説明

画像形成装置

【課題】非接触現像方式の画像形成装置において現像ローラ抵抗層としてアルマイト皮膜を用いる場合に、アルマイト層の抵抗低下を発生させないようにして所望の耐リーク性を得ると共に、表層の算術表面粗さ(Ra)を低下させることにより、トナー粒子の現像ローラ表面への付着を低減することにある。
【解決手段】前記アルマイト皮膜31の上に抵抗調整剤を含有する樹脂層38を有し、この樹脂層38は、少なくとも、(A)平均粒子径Aの第1抵抗調整剤を含有し、その平均粒子径Aとアルマイト皮膜表面層に存在する孔の平均径Bの関係がA>Bである第1樹脂層33と、(B)前記第1樹脂層の上層に前記第1抵抗調整剤の平均粒子径Aより小さい平均粒子径を有する第2抵抗調整剤を含有する第2樹脂層35を含む。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、電子写真方式を利用した複写機、プリンタ、ファクシミリそれらの複合機などの画像形成装置に関し、特に、磁性キャリアを用いて非磁性のトナーを帯電させる二成分現像剤を使用し、帯電されたトナーのみを現像ローラ上に保持し、トナーを静電潜像に飛翔させることで該潜像を現像する、非接触現像方式に供するのに好適な画像形成装置に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、磁気ローラと現像ローラとを備えた画像形成装置において、現像ローラとして表面にアルマイト皮膜を有するローラを使用することが知られている(特許文献1参照)。
しかしながら、アルマイト皮膜は離型性がそれほど高くないため、特に小径トナーの場合は、トナー自体が鏡像力やファンデルワールス力の影響を大きく受けるため、感光体の周速(現像ローラは通常その1.5倍の周速)が速くなると、現像バイアスを印加しても感光体の静電潜像に飛翔せず、現像性が低下するという問題がある。
【0003】
一方、非磁性一成分現像方式における現像ローラとして、アルミニウム合金スリーブの外周にアルマイト皮膜を形成し、その上に導電剤(カーボンブラックなど)を含有する樹脂層(シロキサン変性ポリウレタン樹脂などからなる)を形成したものが知られている(特許文献2参照)。この現像ローラは、アルマイト皮膜を設けることによりスリーブと樹脂層との層間接着強度が向上し、また現像ローラの耐リーク性が向上すると記載されている(特許文献2の[0022]、[0023]等)。
【0004】
ところで、アルマイト皮膜の最表面層は一般的に大きな凹凸形状となり多数の孔が存在している状態である。この孔は平均径が約0.1μmである。また、一般的に用いられるカーボンブラックは平均粒子径が約20nmであり、アルマイト皮膜の最表面層に存在している孔に容易に入り込んでしまう。これにより、アルマイト皮膜の抵抗が低下してしまい、所望の耐リーク性、すなわち耐電圧性が得られないという問題があった。
【特許文献1】アメリカ合衆国特許第7043181号明細書
【特許文献2】特開2008−76618号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明者らは、前記所望の耐リーク性を得るために、アルマイト皮膜の表面にアルマイト皮膜の孔径よりも大きな粒子径を有するカーボンブラック粒子などの抵抗調整剤を含む樹脂材料を塗布することを検討した。
しかしながら、本発明者らの検討によれば、抵抗調整剤の径が大きい場合には、添加量を増やしていくと表面粗さ(Ra)が大きくなり、トナーとのファンデルワールス力が強くなり、トナーがローラ表面に付着してしまい、特にトナー中の3μm以下のトナー粒子が付着しやすいという問題があった。
そこで本発明は、非接触現像方式の画像形成装置において現像ローラ抵抗層としてアルマイト皮膜を用いる場合に、アルマイト層の抵抗低下を発生させないようにして所望の耐リーク性を得ると共に、表層の算術表面粗さ(Ra)を低下させることにより、トナー粒子の現像ローラ表面への付着を低減することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本発明者らは前記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、現像ローラ抵抗層としてアルマイト皮膜を用いる場合に、樹脂コート層に含有させる抵抗調整剤の平均粒子径Aとアルマイト皮膜表面層に存在する孔の平均径Bの関係をA>Bとすることにより、アルマイト皮膜の表面層孔部に抵抗調整剤が入り込まないようにし、アルマイト層の抵抗低下を発生させないようにして所望の耐リーク性を得ると共に、最上層の樹脂コート層には、粒子径の小さい抵抗調整剤を用いることで、表層の算術表面粗さ(Ra)を低下させることにより、トナー粒子の現像ローラ表面への付着を低減することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0007】
すなわち、本発明は、少なくともキャリアとトナーを含む現像剤を磁気保持する二成分現像剤搬送体と、前記搬送体よりトナーを移送してその表面にトナーの薄層を形成する現像ローラと、前記現像ローラ及び/又は前記現像剤搬送体に現像バイアスを印加して潜像担持体の潜像の現像を行う画像形成装置において、前記現像ローラがアルミニウム系金属製基体を含み、その表面に抵抗層としてアルマイト皮膜を有してなり、さらに前記アルマイト皮膜の上に抵抗調整剤を含有する樹脂層を有し、前記樹脂層は、少なくとも、平均粒子径Aの第1抵抗調整剤を含有し、その平均粒子径Aとアルマイト皮膜表面層に存在する孔の平均径Bの関係がA>Bである第1樹脂層と、前記第1樹脂層の上層に前記第1抵抗調整剤の平均粒子径Aより小さい平均粒子径を有する第2抵抗調整剤を含有する第2樹脂層を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【0008】
本発明によれば、樹脂コート層に含有させる抵抗調整剤の平均粒子径Aとアルマイト皮膜表面層に存在する孔の平均径Bの関係をA>Bとすることにより、アルマイト皮膜の表面層孔部に抵抗調整剤が入り込まないようにし、アルマイト層の抵抗低下を発生させないようにして所望の耐リーク性を得ると共に、樹脂コート層の最上層には、粒子径の小さい抵抗調整剤を用いることで、表層の算術表面粗さ(Ra)を低下させることにより、トナー粒子の現像ローラ表面への付着を低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0009】
以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発明の一実施形態に係る非接触現像方式の画像形成装置の概略構成を示す説明図である。図2は図1の現像手段の一部を示す概略構成図である。図3は図1の現像ローラの表面部を示す概略拡大断面図である。
【0010】
(画像形成装置)
本発明の画像形成装置は、磁性キャリア4とトナー5からなる二成分現像剤を用い、磁気ローラ1(二成分現像剤搬送体)上に担持された二成分現像剤により現像ローラ2上にトナー薄層9を形成し、トナー薄層9からトナー5を飛翔させて、感光体3(静電潜像担持体)上に形成された静電潜像を現像する、所謂非接触現像方式による画像形成装置である。図1に示すように、該画像形成装置は、前記感光体3を備え、この感光体3の周囲には帯電手段8、露光手段16、現像手段18、一次転写手段22、二次転写手段25、定着手段26およびクリーニング手段24等が配置されている。
【0011】
前記画像形成装置による画像形成は以下のようにして行われる。即ち、前記感光体3の表面が帯電手段8により均一に帯電され、この帯電された表面を露光手段16により露光して静電潜像が形成される。得られた静電潜像には現像手段18からトナー5を付着させることによりトナー像として現像される。このトナー像は一次転写手段としての一次転写ローラ22によって、中間転写体(中間転写ベルト)20上に感光体3から転写される。そして、複数色のトナー像を中間転写体20上に重ねて転写した後、二次転写手段としての二次転写ローラ25により、給紙カセット27から二次転写位置に搬送された被転写体にトナー像を転写する。この被転写体は定着手段としての定着ローラ26に搬送されて、ここでトナー像が被転写体上に定着された後、例えば、排紙トレー(不図示)に排紙される。転写後に感光体3表面に残った未現像のトナーはクリーニング手段24により除去される。
【0012】
感光体3としては、セレン、アモルファスシリコン等の無機感光体、導電性基体上に電荷発生剤、電荷輸送剤、結着樹脂等を含有する単層または積層の感光層が形成された有機感光体(OPC)等が挙げられる。帯電手段8としては、スコロトロン方式、帯電ローラ、帯電ブラシ等が挙げられる。露光手段16は、露光光としてLEDまたは半導体レーザー等が挙げられる。また、クリーニング手段24としては例えばドクターブレード式等が挙げられ、それぞれ公知のものを用いることができる。
【0013】
現像手段18は、内部に複数の磁性部材が固定して配設され、該磁性部材の外周部を回転するスリーブ状の磁気ローラ1(二成分現像剤搬送体)と、内部に前記磁気ローラ1とは異極の磁性部材が固定して配設され、該磁性部材の外周部を回転するスリーブ状の現像ローラ2(トナー担持体)と、前記磁気ローラ1と前記現像ローラ2の互いに異なる磁極の磁力により磁界が形成され、この磁界により磁気ローラ1上に形成された磁気ブラシ6の高さを一定に保つための規制ブレード7とから構成されている。さらに、磁気ローラ1に印加する交流(AC)バイアス電源11aおよび直流(DC:Vdc1)バイアス電源11bからなるバイアス電源11と、現像ローラ2に印加する交流(AC)バイアス電源12aおよび直流(DC:Vdc2)バイアス電源12bからなるバイアス電源12とを備えている。
【0014】
また、本発明の画像形成装置は、トナー5が収納されたトナーコンテナ(不図示)と、該トナーコンテナから二成分現像剤を収容する二成分現像剤収容部45に供給されたトナー5を、キャリア4とともに攪拌し帯電させる攪拌スクリュー40と攪拌スクリュー44を有し、仕切板42の両端部で連通し、その一端側を通って攪拌スクリュー40から攪拌スクリュー44に供給された二成分現像剤を磁気ローラ1へ供給し、攪拌スクリュー44は前記一端とは他端側から攪拌スクリュー40側へと二成分現像剤を循環してなる、磁気ローラ1、現像ローラ2、攪拌スクリュー40および攪拌スクリュー44が収納されたハウジング46とを備えている。
【0015】
(現像方法)
図2に本発明にかかる現像手段の一部を模式的に示し、それを参照しながら、現像方法について説明する。
磁気ローラ1に内包されている固定マグネットで磁気的に拘束されているキャリア4(磁性体粒子)と、その表面に帯電保持されているトナー5とからなる磁気ブラシ6が、磁気ローラ1表面を回動し現像ローラ2へ搬送される。磁気ローラ1の表面はブラスト処理や溝加工を施したものを用いることで磁気ブラシ6の搬送をよりスムーズに行える。
【0016】
図2に示すように、現像ローラ2には直流電圧(DC:Vdc2)12bに交流電圧(AC)12aを重畳させた現像バイアス電圧12が印加され、磁気ローラ1には直流電圧(DC:Vdc1)11bに交流電圧(AC)11aを重畳させた現像バイアス電圧11が印加される。そして、磁気ローラ1上には前記磁気ブラシ6が形成され、磁気ローラ1上の磁気ブラシ6は規制ブレード7によって層規制されて、磁気ローラ1と現像ローラ2との間の電位差(搬送バイアス)ΔV(=|Vdc1−Vdc2|)によって、搬送された磁気ブラシ6を介してトナー5が現像ローラ2に移動しトナー薄層9を形成する。そして、感光体3と現像ローラ2間に現像バイアスをかけることにより、現像ローラ2上のトナー薄層9からトナー5を飛翔させて、感光体3上の静電潜像を現像する。
【0017】
現像が行われた後、残留トナー層を有する現像ローラ2はその対向位置において磁気ブラシ6を有する磁気ローラ1と最接近し、この対向位置で磁気ブラシ6による機械的な力及び磁気ローラ1と現像ローラ2との間に印加されるバイアスによって、現像ローラ2上のトナー薄層9が掻き取られ、回収される。それと同時に、磁気ローラ1と現像ローラ2との間に印加される搬送バイアスに応じて磁気ローラ1上の現像剤層からトナー5が現像ローラ2側に供給され、新たなトナー薄層9が形成されることになる。
【0018】
感光体3上の前記静電潜像は、感光体3の表面に帯電手段8により+250〜800Vに帯電したところへ、露光手段16を用いて形成することができる。OPC感光体を用いると、全露光で+70〜220Vが得られ、アモルファスシリコン感光体では10〜50Vの露光後電位が得られる。露光には、半導体レーザーおよびLEDのどちらも用いることができる。
【0019】
現像時、現像バイアス条件は、例えばトナーに正規の正帯電トナーを用いた場合、磁気ローラ1に+300〜500Vを、現像ローラ2に+100Vを印加するのがよい。薄層形成の電位差としては、200〜400Vが適正でトナー5の帯電量とのバランスで調整すればよい。
【0020】
交流条件は、磁気ローラ1に現像ローラ2と同周波数、同周期で逆位相のVpp(ピーク交流バイアス)=0.1〜2.0kV、周波数=2〜5kHz、DUTY比=60〜80%を、現像ローラ2にはVpp=1.0〜2.0kV、周波数=2〜5kHz、DUTY比=20〜50%が好ましい。Vppを高めると薄層形成がより瞬時に行われるが、反面耐リーク性が弱くなりノイズの発生原因になる。
【0021】
トナー5は、正帯電トナーおよび負帯電トナーのいずれも用いることができる。トナー5の体積平均粒子径は4.0〜7.5μmであるのが、トナーの現像性、回収性が良好で、画質の滑らかさなど高画質な画像を得るうえで適当である。また、トナー5の帯電量は6〜30μC/g程度であるのが、周辺へのトナー飛散を抑制し、かつ良好な薄層を形成させるうえで好ましい。
トナー体積平均粒子径はマルチサイザーIII(ベックマン・コールター社製)を用い、アパチャー径100μm(測定範囲2.0〜60μm)で測定することができる。また、トナー帯電量は、QMメータ(TREK社製、MODEL 210HS)で測定することができる。
【0022】
キャリア4は、公知のものを用いることができるが、好ましくはフェライトのコアを用いて表面に樹脂のコーティングを施したものを用いるのがよい。コーティング樹脂はシリコーン、フッ素エポキシ、フッ素シリコーン、ポリアミド、ポリアミドイミドなど既知のものでよい。また、キャリア粒子径(重量平均粒子径)は25〜50μmのものを用いるのが、磁力による保持力を高め、かつ磁気ブラシ6の密さが適度となり、トナー薄層9の形成も滑らかになるので好ましい。さらにキャリア4の飽和磁化は35〜90emu/gのものが、良好なキャリア飛びと均一な薄層形成のうえで好ましい。
キャリア4の飽和磁化は、TOEI社製「VSM−P7」を用いて、磁場79.6kA/m(1kOe)で測定することができる。
【0023】
磁気ローラ1と現像ローラ2間のギャップは200〜600μm、好ましくは300〜400μmである。ギャップは薄層形成を瞬時に行うために最も効果的な因子である。その幅が広いとその効率が低下し、現像ゴースト等の問題が生じる。また狭いとブレードギャップを通過する磁気ブラシ6がギャップを通過できずにトナー薄層9を乱してしまう等の問題が生じるおそれがある。
【0024】
(現像ローラ)
本発明に係る現像ローラは、固定された磁性部材の外周部を回転するスリーブ状のローラである。該現像ローラは、図3に示すように、スリーブ状のアルミニウム系金属製基体30を含み、その表面に抵抗層としてアルマイト皮膜31を有してなり、さらにアルマイト皮膜31の上に樹脂層38を有する。この樹脂層38は、少なくとも第1樹脂層33と第2樹脂層35を含むものである。第1樹脂層33は、アルマイト皮膜31上に形成される樹脂層であって、平均粒子径Aの第1抵抗調整剤34を含有し、その平均粒子径Aとアルマイト皮膜表面層に存在する孔32の平均径Bの関係がA>Bである。第2樹脂層35は、最上層に形成される樹脂層であって、前記第1抵抗調整剤34の平均粒子径Aより小さい平均粒子径を有する第2抵抗調整剤36を含有する。第2樹脂層35の上にトナー薄層9が形成される。
【0025】
前記アルミニウム系金属としては、純アルミニウムや、Al−Mn系、Al−Mg系、Al−Mg−Si系、Al−Cu系、Al−Zn−Mg系などの合金が挙げられる。スリーブ状のアルミニウム系合金製基体に陽極酸化処理を施し、表面にアルマイト皮膜を形成する。陽極酸化処理は、電解浴として硫酸、クロム酸、リン酸、シュウ酸などの酸の水溶液を使用して行う。このような陽極酸化処理により形成されたアルマイト皮膜の表面層には、平均径が0.1μm程度の孔が存在する。アルマイト皮膜の厚さは、耐リーク性のうえで、5〜30μmの範囲が好ましく、10〜25μmであるのがより好ましい。
【0026】
前記アルマイト皮膜31の上に、少なくとも、第1抵抗調整剤を含有する第1樹脂層33と第2抵抗調整剤を含有する第2樹脂層35をこの順に設ける。第1樹脂層33に含有される第1抵抗調整剤の平均粒子径Aとアルマイト皮膜表面層に存在する孔の平均径Bとは、A>Bの関係を有することによって、アルマイト皮膜の表面層孔部に導電材である抵抗調整剤が入り込まないようにし、アルマイト皮膜の抵抗低下を発生させないようにして所望の耐リーク性を得ることができる。
具体的には、アルマイト皮膜表面層に存在する孔の平均径B(通常0.05〜0.3μm)よりも第1抵抗調整剤の平均粒子径Aは0.3μm以上、好ましくは0.4〜0.6μm程度大きいのがよい。
【0027】
また、最上層の第2樹脂層には、第1抵抗調整剤より平均粒子径の小さい第2抵抗調整剤を用いることで、表層の算術表面粗さ(Ra)を低下させることにより、トナー粒子の現像ローラ表面への付着を低減することができる。具体的には、第2抵抗調整剤の平均粒子径は、第1抵抗調整剤の平均粒子径よりも小さければ良く、好ましくは粒子径が0.01〜0.2μm程度のものが好ましい。より好ましくは、前記第2抵抗調整剤は、アルマイト皮膜表面層に存在する孔の平均径Bより小さい平均粒子径であるのがよい。
【0028】
最上層の第2樹脂層の算術表面粗さ(Ra)は、小径のトナー粒子が付着しにくいという観点から、0.2μm以下であるのが好ましい。第2樹脂層の算術表面粗さ(Ra)をこの範囲に調整しやすいという点から、第2抵抗調整剤の平均粒子径は10〜200nmの範囲が好ましい。第1抵抗調整剤、第2抵抗調整剤の平均粒子径は、例えばJEOL社製電界放射形走査電子顕微鏡FE−SEM(JSM−7401F)を用い倍率30000倍に拡大した抵抗調整剤を100個無作為にサンプリングし、その画像情報をマウンテック社製画像解析式粒度分布測定ソフトウェア(Mac−View)によって算出することができる。算術表面粗さ(Ra)は、東京精密社製 SURFCOM 1500DX(JIS B0601-1994)、測定条件(算出規格:JIS−‘94規格、測定種別:粗さ測定、測定長さ:4.0mm、カットオフ波長:0.8mm、測定速度:0.3mm/s)により測定することができる。
第1樹脂層の厚さは、抵抗調整剤の分散性の観点から3〜7μmの範囲が好ましい。第2樹脂層の厚さは、抵抗調整剤の分散性の観点から3〜7μmの範囲が好ましい。3μmより薄いと製造が困難である。また、7μmより厚いと樹脂層の塗工後の乾燥時に抵抗調整剤が沈降して抵抗値にバラツキが生じる。
【0029】
第1抵抗調整剤、第2抵抗調整剤としては、前記粒子径についての前記関係を満たす限り、各種の導電材が使用でき、たとえば、カーボンブラック、チタン酸カリウム、酸化チタンなどの1種または2種以上が適宜選択使用される。第1抵抗調整剤としてチタン酸カリウム、第2抵抗調整剤としてカーボンブラックを使用する組み合わせは好ましいものである。
第1抵抗調整剤の第1樹脂層における含有率、第2抵抗調整剤の第2樹脂層における含有率は、現像ローラの表面層の体積抵抗を107〜1011Ω・cmの範囲に調整するように選択するのが好ましい。さらに、第2抵抗調整剤の第2樹脂層における含有率は、現像ローラの表面の算術表面粗さ(Ra)を前記範囲に調整するように選択するのが好ましい。通常、第1抵抗調整剤の第1樹脂層における含有率は5〜30重量%の範囲から選択され、第2抵抗調整剤の第2樹脂層における含有率は5〜30重量%の範囲から選択される。
【0030】
第1樹脂層、第2樹脂層に使用する樹脂としては、誘電率が低く、耐摩耗性などが優れた樹脂から適宜選択使用され、たとえば、シリコーン変性ウレタン樹脂、フッ素樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられる。トナーが正帯電性のものである場合は、シリコーン変性ウレタン樹脂が特に好ましい。
【0031】
前記シリコーン変性ウレタン樹脂としては、特開2001−026648号公報、特開2002−20607号公報などに記載されているものが挙げられる。たとえば、(A)分子鎖の側鎖及び/又は主鎖に少なくとも1個の脂肪族不飽和結合と、少なくとも1個の活性水素とが同一分子内に共存する炭化水素化合物及び/又は脂肪族不飽和基含有ポリシロキサンと、有機ポリイソシアネートと、ポリオール及び/又はポリアミンと、及び必要に応じて鎖伸長剤とを反応させることにより得られる脂肪族不飽和基を有するポリウレタン系樹脂100重量部、(B)1分子中に2個以上のヒドロシリル基を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン0.1〜100重量部、(C)ヒドロシリル化触媒の触媒量を含有してなる樹脂組成物を反応させて得られるものが挙げられる。
具体的には、本発明で使用可能なシリコーン変性ウレタン樹脂としては、例えば信越化学工業(株)社製のX−93−1343、X−93−1549、X−93−1248K、X−93−1249Cなどが挙げられる。
【0032】
(A)成分中の分子鎖の側鎖及び/又は主鎖に少なくとも1個の脂肪族不飽和結合(ビニル基等のアルケニル基、エチニル基等のアルキニル基等)と、少なくとも1個の活性水素とが同一分子内に共存する炭化水素化合物の例としては、下記一般式(1)〜(7)で表わされるものが挙げられる。
【化1】

(式中、R1、R2は単結合又は2価の炭化水素基、R3、R4、R5は1価の炭化水素基又は水素原子、R6は3価の炭化水素基、X1は活性水素を有する有機官能基、X2は活性水素を有する有機官能基、1価の炭化水素基又は水素原子をそれぞれ表す。)
ここで、2価の炭化水素基としては、炭素数1〜12、特に1〜6のアルキレン基、フェニレン基が好ましい。3価の炭化水素基としては、炭素数1〜12、特に1〜6のもので、アルキレン基又はフェニレン基より水素原子が1個脱離したものが好ましい。1価の炭化水素基としては、炭素数1〜12、特に1〜6のアルキル基、フェニル基が好ましい。また、活性水素を有する有機官能基としては、水酸基、アミノ基、カルボキシル基が好適なものとして挙げられる。なお、上記1価、2価、3価の各炭化水素基は、酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を含んでいてもよい。
上記の炭化水素化合物としては、下記のものが例示されるが、これらに限定されるものではない。
【化2】

【0033】
(A)成分中の脂肪族不飽和基(ビニル基等のアルケニル基、エチニル基等のアルキニル基等)含有ポリシロキサンの例としては、下記一般式(8)〜(11)が挙げられる。
【化3】


(式中、R7、R8は2価の炭化水素基、R9は1価炭化水素基、R10は単結合又は2価の炭化水素基、R11、R12、R13は1価の炭化水素基又は水素原子、R14は1価の炭化水素基、R15は3価の炭化水素基、X3は活性水素を有する有機官能基、X4は活性水素を有する有機官能基、1価の炭化水素基又は水素原子、m=1〜200の整数、n=1〜200の整数をそれぞれ表す。)
ここで、2価の炭化水素基、1価の炭化水素基、3価の炭化水素基、活性水素を有する有機官能基としては、上記と同様である。また、mは好ましくは10〜100の整数、nは好ましくは1〜50の整数である。
上記のポリシロキサン化合物としては、下記のものが例示されるが、これらに限定されるものではない。
【化4】

【0034】
(A)成分中の有機ポリイソシアネートの例としては、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、1−メチルシクロヘキシレン−2,4−ジイソシアネート、1−メチルシクロヘキシレン−2,6−ジイソシアネート、4,4'−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,4'−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、1,5−ナフチレンジイソシアネート、3,3'−ジメチル−4,4'−ビフェニレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等のジイソシアネート類、これらジイソシアネートの3量体イソシアヌレート等が挙げられる。
【0035】
(A)成分中のポリオールの例としては、ポリエーテルジオール、ポリカーボネートジオール、ポリエステルジオール、両末端カルビノール変性ポリジメチルシロキサン等のジオール類や、グリセローラ、トリメチローラプロパン、ペンタエリトリトール、アクリルポリオール等が挙げられる。
【0036】
(A)成分中のポリアミンの例としては、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、両末端アミノ変性ポリジメチルシロキサン等の直鎖状ポリアミン、水添キシリレンジアミン、イソホロンジアミン等の脂環式ジアミン、2,4−トリレンジアミン、2,6−トリレンジアミン、1,5−ナフチレンジアミン、4,4'−ジフェニルメタンジアミン等の芳香族ジアミン等が挙げられる。
【0037】
(A)成分中の鎖伸長剤の例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ヘキサメチレングリコール、ビスフェノールA、ハイドロキノン等の短鎖ジオール類が一般的に用いられる。
【0038】
上記成分を用いて(A)成分の脂肪族不飽和基を有するポリウレタン系樹脂を得るには、常法によりケトン系、エステル系等の適当な溶剤中で、有機スズ系、アミン系等のウレタン化触媒存在下に、50〜150℃で1〜10時間熟成し、各成分を反応させればよい。更に必要ならば、粘度、固形分濃度、溶剤を調整するために、反応生成物を濃縮、希釈、溶媒置換してもよい。
各成分の反応割合は、所望するシリコーン変性ウレタン樹脂の物性に応じて選択すればよいが、一般的には、ポリオール及び/又はポリアミン100重量部に対して分子鎖の側鎖及び/又は主鎖に少なくとも1個の脂肪族不飽和結合と少なくとも1個の活性水素とが同一分子内に共存する炭化水素化合物及び/又は脂肪族不飽和基含有ポリシロキサンが0.1〜50重量部、好ましくは1〜25重量部、鎖伸長剤が0〜50重量部、好ましくは0〜10重量部である。有機ポリイソシアネートの量は、上記活性水素含有化合物の活性水素とイソシアネート基のモル比(イソシアネート基/活性水素)が0.5〜2.0、特に0.9〜1.1となることが好ましい。
【0039】
また、このポリウレタン系樹脂の重量平均分子量は10,000〜2,000,000、特に10,000〜100,000であることが好ましい。脂肪族不飽和基含有量は0.0001〜10,000ミリモル/gであることが好ましく、より好ましくは0.001〜100ミリモル/g、特に好ましくは0.01〜10ミリモル/gである。
【0040】
(B)成分の1分子当たり2個以上のヒドロシリル基を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンとしては、下記一般式(12)又は(13)で表される化合物が好適であり、これらは単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
【化5】


(上記式中、r、sは0以上の整数であり、R16は水素原子又はR17、R17は1価有機基であり、かつR16が2個ともR17のときsは2以上、R16の1個がR17、1個が水素のときsは1以上、R16が2個とも水素のときsは0以上の整数である。)
【化6】


(上記式中、R18は1価有機基であり、tは0以上の整数、uは2以上の整数であり、t+uは3以上の整数である。)
【0041】
上記式(12)、(13)において、R17、R18の1価有機基としては、好ましくは炭素数が1〜12のものであり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、フェニル基、2−フェニルプロピル基等のアルキル基、アリール基、アラルキル基などの非置換1価炭化水素基や、これらの非置換1価炭化水素基の水素原子の一部又は全部をハロゲン原子、アミノ基、エポキシ基、アルコキシ基、トリアルキルシリル基、ジアルキルアルコキシシリル基、アルキルジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基等で置換した3−グリシドキシプロピル基、2−トリメトキシシリルエチル基等の置換1価炭化水素基が挙げられる。特に好ましくはメチル基である。
【0042】
また、r、sは0以上の整数であるが、r+sの値は1,000以下が好ましく、特に100以下が好ましい。r+sが大きくなると、(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンの粘度が高くなり過ぎ、他の成分との混合が困難になるばかりでなく、相溶性が悪化して架橋反応が進行しにくくなる場合がある。また、t+uの値は3〜6が好ましい。更に、1分子当たりのヒドロシリル基含有率s/(r+s)、u/(t+u)が大きいほど架橋効率も向上するので好ましい。具体的には、下記のものが例示されるが、これらに限定されるものではない。
【化7】

【0043】
(B)成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンの使用量は、(A)成分のポリウレタン系樹脂の固形分100重量部に対して0.1〜100重量部であるが、特に1〜20重量部が好ましい。
【0044】
(C)成分のヒドロシリル化触媒の例としては、白金、パラジウム、イリジウム、ロジウム、オスミウム、ルテニウム等の貴金属の錯体、ベンゾイルパーオキシド、ジクミルパーオキシド、ジ−tert−ブチルパーオキシド等の過酸化物、2,2'−アゾビスイソブチロニトリル、2,2'−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2'−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)等が挙げられる。これらのうち一般的には、反応性が高く、取り扱いも容易な白金系触媒、特に白金錯体が好ましく、とりわけ塩化白金酸のアルコール溶液や、塩化白金酸溶液を中和後に脂肪族不飽和炭化水素基含有化合物を配位させたもの等が好ましく使用される。
(C)成分のヒドロシリル化触媒の使用量は、触媒量で十分であるが、具体的に例示すると、(A)成分のポリウレタン系樹脂の固形分100重量部に対して、有効成分として0.001〜0.1重量部である。
【実施例】
【0045】
以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
【0046】
[実施例1および比較例1〜3]
以下に示す仕様により、図1に示す本発明の画像形成装置を作製した。感光体ドラム3、現像ローラ2、磁気ローラ1の各スリーブの寸法、線速度などは、下記の通りである。感光体ドラム3にはアモルファスシリコンを使用し、磁気ローラのスリーブには、アルミニウムを使用した。現像ローラについては、下記参照。
感光体ドラム:外径30mm、線速度250mm/sec
現像ローラ:外径16mm、線速度355mm/sec
磁気ローラ:外径20mm、線速度562.5mm/sec
磁気ローラと現像ローラ間距離:350μm
現像ローラと感光体ドラム間距離:200μm
二成分現像剤としては、下記のトナー粒子、キャリアからなるものを使用した。トナー粒子は正帯電性のものである。
トナー粒径(体積平均粒子径):6.5μm
キャリア粒径(重量平均粒子径):35μm
トナー/キャリア混合重量比率:12%/88%
前記画像形成装置の稼働時の電界条件は次の通りである。
感光体ドラム表面電位:+350V
現像ローラ:Vdc2=100V、Vpp=1.4kV、周波数f=4.5kHz、Duty比=45%
磁気ローラ:Vdc1=300V、Vpp=1.85kV、周波数f=4.5kHz、Duty比=70%
【0047】
現像ローラとしては、図3に示す構成のものを作製した。アルミニウム管を、硫酸を含む電解浴中で陽極酸化処理し、表面に厚さ15μmのアルマイト皮膜を形成した。このアルマイト皮膜を走査電子顕微鏡で調べたところ、平均径約0.1μmの孔が存在した。このアルマイト皮膜上に、第1抵抗調整剤を含有する樹脂塗工液を塗布、乾燥して厚さ5μmの第1樹脂層を形成し、その上に第2抵抗調整剤を含有する樹脂塗工液を塗布、乾燥して厚さ5μmの第2樹脂層を形成した。樹脂塗工液としては、第1樹脂層、第2樹脂層ともにシリコーン変性ウレタン樹脂塗工液(信越化学工業(株)製:X-93-1343)を使用した。抵抗調整剤としてはカーボンブラック(三菱化学(株)社製:MA−100、一次粒子の平均粒子径22nm)、繊維状チタン酸カリウム(大塚化学(株)社製:デントールWK500、平均粒子径5〜15μm、繊維径0.5μm)を使用した。抵抗調整剤の平均粒子径は前述の測定方法で測定した。実施例1および比較例1〜3における第1抵抗調整剤、第2抵抗調整剤の種類および含有率を表1に示す。表1において、抵抗調整剤の種類の下のカッコ内の数値は樹脂層中の抵抗調整剤の含有率(重量%)を示す。
得られた現像ローラの算術表面粗さ(Ra)、体積抵抗値(Ω・cm)を測定した。結果を表1に示す。算術表面粗さ(Ra)は前述の測定方法で測定した。体積抵抗値(Ω・cm)はローラ表面とローラ素管の間に100V印加し、ULTRA HIGH RESISTANCE METER(ADVANTEST社製)により測定した。
【0048】
(耐リーク性の評価)
耐リーク性はつぎのようにして評価した。
1.現像手段に駆動を与え、各ローラを回転させる。
2.現像ローラをGNDに接続し、磁気ローラにDC(直流電圧)とAC(交流電圧)を印加する。周波数f=4.5kHz、Duty比=70%は固定している。
3.現像ローラと磁気ローラの電位差はオシロスコープにて確認する。
4.現像ローラにトナー層を形成させないように現像ローラと磁気ローラの電位差を大きくしていき、オシロスコープ波形が乱れる処を確認する。
5.波形が乱れる時(リークが発生したと判断)の現像ローラと磁気ローラ間の最大電圧をリークマージン値とする。
(100枚連続出力時IDの測定)
前記画像形成装置を上記稼動時の条件下に稼働させて、A4版印刷用紙(PPC用紙)100枚に連続印刷したときの画像濃度(ID)を測定した。なお、画像濃度は、グレタグマクベス社製分光光度計SpectroEyeを用いて測定を行った。表1にリークマージン値および100枚連続出力時の画像濃度を示す。
【0049】
【表1】

【0050】
表1の結果から明らかなように、第1樹脂層に含有される第1抵抗調整剤の平均粒子径がアルマイト皮膜の孔の平均径より小さい比較例1においては、アルマイト皮膜の表面層孔部に導電材である抵抗調整剤が入り込み、アルマイト皮膜の抵抗が低下するため、所望の耐リーク性が得られない。また、最上層の第2樹脂層に含有させる第2抵抗調整剤として、第1抵抗調整剤より平均粒子径の小さいものを使用しない比較例2、3においては、表層の算術表面粗さ(Ra)が大きいため、トナー粒子の現像ローラ表面への付着が低減されず、得られる印刷物の画像濃度が低い。
これに対して、実施例1においては、現像ローラのアルマイト皮膜上に設ける第1樹脂層、第2樹脂層に含有される抵抗調整剤が所定の粒子径を有することにより、アルマイト皮膜の表面層孔部に導電材である抵抗調整剤が入り込まず、アルマイト皮膜の抵抗が低下しないため所望の耐リーク性が得られると共に、最上層の第2樹脂層には、第1抵抗調整剤より平均粒子径の小さい第2抵抗調整剤を用いることで、表層の算術表面粗さ(Ra)が小さく、トナー粒子の現像ローラ表面への付着が低減され、その結果高画像濃度の印刷物が多数枚得られる。
【図面の簡単な説明】
【0051】
【図1】本発明の一実施形態に係る非接触現像方式の画像形成装置の概略構成を示す説明図である。
【図2】図1の現像手段の一部を示す概略構成図である。
【図3】図1の現像ローラの表面部を拡大して示す概略断面図である。
【符号の説明】
【0052】
1 二成分現像剤搬送体(磁気ローラ)
2 現像ローラ
3 静電潜像担持体(感光体)
4 キャリア
5 トナー
6 磁気ブラシ
7 規制ブレード
8 帯電手段
9 トナー薄層
30 アルミニウム系金属製基体
31 アルマイト皮膜
32 孔
33 第1樹脂層
34 第1抵抗調整剤
35 第2樹脂層
36 第2抵抗調整剤
38 樹脂層

【特許請求の範囲】
【請求項1】
少なくともキャリアとトナーを含む現像剤を磁気保持する二成分現像剤搬送体と、前記搬送体よりトナーを移送してその表面にトナーの薄層を形成する現像ローラと、前記現像ローラおよび/または前記現像剤搬送体に現像バイアスを印加して現像ローラ上のトナー薄層からトナーを飛翔させ表面の静電潜像の現像を行わせる静電潜像担持体とを備えた画像形成装置であって、
前記現像ローラがアルミニウム系金属製基体を含み、その表面に抵抗層としてアルマイト皮膜を有してなり、さらに、このアルマイト皮膜の上に抵抗調整剤を含有する樹脂層を有し、
この樹脂層は、少なくとも、平均粒子径Aの第1抵抗調整剤を含有し、その平均粒子径Aとアルマイト皮膜表面層に存在する孔の平均径Bの関係がA>Bである第1樹脂層と、
前記第1樹脂層の上層に前記第1抵抗調整剤の平均粒子径Aより小さい平均粒子径を有する第2抵抗調整剤を含有する第2樹脂層と
を含むことを特徴とする画像形成装置。
【請求項2】
前記第2抵抗調整剤は、アルマイト皮膜表面層に存在する孔の平均径Bより小さい平均粒子径を有する請求項1に記載の画像形成装置。
【請求項3】
前記第1樹脂層および第2樹脂層を含む前記樹脂層に使用する樹脂が、シリコーン変性ウレタン樹脂である請求項1または2に記載の画像形成装置。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【公開番号】特開2009−276501(P2009−276501A)
【公開日】平成21年11月26日(2009.11.26)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2008−126874(P2008−126874)
【出願日】平成20年5月14日(2008.5.14)
【出願人】(000006150)京セラミタ株式会社 (13,173)
【Fターム(参考)】