺の塗布開始点で塗布を開始し、対向する導電性基体１０の端辺にまで移動し導電性基体１０の設定された塗布面の全周に塗布した時を塗布１回とした回数を言う。
【００７６】
樹脂層形成用塗布液を塗布する時、超音波アトマイザーからの噴霧量は、液滴形成、液垂れ、導電性基体１０の塗布面からの液滴の跳ね返り等を考慮し、３５０ｍｌ／ｍｉｎ以下であることが好ましい。更に好ましくは２ｍｌ／ｍｉｎから３５０ｍｌ／ｍｉｎである。
【００７７】
次に、図４に示す製造装置で、超音波アトマイザーを使用して導電性基体の塗布面に樹脂層形成用塗布液の塗布するフローを図６に示す。
【００７８】
次に、図４に示す製造装置で、超音波アトマイザーを使用して導電性基体の塗布面に樹脂層形成用塗布液の塗布するフローを図６に示す。
【００７９】
図６は図４に示す製造装置で、超音波アトマイザーを使用して導電性基体の塗布面に樹脂層形成用塗布液を塗布する時、超音波アトマイザーと導電性基体との両方を同時に動かして塗布する場合のフロー図である。
【００８０】
ステップ１は、塗布開始点に超音波アトマイザーを設定し、樹脂層形成用塗布液を塗布する塗布開始の状態を示す。この時、円形の噴霧領域Ｌの辺Ｍは導電性基体１０の端辺の予め設定された位置になる様に、又、超音波アトマイザーの噴霧から導電性基体１０の塗布面までの距離は、２０ｍｍから３００ｍｍに設定される。尚、塗布開始点は噴霧領域Ｌの中心Ｎを言う。
【００８１】
ステップ２は、樹脂層形成用塗布液の塗布が開始された後、数分の状態を示す。塗布は導電性基体１０の位置は固定し、回転している状態で、超音波アトマイザーが同時に導電性基体１０の回転軸と平行方向に移動（噴霧領域Ｌが移動する）（図中の矢印ａ方向）しながら行われる。円筒状（円柱状）の導電性基体１０は、周速度６００ｍｍ／ｍｉｎから２０００ｍｍ／ｍｉｎで回転することが好ましい。超音波アトマイザーは、導電性基体１０の回転軸方向と平行する方向に、毎秒当たり、超音波アトマイザーによる塗布幅（図５に示す塗布領域Ｌの幅Ｋ）の５０％から９０％に相当する長さを移動することが好ましい。本図は超音波アトマイザーを超音波アトマイザーによる塗布幅（図５に示す塗布領域Ｌの幅Ｋ）の５０％に相当する長さを移動しながら塗布を行っている状態を示す。
【００８２】
ステップ３は、超音波アトマイザーが移動（図中の矢印ａ方向）し、噴霧領域Ｌの周辺Ｍが導電性基体１０の塗布を開始した導電性基体１０の端辺と対向する導電性基体１０の端辺に設定された位置に到達した状態を示す。
【００８３】
ステップ４は、ステップ３の状態から導電性基体１０が１回転して導電性基体１０の周面の全面に樹脂層形成用塗布液が塗布された状態を示す。
【００８４】
本発明では、ステップ４に示す状態を塗布１回と言う。以後、必要に応じて、塗布開始した導電性基体１０の端辺に向けて超音波アトマイザーを移動（図中の矢印ｂ方向）し、ステップ２からステップ４の操作を繰り返すことで設定した厚さの樹脂層を形成することが可能である。
【００８５】
図７は超音波アトマイザーを使用して導電性基体の表面に樹脂層形成用塗布液を塗布する時、超音波アトマイザーを固定し、導電性基体を回転しながら移動し塗布する場合のフロー図である。尚、本図は超音波アトマイザーは省略してある。
【００８６】
ステップ１は、塗布開始点に超音波アトマイザーを設定し、樹脂層形成用塗布液を塗布する塗布開始の状態を示す。この時、円形の噴霧領域Ｌの辺Ｍは導電性基体１０の端辺の予め設定された位置になる様に、又、超音波アトマイザーの噴霧から円筒状（円柱状）の導電性基体１０の塗布面までの距離は、２０ｍｍから３００ｍｍに設定される。尚、塗布開始点は噴霧領域Ｌの中心Ｎを言う。
【００８７】
ステップ２は、樹脂層形成用塗布液の塗布が開始された後、数分の状態を示す。塗布は超音波アトマイザーの位置は固定した状態で、導電性基体１０は回転している状態で超音波アトマイザーの噴霧口と導電性基体の塗布面との距離を保ちながら円筒状（円柱状）の導電性基体１０の幅方向（図中の矢印ｃ方向）に移動しながら行われる。
【００８８】
円筒状（円柱状）の導電性基体１０は、周速度６００ｍｍ／ｍｉｎから２０００ｍｍ／ｍｉｎで回転することが好ましい。導電性基体１０の移動は、毎秒当たり、超音波アトマイザーによる塗布幅（図５に示す塗布領域Ｌの幅Ｋ）の５０％から９０％に相当する長さを移動することが好ましい。本図は導電性基体を超音波アトマイザーによる塗布幅（図５に示す塗布領域Ｌの幅Ｋ）の５０％に相当する長さを移動しながら塗布を行っている状態を示す。
【００８９】
ステップ３は、導電性基体１０が移動（図中の矢印ｃ方向）し、噴霧領域Ｌの周辺Ｍが円筒状（円柱状）の導電性基体１０の塗布を開始した端辺と対向する端辺に設定された位置に到達した状態を示す。
【００９０】
ステップ４は、ステップ３の状態から円筒状（円柱状）の導電性基体１０が回転して円筒状（円柱状）の導電性基体１０の周面の全面に樹脂層形成用塗布液が塗布された状態を示す。
【００９１】
本発明では、ステップ４に示す状態を塗布１回と言う。以後、必要に応じて、塗布開始した円筒状（円柱状）の導電性基体１０の端辺に向けて円筒状（円柱状）の導電性基体１０を移動（図中の矢印ｄ方向）し、ステップ２からステップ４の操作を繰り返すことで設定した厚さの樹脂層を形成することが可能である。
【００９２】
超音波アトマイザーを使用して円筒状（円柱状）の導電性基体の塗布面の周面に、超音波アトマイザーの噴霧口と円筒状（円柱状）の導電性基体の表面までの距離を２０ｍｍから３００ｍｍで樹脂層形成用塗布液を塗布し樹脂層を形成することで次の効果が得られた。
１）塗布する際に塗布液の凝集物の発生がなくなり、異物発生による塗布故障がなくなり、トナーの搬送量にムラがなくなり、安定した画像を得ることが可能となった。
２）膜厚のムラがなく、均一の樹脂層が得られ帯電量にムラがなくなり、トナーの搬送量が一定になり、安定した画像を得ることが可能となった。
３）煩雑な管理、複雑な装置を必要とせず、管理に掛ける工数の削減が可能となり生産効率の向上が可能となった。
【００９３】
次に、本発明の現像ローラーを構成している材料に付き説明する。
【００９４】
（導電性基体）
現像ローラー用基体である円筒状又は円柱状基体は、現像ローラーの表面に蓄積される電荷をリークさせる部材も兼ねるため、導電性の金属で構成されることが好ましい。代表的なものとして、直径１．０〜３０ｍｍのステンレス鋼（例えばＳＵＳ３０４）、鉄、アルミニウム、ニッケル、アルミニウム合金、ニッケル合金等の導電性金属があり、又金属の粉体物やカーボンブラック等の導電性材料を樹脂中に充填させた導電性樹脂で構成されるものでもよい。
【００９５】
（弾性層（図３の第１樹脂層に該当する））
弾性層としては一般的にシリコーンゴムが使用されており、例えば、オルガノポリシロキサンに無機充填剤や、過酸化ベンゾイルなどの硬化剤を添加してよく混練、成形後加熱して加硫し硬化させたものが挙げられる。例えば、ジメチルポリシロキサンとメチルビニルシロキサンからなるメチルビニルポリシロキサンを有機過酸化物により架橋させて得ることが出来る。架橋の度合いによりその弾性率は異なるが、ＪＩＳ Ａ 硬度が１０〜６０°程度の弾性体であることが好ましい。
【００９６】
又、この弾性層は抵抗を調整し、低抵抗化したものが使用される。低抵抗化するためには、カーボンブラック、グラファイト、酸化亜鉛、酸化錫、酸化チタンなどの低抵抗成分を含有させることが好ましい。この場合、これらの材料の抵抗としては１×１０−４〜１×１０４Ω・ｃｍの体積固有抵抗を有する材料を使用することが好ましい。特に好ましいものとして、グラファイト、ケッチェンブラック、アセチレンブラックなどを挙げることが出来る。又、添加量は特に限定されるものではないが、弾性層を構成するシリコーンゴム１００質量部に対して１０質量部から１００質量部が好ましい。
【００９７】
（樹脂層（図２の第１樹脂層、第２樹脂層及び図３の第２樹脂層が該当する））
樹脂層を構成する樹脂としては架橋性の樹脂が好ましい。架橋性の樹脂とは、熱や触媒、空気、湿気、電子線等により自己架橋する樹脂、或いは架橋剤や他の架橋性の樹脂との反応により架橋する樹脂を言う。例えば、フッ素樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエーテル樹脂、アミノ樹脂、尿素樹脂、及びこれらの樹脂の混合物等が挙げられる。又、樹脂−シリカハイブリッド体等が挙げられる。樹脂層中には、必要に応じて、導電剤、非導電性フィラー、粗さ粒子（無機粒子、有機粒子）、架橋剤、触媒、分散促進剤など、各種の添加剤を主成分の樹脂材料に適宜配合することが出来る。
【００９８】
導電剤としては、カーボンブラック、グラファイト、アルミニウム、銅、錫、ステンレス鋼などの各種導電性金属又は合金、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化チタン、酸化錫−酸化アンチモン固溶体、酸化錫−酸化インジウム固溶体などの各種導電性金属酸化物、これらの導電性材料で被覆された絶縁性物質などの微粉末を用いることが出来る。これらの内、カーボンブラックは、比較的容易に入手出来、又、主成分の樹脂材料の種類によらず、良好な帯電性が得られるため、好適に利用出来る。又導電性を付与する手段として、導電剤に代えて、或いは、導電剤とともに、導電性高分子化合物を添加する手法も利用出来る。例えば、導電性高分子化合物としては、ホストポリマーとして、ポリアセチレン、ポリ（ｐ−フェニレン）、ポリピロール、ポリチオフェニン、ポリ（ｐ−フェニレンオキシド）、ポリ（ｐ−フェニレンスルフィド）、ポリ（ｐ−フェレンビニレン）、ポリ（２，６−ジメチルフェニレンオキサイド）、ポリ（ビスフェノールａカーボネート）、ポリビニルカルバゾール、ポリジアセチレン、ポリ（ｎ−メチル−４−ビニルピリジン）、ポリアニリン、ポリキノリン、ポリ（フェニレンエーテルスルフォン）などを使用し、これらにドーパントして、ＡｓＦ５、Ｉ２、Ｂｒ２、ＳＯ３、Ｎａ、Ｋ、ＣｌＯ４、ＦｅＣｌ３、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、Ｋｒ等の各イオン、Ｌｉ、ＴＣＮＱ（７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン）等をドープしたものが、従来から用いられている。
【００９９】
非導電性フィラーとしては、珪藻土、石英粉末、乾式シリカ、湿式シリカ、酸化チタン、酸化亜鉛、アルミノケイ酸、炭酸カルシウム等を挙げることが出来る。
【０１００】
粗さ粒子としての無機粒子としては、上記導電剤、非導電性フィラーに使用した各種無機粒子の使用が可能である。粗さ粒子としての有機粒子としては次の樹脂粒子の使用が可能である。例えば、ＳＢＲ、ＢＲ、ＮＢＲ、ＣＲ、ＥＶＡ、ＥＰ、ＡＣＲ、ＥＰＤＭ、シリコーンゴム等からなるゴム粒子、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミド系等の熱可塑性エラストマー粒子、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ナフタレン樹脂、フラン樹脂、キシレン樹脂、ジビニルベンゼン重合体、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体、ポリアクリロニトリル樹脂等からなる樹脂粒子等を挙げることが出来る。
【０１０１】
架橋剤としては、ポリオール化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリアルデヒド化合物、ポリアミン化合物、ポリエポキシ化合物などが挙げられる。又、触媒としては、過酸化物などのラジカル触媒、塩基触媒、酸触媒などが挙げられる。
【０１０２】
（樹脂層（図２の第３樹脂層、図３の第３樹脂層が該当する））
表面側に用いられる樹脂としては、樹脂層に使用した樹脂を使用することが可能であり、これらの中でＪＩＳ Ａ 硬度が６０°から９０°、１００％モジュラスが５×１０６Ｐａから３０×１０６Ｐａのものが好ましい。
【０１０３】
（塗布液調製用の溶媒）
塗布液の調製に用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールなどのアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、イソプロピルエーテルなどのエーテル系溶媒、水及びこれらの混合物などが挙げられる。必要に応じ、レベリング剤として高沸点溶媒やシリコーン化合物などを混合してもよい。
【実施例】
【０１０４】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１０５】
実施例１
現像ローラーとして図２に示す第１樹脂層、第２樹脂層、第３樹脂層の構成を有する現像ローラーを以下に示す方法で作製した。
【０１０６】
（円柱状の導電性基体の準備）
図２に示される現像ローラー用の基体として、両端に直径９ｍｍの第１保持部材と直径７ｍｍの第２保持部材とから構成された保持部材が設けられた、直径１６ｍｍ、肉厚１．５ｍｍ、長さ２４０ｍｍのステンレス鋼（ＳＵＳ３０４）製の円柱状の導電性基体を準備した。
【０１０７】
（樹脂層形成用塗布液の調製）
下記に示す第１樹脂層形成用塗布液、第２樹脂層形成用塗布液、第３樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１０８】
（第１樹脂層形成用塗布液の調製）
プライマーＮｏ．４（信越化学工業） １００質量部
（第２樹脂層形成用塗布液の調製）
ポリウレタン樹脂 ５０質量部
カーボンブラック（ファーネスブラック） １５質量部
架橋アクリル樹脂（粗さ粒子） １０質量部
ＭＥＫ １０００質量部
総固形分濃度は７．０質量％とした。
【０１０９】
粘度３０ｍＰａ・ｓ（ＣＢＣ（株）製ラボ用高精度粘度計ＶＭ−２００Ｔ３を用いて２３℃で測定した。）
（第３樹脂層形成用塗布液の調製）
熱可塑性ポリウレタン樹脂 ５０質量部
カーボンブラック（ファーネスブラック） １５質量部
ＴＨＦ １０００質量部
総固形分濃度は６．１質量％とした。
【０１１０】
粘度１５ｍＰａ・ｓ（ＣＢＣ（株）製ラボ用高精度粘度計ＶＭ−２００Ｔ３を用いて２３℃で測定した。）
（現像ローラーの作製）
第１樹脂層形成用塗布液の塗布
準備した円柱状の導電性基体の周面に図４に示す製造工程で塗布装置として超音波アトマイザー使用し、超音波アトマイザーの噴出口と円筒状の導電性基体の塗布面（表面）との距離１００ｍｍ、塗布幅を８３ｍｍとして以下に示す条件で調製した第１樹脂層形成用塗布液を塗布した後、１４０℃で６０分間乾燥し厚さ１μｍの第１樹脂層を形成した円筒状の導電性基体を作製しＮｏ．ａとした。超音波アトマイザーはティックコーポレーション（株）製を使用した。
【０１１１】
同じ第１樹脂層形成用塗布液を浸漬塗布方式で引上げ速度３ｍｍ／ｓｅｃで、準備した円柱状の導電性基体の周面に塗布した後、同じ条件で乾燥し厚さ１μｍの第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製しＮｏ．ｂとした。尚、他の超音波アトマイザーの塗布条件を以下に示す。
【０１１２】
吐出ノズル直径：２ｍｍ
超音波周波数：１００ｋＨｚ
平均液滴径：２００μｍ
噴霧量：１００ｍｌ／ｓｅｃ
円柱状の導電性基体の回転する時の周速度：６００ｍｍ／ｍｉｎ
超音波アトマイザーの移動の距離：毎秒当たり塗布幅の５０％
塗布回数：５回
第２樹脂層形成用塗布液の塗布
準備した第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体Ｎｏ．ａの第１樹脂層の上に図４に示す製造工程で塗布装置に超音波アトマイザーを使用し、超音波アトマイザーの噴出口と円柱状の導電性基体の塗布面（表面）との距離を１００ｍｍ、塗布幅を８３ｍｍとして以下に示す条件で調製した第２樹脂層形成用塗布液を塗布した後、１４０℃で６０分間乾燥し厚さ１０μｍの第２樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製しＮｏ．１−ａとした。超音波アトマイザーはティックコーポレーション（株）製を使用した。
【０１１３】
同じ第２樹脂層形成用塗布液を浸漬塗布方式で引上げ速度３ｍｍ／ｓｅｃで、準備した第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体Ｎｏ．ｂの周面に塗布した後、同じ条件で乾燥し厚さ１０μｍの第２樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製しＮｏ．１−ｂとした。他の超音波アトマイザーの塗布条件を以下に示す。
【０１１４】
吐出ノズル直径：２ｍｍ
超音波周波数：１００ｋＨｚ
平均液滴径：２００μｍ
噴霧量：１００ｍｌ／ｓｅｃ
円柱状の導電性基体の回転する時の周速度：６００ｍｍ／ｍｉｎ
超音波アトマイザーの移動の距離：毎秒当たり塗布幅の５０％
塗布回数：５回
第３樹脂層形成用塗布液の塗布
準備した第２樹脂層までを形成した円筒状の導電性基体Ｎｏ．１−ａの第２樹脂層の上に図４に示す製造工程で塗布装置として超音波アトマイザー使用し、表１に示す様に超音波アトマイザーの噴出口と円筒状の導電性基体の塗布面（表面）との距離を変えて以下に示す条件で調製した第３樹脂層形成用塗布液を塗布した後、１４０℃で６０分間乾燥し厚さ５μｍの第３樹脂層を形成し、現像ローラーを作製し試料Ｎｏ．１０１から１０６とした。超音波アトマイザーはティックコーポレーション（株）製を使用した。
【０１１５】
同じ第３樹脂層形成用塗布液を浸漬塗布方式で引上げ速度３ｍｍ／ｓｅｃで、準備した円筒状の導電性基体１−ｇの周面に塗布した後、同じ条件で乾燥し厚さ５μｍの第３樹脂層を形成した現像ローラーを作製し比較試料Ｎｏ．１０７とした。尚、他の超音波アトマイザーの塗布条件を以下に示す。
【０１１６】
吐出ノズル直径：２ｍｍ
超音波周波数：１００ｋＨｚ
平均液滴径：２００μｍ
噴霧量：１００ｍｌ／ｓｅｃ
円筒状の導電性基体の回転する時の周速度：６００ｍｍ／ｍｉｎ
超音波アトマイザーの移動の距離：毎秒当たり塗布幅の５０％
塗布回数：５回
【０１１７】
【表１】
【０１１８】
評価
作製した試料Ｎｏ．１０１から１０７に付き、樹脂層厚均一性、細線再現性、カブリ、画像濃度を以下に示す試験方法で試験し、以下に示す評価ランクで評価した結果を表２に示す。
【０１１９】
樹脂層厚均一性
現像ローラーの樹脂層を長さ方向２０点、周面で８点測定し、以下に示す式より計算でバラツキを求め樹脂層厚均一性とした。尚、樹脂層の厚さは、（株）フィッシャー・インストルメンツ（型式ＭＭＳ）で測定した。
【０１２０】
樹脂層厚のバラツキ（％）＝（（最大樹脂層厚−最小樹脂層厚）／平均樹脂層厚）×１００
樹脂層厚均一性の評価ランク
◎：樹脂層厚のバラツキが３％未満
○：樹脂層厚のバラツキが３％以上、５％未満
△：樹脂層厚のバラツキが５％以上、７％未満
×：樹脂層厚のバラツキが７％以上、１０％未満
××：樹脂層厚のバラツキが１０％以上
細線再現性の評価方法
評価装置として、市販のカラーレーザープリンタ「Ｍａｇｉｃｏｌｏｒ ２３００ＤＬ２３００ＤＬ（コニカミノルタビジネステクノロジーズ（株）製）」を用い、作製した現像ローラーＮｏ．２０１〜２０７を現像装置に装填して、常温低湿環境（２０℃、１０％ＲＨ）にて画素率２０％（イエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの各色５％のフルカラーモード）でＡ４サイズにて３０００枚の連続プリントを行い、初期と３０００枚プリント後に画素率が１０％のオリジナル画像（細線画像、人物顔写真、ベタ白画像、ベタ黒画像がそれぞれ１／４等分にあるＡ４サイズのオリジナル画像）をプリントして１０倍のルーペを用いて細線部を拡大し、カスレの有無を目視で評価することにより、解像度の評価を行った。
【０１２１】
細線再現性の評価ランク
◎：殆どカスレなし
○：エッジに僅かにカスレあり（ルーペを用いない場合、カスレは認識出来ない）
△：１／４未満のカスレ
×：１／４以上のカスレ
カブリ
細線再現性の評価に使用したオリジナル画像のベタ白画像部をマクベス反射濃度計「ＲＤ−９１８」で測定し、転写紙の反射濃度を０として相対反射濃度でカブリを評価した。
【０１２２】
カブリの評価ランク
◎：カブリ濃度が０．００以上、０．００３未満
○：カブリ濃度が０．００３以上、０．００５未満
△：カブリ濃度が０．０５以上、０．０１未満
×：カブリ濃度が０．０１以上
（画像濃度）
ベタ黒画像部の濃度を反射濃度計「ＲＤ−９１８」を用いて１２点測定し、その平均反射濃度で評価した。紙の反射濃度を「０」とする相対反射濃度にて評価した。
【０１２３】
◎：ベタ黒画像部の濃度１．３０以上
○：ベタ黒画像部の濃度１．２０以上、１．３０未満
△：ベタ黒画像部の濃度１．１０以上、１．２０未満
×：ベタ黒画像部の濃度１．１０未満
【０１２４】
【表２】
【０１２５】
導電性基体の周面上に、現像剤を電子写真感光体に供給する樹脂層を有する現像ローラーを製造する時、樹脂層を形成する樹脂層形成用塗布液を超音波アトマイザーを使用し、超音波アトマイザーの噴霧口と導電性基体の塗布面までの距離を２０ｍｍから３００ｍｍで樹脂層形成用塗布液を導電性基体の塗布面に塗布することで製造した試料Ｎｏ．１０２から１０５は樹脂層厚均一性、細線再現性、カブリ、画像濃度何れも優れた結果を示した。
【０１２６】
超音波アトマイザーの噴霧口と導電性基体の塗布面までの距離を１０ｍｍ、３５０ｍｍと本発明の範囲から外した条件で第１樹脂層から第３樹脂層の何れかを形成して作製した試料Ｎｏ．１０１、１０６は本発明の試料に対して樹脂層厚均一性、細線再現性、カブリ、画像濃度何れも劣る結果を示した。又、従来の付ける浸漬塗布方法で作製した試料Ｎｏ．１０７は樹脂層厚均一性、細線再現性、カブリ、画像濃度何れも一番劣る結果を示した。本発明の有効性が確認された。
【０１２７】
実施例２
現像ローラーとして図２に示す第１樹脂層、第２樹脂層、第３樹脂層の構成を有する現像ローラーを以下に示す方法で作製した。
【０１２８】
（円柱状の導電性基体の準備）
実施例１と同じ円柱状の導電性基体を準備した。
【０１２９】
（樹脂層の形成）
（第１樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第１樹脂層形成用塗布液と同じ第１樹脂層形成用塗布液を調製する時、固形分濃度を５％とした他は同じ方法で第１樹脂層形成用塗布液を調製した。尚、固形分濃度は、１−プロパノールとメチルイソブチルケトンの添加量を変化させることで行った。又、粘度は増粘剤の添加量で一定となる様に調整することで行った。
【０１３０】
（第２樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第２樹脂層形成用塗布液と同じ第２樹脂層形成用塗布液を調製する時、固形分濃度を５％とした他は同じ方法で第２樹脂層形成用塗布液を調製した。尚、固形分濃度は、１−プロパノールとメチルイソブチルケトンの添加量を変化させることで行った。又、粘度は増粘剤の添加量で一定となる様に調整することで行った。
【０１３１】
（第３樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第３樹脂層形成用塗布液と同じ第３樹脂層形成用塗布液を調製する時、表３に示す様に固形分濃度を変化した他は同じ方法で第３樹脂層形成用塗布液を調製しＮｏ．ａからｅとした。尚、固形分濃度は、１−プロパノールとメチルイソブチルケトンの添加量を変化させることで行った。又、粘度は増粘剤の添加量で一定となる様に調整することで行った。
【０１３２】
【表３】
【０１３３】
（第１樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第１樹脂層形成用塗布液を、実施例１の試料Ｎｏ．１０４を作製した時と同じ塗布条件で準備した円柱状の導電性基体の周面に塗布し、厚さ１μｍの第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製した。
【０１３４】
（第２樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第２樹脂層形成用塗布液を実施例１の試料Ｎｏ．１０４を作製した時と同じ塗布条件で準備した第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体の第１樹脂層の上に厚さ１０μｍの第２樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製した。
【０１３５】
（第３樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第３樹脂層形成用塗布液Ｎｏ．ａからｅを実施例１の試料Ｎｏ．１０４を作製した時と同じ塗布条件で準備した第２樹脂層を形成した円柱状の導電性基体の第２樹脂層の上に厚さ５μｍの第３樹脂層を形成し、現像ローラーを作製し試料Ｎｏ．２０１から２０５とした。
【０１３６】
評価
作製した試料Ｎｏ．２０１から２０５に付き、樹脂層厚均一性、細線再現性、カブリ、画像濃度を実施例１と同じ方法で試験し、同じ評価ランクで評価した結果を表４に示す。
【０１３７】
【表４】
【０１３８】
超音波アトマイザーを使用し、噴出口と感光体の表面までの距離を本発明の５０ｍｍとして樹脂層形成用塗布液を感光層の表面に塗布する際、樹脂層形成用塗布液の固形分濃度が３質量％から８質量％であれば何れも膜厚安定性、表面粗さ安定性、耐久性で優れた性能を示すことが確認された。本発明の有効性が確認された。本発明の有効性が確認された。
【０１３９】
実施例３
現像ローラーとして図２に示す第１樹脂層、第２樹脂層、第３樹脂層の構成を有する現像ローラーを以下に示す方法で作製した。
【０１４０】
（円柱状の導電性基体の準備）
実施例１と同じ円柱状の導電性基体を準備した。
【０１４１】
（樹脂層の形成）
（第１樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第１樹脂層形成用塗布液と同じ第１樹脂層形成用塗布液を調製する時、粘度を１０ｍＰａ・ｓと変化した他は同じ方法で第１樹脂層形成用塗布液を調製した。尚、粘度は、増粘剤の添加量を変化させることで行った。粘度は、ビスコテック（株）製回転式粘度計で測定した値を示す。
【０１４２】
（第２樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第２樹脂層形成用塗布液と同じ第２樹脂層形成用塗布液を調製する時、粘度を１５ｍＰａ・ｓと変化した他は同じ方法で第２樹脂層形成用塗布液を調製した。尚、粘度は、増粘剤の添加量を変化させることで行った。粘度は、ビスコテック（株）製回転式粘度計で測定した値を示す。
【０１４３】
（第３樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第３樹脂層形成用塗布液と同じ第３樹脂層形成用塗布液を調製する時、表５に示す様に粘度を変化した他は同じ方法で第３樹脂層形成用塗布液を調製しＮｏ．３−ａから３−ｆとした。尚、固形分濃度は、１−プロパノールとメチルイソブチルケトンの添加量を変化させることで行った。又、粘度は増粘剤の添加量で一定となる様に調整することで行った。
【０１４４】
【表５】
【０１４５】
（第１樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第１樹脂層形成用塗布液を、実施例１の試料Ｎｏ．１０４を作製した時と同じ塗布条件で準備した円柱状の導電性基体の周面に塗布し、厚さ１μｍの第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製した。
【０１４６】
（第２樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第２樹脂層形成用塗布液を実施例１の試料Ｎｏ．１０４を作製した時と同じ塗布条件で準備した第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体の第１樹脂層の上に塗布し、厚さ１０μｍの第２樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製した。
【０１４７】
（第３樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第３樹脂層形成用塗布液Ｎｏ．３−ａから３−ｆを実施例１の試料Ｎｏ．１０４を作製した時と同じ塗布条件で表６に示す様に、準備した第２樹脂層を形成した円柱状の導電性基体の第２樹脂層の上に塗布し、厚さ５μｍの第３樹脂層を形成し、現像ローラーを作製し試料Ｎｏ．３０１から３０６とした。
【０１４８】
評価
作製した試料Ｎｏ．３０１から３０６に付き、樹脂層厚均一性、細線再現性、カブリ、画像濃度を実施例１と同じ方法で試験し、同じ評価ランクで評価した結果を表６に示す。
【０１４９】
【表６】
【０１５０】
超音波アトマイザーを使用し、噴出口と感光体の表面までの距離を本発明の５０ｍｍとして樹脂層形成用塗布液を塗布する際、樹脂層形成用塗布液の粘度が２ｍＰａ・ｓから５０ｍＰａ・ｓであれば何れも膜厚安定性、表面粗さ安定性、耐久性で優れた性能を示すことが確認された。本発明の有効性が確認された。本発明の有効性が確認された。
【０１５１】
実施例４
現像ローラーとして図２に示す第１樹脂層、第２樹脂層、第３樹脂層の構成を有する現像ローラーを以下に示す方法で作製した。
【０１５２】
（円柱状の導電性基体の準備）
実施例１と同じ円柱状の導電性基体を準備した。
【０１５３】
（樹脂層の形成）
（第１樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第１樹脂層形成用塗布液と同じ第１樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１５４】
（第２樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第２樹脂層形成用塗布液と同じ第２樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１５５】
（第３樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第３樹脂層形成用塗布液と同じ第３樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１５６】
（第１樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第１樹脂層形成用塗布液を、準備した円柱状の導電性基体の周面に塗布する時、円柱状の導電性基体の回転速度（周速度）を１０００ｍｍ／ｍｉｎ、超音波アトマイザーを円筒状の導電性基体の回転軸と平行する方向に移動する距離を超音波アトマイザーによる塗布幅の５０％の長さとし、図６に示すフローに従って５回塗布を行い、第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製した。その他の超音波アトマイザーの条件は実施例１の試料Ｎｏ．１０４と同じ条件で行った。
【０１５７】
（第２樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第２樹脂層形成用塗布液を、準備した第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体の第１樹脂層の上に塗布する時、円柱状の導電性基体の回転速度を１０００ｍｍ／ｍｉｎ、超音波アトマイザーを第１樹脂層を形成した円筒状の導電性基体の回転軸と平行する方向に移動する距離を超音波アトマイザーによる塗布幅の５０％の長さとし、図６に示すフローに従って５回塗布を行い、第２樹脂層迄を形成した円柱状の導電性基体を作製した。その他の超音波アトマイザーの条件は実施例１の試料Ｎｏ．１０４と同じ条件で行った。
【０１５８】
（第３樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第３樹脂層形成用塗布液を、準備した第２樹脂層を形成した円柱状の導電性基体の第２樹脂層の上に塗布する時、表７に示す様に円柱状の導電性基体の回転速度（周速度）と、超音波アトマイザーを第２樹脂層を形成した円筒状の導電性基体の回転軸と平行する方向に移動する距離を変化しながら図６に示すフローに従って５回塗布を行い、第３樹脂層を形成し現像ローラーを作製し試料Ｎｏ．４０１から４１２とした。その他の超音波アトマイザーの条件は実施例１の試料Ｎｏ．１０４と同じ条件で行った。
【０１５９】
【表７】
【０１６０】
評価
作製した試料Ｎｏ．４０１から４１２に付き、樹脂層厚均一性、細線再現性、カブリ、画像濃度を実施例１と同じ方法で試験し、実施例１と同じ評価ランクで評価した結果を表８に示す。
【０１６１】
【表８】
【０１６２】
樹脂層形成用塗布液を円柱状の導電性基体の塗布面に塗布する時、導電性基体を周速度６００ｍｍ／ｍｉｎから２０００ｍｍ／ｍｉｎで回転させながら、且つ前記超音波アトマイザーを毎秒当たり、該超音波アトマイザーによる塗布幅の５０％から９０％に相当する長さを、円筒状の導電性基体の回転軸方向に平行に移動しながら塗布することを繰り返し行い塗布する方法で塗布した試料Ｎｏ．４０２から４０５、４０８から４１１は、何れも樹脂層厚均一性、細線再現性、カブリ濃度で優れた性能を示すことが確認された。本発明の有効性が確認された。
【０１６３】
実施例５
現像ローラーとして図２に示す第１樹脂層、第２樹脂層、第３樹脂層の構成を有する現像ローラーを以下に示す方法で作製した。
【０１６４】
（円柱状の導電性基体の準備）
実施例１と同じ円柱状の導電性基体を準備した。
【０１６５】
（樹脂層の形成）
（第１樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第１樹脂層形成用塗布液と同じ第１樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１６６】
（第２樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第２樹脂層形成用塗布液と同じ第２樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１６７】
（第３樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第３樹脂層形成用塗布液と同じ第３樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１６８】
（第１樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第１樹脂層形成用塗布液を、準備した円柱状の導電性基体の周面に塗布する時、超音波アトマイザーの位置を固定し、円柱状の導電性基体の回転速度（周速度）１０００ｍｍ／ｍｉｎと、円筒状の導電性基体の回転軸方向に移動する距離を超音波アトマイザーによる塗布幅の５０％とし、図７に示すフローに従って５回塗布を行い厚さ１μｍの第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製した。その他の超音波アトマイザーの条件は実施例１の試料Ｎｏ．１０４と同じ条件で行った。
【０１６９】
（第２樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第２樹脂層形成用塗布液を、準備した第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体の第１樹脂層の上に塗布する時、超音波アトマイザーの位置を固定し、円柱状の導電性基体の回転速度（周速度）１０００ｍｍ／ｍｉｎと、円筒状の導電性基体の回転軸方向に移動する距離を超音波アトマイザーによる塗布幅の５０％とし、図７に示すフローに従って５回塗布を行い、厚さ１０μｍの第２樹脂層迄を形成した円柱状の導電性基体を作製した。その他の超音波アトマイザーの条件は実施例１の試料Ｎｏ．１０４と同じ条件で行った。
【０１７０】
（第３樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第３樹脂層形成用塗布液を、準備した第２樹脂層を形成した円柱状の導電性基体の第２樹脂層の上に塗布する時、超音波アトマイザーの位置を固定し、表９に示す様に円柱状の導電性基体の回転速度（周速度）と、円柱状の導電性基体の回転軸方向に移動する距離（超音波アトマイザーによる塗布幅に対する％）を変化しながら図７に示すフローに従って５回塗布を行い、厚さ５μｍの第３樹脂層を形成し現像ローラーを作製し試料Ｎｏ．５０１から５１２とした。その他の超音波アトマイザーの条件は実施例１の試料Ｎｏ．１０４と同じ条件で行った。
【０１７１】
【表９】
【０１７２】
評価
作製した試料Ｎｏ．５０１から５１２に付き、樹脂層厚均一性、細線再現性、カブリ、画像濃度を実施例１と同じ方法で試験し、実施例１と同じ評価ランクで評価した結果を表１０に示す。
【０１７３】
【表１０】
【０１７４】
樹脂層形成用塗布液を円柱状の導電性基体の塗布面に塗布する時、超音波アトマイザーを固定し、導電性基体を周速度６００ｍｍ／ｍｉｎから２０００ｍｍ／ｍｉｎで回転させながら、且つ円柱状の導電性基体を毎秒当たり、超音波アトマイザーによる塗布幅の５０％から９０％に相当する長さを、円筒状の導電性基体の回転軸方向に移動しながら塗布することを繰り返し行い塗布する方法で塗布した試料Ｎｏ．５０２から５０５、５０８から５１１は何れも樹脂層厚均一性、細線再現性、カブリ濃度で優れた性能を示すことが確認された。本発明の有効性が確認された。
【０１７５】
実施例６
現像ローラーとして図２に示す第１樹脂層、第２樹脂層、第３樹脂層の構成を有する現像ローラーを以下に示す方法で作製した。
【０１７６】
（円柱状の導電性基体の準備）
実施例１と同じ円柱状の導電性基体を準備した。
【０１７７】
（樹脂層の形成）
（第１樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第１樹脂層形成用塗布液と同じ第１樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１７８】
（第２樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第２樹脂層形成用塗布液と同じ第２樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１７９】
（第３樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第３樹脂層形成用塗布液と同じ第３樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１８０】
（第１樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第１樹脂層形成用塗布液を準備した円筒状の導電性基体の周面に塗布する際、塗布幅を１００ｍｍとして塗布した以外は、実施例１の試料Ｎｏ．１０４を作製した時と同じ塗布条件で塗布し、厚さ１μｍの第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製した。尚、超音波アトマイザーの塗布幅は超音波アトマイザーの噴出口と感光体の表面までの距離を変えることで行った。
【０１８１】
（第２樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第２樹脂層形成用塗布液を準備した第１樹脂層を形成した円柱状導電性基体の第１樹脂層の上に塗布する際、塗布幅を１００ｍｍとした以外は、実施例１の試料Ｎｏ．１０４を作製した時と同じ塗布条件で塗布し、厚さ１０μｍの第２樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製した。尚、超音波アトマイザーの塗布幅は超音波アトマイザーの噴出口と感光体の表面までの距離を変えることで行った。
【０１８２】
（第３樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第３樹脂層形成用塗布液を準備した第２樹脂層を形成した円筒状の導電性基体の第２樹脂層の上に塗布する際、表１１に示す様に塗布幅を変えて塗布した以外は、実施例１の試料Ｎｏ．１０４を作製した時と同じ塗布条件で塗布し、厚さ５μｍの現像ローラーを作製し試料Ｎｏ．６０１から６０６とした。尚、超音波アトマイザーの塗布幅は超音波アトマイザーの噴出口と感光体の表面までの距離を変えることで行った。
【０１８３】
評価
作製した試料Ｎｏ．６０１から６０６に付き、樹脂層厚均一性、細線再現性、カブリ、画像濃度を実施例１と同じ方法で試験し、実施例１と同じ評価ランクで評価した結果を表１１に示す。
【０１８４】
【表１１】
【０１８５】
超音波アトマイザーを使用し、樹脂層形成用塗布液を円柱状の導電性基体の塗布面に塗布する際、超音波アトマイザーの塗布幅が５ｍｍから２００ｍｍであれば何れも膜厚安定性、表面粗さ安定性、耐久性で優れた性能を示すことが確認された。本発明の有効性が確認された。
【０１８６】
実施例７
現像ローラーとして図２に示す第１樹脂層、第２樹脂層、第３樹脂層の構成を有する現像ローラーを以下に示す方法で作製した。
【０１８７】
（円柱状の導電性基体の準備）
実施例１と同じ円柱状の導電性基体を準備した。
【０１８８】
（樹脂層の形成）
（第１樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第１樹脂層形成用塗布液と同じ第１樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１８９】
（第２樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第２樹脂層形成用塗布液と同じ第２樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１９０】
（第３樹脂層形成用塗布液の調製）
実施例１で準備した第３樹脂層形成用塗布液と同じ第３樹脂層形成用塗布液を調製した。
【０１９１】
（第１樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第１樹脂層形成用塗布液を準備した円筒状の導電性基体の表面に塗布する際、噴霧量を５ｍｌ／ｍｉｎとした以外は、実施例１の試料Ｎｏ．１０４を作製した時と同じ塗布条件で塗布し、厚さ１μｍの第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製した。
【０１９２】
（第２樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第２樹脂層形成用塗布液を準備した第１樹脂層を形成した円柱状の導電性基体の第１樹脂層の上に塗布する際、噴霧量を１０ｍｌ／ｍｉｎとした以外は、実施例１の試料Ｎｏ．１０４を作製した時と同じ塗布条件で塗布し、厚さ１０μｍの第２樹脂層を形成した円柱状の導電性基体を作製した。
【０１９３】
（第３樹脂層形成用塗布液の塗布）
準備した第３樹脂層形成用塗布液を準備した第２樹脂層を形成した円柱状の導電性基体の第２樹脂層の上に塗布する際、表１２に示す様に噴霧量を変えて厚さ５μｍの第３樹脂層を形成し現像ローラーを作製し試料Ｎｏ．７０１から７０７とした。尚、その他の条件は、実施例１の試料Ｎｏ．１０４を作製した時と同じ塗布条件で塗布した。
【０１９４】
評価
作製した試料Ｎｏ．７０１から７０７に付き、樹脂層厚均一性、細線再現性、カブリ、画像濃度を実施例１と同じ方法で試験し、実施例１と同じ評価ランクで評価した結果を表１２に示す。
【０１９５】
【表１２】
【０１９６】
超音波アトマイザーを使用し、噴出口と円柱状の導電性基体の塗布面までの距離を本発明の５０ｍｍとして樹脂層形成用塗布液を塗布する際、超音波アトマイザーの噴霧量を２ｍｌ／ｍｉｎから３５０ｍｌ／ｍｉｎであれば何れも膜厚安定性、表面粗さ安定性、耐久性で優れた性能を示すことが確認された。本発明の有効性が確認された。
【符号の説明】
【０１９７】
１フルカラー画像形成装置
１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋ 画像形成ユニット
１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋ 感光体
４Ｙ１、４Ｍ１、４Ｃ１、４Ｋ１ 現像ローラー
４Ｙ１ａ、４Ｙ′１ａ、１０ 導電性基体
４Ｙ１ａ１、４Ｙ′１ｂ 第１樹脂層
４Ｙ１ａ２、４Ｙ′１ｃ 第２樹脂層
４Ｙ１ａ３、４Ｙ′１ｄ 第３樹脂層
７ 無端ベルト状中間転写体形成ユニット
７０ 中間転写ベルト
９ 製造工程
９ａ 保持部
９ｂ 塗布部
９ｂ１ 塗布装置
９ｂ１１ 塗布液供給管
９ｂ２ 駆動部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体の周面上に、現像剤を電子写真感光体に供給する樹脂層を有する現像ローラーの製造方法において、
前記樹脂層を形成する樹脂層形成用塗布液を超音波アトマイザーを使用し、
前記超音波アトマイザーの噴霧口と前記導電性基体の塗布面までの距離を２０ｍｍから３００ｍｍで前記樹脂層形成用塗布液を前記導電性基体の塗布面に塗布することを特徴とする現像ローラーの製造方法。
【請求項２】
前記樹脂層形成用塗布液の固形分濃度が３質量％から８質量％であることを特徴とする請求項１に記載の現像ローラーの製造方法。
【請求項３】
前記樹脂層形成用塗布液の粘度が２ｍＰａ・ｓから５０ｍＰａ・ｓであることを特徴とする請求項１又は２に記載の現像ローラーの製造方法。
【請求項４】
前記樹脂層形成用塗布液を前記導電性基体の塗布面上に塗布する時、該導電性基体を６００ｍｍ／ｍｉｎから２０００ｍｍ／ｍｉｎの周速度で回転させながら、且つ、前記超音波アトマイザーを毎秒当たり、該超音波アトマイザーによる塗布幅の５０％から９０％に相当する長さを、該導電性基体の回転軸と平行する方向に移動しながら塗布することを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載の現像ローラーの製造方法。
【請求項５】
前記樹脂層形成用塗布液を前記導電性基体の塗布面上に塗布する時、該超音波アトマイザーを固定し、該導電性基体を６００ｍｍ／ｍｉｎから２０００ｍｍ／ｍｉｎの周速度で回転させながら、且つ、該超音波アトマイザーの噴霧口と該導電性基体の塗布面までの距離を一定に保ちながら、該導電性基体を毎秒当たり、該超音波アトマイザーによる塗布幅の５０％から９０％に相当する長さを、該導電性基体の幅方向に移動しながら塗布することを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載の現像ローラーの製造方法。
【請求項６】
前記超音波アトマイザーの塗布幅が５ｍｍから２００ｍｍであることを特徴とする請求項１から５の何れか１項に記載の現像ローラーの製造方法。
【請求項７】
前記超音波アトマイザーの前記樹脂層形成用塗布液の噴霧量が２ｍｌ／ｍｉｎから３５０ｍｌ／ｍｉｎであることを特徴とする請求項１から６の何れか１項に記載の現像ローラーの製造方法。
【請求項１】
導電性基体の周面上に、現像剤を電子写真感光体に供給する樹脂層を有する現像ローラーの製造方法において、
前記樹脂層を形成する樹脂層形成用塗布液を超音波アトマイザーを使用し、
前記超音波アトマイザーの噴霧口と前記導電性基体の塗布面までの距離を２０ｍｍから３００ｍｍで前記樹脂層形成用塗布液を前記導電性基体の塗布面に塗布することを特徴とする現像ローラーの製造方法。
【請求項２】
前記樹脂層形成用塗布液の固形分濃度が３質量％から８質量％であることを特徴とする請求項１に記載の現像ローラーの製造方法。
【請求項３】
前記樹脂層形成用塗布液の粘度が２ｍＰａ・ｓから５０ｍＰａ・ｓであることを特徴とする請求項１又は２に記載の現像ローラーの製造方法。
【請求項４】
前記樹脂層形成用塗布液を前記導電性基体の塗布面上に塗布する時、該導電性基体を６００ｍｍ／ｍｉｎから２０００ｍｍ／ｍｉｎの周速度で回転させながら、且つ、前記超音波アトマイザーを毎秒当たり、該超音波アトマイザーによる塗布幅の５０％から９０％に相当する長さを、該導電性基体の回転軸と平行する方向に移動しながら塗布することを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載の現像ローラーの製造方法。
【請求項５】
前記樹脂層形成用塗布液を前記導電性基体の塗布面上に塗布する時、該超音波アトマイザーを固定し、該導電性基体を６００ｍｍ／ｍｉｎから２０００ｍｍ／ｍｉｎの周速度で回転させながら、且つ、該超音波アトマイザーの噴霧口と該導電性基体の塗布面までの距離を一定に保ちながら、該導電性基体を毎秒当たり、該超音波アトマイザーによる塗布幅の５０％から９０％に相当する長さを、該導電性基体の幅方向に移動しながら塗布することを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載の現像ローラーの製造方法。
【請求項６】
前記超音波アトマイザーの塗布幅が５ｍｍから２００ｍｍであることを特徴とする請求項１から５の何れか１項に記載の現像ローラーの製造方法。
【請求項７】
前記超音波アトマイザーの前記樹脂層形成用塗布液の噴霧量が２ｍｌ／ｍｉｎから３５０ｍｌ／ｍｉｎであることを特徴とする請求項１から６の何れか１項に記載の現像ローラーの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１１−１１８０２４（Ｐ２０１１−１１８０２４Ａ）
【公開日】平成２３年６月１６日（２０１１．６．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２７３３０３（Ｐ２００９−２７３３０３）
【出願日】平成２１年１２月１日（２００９．１２．１）
【出願人】（３０３０００３７２）コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 (12,802)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年６月１６日（２０１１．６．１６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１２月１日（２００９．１２．１）
【出願人】（３０３０００３７２）コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 (12,802)
【Ｆターム（参考）】
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