研磨布及びその製造方法
【課題】本発明の課題は、基板表面粗さ０．２ｎｍ以下を達成し、スクラッチ欠点、リッジ欠点に優れ、かつ、線密度の高いテクスチャー痕を形成することができる研磨布を提供することにある。
【解決手段】平均単繊維繊度が０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘかつ繊度ＣＶが１〜１０％の範囲であるポリアミド極細繊維および／または該極細繊維からなる極細繊維束が絡合してなる不織布と弾性重合体とで構成されるシート状物からなる研磨布であって、表面に露出した単繊維繊度０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘの極細繊維間の交差点が、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて２０００倍にて観察し、該極細繊維が５０本以上存在する０．０１ｍｍ２の範囲１０ヶ所を任意に抽出したとき、平均で１５０ヶ所以上存在することを特徴とする研磨布である。
【解決手段】平均単繊維繊度が０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘかつ繊度ＣＶが１〜１０％の範囲であるポリアミド極細繊維および／または該極細繊維からなる極細繊維束が絡合してなる不織布と弾性重合体とで構成されるシート状物からなる研磨布であって、表面に露出した単繊維繊度０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘの極細繊維間の交差点が、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて２０００倍にて観察し、該極細繊維が５０本以上存在する０．０１ｍｍ２の範囲１０ヶ所を任意に抽出したとき、平均で１５０ヶ所以上存在することを特徴とする研磨布である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は研磨布に関し、特にハードディスクに用いられるアルミニウム合金基板のテクスチャー加工において、スクラッチ欠点、リッジ欠点に優れ、基板表面粗さ０．２ｎｍ以下を達成し、かつ、線密度の高いテクスチャー痕を形成することができる研磨布に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気ディスク等の磁気記録媒体は、高容量化、高記憶密度化に伴い、磁気ヘッドの浮上高さ（フライングハイト）が著しく低くなる傾向にある。そのため、磁気ディスク表面に突起が存在すると、磁気ヘッドと突起とが接触してヘッドクラッシュを起こし、ディスク表面に傷が発生する。また、ヘッドクラッシュには至らない程度の微小な突起であっても、磁気ヘッドとの接触により情報の読み書きの際に発生するエラーの原因につながる。
そこで、ディスク基板と磁気ヘッドの接触を防止するため、基板表面の微小突起を平滑化し、さらに同心円状に均一な溝を形成するテクスチャー加工という表面処理が行われている。このテクスチャー加工により、ディスク基板上に金属磁性層を形成する際、結晶成長の方向性を、面内の磁化方向から記録方向である円周方向に配向させ、異方性媒体とすることにより、高記憶容量化を達成することができる。
テクスチャー加工の方法としては、ダイヤモンドや酸化セリウムなどの遊離砥粒のスラリーを研磨布表面に付着させて研削を行うスラリー研削等が一般的に用いられている。テクスチャー加工によって、磁気ヘッドの低浮上を満足するための表面処理を行う場合、最近の急激な高記録容量化に伴う高記録密度化に対応するためには、０．２ｎｍ以下の基板表面粗さを達成し、かつスクラッチ、リッジ欠点と呼ばれる基板表面の傷および突起状物を極小化することが要求されており、その要求に対応しうる研磨布が切望されている。
テクスチャー加工において、基板表面粗さを小さくするためには、研磨布を構成する繊維を極細化し、基板表面への傷を極小化する必要がある。該要求に対し、研磨布表面均一性の観点から極細繊維不織布を、スクラッチ欠点等を防止するため、研磨布にクッション性を持たせるべく極細繊維不織布に弾性重合体を含浸させるという提案が種々なされてきた。
例えば、０．３ｄｔｅｘ以下の極細繊維不織布に高分子エラストマーを含浸させた研磨布が提案されており、０．５ｎｍ程度の表面粗さを達成している（特許文献１）。
更に、近年では平均単繊維繊度０．００１〜０．１ｄｔｅｘのポリアミド極細短繊維の不織布からなる研磨布（特許文献２）が提案されており、この研磨布では０．３ｎｍ程度の表面粗さを達成している。
ところで、基板表面粗さの極小化が進むにつれて、スクラッチ欠点及び、異常突起欠点に対する許容範囲は狭くなってきている。従来のテクスチャー加工において欠点と判定されなかった傷や突起がエラーの発生につながるため、更なる基板表面の平滑性、均一性の向上が必要となっている。そのため、従来、研磨スラリーに用いられる遊離砥粒の粒子径は１００ｎｍ前後のダイヤモンド粒子が用いられていたが、上記背景からダイヤモンド粒子の小径化が進められている。例えば特許文献３では、粒子径が１〜１０ｎｍのダイヤモンドクラスター粒子を水ベースの水溶液に分散した研磨スラリーが提案されており、ナイロン繊維を用いたマイクロファイバーからなる研磨布による研磨加工により０．１８ｎｍの表面粗さを達成している。
【０００３】
こうした背景から、さらなる構成繊維の極細化による基板表面の平滑化、均一化が図られてきた。しかし、構成繊維の著しい極細化に伴い、研磨布の立毛形成および該立毛の研磨布表面での分散化が困難となってきた。これに対し、特許文献４では、極細繊維不織布を構成する繊維束の最外周に位置する繊維と高分子弾性体が部分的に接合されている研磨布が提案されている。確かに、０．０２ｄｔｅｘレベル（Ｎ６繊維径で１．４μｍ程度）の極細繊維においては一応の効果が見られるものの、近年求められる０．０１ｄｔｅｘ未満（Ｎ６繊維径１．０μｍ以下）の極細繊維のレベルに対しては、極細繊維と高分子弾性体の接着が影響し、繊維の分散化が困難となる問題があった。
【０００４】
特許文献５では極細繊維の０．０３ｄｔｅｘ以下（実施例では最細繊度のもので０．０００３ｄｔｅｘ）細繊度化に加え、高分子弾性体と極細繊維束の接着を緩和した研磨シートが提案されている。しかしながら、研磨加工において繊度のバラツキが非常に大きく、さらに細繊度が影響してバッフィング処理により繊維が束状で起毛されることに起因して、研磨加工の不均一化を招き、表面粗さの低減、スクラッチの極少化が充分に得られるものではなかった。
【０００５】
ところで、特許文献６には表面粗さ、スクラッチの極少化を目的として単繊維繊度１×１０−８〜４×１０−４ｄｔｅｘのナノファイバーレベルの超極細繊維を適用した研磨布が提案されている。しかしながら、該研磨布を構成する超極細繊維は数百本単位で束状に凝集しているため、束状物としての性質が支配的となり、超極細繊維としての特徴を充分発揮できないばかりか、繊度ＣＶは２０％以上と大きいものであり、研磨における加工均一化に充分寄与できるものではなかった。
【０００６】
また、近年のテクスチャー要求性能として、表面粗さの極小化、スクラッチ、リッジの低減に加え、分解能やＳ／Ｎ比などの電磁変換特性の向上が求められている。これは、先述した研磨砥粒の微小化に伴って、テクスチャー痕の凹凸の鋭角性が低下することにより、基板表面に形成されるテクスチャーの線密度（ラインデンシティ）が低下し、ディスク基板上に金属磁性層を形成する際、結晶成長の方向性の制御が不十分となり、円周方向の磁気的配向が低くなるために発生するものである。そのため、テクスチャー用研磨布の構成繊維の繊度としては１０−４ｄｔｅｘオーダーよりも細いものでは砥粒の押付力が不充分であり、テクスチャー痕の凹凸が不明瞭となり、高いラインデンシティが得られにくい。そのため、適度な細繊度と均一な繊度分布を持ち、さらに研磨布表面での分散性の良好な研磨布が切望されていた。
【特許文献１】特開２００１−１２５２号公報
【特許文献２】特開２００２−２７３６５０号公報
【特許文献３】特開２００４−１７８７７号公報
【特許文献４】特開２００５−７４６０９号公報
【特許文献５】特開２００２−７９４７２号公報
【特許文献６】特開２００５−３２９５３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の課題は、基板表面粗さ０．２ｎｍ以下を達成し、スクラッチ欠点、リッジ欠点に優れ、かつ、線密度の高いテクスチャー痕を形成することができる研磨布を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明はかかる課題を解決するために、次のような手段を採用するものである。すなわち、
平均単繊維繊度が０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘかつ繊度ＣＶが１〜１０％の範囲であるポリアミド極細繊維および／または該極細繊維からなる極細繊維束が絡合してなる不織布と弾性重合体とで構成されるシート状物からなる研磨布であって、表面に露出した単繊維繊度０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘの極細繊維間の交差点が、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて２０００倍にて観察し、該極細繊維が５０本以上存在する０．０１ｍｍ２の範囲１０ヶ所を任意に抽出したとき、平均で１５０ヶ所以上存在することを特徴とする研磨布である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の研磨布は、基板表面粗さ０．２ｎｍ以下を達成し、スクラッチ欠点、リッジ欠点に優れ、かつ、線密度の高いテクスチャー痕を形成することができるため、記録ディスクの高記録容量化を達成しうるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明について、望ましい実施の形態とともに詳細に説明する。
【００１１】
本発明は、平均単繊維繊度が０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘかつ繊度ＣＶが１〜１０％の範囲であるポリアミド極細繊維および／または該極細繊維からなる極細繊維束が絡合してなる不織布と弾性重合体とで構成されるシート状物からなる研磨布であって、表面に露出した単繊維繊度０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘの極細繊維間の交差点が、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて２０００倍にて観察し、該極細繊維が５０本以上存在する０．０１ｍｍ２の範囲１０ヶ所を任意に抽出したとき、平均で１５０ヶ所以上存在することを特徴とする研磨布である。
【００１２】
本発明の研磨布に用いられる極細繊維の平均単繊維繊度は、研磨布表面の立毛繊維の緻密性、繊維強度及び砥粒の把持性の点から、０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘであることが必要である。０．０００１ｄｔｅｘ以上とすることで、研削に必要とされる充分な繊維強度、剛性が得ることができ、結果として砥粒を的確に把持し、基板表面に鋭利に高密度のテクスチャー痕を形成できるため好ましい。一方、０．０２ｄｔｅｘ以下とすることで、立毛繊維の緻密性を保ち、砥粒を微分散化でき、研磨布表面における砥粒分布を均一化させることができる。平均単繊維繊度の好ましい範囲としては０．０００５〜０．０１ｄｔｅｘであり、さらに好ましい範囲としては０．００１〜０．０１ｄｔｅｘである。なお、平均単繊維繊度は後述する測定方法により測定した値をいう。すなわち、研磨布を厚み方向にカットした断面を観察面として走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、または透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により観察し、極細繊維束が存在する場合には束状繊維の１つの束内を構成する極細繊維の繊維径を測定し、各極細繊維について繊維成分の比重と繊維径から繊度を算出する。同様の測定を合計５つの束状繊維について行い、これを母集団とした標準偏差値および平均値を算出し、該平均値を平均繊度とする。なお、束状の極細繊維が存在しない場合は、極細繊維３００本の繊維径を測定し、同様に平均値を計算するものである。
【００１３】
０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘの繊度を有する極細繊維を得るには、単純な直接紡糸法では困難であるので極細繊維発生型繊維を用いることが好ましい。極細繊維発生型繊維としては、溶剤溶解性の異なる２成分の熱可塑性樹脂を海成分と島成分とし、海成分を溶剤などにより溶解除去することによって島成分を極細繊維とする海島型複合繊維や、２成分の熱可塑性樹脂を繊維断面放射状あるいは層状に交互に配置し、各成分を剥離分割することによって極細繊維に割繊する剥離型複合繊維や多層型複合繊維などを採用することができる。中でも、海島型複合繊維は、海成分を除去することによって、繊維束の内部の極細繊維間に適度な空隙を付与することができるので、表面繊維の開繊性、分散性に優れているので好ましい。
【００１４】
海島型複合繊維の製造方法としては、例えば（１）２成分以上のポリマーをチップ状態でブレンドして紡糸する方法、（２）あらかじめ２成分以上のポリマーを混練してチップ化した後紡糸する方法、（３）溶融状態の２成分以上のポリマーを紡糸機のパック内にて静止混練器等で混合し紡糸する方法、および（４）特公昭４４−１８３６９号公報等の海島型複合用口金を用いて、海島の２成分を相互配列して紡糸する高分子相互配列体方式、等が挙げられる。
【００１５】
本発明において、研磨布を構成する単繊維の繊度ＣＶが１〜１０％の範囲であることが好ましい。ここでいう繊度ＣＶとは、研磨布を厚み方向にカットした断面を観察面としてＳＥＭ、またはＴＥＭにより観察し、極細繊維束が存在する場合には束状繊維の１つの束内を構成する極細繊維の繊維径を測定し、各極細繊維について繊維成分の比重と繊維径から繊度を算出する。同様の測定を合計５つの束状繊維について行い、これを母集団とした標準偏差値および平均値を算出し、該平均値を平均繊度とする。なお、束状の極細繊維が存在しない場合は、極細繊維３００本の繊維径を測定し、同様に平均値を計算するものである。該平均値を平均繊度とし、該標準偏差値を該平均値で割った値を百分率（％）で表したものを繊度ＣＶとする。繊維束を繊度ＣＶが１０％以下とすることで、研磨布表面における低繊度繊維と高繊度繊維との剛性差に起因する立毛繊維の分布の偏りを抑制できるとともに、砥粒分散及び押しつけ力の均一性が得られ、スクラッチ欠点を抑制できるため好ましい。所望の繊度ＣＶを得るには、極細繊維発生型繊維の中でも、上記（１）〜（３）の方法では、島成分の繊維径の内外周差が大きく、前記繊度ＣＶ値を達成できないばかりか、部分的に極細繊維同士が接着した束状となることもあるため、好ましくない。繊度の均一な極細繊維を得るためには、上記（４）の高分子相互配列体方式による海島型複合繊維が好ましい。
【００１６】
なお、海島型複合繊維中の島数は２００〜１０００が好ましい。１０００以下とすることで、口金加工性および安定した紡糸性を得ることができる。また、２００以上とすることで、極細繊維としても高い生産性を保つことができ、表面繊維の開繊性、分散性が得られるため好ましい。紡糸性、生産性を考慮した場合、さらに好ましくは３００〜５００の範囲である。
【００１７】
海島型複合繊維を構成する樹脂としては、極細繊維を発生可能な２種類以上の樹脂の組合せが挙げられ、ポリアミド系、ポリエステル系、ポリオレフィン系等が用いられる。ポリアミド系としてはナイロン６（Ｎ６）、ナイロン６６、ナイロン１２および共重合ナイロンなどのポリアミド類、ポリエステル系としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリトリメチレンテレフタレート、共重合ポリエステルなどの芳香族ポリエステル、ポリ乳酸（ＰＬＡ）、乳酸共重合体およびポリグリコール酸などの脂肪酸ポリエステル系重合体類や脂肪酸ポリエステルアミド系重合体類などの脂肪族ポリエステル類が挙げられる。ポリオレフィン系としては、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリスチレンおよび共重合ポリスチレンなどを用いることができる。
【００１８】
このうち、島成分（極細繊維成分）として、吸水特性及び耐摩耗性の観点から、ポリアミド系が好適に用いられる。中でも、Ｎ６、ナイロン６６、ナイロン１２および共重合ナイロン等のポリアミド類は、スラリー液との親和性が特に良好であり、スラリー液中の研磨砥粒の保持性と分散性に優れ、被研磨物に傷をつけることなく研磨することができる為、より好適に用いられる。
【００１９】
海島型複合繊維の海成分を構成する樹脂としては、島成分を構成するポリマーであるポリアミド樹脂よりも溶解性や分解性の高い化学的性質を有するという点から、ＰＥ、ポリプロピレン、ポリスチレン、共重合ポリスチレン、イソフタル酸やポリエチレングリコールなどを共重合成分とした共重合ポリエステルおよびＰＬＡなどを好適に用いることができる。
【００２０】
海成分を溶解する溶剤としては、海成分がＰＥ、ポリプロピレン、ポリスチレンおよび共重合ポリスチレンの場合は、トルエンやトリクロロエチレンなどの有機溶剤が用いられ、また海成分が共重合ポリエステルやＰＬＡの場合は、水酸化ナトリウムなどのアルカリ水溶液を用いることができ、溶剤中に海島型複合繊維（不織布）を浸漬し、窄液を行うことによって、海成分を除去することができる。特に、ニードルパンチしたときの繊維の高絡合化による表面繊維の高密度化が可能なこと、ならびに、溶解時にトルエンやトリクロロエチレン等の有機溶剤を使用しないこと、原料が植物由来であり環境対応型ポリマーであることからＰＬＡが好ましく使用される。
【００２１】
また、このときの海／島成分比は、島繊維の海島型複合繊維に対する重量比で０．２〜０．９であることが好ましく、より好ましくは０．３〜０．８の範囲である。該成分比を０．２以上とすることで、海成分除去による生産性の著しい低下を招くことなく、コスト的にも好ましい。また、成分比を０．９以下とすることで、島成分繊維の開繊性、分散性に優れ、均一な立毛面を得ることができるため好ましい。
【００２２】
また、海島型複合繊維を用いた場合、不織布に弾性重合体を付与した後、外周部分の海成分（易溶性成分）を除去することで、極細繊維束と弾性重合体の間に隙間を形成することができ、弾性重合体と極細繊維束の最外周に存在する繊維とが、実質的に接着していない構造を形成させることができるため好ましい。また、上記の手法以外に、不織布に水溶性樹脂を付与して海島型複合繊維を保護した後、弾性重合体を含浸付与し、水溶性樹脂を除去する方法を採用することもできる。
【００２３】
本発明の研磨布は、表面に露出した単繊維繊度０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘのポリアミド極細繊維間の交差点が、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて２０００倍にて観察し、該極細繊維が５０本以上存在する０．０１ｍｍ２の範囲１０ヶ所を任意に抽出したとき、平均で１５０ヶ所以上存在することが好ましい。ここで表面繊維の分散性は以下の方法で求めることができる。すなわち、極細繊維を含む研磨布の表面をＳＥＭで観察、加速電圧２０ｋＶ、ワーキングディスタンス８ｍｍ、倍率２０００倍で撮影した研磨布の表面写真において、該極細繊維が５０本以上存在する０．０１ｍｍ２の範囲を無作為に抽出し、研磨布の表面に露出した単繊維繊度が０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘの（Ｎ６では約０．１〜１．４μｍの単繊維直径を有する）極細繊維の繊維間の交差点をカウントする。合計１０枚以上の表面写真を測定し、各写真についてカウントを行い、１０ヶ所の平均を求め小数点第一位で四捨五入するものである。このとき、表面にポリウレタンなどの弾性重合体が露出し、極細繊維が存在しない部分や、ニードルパンチ等により大きな穴を形成している部分は避け、判定に用いないものとする。ここでいう極細繊維間の交差点とは、分散した極細繊維１本１本間の交差点であり、交差角の鋭角が２０°以上である交差点である。繊維が部分的に合流している箇所や、交差せずに並行している部分、フィブリル化した部分は除くものとする。また、極細繊維が２本以上凝集して形成される束同士の交差点、あるいは束状部分と極細繊維１本の間の交差点もカウントしない。なお、極細繊維が数百本単位で凝集した束の表面で、部分的に分散した極細繊維間の交差点についてはカウントするものとする。
【００２４】
ここで、表面の極細繊維間の交差点は１５０ヶ所以上存在することが好ましく、より好ましくは２００ヶ所以上である。極細繊維が表面に分散することで、従来の束状の極細繊維では達成し得なかった極めて緻密な表面状態と、優れた平滑性が得られるからである。
【００２５】
本発明において、ポリアミド極細繊維の交差点数を上記範囲とするためには、極細繊維発生型繊維不織布と弾性重合体とからなるシート状物の少なくとも片面に、極細繊維発生型繊維からなる立毛面を形成させた後に、易溶性成分溶解溶媒などにより湿潤した状態で極細繊維化することが好ましい。極細繊維発生型繊維からなる立毛部分が表面に分散した状態で、極細繊維化が起こり、極細化の工程で表面に分散し、これを乾燥せしめることで、研磨布の表面を覆うようにして分散させることができる。なお、該極細化の加工において、研磨布に液流染色機を用いたもみ加工などの物理的刺激を付与することにより、極細繊維の分散性が向上するため好ましい。該工程を行うことで極細繊維が一方向に配列せず、極細繊維間の交差点が著しく増えるのである。
【００２６】
本発明でいう不織布は短繊維をカード、クロスラッパーなどを用いて幅方向に配列させた積層ウェブを形成させた後にニードルパンチあるいはウォータジェットパンチ処理などの絡合処理を施して得られる短繊維不織布が好ましく用いられる。
【００２７】
本発明で用いる弾性重合体は特に限定はないが、例えば、ポリウレア、ポリウレタン・ポリウレアエラストマー、ポリアクリル酸樹脂、アクリロニトリル・ブタジエンエラストマー、スチレン・ブタジエンエラストマーなどを用いることができるが、中でもポリウレタン、ポリウレタン・ポリウレアエラストマーなどのポリウレタン系エラストマーが好ましい。
【００２８】
ポリウレタンは、ポリオール成分にポリエステル系、ポリエーテル系、ポリカーボネート系のジオール、もしくはこれらの共重合物を用いることができる。また、ジイソシアネート成分としては、芳香族ジイソシアネート、脂環式イソシアネート、脂肪族系イソシアネートなどを使用することができる。ポリウレタンの重量平均分子量は５０，０００〜３００，０００が好ましく、より好ましくは１００，０００〜２５０，０００である。重量平均分子量を５０，０００以上とすることにより、得られるシート状物の強度を保持し、また極細繊維の脱落を防ぐことができる。また、３００，０００以下とすることで、ポリウレタン溶液の粘度の増大を抑えて不織布への含浸を行いやすくすることができる。
【００２９】
また、弾性重合体は、主成分としてポリウレタンを用いることが好ましいが、バインダーとして性能や立毛繊維の均一分散状態を損なわない範囲で、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリオレフィン系などのエラストマー樹脂、アクリル樹脂、エチレン−酢酸ビニル樹脂などが含まれていても良く、必要に応じて着色剤、酸化防止剤、帯電防止剤、分散剤、柔軟剤、凝固調整剤、難燃剤、抗菌剤、防臭剤などの添加剤が配合されていてもよい。
【００３０】
本発明において、弾性重合体の付与量は、研磨布表面繊維の緻密性、クッション性などを考慮し、固形分として対極細繊維重量比で１０〜２００重量％の範囲が好ましい。好ましくは２０〜１００重量％の範囲であり、より好ましくは３０〜８０重量％の範囲である。
【００３１】
本発明の研磨布をテープ状としてテクスチャー加工を施す際に、大きな寸法変化が生じると、基板表面を均一に研磨することができないため、研磨布の形態安定性の点から、本発明に用いられる研磨布の目付は１００〜１０００ｇ／ｍ２であることが好ましく、１５０〜６００ｇ／ｍ２であることがより好ましく、さらに好ましくは１５０〜４００ｇ／ｍ２の範囲である。また、同様の観点から本発明の研磨布は厚みが０．１〜５ｍｍの範囲が好ましく、０．２〜２ｍｍの範囲がより好ましい。
【００３２】
なお、本発明の研磨布の見掛け密度については、均一な加工性を得るために０．２〜０．６ｇ／ｃｍ３の範囲が好適であり、より好ましくは０．３〜０．５ｇ／ｃｍ３の範囲である。
【００３３】
本発明の研磨布の目付はＪＩＳ Ｌ １０９６ ８．４．２（１９９９）に準拠して測定した。また、見掛け密度については、研磨布の厚みをダイヤルシックネスゲージ（（株）尾崎製作所製、商品名”ピーコックＨ”）にて任意の１０点を測定し、平均値を算出し、目付を該厚みで除することにより算出した。
【００３４】
本発明では、スクラッチ欠点及びリッジ欠点の抑制の点から、研磨布中に含まれる金属あるいは金属化合物の含有量は、研磨布の総重量に対する金属元素の重量として１００ｐｐｍ以下であることが好ましく、３０ｐｐｍ以下であることがより好ましく、全く含有していないことが更に好ましい。１００ｐｐｍ以下であれば、金属あるいは金属化合物が基板表面に接触することによる、スクラッチ欠点及びリッジ欠点の発生を抑制できるため、好ましい。
【００３５】
研磨布中に含まれる金属あるいは金属化合物の例としては、鉄、酸化鉄、繊維ポリマーの添加剤として用いられる二酸化チタンなどが挙げられる。
【００３６】
更に、テクスチャー加工時のテープ伸びによる加工ムラ、スクラッチ欠点の発生を抑える点から、研磨布の極細繊維を有する面の裏面に補強層を接着する方法が好適に用いられる。
【００３７】
補強層としては、織編物や熱接着繊維を用いた不織布、フィルム状物を用いることが好ましい。中でも、高精度のテクスチャー加工を行うには、厚みや物理特性において均一なフィルム状物を使用することがより好ましい。
【００３８】
ここでいうフィルムとなる素材としては、ポリオレフィン系、ポリエステル系およびポリフェニルサルファイド系などのフィルム形状を有するものであれば使用可能である。汎用性を考えた場合、ポリエステルフィルムを使用することが好ましい。フィルムからなる補強層を設ける場合には、テクスチャー加工時の研磨布の形態安定性、クッション性および基板表面へのフィット性を全て満足させる必要があるため、不織布からなるシート状物との厚みバランスをとることが重要である。不織布からなるシート状物の仕上がり厚みとしては０．２ｍｍ以上であることが好ましく、生産性の点からより好ましくは０．２〜２．０ｍｍの範囲である。そのため、フィルムの厚みは２０〜１００μｍとすることが好ましい。不織布からなるシート状物の厚みが０．２ｍｍ未満の場合、テクスチャー加工時の寸法変化を抑えるため補強層が必要である。一方、フィルム層の厚みが２０μｍ未満であると、テクスチャー加工時の寸法変化を抑えられず、１００μｍを超えると、研磨布全体の剛性が高くなりすぎ、結果としてスクラッチなどの発生を抑えることができないため好ましくない。
【００３９】
次に、本発明の研磨布の製造方法について詳細に記述する。
【００４０】
本発明の研磨布は、少なくとも下記工程（１）〜（３）を組み合わせることにより得られる。すなわち、
（１）平均単繊維繊度が０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘに極細化可能なポリアミドを島成分、脂肪族ポリエステルを易溶性成分とする海島型複合繊維を用いて不織布を作製する工程、
（２）該不織布に弾性重合体を極細化後の極細繊維重量に対し１０〜２００重量％付与し、少なくとも片面にバッフィング処理を施す工程、
（３）該不織布に極細化処理を行う工程、
である。
【００４１】
本発明の研磨布を構成する不織布を得る方法としては、海島複合紡糸により得られた海島複合繊維を短繊維とし、該短繊維をカード、クロスラッパーなどを用いて幅方向に配列させ積層ウェブを形成させた後にニードルパンチあるいはウォータジェットパンチ処理などの絡合処理を施して得られる短繊維不織布が好ましく用いられる。
【００４２】
ニードルパンチ処理のパンチング本数としては、繊維の高絡合化による緻密な表面状態の達成の観点から１０００〜６０００本／ｃｍ２であることが好ましい。１０００本／ｃｍ２以上とすることで表面繊維の緻密化を達成し、所望の高精度の仕上げが可能となり、６０００本／ｃｍ２以下とすることで、加工性の悪化、繊維損傷により強度低下を抑えることができる。なお、ニードルパンチング後の複合繊維不織布の繊維密度は、表面繊維本数の緻密化の観点から、０．１５〜０．３５ｇ／ｃｍ３の範囲であることが好ましい。
【００４３】
ウオータージェットパンチング処理を行う場合には、水は柱状流の状態で行うことが好ましい。柱状流を得るには、通常、直径０．０５〜１．０ｍｍのノズルから圧力１〜６０ＭＰａで噴出させる方法が好適に用いられる。効率的な絡合と均一な表面を得るために、ノズルの直径は０．０５〜０．２０ｍｍ、ノズルの間隔は５ｍｍ以下であることが好ましい。
【００４４】
このようにして得られた不織布は、緻密化の観点から、乾熱または湿熱、あるいはその両者によって収縮させ、さらに高密度化することが好ましい。
【００４５】
本発明の研磨布は、前記不織布シートを極細繊維化処理する前および／または後に、ポリウレタンを主成分とする弾性重合体を付与させることにより得ることができる。かかる弾性重合体は、表面凹凸や振動吸収のためのクッション、繊維形態保持などの役割を有し、極細不織布の内部空間に弾性重合体を充填し一体化させることにより、被研磨物へのフィット性および被研磨物表面の傷の抑制効果に優れるものである。
【００４６】
かかるポリウレタンの不織布への付与方法としては、ポリウレタンを塗布、あるいは含浸後凝固させる方法などを適宜採用することができるが、中でも加工性の点から、不織布中にポリウレタン溶液を含浸した後に、湿式凝固させる方法が好ましく使用される。
【００４７】
使用する弾性重合体については前述の通りであるが、弾性重合体を付与させる際に用いる溶媒としてはＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等を好ましく用いることができる。また、水中にエマルジョンとして分散させた水系ポリウレタンを用いてもよい。溶媒に溶解した弾性重合体溶液に不織布を浸漬する等して弾性重合体を不織布に付与し、その後、乾燥することによって弾性重合体を実質的に凝固し固化させる。乾燥にあたっては不織布及び弾性重合体の性能が損なわない程度の温度で加熱してもよい。
弾性重合体には必要に応じて着色剤、酸化防止剤、帯電防止剤、分散剤、柔軟剤、凝固調整剤、難燃剤、抗菌剤、防臭剤などの添加剤が配合されていてもよい。
【００４８】
本発明の研磨布において、極細繊維が研磨布の表面で分散した状態となるためには、極細繊維発生型繊維不織布と弾性重合体とからなるシート状物の少なくとも片面に、極細繊維発生型繊維からなる立毛面を形成させた後に、極細繊維化することが好ましい。極細繊維発生型繊維からなる立毛部分が表面に分散した状態で、極細繊維化が起こり、極細化の工程で表面に分散し、これを乾燥せしめることで、研磨布の表面を覆うようにして分散させることができるからである。なお、該極細化工程は極細繊維分散化の観点から、脱海溶媒などの液体を用いて湿潤状態で行うことが好ましい。
【００４９】
本発明でいう研磨布の立毛は、例えばバッフィング処理により得られる。ここでいうバッフィング処理とは、サンドペーパーやロールサンダーなどを用いて表面を研削する方法などにより施すのが一般的である。特に、表面をサンドペーパーにより、起毛処理することにで均一かつ緻密な立毛を形成することができるため好ましい。さらに、研磨布の表面に均一な立毛を形成させるためには、研削負荷を小さくすることが好ましい。研削負荷を小さくするためには、バフ段数、サンドペーパー番手などを適宜調整することが好ましい。中でも、バフ段数は３段以上の多段バッフィングとし、各段に使用するサンドペーパーの番手をＪＩＳ規定の１５０番〜６００番の範囲とすることがより好ましい。
【００５０】
また、起毛加工後に、フラットロールなどを用い８０〜２００℃の温度にて厚みを０．１〜０．９倍に圧縮することにより研磨布の全体密度、表面繊維密度を向上させることができる。該圧縮加工は、乾燥、湿潤いずれの状態でも実施可能であるが、乾燥状態であると、表面繊維のロールへの接着、表面部分のみの融着を引き起こす場合があるため、該加工は湿潤状態で行うことが好ましい。湿潤状態では熱伝導率が乾燥状態対比高く、結果として研磨布全体を均一に圧縮できるため好ましい。
次に海島型複合繊維から極細繊維を発現せしめる方法、すなわち、極細繊維発生加工は、除去する成分（易溶解性ポリマーからなる海成分）の種類によって異なるが、ＰＥやポリスチレン等のポリオレフィンであれば、トルエンやトリクロロエチレン等の有機溶媒、ＰＬＡや共重合ポリエステルであれば、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液で浸漬・窄液を行う方法を好ましく用いることができる。
【００５１】
また、極細繊維発生加工の際に極細繊維を研磨布表面に分散させ、本発明の研磨布表面の緻密化、平滑化を達成するためには、極細繊維発生加工中、もしくは発生加工後、乾燥させることなしに、処理液中にて湿潤状態で物理的刺激を加えることが好ましい。物理的刺激を加える方法としては特に限定されるものではないが、液流染色機、ウィンス染色機、ジッガー染色機、タンブラー、リラクサー等を用いた揉み処理、ウオータージェットパンチング処理などの高速流体流処理や、超音波処理による振動等を適宜組み合わせて実施してもよい。なお、極細繊維発生加工の後、乾燥後に揉み加工を行った場合、繊維の分散性が充分ではなく、また表面繊維間にもつれ、ピリング等が生じやすい為、好ましくない。
【００５２】
本発明の研磨布に補強層を接着する方法としては、熱圧着法、フレームラミ法、補強層とシート状物との間に接着層を設けるいずれの方法を採用してもよく、接着層としては、ポリウレタン、スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）、ニトリルブタジエン（ＮＢＲ）、ポリアミノ酸およびアクリル系接着剤などゴム弾性を有するものが使用可能である。コストや実用性を考えると、ＮＢＲやＳＢＲのような接着剤が好ましい。接着剤の付与方法としては、エマルジョンや、ラテックス状態でシート状物に塗布する方法が好適に用いられる。
【００５３】
本発明の研磨布を用いて、テクスチャー加工を行う方法としては、かかる研磨布を加工効率と安定性の観点から、３０〜５０ｍｍ幅のテープ状にカットして、テクスチャー加工用テープとして用いる。
【００５４】
該テクスチャー加工用テープと遊離砥粒を含むスラリーとを用いて、アルミニウム合金磁気記録ディスクのテクスチャー加工を行う方法が好適な方法である。研磨条件として、スラリーは、ダイヤモンド微粒子などの高硬度砥粒を水系分散媒に分散したものが好ましく用いられる。中でも、砥粒の保持性、分散性、スクラッチ抑制、表面粗さ低減の観点から、本発明の研磨布を構成する極細繊維に適合した砥粒は、単結晶ダイヤモンドからなり、１次粒子径が１〜２０ｎｍであることが好ましく、１〜１０ｎｍであることがより好ましい。テクスチャー痕の凹凸の鋭角化を図る点から、更に該ダイヤモンド粒子はクラスター化していることが好ましく、該クラスター径は１００〜８００ｎｍが好ましく、１００〜６００ｎｍであることがより好ましい。
【実施例】
【００５５】
以下、実施例により、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。また実施例で用いた評価法とその測定条件について、以下に説明する。なお、測定条件については、特に記載のない限り、室温（２５℃）、湿度６０％にて実施するものとする。
【００５６】
（１）ポリマーの粘度ＭＦＲ（メルトフローレート：ｇ／１０ｍｉｎ）
ＡＳＴＭ Ｄ１２３８（測定荷重２．１６ｋｇ荷重）に基づいて測定を行い、各試料につき１０回の測定を実施し、平均値を小数点以下第一位を四捨五入したものを、それぞれのポリマーのＭＦＲとした。
【００５７】
（２）融点
パーキンエルマー社（Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍａｅｒ）製ＤＳＣ−７を用いて２ｎｄ ｒｕｎでポリマーの溶融を示すピークトップ温度をポリマーの融点とした。このときの昇温速度は１６℃／分、サンプル量は１０ｍｇとした。
【００５８】
（３）平均単繊維繊度及び繊度ＣＶ
研磨布を厚み方向にカットした断面を観察面として走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、または透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により観察し、極細繊維束が存在する場合には束状繊維の１つの束内を構成する極細繊維の繊維径を測定し、各極細繊維について繊維成分の比重と繊維径から繊度を算出する。同様の測定を合計５つの束状繊維について行い、これを母集団とした標準偏差値および平均値を算出し、該平均値を平均繊度とした。なお、束状の極細繊維が存在しない場合は、極細繊維３００本の繊維径を測定し、同様に平均値を計算するものである。該平均値を平均繊度とし、該標準偏差値を該平均値で割った値を百分率（％）で表したものを繊度ＣＶとした。
ＴＥＭ装置 ： （株）日立製作所製 Ｈ−７１００ＦＡ型
ＳＥＭ装置 ： （株）キーエンス社製 ＶＥ−７８００型
（４）極細繊維の分散性（交差点数）
極細繊維を含む研磨布の表面を（株）キーエンス社製 ＶＥ−７８００型ＳＥＭで観察、加速電圧２０ｋＶ、ワーキングディスタンス８ｍｍ、倍率２０００倍で撮影し、該極細繊維が５０本以上存在する０．０１ｍｍ２の範囲を無作為に抽出し、研磨布表面に露出した０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘの繊度を有する極細繊維の繊維間の交差点をカウントした。合計１０枚以上の表面写真を測定し、各写真についてカウントを行い、１０ヶ所の平均を求め小数点第一位で四捨五入するものである。このとき、表面にポリウレタンなどの高分子弾性体が露出し、極細繊維が存在しない部分や、ニードルパンチ等により大きな穴を形成している部分は避け、判定に用いないものとする。ここでいう極細繊維間の交差点とは、分散した極細繊維１本１本間の交差点であり、交差角の鋭角が２０°以上である交差点である。繊維が部分的に合流している箇所や、交差せずに並行している部分、フィブリル化した部分は除くものとする。また、極細繊維が２本以上凝集して形成される束同士の交差点、あるいは束状部分と極細繊維１本の間の交差点もカウントしない。なお、極細繊維が数百本単位で凝集した束の表面で、部分的に分散した極細繊維間の交差点についてはカウントするものとする。
【００５９】
シート状物（研磨布）の表面０．０１ｍｍ２中に平均で１５０ヶ所以上存在した場合を、分散性良好とした。
【００６０】
（５）目付
ＪＩＳ Ｌ １０９６ ８．４．２（１９９９）に準拠して測定した。
【００６１】
（６）見掛け密度
研磨布の厚みをダイヤルシックネスゲージ（（株）尾崎製作所製、商品名”ピーコックＨ”）にて任意の１０点を測定し、平均値を算出した。（５）にて得られた目付を、該厚みで除することにより、見掛け密度を算出した。
【００６２】
（７）基板表面粗さ
原子間力顕微鏡ＡＦＭ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製ＮａｎｏＳｃｏｐｅ IIIａＡＦＭ Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ３０００ステージシステム）を用いて、テクスチャー加工後のディスク基板サンプル５枚の両面、すなわち計１０表面の各々について、任意の１０カ所（１カ所あたりの観察領域はディスク表面上の径方向５μｍ×周方向５μｍの領域である）を抽出した。次いで、該１０カ所の各々について１点、ディスクの厚み方向における横軸を径方向とした断面プロファイルを任意に抽出し、得られた断面プロファイル各々について、ＪＩＳ Ｂ ０６０１（２００１年版）に準拠して、算術平均粗さＲａを算出する。得られた１０表面×１０点＝合計１００点の測定値を平均することにより基板表面粗さを算出した。数値が低いほど高性能であることを示す。
【００６３】
（８）スクラッチ点数
テクスチャー加工後の基板５枚の両面、すなわち計１０表面の全領域を測定対象として、Ｃａｎｄｅｌａ５１００光学表面分析計を用いて、深さ２ｎｍ以上の溝をスクラッチとし、スクラッチ点数を測定し、１０表面の測定値の平均値を小数点以下第一位で四捨五入し評価した。数値が低いほど高性能であることを示す。
【００６４】
（９）リッジ点数
原子間力顕微鏡ＡＦＭを用いて、テクスチャー加工後の基板サンプル表面の任意の１０カ所（１カ所あたりの観察領域はディスク表面上の径方向５μｍ×周方向５μｍの領域である）について、高さ５ｎｍ以上の突起をリッジとして、その個数を測定し、その合計点数をリッジ点数とした。
【００６５】
（１０）ラインデンシティ
原子間力顕微鏡ＡＦＭを用いて、テクスチャー加工後の基板サンプル表面の任意の１０カ所について、半径方向長さ１μｍあたりに形成されているテクスチャー痕の本数を測定し、その平均値を小数点以下第一位で四捨五入し、ラインデンシティ（テクスチャー痕の線密度）とした。数値が大きいほど高性能であることを示す。
【００６６】
（実施例１）
融点２２０℃、２７０℃におけるＭＦＲが９２ｇ／１０ｍｉｎのＮ６を島成分、融点１７０℃、２３０℃におけるＭＦＲが４３ｇ／１０ｍｉｎのポリ（Ｌ−乳酸）（ＰＬＡ、光学純度９９．５％以上）を海成分とし、Ｎ６は２７０℃、ＰＬＡは２３０℃でそれぞれプレッシャーメルターにて溶融し、口金温度２４５℃にて、島本数３７６島／ホールの高分子相互配列体方式の海島型複合口金を用いて、島／海重量比率４０／６０にて紡糸速度１０００ｍ／分にて溶融紡糸した後、液浴中で３．０倍に延伸、捲縮、カットを経て、繊度５．０ｄｔｅｘの海島型複合繊維の原綿を得た。
【００６７】
この海島型複合繊維の原綿を用いて、カード、クロスラッパー工程を経て積層ウェブを形成し、ついで１バーブのニードルを植込んだニードルパンチ機にて針深度７ｍｍにて３０００本／ｃｍ２のパンチ本数でニードルパンチし、目付６２０ｇ／ｍ２、見掛け密度０．２２ｇ／ｃｍ３の複合繊維不織布を作製した。この不織布を９５℃で熱水収縮させた後、ポリビニルアルコールを繊維重量に対し２０重量％付与後、乾燥させた。
この不織布にポリウレタン（ポリマージオールのポリエステル：ポリエーテル比率が７５：２５）を１２％に調整したＤＭＦ溶液に含浸、ニップロールで窄液し、繊維重量に対して固形分で２０重量％のポリウレタンを付与し、液温３５℃の３０％ＤＭＦ水溶液でポリウレタンを凝固させ、約８５℃の熱水でＤＭＦを除去した。
【００６８】
次いでサンドペーパー番手が２４０番のエンドレスサンドペーパーを用いて３段バッフィングを施し、立毛面を形成させ、最後に、液流染色機（ユニエースＦＬＲ型）にて８０ｍｍのノズルを用い、浴比１／２７において、３％の水酸化ナトリウム水溶液を用いて８０℃で４５分間処理し、海成分であるＰＬＡを溶出させた後、８０℃で乾燥し、Ｎ６からなる極細繊維を発生させ、厚さ１．１２ｍｍ、目付４１０ｇ／ｍ２、見掛け密度０．３７ｇ／ｃｍ３の研磨布を得た。
【００６９】
得られた研磨布を構成する極細繊維の平均単繊維繊度は０．００５ｄｔｅｘ、繊度ＣＶ８％、表面繊維交差点は２６８ヶ所であり表面分散性は良好であった。
【００７０】
該研磨布を４０ｍｍ幅のテープとし、以下の条件でテクスチャー加工を行った。
【００７１】
アルミニウム基板にＮｉ−Ｐメッキ処理した後、ポリッシング加工し平均表面粗さ０．２ｎｍに制御したディスクを用い、研磨布表面に１次粒子径１〜１０ｎｍのダイヤモンド結晶からなる遊離砥粒スラリーを１５ｍｌ／分の供給量で滴下し、ディスクの回転数を４００ｒｐｍ、テープのディスクへの押付圧を２．５ｋｇ／ｃｍ２、テープ走行速度を５ｃｍ／分の条件で１５秒間研磨を実施した。
テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．１５ｎｍ、スクラッチ点数は１８、リッジ点数は０、ラインデンシティは２４本／μｍ幅であり、緻密でかつ均一なテクスチャー痕が形成された加工面であって、加工性も良好であった。また、テクスチャー加工後に磁性層を成膜した基板は、電磁変換特性に極めて優れるものであった。
【００７２】
（実施例２）
紡糸口金に２００島／ホールを用いたこと以外は、実施例１と同様にして、厚さ１．１１ｍｍ、目付４００ｇ／ｍ２、見掛け密度０．３６ｇ／ｃｍ３の研磨布を得た。
【００７３】
得られた研磨布を構成する極細繊維の平均単繊維繊度は０．０１ｄｔｅｘ、繊度ＣＶ８％、表面繊維交差点は２１４ヶ所であり表面分散性は良好であった。
【００７４】
該研磨布を４０ｍｍ幅のテープとし、実施例１の条件でテクスチャー加工を行った。
テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．１７ｎｍ、スクラッチ点数は２２、リッジ点数は１、ラインデンシティは１９本／μｍ幅であり、緻密でかつ均一なテクスチャー痕が形成された加工面であって、加工性も良好であった。また、テクスチャー加工後に磁性層を成膜した基板は、電磁変換特性に極めて優れるものであった。
【００７５】
（実施例３）
バッフィング後に、シートを水により湿潤させ、ロール温度１２０℃のスチール製のフラットロールにて、厚み（クリアランス）０．７０ｍｍに圧縮した以外は、実施例１と同様にして、厚さ０．９５ｍｍ、目付４０５ｇ／ｍ２、見掛け密度０．４３ｇ／ｃｍ３の研磨布を得た。
【００７６】
得られた研磨布を構成する極細繊維の平均単繊維繊度は０．００５ｄｔｅｘ、繊度ＣＶ８％、表面繊維交差点は２５９ヶ所であり表面分散性は良好であった。
【００７７】
該研磨布を４０ｍｍ幅のテープとし、実施例１の条件でテクスチャー加工を行った。
【００７８】
テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．１６ｎｍ、スクラッチ点数は２０、リッジ点数は１、ラインデンシティは２５本／μｍ幅であった。また、テクスチャー加工後に磁性層を成膜した基板は、電磁変換特性に極めて優れるものであった。研磨布を０．４３ｇ／ｃｍ３と高密度化することにより、研磨性能が向上した。
【００７９】
（比較例１）
極細繊維発生型不織布にポリウレタンを付与後、ＰＬＡを溶出させ、最後にバッフィング処理を施した以外は、実施例１と同様の条件で行い、厚さ１．１０ｍｍ、目付４１０ｇ／ｍ２、見掛け密度０．３７ｇ／ｃｍ３の研磨布を得た。
【００８０】
得られた研磨布を構成する極細繊維の平均単繊維繊度は０．００５ｄｔｅｘ、繊度ＣＶ８％であった。該研磨布は最後に起毛処理を行っているため、表面繊維が一方向にそろった状態となっており、表面繊維交差点は７５ヶ所であった。
【００８１】
該研磨布を４０ｍｍ幅のテープとし、実施例１の条件でテクスチャー加工を行った。
【００８２】
テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．１７ｎｍ、スクラッチ点数は２０、リッジ点数は０、ラインデンシティは１３本／μｍ幅であった。表面繊維が一方向にそろっているため、砥粒を適切に把持できず、結果としてラインデンシティの低いものであった。
【００８３】
（比較例２）
島成分として実施例１で用いたＮ６を４０重量％、海成分として融点１７０℃、２３０℃におけるＭＦＲが１２９ｇ／１０ｍｉｎのポリ（Ｌ−乳酸）（ＰＬＡ、光学純度９９．５％以上）を６０重量％、チップブレンドにて紡糸温度２４５℃の条件で紡糸速度１０００ｍ／分にて溶融紡糸した後、液浴中で２．８倍に延伸、捲縮、カットを経て、繊度４．１ｄｔｅｘの海島型複合繊維の原綿を得た。
【００８４】
該原綿を用いて実施例１と同様の条件で加工を行い、厚さ１．１４ｍｍ、目付４２０ｇ／ｍ２、見掛け密度０．３７ｇ／ｃｍ３の研磨布を得た。
【００８５】
得られた研磨布を構成する極細繊維の平均単繊維繊度は０．００１ｄｔｅｘであったが、繊度ＣＶ３２％とバラツキの大きいものであった。表面繊維交差点は１５４ヶ所であった。
【００８６】
該研磨布を４０ｍｍ幅のテープとし、実施例１の条件でテクスチャー加工を行った。
【００８７】
テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．２５ｎｍ、スクラッチ点数は３４、リッジ点数は１、ラインデンシティは１５本／μｍ幅であった。繊度ＣＶが３２％と高いために、表面粗さ、スクラッチ点数が高いものであった。
【００８８】
（比較例３）
紡糸口金に３６島／ホールを用いたこと以外は、実施例１と同様にして、厚さ１．１０ｍｍ、目付３９０ｇ／ｍ２、見掛け密度０．３５ｇ／ｃｍ３の研磨布を得た。
【００８９】
得られた研磨布を構成する極細繊維の平均単繊維繊度は０．１５ｄｔｅｘ、繊度ＣＶ８％、表面繊維交差点は１２５ヶ所であり表面分散性は良好であった。
【００９０】
該研磨布を４０ｍｍ幅のテープとし、実施例１の条件でテクスチャー加工を行った。
【００９１】
テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．２４ｎｍ、スクラッチ点数は４０、リッジ点数は０、ラインデンシティは９本／μｍ幅であった。繊度が０．１５ｄｔｅｘと太いために表面粗さ、スクラッチ点数が高く、またラインデンシティも低いものであった。
【００９２】
（比較例４）
融点２１０℃、２７０℃におけるＭＦＲが４５ｇ／１０ｍｉｎのイソフタル酸を１０ｍｏｌ％共重合したＰＢＴを島成分に用いたこと以外は、実施例１と同様にして、厚さ１．０９ｍｍ、目付３９５ｇ／ｍ２、見掛け密度０．３６ｇ／ｃｍ３の研磨布を得た。
【００９３】
得られた研磨布を構成する極細繊維の平均単繊維繊度は０．００５ｄｔｅｘ、繊度ＣＶ８％、表面繊維交差点は２５４ヶ所であり表面分散性は良好であった。
【００９４】
該研磨布を４０ｍｍ幅のテープとし、実施例１の条件でテクスチャー加工を行った。
テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．２２ｎｍ、スクラッチ点数は７２、リッジ点数は３、ラインデンシティは２３本／μｍ幅であった。極細繊維にポリアミドでなくＰＢＴを用いたためにスクラッチ点数、リッジ点数が高いものであった。
【００９５】
【表１】
【技術分野】
【０００１】
本発明は研磨布に関し、特にハードディスクに用いられるアルミニウム合金基板のテクスチャー加工において、スクラッチ欠点、リッジ欠点に優れ、基板表面粗さ０．２ｎｍ以下を達成し、かつ、線密度の高いテクスチャー痕を形成することができる研磨布に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気ディスク等の磁気記録媒体は、高容量化、高記憶密度化に伴い、磁気ヘッドの浮上高さ（フライングハイト）が著しく低くなる傾向にある。そのため、磁気ディスク表面に突起が存在すると、磁気ヘッドと突起とが接触してヘッドクラッシュを起こし、ディスク表面に傷が発生する。また、ヘッドクラッシュには至らない程度の微小な突起であっても、磁気ヘッドとの接触により情報の読み書きの際に発生するエラーの原因につながる。
そこで、ディスク基板と磁気ヘッドの接触を防止するため、基板表面の微小突起を平滑化し、さらに同心円状に均一な溝を形成するテクスチャー加工という表面処理が行われている。このテクスチャー加工により、ディスク基板上に金属磁性層を形成する際、結晶成長の方向性を、面内の磁化方向から記録方向である円周方向に配向させ、異方性媒体とすることにより、高記憶容量化を達成することができる。
テクスチャー加工の方法としては、ダイヤモンドや酸化セリウムなどの遊離砥粒のスラリーを研磨布表面に付着させて研削を行うスラリー研削等が一般的に用いられている。テクスチャー加工によって、磁気ヘッドの低浮上を満足するための表面処理を行う場合、最近の急激な高記録容量化に伴う高記録密度化に対応するためには、０．２ｎｍ以下の基板表面粗さを達成し、かつスクラッチ、リッジ欠点と呼ばれる基板表面の傷および突起状物を極小化することが要求されており、その要求に対応しうる研磨布が切望されている。
テクスチャー加工において、基板表面粗さを小さくするためには、研磨布を構成する繊維を極細化し、基板表面への傷を極小化する必要がある。該要求に対し、研磨布表面均一性の観点から極細繊維不織布を、スクラッチ欠点等を防止するため、研磨布にクッション性を持たせるべく極細繊維不織布に弾性重合体を含浸させるという提案が種々なされてきた。
例えば、０．３ｄｔｅｘ以下の極細繊維不織布に高分子エラストマーを含浸させた研磨布が提案されており、０．５ｎｍ程度の表面粗さを達成している（特許文献１）。
更に、近年では平均単繊維繊度０．００１〜０．１ｄｔｅｘのポリアミド極細短繊維の不織布からなる研磨布（特許文献２）が提案されており、この研磨布では０．３ｎｍ程度の表面粗さを達成している。
ところで、基板表面粗さの極小化が進むにつれて、スクラッチ欠点及び、異常突起欠点に対する許容範囲は狭くなってきている。従来のテクスチャー加工において欠点と判定されなかった傷や突起がエラーの発生につながるため、更なる基板表面の平滑性、均一性の向上が必要となっている。そのため、従来、研磨スラリーに用いられる遊離砥粒の粒子径は１００ｎｍ前後のダイヤモンド粒子が用いられていたが、上記背景からダイヤモンド粒子の小径化が進められている。例えば特許文献３では、粒子径が１〜１０ｎｍのダイヤモンドクラスター粒子を水ベースの水溶液に分散した研磨スラリーが提案されており、ナイロン繊維を用いたマイクロファイバーからなる研磨布による研磨加工により０．１８ｎｍの表面粗さを達成している。
【０００３】
こうした背景から、さらなる構成繊維の極細化による基板表面の平滑化、均一化が図られてきた。しかし、構成繊維の著しい極細化に伴い、研磨布の立毛形成および該立毛の研磨布表面での分散化が困難となってきた。これに対し、特許文献４では、極細繊維不織布を構成する繊維束の最外周に位置する繊維と高分子弾性体が部分的に接合されている研磨布が提案されている。確かに、０．０２ｄｔｅｘレベル（Ｎ６繊維径で１．４μｍ程度）の極細繊維においては一応の効果が見られるものの、近年求められる０．０１ｄｔｅｘ未満（Ｎ６繊維径１．０μｍ以下）の極細繊維のレベルに対しては、極細繊維と高分子弾性体の接着が影響し、繊維の分散化が困難となる問題があった。
【０００４】
特許文献５では極細繊維の０．０３ｄｔｅｘ以下（実施例では最細繊度のもので０．０００３ｄｔｅｘ）細繊度化に加え、高分子弾性体と極細繊維束の接着を緩和した研磨シートが提案されている。しかしながら、研磨加工において繊度のバラツキが非常に大きく、さらに細繊度が影響してバッフィング処理により繊維が束状で起毛されることに起因して、研磨加工の不均一化を招き、表面粗さの低減、スクラッチの極少化が充分に得られるものではなかった。
【０００５】
ところで、特許文献６には表面粗さ、スクラッチの極少化を目的として単繊維繊度１×１０−８〜４×１０−４ｄｔｅｘのナノファイバーレベルの超極細繊維を適用した研磨布が提案されている。しかしながら、該研磨布を構成する超極細繊維は数百本単位で束状に凝集しているため、束状物としての性質が支配的となり、超極細繊維としての特徴を充分発揮できないばかりか、繊度ＣＶは２０％以上と大きいものであり、研磨における加工均一化に充分寄与できるものではなかった。
【０００６】
また、近年のテクスチャー要求性能として、表面粗さの極小化、スクラッチ、リッジの低減に加え、分解能やＳ／Ｎ比などの電磁変換特性の向上が求められている。これは、先述した研磨砥粒の微小化に伴って、テクスチャー痕の凹凸の鋭角性が低下することにより、基板表面に形成されるテクスチャーの線密度（ラインデンシティ）が低下し、ディスク基板上に金属磁性層を形成する際、結晶成長の方向性の制御が不十分となり、円周方向の磁気的配向が低くなるために発生するものである。そのため、テクスチャー用研磨布の構成繊維の繊度としては１０−４ｄｔｅｘオーダーよりも細いものでは砥粒の押付力が不充分であり、テクスチャー痕の凹凸が不明瞭となり、高いラインデンシティが得られにくい。そのため、適度な細繊度と均一な繊度分布を持ち、さらに研磨布表面での分散性の良好な研磨布が切望されていた。
【特許文献１】特開２００１−１２５２号公報
【特許文献２】特開２００２−２７３６５０号公報
【特許文献３】特開２００４−１７８７７号公報
【特許文献４】特開２００５−７４６０９号公報
【特許文献５】特開２００２−７９４７２号公報
【特許文献６】特開２００５−３２９５３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の課題は、基板表面粗さ０．２ｎｍ以下を達成し、スクラッチ欠点、リッジ欠点に優れ、かつ、線密度の高いテクスチャー痕を形成することができる研磨布を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明はかかる課題を解決するために、次のような手段を採用するものである。すなわち、
平均単繊維繊度が０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘかつ繊度ＣＶが１〜１０％の範囲であるポリアミド極細繊維および／または該極細繊維からなる極細繊維束が絡合してなる不織布と弾性重合体とで構成されるシート状物からなる研磨布であって、表面に露出した単繊維繊度０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘの極細繊維間の交差点が、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて２０００倍にて観察し、該極細繊維が５０本以上存在する０．０１ｍｍ２の範囲１０ヶ所を任意に抽出したとき、平均で１５０ヶ所以上存在することを特徴とする研磨布である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の研磨布は、基板表面粗さ０．２ｎｍ以下を達成し、スクラッチ欠点、リッジ欠点に優れ、かつ、線密度の高いテクスチャー痕を形成することができるため、記録ディスクの高記録容量化を達成しうるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明について、望ましい実施の形態とともに詳細に説明する。
【００１１】
本発明は、平均単繊維繊度が０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘかつ繊度ＣＶが１〜１０％の範囲であるポリアミド極細繊維および／または該極細繊維からなる極細繊維束が絡合してなる不織布と弾性重合体とで構成されるシート状物からなる研磨布であって、表面に露出した単繊維繊度０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘの極細繊維間の交差点が、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて２０００倍にて観察し、該極細繊維が５０本以上存在する０．０１ｍｍ２の範囲１０ヶ所を任意に抽出したとき、平均で１５０ヶ所以上存在することを特徴とする研磨布である。
【００１２】
本発明の研磨布に用いられる極細繊維の平均単繊維繊度は、研磨布表面の立毛繊維の緻密性、繊維強度及び砥粒の把持性の点から、０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘであることが必要である。０．０００１ｄｔｅｘ以上とすることで、研削に必要とされる充分な繊維強度、剛性が得ることができ、結果として砥粒を的確に把持し、基板表面に鋭利に高密度のテクスチャー痕を形成できるため好ましい。一方、０．０２ｄｔｅｘ以下とすることで、立毛繊維の緻密性を保ち、砥粒を微分散化でき、研磨布表面における砥粒分布を均一化させることができる。平均単繊維繊度の好ましい範囲としては０．０００５〜０．０１ｄｔｅｘであり、さらに好ましい範囲としては０．００１〜０．０１ｄｔｅｘである。なお、平均単繊維繊度は後述する測定方法により測定した値をいう。すなわち、研磨布を厚み方向にカットした断面を観察面として走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、または透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により観察し、極細繊維束が存在する場合には束状繊維の１つの束内を構成する極細繊維の繊維径を測定し、各極細繊維について繊維成分の比重と繊維径から繊度を算出する。同様の測定を合計５つの束状繊維について行い、これを母集団とした標準偏差値および平均値を算出し、該平均値を平均繊度とする。なお、束状の極細繊維が存在しない場合は、極細繊維３００本の繊維径を測定し、同様に平均値を計算するものである。
【００１３】
０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘの繊度を有する極細繊維を得るには、単純な直接紡糸法では困難であるので極細繊維発生型繊維を用いることが好ましい。極細繊維発生型繊維としては、溶剤溶解性の異なる２成分の熱可塑性樹脂を海成分と島成分とし、海成分を溶剤などにより溶解除去することによって島成分を極細繊維とする海島型複合繊維や、２成分の熱可塑性樹脂を繊維断面放射状あるいは層状に交互に配置し、各成分を剥離分割することによって極細繊維に割繊する剥離型複合繊維や多層型複合繊維などを採用することができる。中でも、海島型複合繊維は、海成分を除去することによって、繊維束の内部の極細繊維間に適度な空隙を付与することができるので、表面繊維の開繊性、分散性に優れているので好ましい。
【００１４】
海島型複合繊維の製造方法としては、例えば（１）２成分以上のポリマーをチップ状態でブレンドして紡糸する方法、（２）あらかじめ２成分以上のポリマーを混練してチップ化した後紡糸する方法、（３）溶融状態の２成分以上のポリマーを紡糸機のパック内にて静止混練器等で混合し紡糸する方法、および（４）特公昭４４−１８３６９号公報等の海島型複合用口金を用いて、海島の２成分を相互配列して紡糸する高分子相互配列体方式、等が挙げられる。
【００１５】
本発明において、研磨布を構成する単繊維の繊度ＣＶが１〜１０％の範囲であることが好ましい。ここでいう繊度ＣＶとは、研磨布を厚み方向にカットした断面を観察面としてＳＥＭ、またはＴＥＭにより観察し、極細繊維束が存在する場合には束状繊維の１つの束内を構成する極細繊維の繊維径を測定し、各極細繊維について繊維成分の比重と繊維径から繊度を算出する。同様の測定を合計５つの束状繊維について行い、これを母集団とした標準偏差値および平均値を算出し、該平均値を平均繊度とする。なお、束状の極細繊維が存在しない場合は、極細繊維３００本の繊維径を測定し、同様に平均値を計算するものである。該平均値を平均繊度とし、該標準偏差値を該平均値で割った値を百分率（％）で表したものを繊度ＣＶとする。繊維束を繊度ＣＶが１０％以下とすることで、研磨布表面における低繊度繊維と高繊度繊維との剛性差に起因する立毛繊維の分布の偏りを抑制できるとともに、砥粒分散及び押しつけ力の均一性が得られ、スクラッチ欠点を抑制できるため好ましい。所望の繊度ＣＶを得るには、極細繊維発生型繊維の中でも、上記（１）〜（３）の方法では、島成分の繊維径の内外周差が大きく、前記繊度ＣＶ値を達成できないばかりか、部分的に極細繊維同士が接着した束状となることもあるため、好ましくない。繊度の均一な極細繊維を得るためには、上記（４）の高分子相互配列体方式による海島型複合繊維が好ましい。
【００１６】
なお、海島型複合繊維中の島数は２００〜１０００が好ましい。１０００以下とすることで、口金加工性および安定した紡糸性を得ることができる。また、２００以上とすることで、極細繊維としても高い生産性を保つことができ、表面繊維の開繊性、分散性が得られるため好ましい。紡糸性、生産性を考慮した場合、さらに好ましくは３００〜５００の範囲である。
【００１７】
海島型複合繊維を構成する樹脂としては、極細繊維を発生可能な２種類以上の樹脂の組合せが挙げられ、ポリアミド系、ポリエステル系、ポリオレフィン系等が用いられる。ポリアミド系としてはナイロン６（Ｎ６）、ナイロン６６、ナイロン１２および共重合ナイロンなどのポリアミド類、ポリエステル系としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリトリメチレンテレフタレート、共重合ポリエステルなどの芳香族ポリエステル、ポリ乳酸（ＰＬＡ）、乳酸共重合体およびポリグリコール酸などの脂肪酸ポリエステル系重合体類や脂肪酸ポリエステルアミド系重合体類などの脂肪族ポリエステル類が挙げられる。ポリオレフィン系としては、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリスチレンおよび共重合ポリスチレンなどを用いることができる。
【００１８】
このうち、島成分（極細繊維成分）として、吸水特性及び耐摩耗性の観点から、ポリアミド系が好適に用いられる。中でも、Ｎ６、ナイロン６６、ナイロン１２および共重合ナイロン等のポリアミド類は、スラリー液との親和性が特に良好であり、スラリー液中の研磨砥粒の保持性と分散性に優れ、被研磨物に傷をつけることなく研磨することができる為、より好適に用いられる。
【００１９】
海島型複合繊維の海成分を構成する樹脂としては、島成分を構成するポリマーであるポリアミド樹脂よりも溶解性や分解性の高い化学的性質を有するという点から、ＰＥ、ポリプロピレン、ポリスチレン、共重合ポリスチレン、イソフタル酸やポリエチレングリコールなどを共重合成分とした共重合ポリエステルおよびＰＬＡなどを好適に用いることができる。
【００２０】
海成分を溶解する溶剤としては、海成分がＰＥ、ポリプロピレン、ポリスチレンおよび共重合ポリスチレンの場合は、トルエンやトリクロロエチレンなどの有機溶剤が用いられ、また海成分が共重合ポリエステルやＰＬＡの場合は、水酸化ナトリウムなどのアルカリ水溶液を用いることができ、溶剤中に海島型複合繊維（不織布）を浸漬し、窄液を行うことによって、海成分を除去することができる。特に、ニードルパンチしたときの繊維の高絡合化による表面繊維の高密度化が可能なこと、ならびに、溶解時にトルエンやトリクロロエチレン等の有機溶剤を使用しないこと、原料が植物由来であり環境対応型ポリマーであることからＰＬＡが好ましく使用される。
【００２１】
また、このときの海／島成分比は、島繊維の海島型複合繊維に対する重量比で０．２〜０．９であることが好ましく、より好ましくは０．３〜０．８の範囲である。該成分比を０．２以上とすることで、海成分除去による生産性の著しい低下を招くことなく、コスト的にも好ましい。また、成分比を０．９以下とすることで、島成分繊維の開繊性、分散性に優れ、均一な立毛面を得ることができるため好ましい。
【００２２】
また、海島型複合繊維を用いた場合、不織布に弾性重合体を付与した後、外周部分の海成分（易溶性成分）を除去することで、極細繊維束と弾性重合体の間に隙間を形成することができ、弾性重合体と極細繊維束の最外周に存在する繊維とが、実質的に接着していない構造を形成させることができるため好ましい。また、上記の手法以外に、不織布に水溶性樹脂を付与して海島型複合繊維を保護した後、弾性重合体を含浸付与し、水溶性樹脂を除去する方法を採用することもできる。
【００２３】
本発明の研磨布は、表面に露出した単繊維繊度０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘのポリアミド極細繊維間の交差点が、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて２０００倍にて観察し、該極細繊維が５０本以上存在する０．０１ｍｍ２の範囲１０ヶ所を任意に抽出したとき、平均で１５０ヶ所以上存在することが好ましい。ここで表面繊維の分散性は以下の方法で求めることができる。すなわち、極細繊維を含む研磨布の表面をＳＥＭで観察、加速電圧２０ｋＶ、ワーキングディスタンス８ｍｍ、倍率２０００倍で撮影した研磨布の表面写真において、該極細繊維が５０本以上存在する０．０１ｍｍ２の範囲を無作為に抽出し、研磨布の表面に露出した単繊維繊度が０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘの（Ｎ６では約０．１〜１．４μｍの単繊維直径を有する）極細繊維の繊維間の交差点をカウントする。合計１０枚以上の表面写真を測定し、各写真についてカウントを行い、１０ヶ所の平均を求め小数点第一位で四捨五入するものである。このとき、表面にポリウレタンなどの弾性重合体が露出し、極細繊維が存在しない部分や、ニードルパンチ等により大きな穴を形成している部分は避け、判定に用いないものとする。ここでいう極細繊維間の交差点とは、分散した極細繊維１本１本間の交差点であり、交差角の鋭角が２０°以上である交差点である。繊維が部分的に合流している箇所や、交差せずに並行している部分、フィブリル化した部分は除くものとする。また、極細繊維が２本以上凝集して形成される束同士の交差点、あるいは束状部分と極細繊維１本の間の交差点もカウントしない。なお、極細繊維が数百本単位で凝集した束の表面で、部分的に分散した極細繊維間の交差点についてはカウントするものとする。
【００２４】
ここで、表面の極細繊維間の交差点は１５０ヶ所以上存在することが好ましく、より好ましくは２００ヶ所以上である。極細繊維が表面に分散することで、従来の束状の極細繊維では達成し得なかった極めて緻密な表面状態と、優れた平滑性が得られるからである。
【００２５】
本発明において、ポリアミド極細繊維の交差点数を上記範囲とするためには、極細繊維発生型繊維不織布と弾性重合体とからなるシート状物の少なくとも片面に、極細繊維発生型繊維からなる立毛面を形成させた後に、易溶性成分溶解溶媒などにより湿潤した状態で極細繊維化することが好ましい。極細繊維発生型繊維からなる立毛部分が表面に分散した状態で、極細繊維化が起こり、極細化の工程で表面に分散し、これを乾燥せしめることで、研磨布の表面を覆うようにして分散させることができる。なお、該極細化の加工において、研磨布に液流染色機を用いたもみ加工などの物理的刺激を付与することにより、極細繊維の分散性が向上するため好ましい。該工程を行うことで極細繊維が一方向に配列せず、極細繊維間の交差点が著しく増えるのである。
【００２６】
本発明でいう不織布は短繊維をカード、クロスラッパーなどを用いて幅方向に配列させた積層ウェブを形成させた後にニードルパンチあるいはウォータジェットパンチ処理などの絡合処理を施して得られる短繊維不織布が好ましく用いられる。
【００２７】
本発明で用いる弾性重合体は特に限定はないが、例えば、ポリウレア、ポリウレタン・ポリウレアエラストマー、ポリアクリル酸樹脂、アクリロニトリル・ブタジエンエラストマー、スチレン・ブタジエンエラストマーなどを用いることができるが、中でもポリウレタン、ポリウレタン・ポリウレアエラストマーなどのポリウレタン系エラストマーが好ましい。
【００２８】
ポリウレタンは、ポリオール成分にポリエステル系、ポリエーテル系、ポリカーボネート系のジオール、もしくはこれらの共重合物を用いることができる。また、ジイソシアネート成分としては、芳香族ジイソシアネート、脂環式イソシアネート、脂肪族系イソシアネートなどを使用することができる。ポリウレタンの重量平均分子量は５０，０００〜３００，０００が好ましく、より好ましくは１００，０００〜２５０，０００である。重量平均分子量を５０，０００以上とすることにより、得られるシート状物の強度を保持し、また極細繊維の脱落を防ぐことができる。また、３００，０００以下とすることで、ポリウレタン溶液の粘度の増大を抑えて不織布への含浸を行いやすくすることができる。
【００２９】
また、弾性重合体は、主成分としてポリウレタンを用いることが好ましいが、バインダーとして性能や立毛繊維の均一分散状態を損なわない範囲で、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリオレフィン系などのエラストマー樹脂、アクリル樹脂、エチレン−酢酸ビニル樹脂などが含まれていても良く、必要に応じて着色剤、酸化防止剤、帯電防止剤、分散剤、柔軟剤、凝固調整剤、難燃剤、抗菌剤、防臭剤などの添加剤が配合されていてもよい。
【００３０】
本発明において、弾性重合体の付与量は、研磨布表面繊維の緻密性、クッション性などを考慮し、固形分として対極細繊維重量比で１０〜２００重量％の範囲が好ましい。好ましくは２０〜１００重量％の範囲であり、より好ましくは３０〜８０重量％の範囲である。
【００３１】
本発明の研磨布をテープ状としてテクスチャー加工を施す際に、大きな寸法変化が生じると、基板表面を均一に研磨することができないため、研磨布の形態安定性の点から、本発明に用いられる研磨布の目付は１００〜１０００ｇ／ｍ２であることが好ましく、１５０〜６００ｇ／ｍ２であることがより好ましく、さらに好ましくは１５０〜４００ｇ／ｍ２の範囲である。また、同様の観点から本発明の研磨布は厚みが０．１〜５ｍｍの範囲が好ましく、０．２〜２ｍｍの範囲がより好ましい。
【００３２】
なお、本発明の研磨布の見掛け密度については、均一な加工性を得るために０．２〜０．６ｇ／ｃｍ３の範囲が好適であり、より好ましくは０．３〜０．５ｇ／ｃｍ３の範囲である。
【００３３】
本発明の研磨布の目付はＪＩＳ Ｌ １０９６ ８．４．２（１９９９）に準拠して測定した。また、見掛け密度については、研磨布の厚みをダイヤルシックネスゲージ（（株）尾崎製作所製、商品名”ピーコックＨ”）にて任意の１０点を測定し、平均値を算出し、目付を該厚みで除することにより算出した。
【００３４】
本発明では、スクラッチ欠点及びリッジ欠点の抑制の点から、研磨布中に含まれる金属あるいは金属化合物の含有量は、研磨布の総重量に対する金属元素の重量として１００ｐｐｍ以下であることが好ましく、３０ｐｐｍ以下であることがより好ましく、全く含有していないことが更に好ましい。１００ｐｐｍ以下であれば、金属あるいは金属化合物が基板表面に接触することによる、スクラッチ欠点及びリッジ欠点の発生を抑制できるため、好ましい。
【００３５】
研磨布中に含まれる金属あるいは金属化合物の例としては、鉄、酸化鉄、繊維ポリマーの添加剤として用いられる二酸化チタンなどが挙げられる。
【００３６】
更に、テクスチャー加工時のテープ伸びによる加工ムラ、スクラッチ欠点の発生を抑える点から、研磨布の極細繊維を有する面の裏面に補強層を接着する方法が好適に用いられる。
【００３７】
補強層としては、織編物や熱接着繊維を用いた不織布、フィルム状物を用いることが好ましい。中でも、高精度のテクスチャー加工を行うには、厚みや物理特性において均一なフィルム状物を使用することがより好ましい。
【００３８】
ここでいうフィルムとなる素材としては、ポリオレフィン系、ポリエステル系およびポリフェニルサルファイド系などのフィルム形状を有するものであれば使用可能である。汎用性を考えた場合、ポリエステルフィルムを使用することが好ましい。フィルムからなる補強層を設ける場合には、テクスチャー加工時の研磨布の形態安定性、クッション性および基板表面へのフィット性を全て満足させる必要があるため、不織布からなるシート状物との厚みバランスをとることが重要である。不織布からなるシート状物の仕上がり厚みとしては０．２ｍｍ以上であることが好ましく、生産性の点からより好ましくは０．２〜２．０ｍｍの範囲である。そのため、フィルムの厚みは２０〜１００μｍとすることが好ましい。不織布からなるシート状物の厚みが０．２ｍｍ未満の場合、テクスチャー加工時の寸法変化を抑えるため補強層が必要である。一方、フィルム層の厚みが２０μｍ未満であると、テクスチャー加工時の寸法変化を抑えられず、１００μｍを超えると、研磨布全体の剛性が高くなりすぎ、結果としてスクラッチなどの発生を抑えることができないため好ましくない。
【００３９】
次に、本発明の研磨布の製造方法について詳細に記述する。
【００４０】
本発明の研磨布は、少なくとも下記工程（１）〜（３）を組み合わせることにより得られる。すなわち、
（１）平均単繊維繊度が０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘに極細化可能なポリアミドを島成分、脂肪族ポリエステルを易溶性成分とする海島型複合繊維を用いて不織布を作製する工程、
（２）該不織布に弾性重合体を極細化後の極細繊維重量に対し１０〜２００重量％付与し、少なくとも片面にバッフィング処理を施す工程、
（３）該不織布に極細化処理を行う工程、
である。
【００４１】
本発明の研磨布を構成する不織布を得る方法としては、海島複合紡糸により得られた海島複合繊維を短繊維とし、該短繊維をカード、クロスラッパーなどを用いて幅方向に配列させ積層ウェブを形成させた後にニードルパンチあるいはウォータジェットパンチ処理などの絡合処理を施して得られる短繊維不織布が好ましく用いられる。
【００４２】
ニードルパンチ処理のパンチング本数としては、繊維の高絡合化による緻密な表面状態の達成の観点から１０００〜６０００本／ｃｍ２であることが好ましい。１０００本／ｃｍ２以上とすることで表面繊維の緻密化を達成し、所望の高精度の仕上げが可能となり、６０００本／ｃｍ２以下とすることで、加工性の悪化、繊維損傷により強度低下を抑えることができる。なお、ニードルパンチング後の複合繊維不織布の繊維密度は、表面繊維本数の緻密化の観点から、０．１５〜０．３５ｇ／ｃｍ３の範囲であることが好ましい。
【００４３】
ウオータージェットパンチング処理を行う場合には、水は柱状流の状態で行うことが好ましい。柱状流を得るには、通常、直径０．０５〜１．０ｍｍのノズルから圧力１〜６０ＭＰａで噴出させる方法が好適に用いられる。効率的な絡合と均一な表面を得るために、ノズルの直径は０．０５〜０．２０ｍｍ、ノズルの間隔は５ｍｍ以下であることが好ましい。
【００４４】
このようにして得られた不織布は、緻密化の観点から、乾熱または湿熱、あるいはその両者によって収縮させ、さらに高密度化することが好ましい。
【００４５】
本発明の研磨布は、前記不織布シートを極細繊維化処理する前および／または後に、ポリウレタンを主成分とする弾性重合体を付与させることにより得ることができる。かかる弾性重合体は、表面凹凸や振動吸収のためのクッション、繊維形態保持などの役割を有し、極細不織布の内部空間に弾性重合体を充填し一体化させることにより、被研磨物へのフィット性および被研磨物表面の傷の抑制効果に優れるものである。
【００４６】
かかるポリウレタンの不織布への付与方法としては、ポリウレタンを塗布、あるいは含浸後凝固させる方法などを適宜採用することができるが、中でも加工性の点から、不織布中にポリウレタン溶液を含浸した後に、湿式凝固させる方法が好ましく使用される。
【００４７】
使用する弾性重合体については前述の通りであるが、弾性重合体を付与させる際に用いる溶媒としてはＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等を好ましく用いることができる。また、水中にエマルジョンとして分散させた水系ポリウレタンを用いてもよい。溶媒に溶解した弾性重合体溶液に不織布を浸漬する等して弾性重合体を不織布に付与し、その後、乾燥することによって弾性重合体を実質的に凝固し固化させる。乾燥にあたっては不織布及び弾性重合体の性能が損なわない程度の温度で加熱してもよい。
弾性重合体には必要に応じて着色剤、酸化防止剤、帯電防止剤、分散剤、柔軟剤、凝固調整剤、難燃剤、抗菌剤、防臭剤などの添加剤が配合されていてもよい。
【００４８】
本発明の研磨布において、極細繊維が研磨布の表面で分散した状態となるためには、極細繊維発生型繊維不織布と弾性重合体とからなるシート状物の少なくとも片面に、極細繊維発生型繊維からなる立毛面を形成させた後に、極細繊維化することが好ましい。極細繊維発生型繊維からなる立毛部分が表面に分散した状態で、極細繊維化が起こり、極細化の工程で表面に分散し、これを乾燥せしめることで、研磨布の表面を覆うようにして分散させることができるからである。なお、該極細化工程は極細繊維分散化の観点から、脱海溶媒などの液体を用いて湿潤状態で行うことが好ましい。
【００４９】
本発明でいう研磨布の立毛は、例えばバッフィング処理により得られる。ここでいうバッフィング処理とは、サンドペーパーやロールサンダーなどを用いて表面を研削する方法などにより施すのが一般的である。特に、表面をサンドペーパーにより、起毛処理することにで均一かつ緻密な立毛を形成することができるため好ましい。さらに、研磨布の表面に均一な立毛を形成させるためには、研削負荷を小さくすることが好ましい。研削負荷を小さくするためには、バフ段数、サンドペーパー番手などを適宜調整することが好ましい。中でも、バフ段数は３段以上の多段バッフィングとし、各段に使用するサンドペーパーの番手をＪＩＳ規定の１５０番〜６００番の範囲とすることがより好ましい。
【００５０】
また、起毛加工後に、フラットロールなどを用い８０〜２００℃の温度にて厚みを０．１〜０．９倍に圧縮することにより研磨布の全体密度、表面繊維密度を向上させることができる。該圧縮加工は、乾燥、湿潤いずれの状態でも実施可能であるが、乾燥状態であると、表面繊維のロールへの接着、表面部分のみの融着を引き起こす場合があるため、該加工は湿潤状態で行うことが好ましい。湿潤状態では熱伝導率が乾燥状態対比高く、結果として研磨布全体を均一に圧縮できるため好ましい。
次に海島型複合繊維から極細繊維を発現せしめる方法、すなわち、極細繊維発生加工は、除去する成分（易溶解性ポリマーからなる海成分）の種類によって異なるが、ＰＥやポリスチレン等のポリオレフィンであれば、トルエンやトリクロロエチレン等の有機溶媒、ＰＬＡや共重合ポリエステルであれば、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液で浸漬・窄液を行う方法を好ましく用いることができる。
【００５１】
また、極細繊維発生加工の際に極細繊維を研磨布表面に分散させ、本発明の研磨布表面の緻密化、平滑化を達成するためには、極細繊維発生加工中、もしくは発生加工後、乾燥させることなしに、処理液中にて湿潤状態で物理的刺激を加えることが好ましい。物理的刺激を加える方法としては特に限定されるものではないが、液流染色機、ウィンス染色機、ジッガー染色機、タンブラー、リラクサー等を用いた揉み処理、ウオータージェットパンチング処理などの高速流体流処理や、超音波処理による振動等を適宜組み合わせて実施してもよい。なお、極細繊維発生加工の後、乾燥後に揉み加工を行った場合、繊維の分散性が充分ではなく、また表面繊維間にもつれ、ピリング等が生じやすい為、好ましくない。
【００５２】
本発明の研磨布に補強層を接着する方法としては、熱圧着法、フレームラミ法、補強層とシート状物との間に接着層を設けるいずれの方法を採用してもよく、接着層としては、ポリウレタン、スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）、ニトリルブタジエン（ＮＢＲ）、ポリアミノ酸およびアクリル系接着剤などゴム弾性を有するものが使用可能である。コストや実用性を考えると、ＮＢＲやＳＢＲのような接着剤が好ましい。接着剤の付与方法としては、エマルジョンや、ラテックス状態でシート状物に塗布する方法が好適に用いられる。
【００５３】
本発明の研磨布を用いて、テクスチャー加工を行う方法としては、かかる研磨布を加工効率と安定性の観点から、３０〜５０ｍｍ幅のテープ状にカットして、テクスチャー加工用テープとして用いる。
【００５４】
該テクスチャー加工用テープと遊離砥粒を含むスラリーとを用いて、アルミニウム合金磁気記録ディスクのテクスチャー加工を行う方法が好適な方法である。研磨条件として、スラリーは、ダイヤモンド微粒子などの高硬度砥粒を水系分散媒に分散したものが好ましく用いられる。中でも、砥粒の保持性、分散性、スクラッチ抑制、表面粗さ低減の観点から、本発明の研磨布を構成する極細繊維に適合した砥粒は、単結晶ダイヤモンドからなり、１次粒子径が１〜２０ｎｍであることが好ましく、１〜１０ｎｍであることがより好ましい。テクスチャー痕の凹凸の鋭角化を図る点から、更に該ダイヤモンド粒子はクラスター化していることが好ましく、該クラスター径は１００〜８００ｎｍが好ましく、１００〜６００ｎｍであることがより好ましい。
【実施例】
【００５５】
以下、実施例により、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。また実施例で用いた評価法とその測定条件について、以下に説明する。なお、測定条件については、特に記載のない限り、室温（２５℃）、湿度６０％にて実施するものとする。
【００５６】
（１）ポリマーの粘度ＭＦＲ（メルトフローレート：ｇ／１０ｍｉｎ）
ＡＳＴＭ Ｄ１２３８（測定荷重２．１６ｋｇ荷重）に基づいて測定を行い、各試料につき１０回の測定を実施し、平均値を小数点以下第一位を四捨五入したものを、それぞれのポリマーのＭＦＲとした。
【００５７】
（２）融点
パーキンエルマー社（Ｐｅｒｋｉｎ Ｅｌｍａｅｒ）製ＤＳＣ−７を用いて２ｎｄ ｒｕｎでポリマーの溶融を示すピークトップ温度をポリマーの融点とした。このときの昇温速度は１６℃／分、サンプル量は１０ｍｇとした。
【００５８】
（３）平均単繊維繊度及び繊度ＣＶ
研磨布を厚み方向にカットした断面を観察面として走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、または透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により観察し、極細繊維束が存在する場合には束状繊維の１つの束内を構成する極細繊維の繊維径を測定し、各極細繊維について繊維成分の比重と繊維径から繊度を算出する。同様の測定を合計５つの束状繊維について行い、これを母集団とした標準偏差値および平均値を算出し、該平均値を平均繊度とした。なお、束状の極細繊維が存在しない場合は、極細繊維３００本の繊維径を測定し、同様に平均値を計算するものである。該平均値を平均繊度とし、該標準偏差値を該平均値で割った値を百分率（％）で表したものを繊度ＣＶとした。
ＴＥＭ装置 ： （株）日立製作所製 Ｈ−７１００ＦＡ型
ＳＥＭ装置 ： （株）キーエンス社製 ＶＥ−７８００型
（４）極細繊維の分散性（交差点数）
極細繊維を含む研磨布の表面を（株）キーエンス社製 ＶＥ−７８００型ＳＥＭで観察、加速電圧２０ｋＶ、ワーキングディスタンス８ｍｍ、倍率２０００倍で撮影し、該極細繊維が５０本以上存在する０．０１ｍｍ２の範囲を無作為に抽出し、研磨布表面に露出した０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘの繊度を有する極細繊維の繊維間の交差点をカウントした。合計１０枚以上の表面写真を測定し、各写真についてカウントを行い、１０ヶ所の平均を求め小数点第一位で四捨五入するものである。このとき、表面にポリウレタンなどの高分子弾性体が露出し、極細繊維が存在しない部分や、ニードルパンチ等により大きな穴を形成している部分は避け、判定に用いないものとする。ここでいう極細繊維間の交差点とは、分散した極細繊維１本１本間の交差点であり、交差角の鋭角が２０°以上である交差点である。繊維が部分的に合流している箇所や、交差せずに並行している部分、フィブリル化した部分は除くものとする。また、極細繊維が２本以上凝集して形成される束同士の交差点、あるいは束状部分と極細繊維１本の間の交差点もカウントしない。なお、極細繊維が数百本単位で凝集した束の表面で、部分的に分散した極細繊維間の交差点についてはカウントするものとする。
【００５９】
シート状物（研磨布）の表面０．０１ｍｍ２中に平均で１５０ヶ所以上存在した場合を、分散性良好とした。
【００６０】
（５）目付
ＪＩＳ Ｌ １０９６ ８．４．２（１９９９）に準拠して測定した。
【００６１】
（６）見掛け密度
研磨布の厚みをダイヤルシックネスゲージ（（株）尾崎製作所製、商品名”ピーコックＨ”）にて任意の１０点を測定し、平均値を算出した。（５）にて得られた目付を、該厚みで除することにより、見掛け密度を算出した。
【００６２】
（７）基板表面粗さ
原子間力顕微鏡ＡＦＭ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製ＮａｎｏＳｃｏｐｅ IIIａＡＦＭ Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ３０００ステージシステム）を用いて、テクスチャー加工後のディスク基板サンプル５枚の両面、すなわち計１０表面の各々について、任意の１０カ所（１カ所あたりの観察領域はディスク表面上の径方向５μｍ×周方向５μｍの領域である）を抽出した。次いで、該１０カ所の各々について１点、ディスクの厚み方向における横軸を径方向とした断面プロファイルを任意に抽出し、得られた断面プロファイル各々について、ＪＩＳ Ｂ ０６０１（２００１年版）に準拠して、算術平均粗さＲａを算出する。得られた１０表面×１０点＝合計１００点の測定値を平均することにより基板表面粗さを算出した。数値が低いほど高性能であることを示す。
【００６３】
（８）スクラッチ点数
テクスチャー加工後の基板５枚の両面、すなわち計１０表面の全領域を測定対象として、Ｃａｎｄｅｌａ５１００光学表面分析計を用いて、深さ２ｎｍ以上の溝をスクラッチとし、スクラッチ点数を測定し、１０表面の測定値の平均値を小数点以下第一位で四捨五入し評価した。数値が低いほど高性能であることを示す。
【００６４】
（９）リッジ点数
原子間力顕微鏡ＡＦＭを用いて、テクスチャー加工後の基板サンプル表面の任意の１０カ所（１カ所あたりの観察領域はディスク表面上の径方向５μｍ×周方向５μｍの領域である）について、高さ５ｎｍ以上の突起をリッジとして、その個数を測定し、その合計点数をリッジ点数とした。
【００６５】
（１０）ラインデンシティ
原子間力顕微鏡ＡＦＭを用いて、テクスチャー加工後の基板サンプル表面の任意の１０カ所について、半径方向長さ１μｍあたりに形成されているテクスチャー痕の本数を測定し、その平均値を小数点以下第一位で四捨五入し、ラインデンシティ（テクスチャー痕の線密度）とした。数値が大きいほど高性能であることを示す。
【００６６】
（実施例１）
融点２２０℃、２７０℃におけるＭＦＲが９２ｇ／１０ｍｉｎのＮ６を島成分、融点１７０℃、２３０℃におけるＭＦＲが４３ｇ／１０ｍｉｎのポリ（Ｌ−乳酸）（ＰＬＡ、光学純度９９．５％以上）を海成分とし、Ｎ６は２７０℃、ＰＬＡは２３０℃でそれぞれプレッシャーメルターにて溶融し、口金温度２４５℃にて、島本数３７６島／ホールの高分子相互配列体方式の海島型複合口金を用いて、島／海重量比率４０／６０にて紡糸速度１０００ｍ／分にて溶融紡糸した後、液浴中で３．０倍に延伸、捲縮、カットを経て、繊度５．０ｄｔｅｘの海島型複合繊維の原綿を得た。
【００６７】
この海島型複合繊維の原綿を用いて、カード、クロスラッパー工程を経て積層ウェブを形成し、ついで１バーブのニードルを植込んだニードルパンチ機にて針深度７ｍｍにて３０００本／ｃｍ２のパンチ本数でニードルパンチし、目付６２０ｇ／ｍ２、見掛け密度０．２２ｇ／ｃｍ３の複合繊維不織布を作製した。この不織布を９５℃で熱水収縮させた後、ポリビニルアルコールを繊維重量に対し２０重量％付与後、乾燥させた。
この不織布にポリウレタン（ポリマージオールのポリエステル：ポリエーテル比率が７５：２５）を１２％に調整したＤＭＦ溶液に含浸、ニップロールで窄液し、繊維重量に対して固形分で２０重量％のポリウレタンを付与し、液温３５℃の３０％ＤＭＦ水溶液でポリウレタンを凝固させ、約８５℃の熱水でＤＭＦを除去した。
【００６８】
次いでサンドペーパー番手が２４０番のエンドレスサンドペーパーを用いて３段バッフィングを施し、立毛面を形成させ、最後に、液流染色機（ユニエースＦＬＲ型）にて８０ｍｍのノズルを用い、浴比１／２７において、３％の水酸化ナトリウム水溶液を用いて８０℃で４５分間処理し、海成分であるＰＬＡを溶出させた後、８０℃で乾燥し、Ｎ６からなる極細繊維を発生させ、厚さ１．１２ｍｍ、目付４１０ｇ／ｍ２、見掛け密度０．３７ｇ／ｃｍ３の研磨布を得た。
【００６９】
得られた研磨布を構成する極細繊維の平均単繊維繊度は０．００５ｄｔｅｘ、繊度ＣＶ８％、表面繊維交差点は２６８ヶ所であり表面分散性は良好であった。
【００７０】
該研磨布を４０ｍｍ幅のテープとし、以下の条件でテクスチャー加工を行った。
【００７１】
アルミニウム基板にＮｉ−Ｐメッキ処理した後、ポリッシング加工し平均表面粗さ０．２ｎｍに制御したディスクを用い、研磨布表面に１次粒子径１〜１０ｎｍのダイヤモンド結晶からなる遊離砥粒スラリーを１５ｍｌ／分の供給量で滴下し、ディスクの回転数を４００ｒｐｍ、テープのディスクへの押付圧を２．５ｋｇ／ｃｍ２、テープ走行速度を５ｃｍ／分の条件で１５秒間研磨を実施した。
テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．１５ｎｍ、スクラッチ点数は１８、リッジ点数は０、ラインデンシティは２４本／μｍ幅であり、緻密でかつ均一なテクスチャー痕が形成された加工面であって、加工性も良好であった。また、テクスチャー加工後に磁性層を成膜した基板は、電磁変換特性に極めて優れるものであった。
【００７２】
（実施例２）
紡糸口金に２００島／ホールを用いたこと以外は、実施例１と同様にして、厚さ１．１１ｍｍ、目付４００ｇ／ｍ２、見掛け密度０．３６ｇ／ｃｍ３の研磨布を得た。
【００７３】
得られた研磨布を構成する極細繊維の平均単繊維繊度は０．０１ｄｔｅｘ、繊度ＣＶ８％、表面繊維交差点は２１４ヶ所であり表面分散性は良好であった。
【００７４】
該研磨布を４０ｍｍ幅のテープとし、実施例１の条件でテクスチャー加工を行った。
テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．１７ｎｍ、スクラッチ点数は２２、リッジ点数は１、ラインデンシティは１９本／μｍ幅であり、緻密でかつ均一なテクスチャー痕が形成された加工面であって、加工性も良好であった。また、テクスチャー加工後に磁性層を成膜した基板は、電磁変換特性に極めて優れるものであった。
【００７５】
（実施例３）
バッフィング後に、シートを水により湿潤させ、ロール温度１２０℃のスチール製のフラットロールにて、厚み（クリアランス）０．７０ｍｍに圧縮した以外は、実施例１と同様にして、厚さ０．９５ｍｍ、目付４０５ｇ／ｍ２、見掛け密度０．４３ｇ／ｃｍ３の研磨布を得た。
【００７６】
得られた研磨布を構成する極細繊維の平均単繊維繊度は０．００５ｄｔｅｘ、繊度ＣＶ８％、表面繊維交差点は２５９ヶ所であり表面分散性は良好であった。
【００７７】
該研磨布を４０ｍｍ幅のテープとし、実施例１の条件でテクスチャー加工を行った。
【００７８】
テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．１６ｎｍ、スクラッチ点数は２０、リッジ点数は１、ラインデンシティは２５本／μｍ幅であった。また、テクスチャー加工後に磁性層を成膜した基板は、電磁変換特性に極めて優れるものであった。研磨布を０．４３ｇ／ｃｍ３と高密度化することにより、研磨性能が向上した。
【００７９】
（比較例１）
極細繊維発生型不織布にポリウレタンを付与後、ＰＬＡを溶出させ、最後にバッフィング処理を施した以外は、実施例１と同様の条件で行い、厚さ１．１０ｍｍ、目付４１０ｇ／ｍ２、見掛け密度０．３７ｇ／ｃｍ３の研磨布を得た。
【００８０】
得られた研磨布を構成する極細繊維の平均単繊維繊度は０．００５ｄｔｅｘ、繊度ＣＶ８％であった。該研磨布は最後に起毛処理を行っているため、表面繊維が一方向にそろった状態となっており、表面繊維交差点は７５ヶ所であった。
【００８１】
該研磨布を４０ｍｍ幅のテープとし、実施例１の条件でテクスチャー加工を行った。
【００８２】
テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．１７ｎｍ、スクラッチ点数は２０、リッジ点数は０、ラインデンシティは１３本／μｍ幅であった。表面繊維が一方向にそろっているため、砥粒を適切に把持できず、結果としてラインデンシティの低いものであった。
【００８３】
（比較例２）
島成分として実施例１で用いたＮ６を４０重量％、海成分として融点１７０℃、２３０℃におけるＭＦＲが１２９ｇ／１０ｍｉｎのポリ（Ｌ−乳酸）（ＰＬＡ、光学純度９９．５％以上）を６０重量％、チップブレンドにて紡糸温度２４５℃の条件で紡糸速度１０００ｍ／分にて溶融紡糸した後、液浴中で２．８倍に延伸、捲縮、カットを経て、繊度４．１ｄｔｅｘの海島型複合繊維の原綿を得た。
【００８４】
該原綿を用いて実施例１と同様の条件で加工を行い、厚さ１．１４ｍｍ、目付４２０ｇ／ｍ２、見掛け密度０．３７ｇ／ｃｍ３の研磨布を得た。
【００８５】
得られた研磨布を構成する極細繊維の平均単繊維繊度は０．００１ｄｔｅｘであったが、繊度ＣＶ３２％とバラツキの大きいものであった。表面繊維交差点は１５４ヶ所であった。
【００８６】
該研磨布を４０ｍｍ幅のテープとし、実施例１の条件でテクスチャー加工を行った。
【００８７】
テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．２５ｎｍ、スクラッチ点数は３４、リッジ点数は１、ラインデンシティは１５本／μｍ幅であった。繊度ＣＶが３２％と高いために、表面粗さ、スクラッチ点数が高いものであった。
【００８８】
（比較例３）
紡糸口金に３６島／ホールを用いたこと以外は、実施例１と同様にして、厚さ１．１０ｍｍ、目付３９０ｇ／ｍ２、見掛け密度０．３５ｇ／ｃｍ３の研磨布を得た。
【００８９】
得られた研磨布を構成する極細繊維の平均単繊維繊度は０．１５ｄｔｅｘ、繊度ＣＶ８％、表面繊維交差点は１２５ヶ所であり表面分散性は良好であった。
【００９０】
該研磨布を４０ｍｍ幅のテープとし、実施例１の条件でテクスチャー加工を行った。
【００９１】
テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．２４ｎｍ、スクラッチ点数は４０、リッジ点数は０、ラインデンシティは９本／μｍ幅であった。繊度が０．１５ｄｔｅｘと太いために表面粗さ、スクラッチ点数が高く、またラインデンシティも低いものであった。
【００９２】
（比較例４）
融点２１０℃、２７０℃におけるＭＦＲが４５ｇ／１０ｍｉｎのイソフタル酸を１０ｍｏｌ％共重合したＰＢＴを島成分に用いたこと以外は、実施例１と同様にして、厚さ１．０９ｍｍ、目付３９５ｇ／ｍ２、見掛け密度０．３６ｇ／ｃｍ３の研磨布を得た。
【００９３】
得られた研磨布を構成する極細繊維の平均単繊維繊度は０．００５ｄｔｅｘ、繊度ＣＶ８％、表面繊維交差点は２５４ヶ所であり表面分散性は良好であった。
【００９４】
該研磨布を４０ｍｍ幅のテープとし、実施例１の条件でテクスチャー加工を行った。
テクスチャー加工後のディスクは、表面粗さが０．２２ｎｍ、スクラッチ点数は７２、リッジ点数は３、ラインデンシティは２３本／μｍ幅であった。極細繊維にポリアミドでなくＰＢＴを用いたためにスクラッチ点数、リッジ点数が高いものであった。
【００９５】
【表１】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平均単繊維繊度が０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘかつ繊度ＣＶが１〜１０％の範囲であるポリアミド極細繊維および／または該極細繊維からなる極細繊維束が絡合してなる不織布と弾性重合体とで構成されるシート状物からなる研磨布であって、表面に露出した単繊維繊度０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘの極細繊維間の交差点が、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて２０００倍にて観察し、該極細繊維が５０本以上存在する０．０１ｍｍ２の範囲１０ヶ所を任意に抽出したとき、平均で１５０ヶ所以上存在することを特徴とする研磨布。
【請求項２】
前記ポリアミド極細繊維が極細繊維発生型繊維から得られたものであり、該極細繊維発生型繊維の少なくとも一成分が脂肪族ポリエステルであることを特徴とする請求項１に記載の研磨布。
【請求項３】
前記肪族ポリエステルがポリ乳酸であることを特徴とする請求項２に記載の研磨布。
【請求項４】
前記ポリアミド極細繊維がナイロン６であることを特徴とする請求項１に記載の研磨布。
【請求項５】
前記弾性重合体がポリウレタンであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の研磨布。
【請求項６】
前記ポリアミド極細繊維束中の極細繊維が２００〜１０００本／束であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の研磨布。
【請求項７】
前記弾性重合体と前記極細繊維束の最外周に存在する繊維とが、実質的に接着していないことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の研磨布。
【請求項８】
目付が１００〜１０００ｇ／ｍ２であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の研磨布。
【請求項９】
見掛け密度が０．２〜０．６ｇ／ｃｍ３であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の研磨布。
【請求項１０】
片面に補強層が積層されていることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の研磨布。
【請求項１１】
下記工程（１）〜（３）、
（１）平均単繊維繊度が０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘに極細化可能なポリアミドを島成分、脂肪族ポリエステルを易溶性成分とする海島型複合繊維を用いて不織布を作製する工程、
（２）該不織布に弾性重合体を極細化後の極細繊維重量に対し１０〜２００重量％付与し、少なくとも片面にバッフィング処理を施す工程、
（３）該不織布に極細化処理を行う工程、
を少なくとも行うことを特徴とする研磨布の製造方法。
【請求項１２】
前記海島型複合繊維が、２００〜１０００島を有する海島型口金を用いた複合紡糸によって得られることを特徴とする請求項１１に記載の研磨布の製造方法。
【請求項１３】
前記極細化処理時に湿潤状態で物理的刺激を付与することを特徴とする請求項１１または１２に記載の研磨布の製造方法。
【請求項１】
平均単繊維繊度が０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘかつ繊度ＣＶが１〜１０％の範囲であるポリアミド極細繊維および／または該極細繊維からなる極細繊維束が絡合してなる不織布と弾性重合体とで構成されるシート状物からなる研磨布であって、表面に露出した単繊維繊度０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘの極細繊維間の交差点が、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて２０００倍にて観察し、該極細繊維が５０本以上存在する０．０１ｍｍ２の範囲１０ヶ所を任意に抽出したとき、平均で１５０ヶ所以上存在することを特徴とする研磨布。
【請求項２】
前記ポリアミド極細繊維が極細繊維発生型繊維から得られたものであり、該極細繊維発生型繊維の少なくとも一成分が脂肪族ポリエステルであることを特徴とする請求項１に記載の研磨布。
【請求項３】
前記肪族ポリエステルがポリ乳酸であることを特徴とする請求項２に記載の研磨布。
【請求項４】
前記ポリアミド極細繊維がナイロン６であることを特徴とする請求項１に記載の研磨布。
【請求項５】
前記弾性重合体がポリウレタンであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の研磨布。
【請求項６】
前記ポリアミド極細繊維束中の極細繊維が２００〜１０００本／束であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の研磨布。
【請求項７】
前記弾性重合体と前記極細繊維束の最外周に存在する繊維とが、実質的に接着していないことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の研磨布。
【請求項８】
目付が１００〜１０００ｇ／ｍ２であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の研磨布。
【請求項９】
見掛け密度が０．２〜０．６ｇ／ｃｍ３であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の研磨布。
【請求項１０】
片面に補強層が積層されていることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の研磨布。
【請求項１１】
下記工程（１）〜（３）、
（１）平均単繊維繊度が０．０００１〜０．０２ｄｔｅｘに極細化可能なポリアミドを島成分、脂肪族ポリエステルを易溶性成分とする海島型複合繊維を用いて不織布を作製する工程、
（２）該不織布に弾性重合体を極細化後の極細繊維重量に対し１０〜２００重量％付与し、少なくとも片面にバッフィング処理を施す工程、
（３）該不織布に極細化処理を行う工程、
を少なくとも行うことを特徴とする研磨布の製造方法。
【請求項１２】
前記海島型複合繊維が、２００〜１０００島を有する海島型口金を用いた複合紡糸によって得られることを特徴とする請求項１１に記載の研磨布の製造方法。
【請求項１３】
前記極細化処理時に湿潤状態で物理的刺激を付与することを特徴とする請求項１１または１２に記載の研磨布の製造方法。
【公開番号】特開２００８−１４４２８７（Ｐ２００８−１４４２８７Ａ）
【公開日】平成２０年６月２６日（２００８．６．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−３３００９３（Ｐ２００６−３３００９３）
【出願日】平成１８年１２月７日（２００６．１２．７）
【出願人】（０００００３１５９）東レ株式会社 (7,677)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年６月２６日（２００８．６．２６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１２月７日（２００６．１２．７）
【出願人】（０００００３１５９）東レ株式会社 (7,677)
【Ｆターム（参考）】
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