粒子分散体を製造する方法及びこの方法で製造された粒子分散体
【課題】 極めて簡便に、導電性、分散性、分散安定性、透明性、沈降防止性等を付与若しくは改善する。
【解決手段】 先ず有機金属化合物及び有機半金属化合物からなる群より選ばれた１種又は２種以上の単一物を作製するか或いは混合物１２を調製する。次に単一物又は混合物１２に所定の雰囲気中で８００〜１２５０Ｗのマイクロ波を３〜１０分間照射して粒子が分散したコロイド状の分散体１４を作製する。なお、上記単一物又は混合物１２にマイクロ波を照射するときの雰囲気は、不活性ガス雰囲気、還元性ガス雰囲気又は大気雰囲気であることが好ましい。
【解決手段】 先ず有機金属化合物及び有機半金属化合物からなる群より選ばれた１種又は２種以上の単一物を作製するか或いは混合物１２を調製する。次に単一物又は混合物１２に所定の雰囲気中で８００〜１２５０Ｗのマイクロ波を３〜１０分間照射して粒子が分散したコロイド状の分散体１４を作製する。なお、上記単一物又は混合物１２にマイクロ波を照射するときの雰囲気は、不活性ガス雰囲気、還元性ガス雰囲気又は大気雰囲気であることが好ましい。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、酸化物半導体粒子が分散した粒子分散体を製造する方法と、この方法で製造された粒子分散体と、この粒子分散体を乾燥して得られた粉末状の酸化物半導体粒子、金属粒子及び半金属粒子に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、1,4-グルコシド結合を有する化合物と金属化合物とを溶媒に溶解し、得られた溶液中の金属イオンを還元し、金属ナノ粒子とする金属ナノ粒子の製造方法（例えば、特許文献１参照。）が開示されている。この金属ナノ粒子の製造方法では、上記溶液を加熱し、その後還元剤を添加することにより、金属イオンを還元する。このように極めて簡便な方法により単分散かつ微細な金属ナノ粒子を製造できるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−２１３３１１号公報（請求項１及び４、段落［００３２］）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、上記従来の特許文献１に示された金属ナノ粒子の製造方法では、還元反応が有機金属の自己分解に頼っているため、不均一に反応して凝集物が発生し易く、分散体を得ることが難しく、歩留まりが悪いという不具合があった。
本発明の目的は、極めて簡便に、導電性、分散性、分散安定性、透明性、沈降防止性等を付与若しくは改善することができる、粒子分散体の製造方法及びこの方法で製造された粒子分散体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の第１の観点は、図１に示すように、有機金属化合物及び有機半金属化合物からなる群より選ばれた１種又は２種以上の単一物又は混合物に、所定の雰囲気中で出力８００〜１２５０Ｗのマイクロ波を３〜１０分間照射して粒子が分散したコロイド状の分散体を作製する工程を含む粒子分散体を製造する方法である。
この第１の観点の粒子分散体を製造する方法では、上記単一物又は混合物に所定の雰囲気中でマイクロ波を照射すると、単一物又は混合物の分子がマイクロ波により振動して摩擦熱が発生することにより加熱されるため、化学的に反応しながら有機金属化合物中の金属若しくは金属酸化物又は有機半金属化合物中の半金属又は半金属酸化物が中心となって有機金属化合物又は有機半金属化合物が分解する。この有機金属化合物又は有機半金属化合物の分解により、結合の外れた金属、半金属又はそれらの酸化物生成体からなる粒子の表面に、同様に結合の外れた有機物又はその分解生成物が付くため、導電性、分散性、分散安定性、透明性、沈降防止性等の特性を有する膜として用いられる粒子分散体が得られる。
【発明の効果】
【０００６】
第１の観点の粒子分散体を製造する方法では、有機金属化合物及び有機半金属化合物からなる群より選ばれた１種又は２種以上の単一物又は混合物に、所定の雰囲気中で８００〜１２５０Ｗのマイクロ波を３〜１０分間照射して粒子が分散したコロイド状の分散体を作製したので、極めて簡便に、導電性、分散性、分散安定性、透明性、沈降防止性等を付与若しくは改善した粒子分散体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明実施形態の粒子分散体を実験的に製造する装置の断面構成図である。
【図２】ステンレス製のフォトマスクの斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
次に本発明を実施するための形態を図面に基づいて説明する。
＜第１の実施の形態＞
図１に示すように、粒子分散体を製造するには、先ず有機金属化合物及び有機半金属化合物からなる群より選ばれた１種又は２種以上の単一物を作製するか或いは混合物を調製する。上記有機金属化合物に含まれる金属は、Ｃｕ，Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｒｅ，Ｏｓ，Ｉｒ，Ｓｃ，Ｙ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｔｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｅｒ，Ｔｍ及びＹｂからなる群より選ばれた１種又は２種以上の金属、好ましくはＣｕ，Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｒｅ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｉｎ及びＳｎからなる群より選ばれた１種又は２種以上の金属である。また上記有機半金属化合物に含まれる半金属は、Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｂ及びＢｉからなる群より選ばれた１種又は２種以上の半金属である。
【０００９】
上記有機金属化合物又は有機半金属化合物の有機成分は、有機酸及びアミンからなる群より選ばれた１種又は２種以上の化合物であり、上記有機酸は、炭素数２〜２９、好ましくは炭素数３〜１８の炭素を含む化合物からなる群より選ばれた１種又は２種以上の化合物であることが好ましい。具体的には、上記有機酸は、リンゴ酸、クエン酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ビバル酸、吉草酸、イソ吉草酸、カプロン酸、２−エチル酪酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、２−エチルヘキサン酸、カプリン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸、リシノール酸、１２−ヒドロキシステアリン酸、ナフテン酸、アビエチン酸、デキストロピマル酸、パルミトレイン酸、オレイン酸、リノール酸及びリノレン酸からなる群より選ばれた１種又は２種以上の有機酸であることが好ましく、更にリンゴ酸、クエン酸、フマル酸、マレイン酸、２−エチルヘキサン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、１２−ヒドロキシステアリン酸、オレイン酸、リノール酸及びリノレン酸からなる群より選ばれた１種又は２種以上の有機酸であることが好ましい。有機酸は、光重合性化合物であることが好ましい。具体的には、光重合性化合物は、アクリロイル基、メタクリロイル基及びビニル基からなる群より選ばれた１種又は２種以上を含むことが好ましい。ここで、炭素数を２〜２９の範囲に限定したのは、炭素数が２未満は所望の有機酸を得ることができず、炭素数が２９を越える有機酸は見当たらず実質的に使用しないからである。
【００１０】
一方、アミンは、ジブチルアミン、ジイソブチルアミン、トリペンチルアミン、アリルアミン、シクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、プロピレンジアミン、ジエチレントリアミン、ドデシルアミン、１，３−ジメチル−ｎ−ブチルアミン、１−アミノウンデカン、１−アミノトリデカン、テトラデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン、オレイルアミン、ジオレイルアミン、ドデシルジメチルアミン、テトラデシルジメチルアミン、ヘキサデシルジメチルアミン、オクタデシルジメチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン及び３−メトキシプロピルアミンからなる群より選ばれた１種又は２種以上であることが好ましく、更にジブチルアミン、ドデシルアミン、テトラデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン、オレイルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン及び３−メトキシプロピルアミンからなる群より選ばれた１種又は２種以上のアミンであることが好ましい。また還元剤は、ヒドラジン、水素化ホウ素塩、ジメチルアミンボラン、ギ酸、ギ酸塩及びジ亜燐酸塩からなる群より選ばれた１種又は２種以上であることが好ましい。
【００１１】
次に上記単一物又は混合物を所定の雰囲気中で出力８００〜１２５０Ｗ、好ましくは９００〜１２００Ｗのマイクロ波を３〜１０分間、好ましくは４〜８分間保持する。このマイクロ波を発生する手段としては、電子レンジを用いることが好ましく、そのマイクロ波の周波数は２．４５ＧＨｚに設定されている。また単一物又は混合物にマイクロ波を照射するときの雰囲気は、不活性ガス雰囲気、還元性ガス雰囲気又は大気雰囲気であることが好ましい。ここで、マイクロ波の出力を８００〜１２５０Ｗの範囲に限定したのは、８００Ｗ未満では分散体の生成が不十分となり、１２５０Ｗを越えると有機物の分解が著しくなり、安定した分散体が得られないからである。またマイクロ波の照射時間を３〜１０分間の範囲に限定したのは、３分間未満では分散体の生成が不十分となり、１０分間を越えると反応が著しく過度に進行し、凝集塊が生成するからである。このような簡便な方法で粒子が分散したコロイド状の分散体を作製できる。
【００１２】
上記方法により製造された粒子分散体としては、平均粒径０．００５〜１．０μｍ、好ましくは０．０１〜０．８μｍの酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛含有酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウム含有酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウム含有酸化亜鉛（ＧＺＯ）、セリウム含有酸化亜鉛（ＣＺＯ）、ホウ素含有酸化亜鉛（ＢＺＯ）、アンチモン含有酸化錫（ＡＴＯ）、或いはリン含有酸化錫（ＰＴＯ）の酸化物半導体粒子を含む粒子分散体が挙げられる。また上記粒子分散体を乾燥して得られた酸化物半導体粒子としては、平均粒径０．００５〜１．０μｍ、好ましくは０．０１〜０．８μｍの酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛含有酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウム含有酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウム含有酸化亜鉛（ＧＺＯ）、セリウム含有酸化亜鉛（ＣＺＯ）、ホウ素含有酸化亜鉛（ＢＺＯ）、アンチモン含有酸化錫（ＡＴＯ）、或いはリン含有酸化錫（ＰＴＯ）の酸化物半導体粒子が挙げられる。ここで、酸化物半導体粒子の平均粒径を０．００５〜１．０μｍの範囲に限定したのは、０．００５μｍ未満の粒子や１．０μｍを越える粒子がこの方法では得られないからである。なお、本発明で使用される酸化物半導体粒子などの平均粒径とは、レーザー回折／散乱式粒度分布測定装置（堀場製作所製 ＬＡ−９５０）にて測定し、粒子径基準を個数として演算した５０％平均粒子径（Ｄ50）をいう。このレーザー回折／散乱式粒度分布測定装置による個数基準平均粒径の値は、走査型電子顕微鏡（日立ハイテクノロジーズ製 Ｓ−４３００ＳＥ及びＳ−９００）により観察した画像において、任意の５０個の粒子について粒径を実測したときのその平均粒径とほぼ一致する。
【００１３】
＜第２の実施の形態＞
上記第１の実施の形態で作製又は調製された単一物又は混合物に更にフッ化アンモニウムを添加することを除いて、第１の実施の形態と同様にして粒子が分散したコロイド状の分散体を作製する。この方法により製造された粒子分散体としては、平均粒径０．００５〜１．０μｍ、好ましくは０．０１〜０．８μｍのフッ素含有酸化錫（ＦＴＯ）、フッ素含有酸化インジウム（ＦＩＯ）、フッ素含有酸化亜鉛（ＦＺＯ）、フッ素錫含有酸化インジウム（ＦＩＴＯ）、フッ素亜鉛含有酸化インジウム（ＦＩＺＯ）、フッ素アルミニウム含有酸化亜鉛（ＦＡＺＯ）、フッ素ガリウム含有酸化亜鉛（ＦＧＺＯ）、フッ素セリウム含有酸化亜鉛（ＦＣＺＯ）、或いはフッ素アンチモン含有酸化錫（ＦＡＴＯ）の酸化物半導体粒子を含む粒子分散体が挙げられる。また上記粒子分散体を乾燥して得られた酸化粒半導体粒子としては、平均粒径０．００５〜１．０μｍ、好ましくは０．０１〜０．８μｍのフッ素含有酸化錫（ＦＴＯ）、フッ素含有酸化インジウム（ＦＩＯ）、フッ素含有酸化亜鉛（ＦＺＯ）、フッ素錫含有酸化インジウム（ＦＩＴＯ）、フッ素亜鉛含有酸化インジウム（ＦＩＺＯ）、フッ素アルミニウム含有酸化亜鉛（ＦＡＺＯ）、フッ素ガリウム含有酸化亜鉛（ＦＧＺＯ）、フッ素セリウム含有酸化亜鉛（ＦＣＺＯ）、或いはフッ素アンチモン含有酸化錫（ＦＡＴＯ）の酸化物半導体粒子が挙げられる。ここで、酸化物半導体粒子の平均粒径を０．００５〜１．０μｍの範囲に限定したのは、０．００５μｍ未満の粒子や１．０μｍを越える粒子がこの方法では得られないからである。
【００１４】
なお、上記第１及び第２の実施の形態では、酸化物半導体粒子を含む粒子分散体を製造したが、平均粒径０．００５〜１．０μｍ、好ましくは０．０１〜０．８μｍのＣｕ，Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｒｅ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｉｎ及びＳｎからなる群より選ばれた１種又は２種以上の純金属粒子、混合金属粒子或いは合金粒子を含む粒子分散体であってもよい。また、上記第１及び第２の実施の形態では、粒子分散体を乾燥して酸化物半導体粒子を製造したが、上記純金属粒子、混合金属粒子或いは合金粒子を含む粒子分散体を乾燥して、平均粒径０．００５〜１．０μｍ、好ましくは０．０１〜０．８μｍのＣｕ，Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｒｅ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｉｎ及びＳｎからなる群より選ばれた１種又は２種以上の純金属、混合金属或いは合金からなる金属粒子であってもよい。ここで、金属粒子の平均粒径を０．００５〜１．０μｍの範囲に限定したのは、０．００５μｍ未満の粒子や１．０μｍを越える粒子がこの方法では得られないからである。
また、上記第１及び第２の実施の形態では、酸化物半導体粒子を含む粒子分散体を製造したが、平均粒径０．００５〜１．０μｍ、好ましくは０．０１〜０．８μｍのＳｂの半金属粒子を含む粒子分散体であってもよい。更に、上記第１及び第２の実施の形態では、粒子分散体を乾燥して酸化物半導体粒子を製造したが、上記Ｓｂの半金属粒子を含む粒子分散体を乾燥して、平均粒径０．００５〜１．０μｍ、好ましくは０．０１〜０．８μｍのＳｂからなる半金属粒子であってもよい。ここで、半金属粒子の平均粒径を０．００５〜１．０μｍの範囲に限定したのは、０．００５μｍ未満の粒子や１．０μｍを越える粒子がこの方法では得られないからである。
【実施例】
【００１５】
次に本発明の実施例を比較例とともに詳しく説明する。
＜実施例１＞
先ずエチレンオキシド変性コハク酸メタクリレート（新中村化学社製のＮＫエステルＳＡ）を水酸化ナトリウムでけん化して石鹸を調製した。この石鹸を２つに分け、一方の石鹸に塩化インジウム溶液（アジア物性社製）を混合して撹拌することによりインジウムの金属石鹸を調製した。このインジウムの金属石鹸を十分に水で洗浄して濾過することにより脱塩した後に、この脱塩したインジウムの金属石鹸を８０℃の真空乾燥機に一晩入れて脱水することによりインジウム石鹸（炭素数：１０）を得た。一方、上記石鹸の他方に塩化錫溶液（アジア物性社製）を混合して撹拌することにより錫の金属石鹸を調製した。この錫の金属石鹸を十分に水で洗浄して濾過することにより脱塩した後に、この脱塩した錫の金属石鹸を８０℃の真空乾燥機に一晩入れて脱水することにより錫石鹸（炭素数：１０）を得た。なお、上記エチレンオキシド変性コハク酸メタクリレートの化学式（１）をここに示す。
【００１６】
【化１】
次いで図１に示すように、２０ｃｃのガラス瓶に上記インジウム石鹸７．５ｇと錫石鹸０．５ｇとを入れて、気密であって所定のガスを給排可能なグローブボックス１１内に収容された電子レンジ１２のターンテーブル１２ａ上に置いた。次に上記インジウム石鹸と錫石鹸の混合物１３の入ったガラス瓶１４に、直径及び深さがそれぞれ１５０ｍｍ及び７０ｍｍである透明な石英製坩堝１６を被せるとともに、グローブボックス１１内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジ１２を出力１０００Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶１４を電子レンジ１２から取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体１７を得た。この粒子分散体１７を実施例１とした。なお、図１において、符号１２ｂはマイクロ波を発生するマグネトロンであり、符号１２ｃはトランスであり、符号１２ｄは空気を流通させるとともにトランス１２ｃを冷却するファンであり、符号１２ｅはターンテーブル１２ａを回転駆動するモータである。また図１において、破線矢印はマイクロ波の流れを示し、一点鎖線矢印は空気の流れを示す。
【００１７】
＜実施例２＞
先ず12-ヒドロキシステアリン酸インジウム（炭素数：１８）７．５ｇとステアリン酸錫（炭素数：１８）０．５ｇとをガラス瓶に入れ、更にフッ化アンモニウムを０．３ｇ添加して混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力９５０Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例２とした。
＜実施例３＞
先ずステアリン酸錫（炭素数：１８）７．５ｇをガラス瓶に入れ、フッ化アンモニウムを０．３ｇ添加して混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力８５０Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例３とした。
【００１８】
＜実施例４＞
先ずステアリン酸錫（炭素数：１８）７．５ｇをガラス瓶に入れ、フッ化アンモニウムを０．３ｇ添加して混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力８５０Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例４とした。
＜実施例５＞
先ずステアリン酸錫（炭素数：１８）７．５ｇとモンタン酸／2-アミノエタノールアンチモン錯体（炭素数：２９）０．８ｇとをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力１０００Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例５とした。
＜実施例６＞
先ずオレイン酸インジウム（炭素数：１８）７．５ｇとパルミチン酸亜鉛（炭素数：１６）０．７ｇとをガラスに入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力９５０Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例６とした。
【００１９】
＜実施例７＞
先ずエチレンオキシド変性コハク酸メタクリレート（新中村化学社製のＮＫエステルＳＡ）を水酸化ナトリウムでけん化して石鹸を調製した後に、この石鹸に塩化インジウム溶液（アジア物性社製）を混合して撹拌することによりインジウムの金属石鹸を調製した。このインジウムの金属石鹸を十分に水で洗浄して濾過することにより脱塩した後に、この脱塩したインジウムの金属石鹸を８０℃の真空乾燥機に一晩入れて脱水することによりインジウム石鹸（炭素数：１０）を得た。一方、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレート（東亞合成社製のアロニックスＭ−５３００）を水酸化ナトリウムでけん化して石鹸を調製した後に、この石鹸に塩化亜鉛溶液を混合して撹拌することにより亜鉛の金属石鹸を調製した。この亜鉛の金属石鹸を十分に水で洗浄して濾過することにより脱塩した後に、この脱塩した亜鉛の金属石鹸を８０℃の真空乾燥機に一晩入れて脱水することにより亜鉛石鹸（炭素数：１５）を得た。なお、上記ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレートの化学式（２）をここに示す。
【００２０】
【化２】
次いで上記インジウム石鹸７．５ｇと亜鉛石鹸０．７ｇとをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力９５０Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例７とした。
【００２１】
＜実施例８＞
先ずβ−カルボキシルエチルアクリレート（ダイセル・ユーシービー社製のβ−ＣＥＡ）を水酸化ナトリウムでけん化して石鹸を調製した後に、この石鹸に塩化チタン溶液を混合して撹拌することによりチタンの金属石鹸を調製した。このチタンの金属石鹸を十分に水で洗浄して濾過することにより脱塩した後に、この脱塩したチタンの金属石鹸を８０℃の真空乾燥機に一晩入れて脱水することによりチタン石鹸を得た。なお、上記β−カルボキシルエチルアクリレートの化学式（３）をここに示す。
【００２２】
【化３】
次いで上記チタン石鹸７．５ｇをガラス瓶に入れた。次にこのチタン石鹸（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力１２００Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例８とした。
【００２３】
＜実施例９＞
先ずチタンカップリング剤（味の素社製のＫＲ４４、炭素数：３及び４）７．５ｇをガラス瓶に入れる。次にこのチタンカップリング剤（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力１２００Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例９とした。なお、上記チタンカップリング剤（味の素社製のＫＲ４４）の化学式（４）をここに示す。
【００２４】
【化４】
＜実施例１０＞
先ずチタンカップリング剤（味の素社製の９ＳＡ、炭素数：３及び１８）７．５ｇをガラス瓶に入れた。次にこのチタンカップリング剤（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力１２００Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例１０とした。なお、上記チタンカップリング剤（味の素社製の９ＳＡ）の化学式（５）をここに示す。
【００２５】
【化５】
＜比較例１＞
先ずオレイン酸インジウム（炭素数：１８）７．５ｇとステアリン酸錫（炭素数：１８）０．５ｇとをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力１３００Ｗで６分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を比較例１とした。
＜比較例２＞
先ずオレイン酸インジウム（炭素数：１８）７．５ｇとステアリン酸錫（炭素数：１８）０．５ｇとをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力１０００Ｗで１１分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を比較例２とした。
＜比較例３＞
先ずオレイン酸インジウム（炭素数：１８）７．５ｇとステアリン酸錫（炭素数：１８）０．５ｇとをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力７５０Ｗで４分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を比較例３とした。
【００２６】
＜比較例４＞
先ずオレイン酸インジウム（炭素数：１８）７．５ｇとステアリン酸錫（炭素数：１８）０．５ｇとをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力８００Ｗで２分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を比較例４とした。
＜比較例５＞
先ずオレイン酸インジウム（炭素数：１８）７．５ｇとステアリン酸錫（炭素数：１８）０．５ｇとをガラス瓶に入れ、更に溶媒としてメチルカルビトール（略称：ＭＣＴ）を添加して混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力８５０Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を比較例５とした。
【００２７】
＜比較試験１及び評価＞
実施例１〜１０及び比較例１〜５の粒子分散体をアセトンで洗浄した後、真空雰囲気中に室温で２時間保持して金属又は半金属化合物粒子からなる乾燥粉末を作製し、Ｘ線回折法（ＸＲＤ法）により乾燥粉末を構成する化合物の同定を行ってその化合物のパターン（結晶構造）及び名称を特定し、また蛍光Ｘ線分光分析法（ＸＦＳ法）により上記乾燥粉末の元素分析を行い、更に透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）により乾燥粉末の一次粒子の平均粒径を求めた。その結果を表１に示す。なお、表１の比較例５の「ＭＣＴ」はメチルカルビトールである。
【００２８】
【表１】
表１から明らかなように、比較例３及び４では未反応部分が多く、比較例５では原料粉末の有機金属化合物と変わっていなかった。これに対し、実施例１、２、４、６及び７では乾燥粉末の金属又は半金属化合物粒子のパターン（結晶構造）がビックスバイト（bixbite）型構造であり、実施例３及び５では乾燥粉末の金属又は半金属化合物粒子のパターン（結晶構造）がルチル（rutile）型構造であり、実施例８〜１０では乾燥粉末の金属又は半金属化合物粒子のパターン（結晶構造）がアナターゼ（anataze）型構造であった。また実施例１〜１０では、乾燥粉末の金属又は半金属化合物粒子がＩｎ、Ｓｎ、Ｓｂ等の金属又は半金属を含んでおり、金属又は半金属化合物粒子の一次粒子の平均粒径が４〜１０ｎｍと極めて微細であることが分かった。なお、比較例１及び２では乾燥粉末の金属化合物粒子のパターン（結晶構造）がビックスバイト（bixbite）型構造であり、金属化合物粒子の平均粒径がそれぞれ１４ｎｍ及び１１ｎｍと比較的微細であったが、後述する比較試験２に示すように沈殿してしまい、分散液が得られなかった。
【００２９】
＜実施例１１＞
実施例１の粒子分散体を2-イソプロポキシエタノール（溶媒、略称：ｉｓｏＰＧ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例１１とした。
＜実施例１２＞
実施例２の粒子分散体をメチルカルビトール（溶媒、略称：ＭＣＴ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例１２とした。
＜実施例１３＞
実施例３の粒子分散体をイソプロパノール（溶媒、略称：ＩＰＡ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例１３とした。
＜実施例１４＞
実施例４の粒子分散体をイソプロパノール（溶媒、略称：ＩＰＡ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例１４とした。
＜実施例１５＞
実施例５の粒子分散体をイソプロパノール（溶媒、略称：ＩＰＡ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例１５とした。
【００３０】
＜実施例１６＞
実施例６の粒子分散体をN-メチルピロリドン（溶媒、略称：ＮＭＰ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例１６とした。
＜実施例１７＞
実施例１８の粒子分散体をヘキサン（溶媒、略称：Ｈｘ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例１７とした。
＜実施例１８＞
実施例８の粒子分散体をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（溶媒、略称：ＰＧＭＥＡ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例１８とした。
＜実施例１９＞
実施例９の粒子分散体をプロピレングリコールモノメチルエーテル（溶媒、略称：ＰＧＭ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例１９とした。
＜実施例２０＞
実施例１０の粒子分散体をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（溶媒、略称：ＰＧＭＥＡ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例２０とした。
【００３１】
＜比較例６＞
比較例１の粒子分散体をメチルカルビトール（溶媒、略称：ＭＣＴ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を比較例６とした。
＜比較例７＞
比較例２の粒子分散体をメチルカルビトール（溶媒、略称：ＭＣＴ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を比較例７とした。
＜比較例８＞
比較例３の粒子分散体をメチルカルビトール（溶媒、略称：ＭＣＴ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を比較例８とした。
＜比較例９＞
比較例４の粒子分散体をメチルカルビトール（溶媒、略称：ＭＣＴ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を比較例９とした。
【００３２】
＜比較試験２及び評価＞
実施例１１〜２０及び比較例６〜１０の約３０重量％に洗浄・濃縮した直後の粒子分散体の状態と、密栓したガラス瓶に入れて４０℃に２週間保持した後の状態を目視にて観察した。その結果を表２に示す。表２において、「ｉｓｏＰＧ」は2-イソプロポキシエタノールの略称であり、「ＭＣＴ」はメチルカルビトールの略称であり、「ＩＰＡ」はイソプロパノールの略称であり、「ＮＭＰ」はN-メチルピロリドンの略称であり、「Ｈｘ」はヘキサンの略称であり、「ＰＧＭＥＡ」はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの略称であり、「ＰＧＭ」はプロピレングリコールモノメチルエーテルの略称である。
【００３３】
【表２】
表２から明らかなように、比較例６〜９では２週間後いずれも沈殿していたのに対し、実施例１１〜２０では２週間後も沈殿せずコロイド特有のインク状態のままであった。この結果、上記実施例のような簡便な方法で、特別な分散装置を使用せずに、高濃度の金属又は半金属化合物粒子の分散した粒子分散体（コロイド液）が比較的容易に製造できることが判った。
【００３４】
＜実施例２１＞
先ずイソステアリン酸銅（炭素数：１８）０．７ｇをガラス瓶に入れた。次にこのイソステアリン酸銅（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力１０００Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例２１とした。
＜実施例２２＞
先ずカプロン酸銀（炭素数：６）０．７ｇをガラス瓶に入れた。次にこのカプロン酸銀（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力８５０Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例２２とした。
【００３５】
＜実施例２３＞
先ずオレイン酸銀（炭素数：１８）０．３５ｇと2-エチルヘキサン酸パラジウム（炭素数：８）０．３５ｇとをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力８５０Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例２３とした。
＜実施例２４＞
先ず2-エチルヘキサン酸パラジウム（炭素数：８）０．７ｇをガラス瓶に入れた。次にこの2-エチルヘキサン酸パラジウム（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力８５０Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例２４とした。
【００３６】
＜実施例２５＞
先ずカプロン酸／2-エチルヘキシルアミン金錯体（炭素数：６，８）０．７ｇをガラス瓶にいれた。次にこのカプロン酸／2-エチルヘキシルアミン金錯体（単一物）を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力１０００Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例２５とした。
＜実施例２６＞
先ずオレイン酸／プロピレンジアミン金錯体（炭素数：１８，３）０．６ｇとイソステアリン酸銅（炭素数：１８）０．１ｇとをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力１０００Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例２６とした。
【００３７】
＜実施例２７＞
先ずオレイルアミン白金錯体（炭素数：１８）０．７をガラス瓶に入れた。次にこのオレイルアミン白金錯体（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力８５０Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例２７とした。
＜実施例２８＞
先ずビバル酸ルテニウム（炭素数：５）０．７ｇをガラス瓶に入れた。次にこのビバル酸ルテニウム（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力１２００Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例２８とした。
【００３８】
＜実施例２９＞
先ずステアリン酸鉄（炭素数：１８）０．３ｇと酢酸コバルト（炭素数：２）０．１ｇとベヘン酸ニッケル（炭素数：２２）０．３ｇとをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力１２００Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例２９とした。
＜実施例３０＞
先ずリノール酸／テトラデシルアミンロジウム錯体（炭素数：１８，１４）０．７ｇをガラス瓶に入れた。次にリノール酸／テトラデシルアミンロジウム錯体（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力１０００Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例３０とした。
【００３９】
＜実施例３１＞
先ずリノレン酸／ヘキサデシルアミンレニウム錯体（炭素数：１８，１６）０．７ｇをガラス瓶に入れた。次にこのリノレン酸／ヘキサデシルアミンレニウム錯体（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力１０００Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例３１とした。
＜実施例３２＞
先ずオレイン酸インジウム（炭素数：１８）０．６５ｇとドデシルアミン錫錯体（炭素数：１２）０．５ｇとをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力１０００Ｗで９分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例３２とした。
【００４０】
＜実施例３３＞
先ず12-ヒドロキシステアリン酸インジウム（炭素数：１８）０．６ｇとパルミチン酸亜鉛（炭素数：１６）０．１ｇとをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力８５０Ｗで９分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例３３とした。
＜実施例３４＞
先ずアクリル酸銀（炭素数：４）０．７をガラス瓶に入れた。次にこのパルミチン酸亜鉛（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力８５０Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例３４とした。
【００４１】
＜実施例３５＞
先ずモンタン酸／2-アミノエタノールアンチモン錯体（炭素数：２９）０．３５ｇとアクリル酸パラジウム（炭素数：４）とをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力８５０Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例３５とした。
＜実施例３６＞
実施例１のインジウム石鹸（炭素数：１０）０．６５ｇと実施例１の錫石鹸（炭素数：１０）０．５ｇとをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力１１００Ｗで９分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例３６とした。
【００４２】
＜実施例３７＞
先ずエチレンオキシド変性コハク酸メタクリレート（新中村化学社製のＮＫエステルＳＡ）を水酸化ナトリウムでけん化して石鹸を調製した後に、この石鹸に塩化金溶液を混合して撹拌することにより金の金属石鹸を調製した。次いでこの金の金属石鹸を十分に水で洗浄して濾過することにより脱塩した後に、この脱塩した金の金属石鹸を８０℃の真空乾燥機に一晩入れて脱水することにより金石鹸（炭素数：１０）を得た。次にこの金石鹸０．７ｇをガラス瓶に入れた。更にこの金石鹸（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力１０００Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例３７とした。
＜実施例３８＞
先ずメタクリル酸白金（炭素数：５）０．７ｇをガラス瓶に入れた。次にメタクリル酸白金（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力１０００Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例３８とした。
【００４３】
＜比較例１０＞
先ずカプロン酸銀（炭素数：６）０．７ｇをガラス瓶に入れた。次にこのカプロン酸銀（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力１３００Ｗで６分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を比較例１０とした。
＜比較例１１＞
先ずカプロン酸銀（炭素数：６）０．７ｇをガラス瓶に入れた。次にこのカプロン酸銀（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力１０００Ｗで１１分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を比較例１１とした。
＜比較例１２＞
先ずカプロン酸銀（炭素数：６）０．７ｇをガラス瓶に入れた。次にこのカプロン酸銀（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力７５０Ｗで４分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を比較例１２とした。
＜比較例１３＞
先ずカプロン酸銀（炭素数：６）０．７ｇをガラス瓶に入れた。次にこのカプロン酸銀（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力８００Ｗで２分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を比較例１３とした。
【００４４】
＜比較例１４＞
先ずカプロン酸銀（炭素数：６）０．７ｇをガラス瓶に入れ、デカリン（溶媒）１．５ｇを添加して混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力８５０Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を比較例１４とした。
＜比較試験３及び評価＞
実施例２１〜３８及び比較例９〜１４の粒子分散体をアセトンで洗浄した後、真空雰囲気中に室温で２時間保持して金属粒子からなる乾燥粉末を作製し、Ｘ線光電子スペクトル法（ＸＰＳ法）により乾燥粉末を構成する化合物の同定を行ってその化合物の酸化数を求め、またフィールドエミッション透過電子顕微鏡（ＦＥ−ＴＥＭ）により上記乾燥粉末の元素分析を行うとともに、乾燥粉末の一次粒子の平均粒径を求めた。その結果を表３及び表４に示す。
【００４５】
【表３】
【００４６】
【表４】
表３及び表４から明らかなように、比較例１０では銀メタルの凝集塊が発生し、比較例１１では酸化数がゼロであったけれども金属粒子の一次粒子の平均粒径がミクロンオーダと大きく、比較例１２では反応部分が多く、更に比較例１３及び１４では原料粉末の有機金属化合物と変わっていなかった。これに対し、実施例２１〜３８では乾燥粉末の金属粒子の酸化数がゼロであり、また実施例２１〜３８では、乾燥粉末の金属粒子がＩｎ、Ｓｎ等の金属を含み、更に金属粒子の一次粒子の平均粒径が２〜１３ｎｍと極めて微細であることが分かった。
【００４７】
＜実施例３９＞
実施例２１の粒子分散体をトルエン（溶媒、略称：ＴＬ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例３９とした。
＜実施例４０＞
実施例２２の粒子分散体をイソプロパノール（溶媒、略称：ＩＰＡ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例４０とした。
＜実施例４１＞
実施例２３の粒子分散体を2-イソプロポキシエタノール（溶媒、略称：ｉｓｏＰＧ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例４１とした。
＜実施例４２＞
実施例２４の粒子分散体をイソプロパノール（溶媒、略称：ＩＰＡ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例４２とした。
＜実施例４３＞
実施例２５の粒子分散体をイソプロパノール（溶媒、略称：ＩＰＡ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例４３とした。
【００４８】
＜実施例４４＞
実施例２６の粒子分散体をα−テルピネオール（溶媒、略称：ＴＰ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例４４とした。
＜実施例４５＞
実施例２７の粒子分散体をα−テルピネオール（溶媒、略称：ＴＰ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例４５とした。
＜実施例４６＞
実施例２８の粒子分散体を水（溶媒、略称：Ｗ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例４６とした。
＜実施例４７＞
実施例２９の粒子分散体をプロピレングリコールモノメチルエーテル（溶媒、略称：ＰＧＭ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例４７とした。
＜実施例４８＞
実施例３０の粒子分散体をヘキサン（溶媒、略称：Ｈｘ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例４８とした。
【００４９】
＜実施例４９＞
実施例３１の粒子分散体をメチルカルビトール（溶媒、略称：ＭＣＴ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例４９とした。
＜実施例５０＞
実施例３２の粒子分散体をデカリン（溶媒、略称：ＤＣ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例５０とした。
＜実施例５１＞
実施例３３の粒子分散体をデカリン（溶媒、略称：ＤＣ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例５１とした。
＜実施例５２＞
実施例３４の粒子分散体をイソプロパノール（溶媒、略称：ＩＰＡ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例５２とした。
＜実施例５３＞
実施例３５の粒子分散体をイソプロパノール（溶媒、略称：ＩＰＡ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例５３とした。
【００５０】
＜実施例５４＞
実施例３６の粒子分散体をテトラデカン（溶媒、略称：ＴＤ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例５４とした。
＜実施例５５＞
実施例３７の粒子分散体をヘキサン（溶媒、略称：Ｈｘ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例５５とした。
＜実施例５６＞
実施例３８の粒子分散体をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（溶媒、略称：ＰＧＭＥＡ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例５６とした。
＜比較例１５＞
比較例１１の粒子分散体をイソプロパノール（溶媒、略称：ＩＰＡ）と混合した。この混合物を比較例１５とした。
【００５１】
＜比較試験４及び評価＞
実施例３９〜５６の粒子分散体と比較例１５の混合物の、約３０重量％に洗浄・濃縮した直後の粒子分散体の状態と、密栓したガラス瓶に入れて４０℃に２週間保持した後の状態を目視にて観察した。その結果を表５及び表６に示す。表５及び表６において、「ＴＬ」はトルエンの略称であり、「ＩＰＡ」はイソプロパノールの略称であり、「ｉｓｏＰＧ」は2-イソプロポキシエタノールの略称であり、「ＴＰ」はα−テルピネオールの略称であり、「Ｗ」は水の略称であり、「ＰＧＭ」はプロピレングリコールモノメチルエーテルの略称であり、「Ｈｘ」はヘキサンの略称であり、「ＭＣＴ」はメチルカルビトールの略称であり、「ＤＣ」はデカリンの略称であり、「ＴＤ」はテトラデカンの略称であり、「ＰＧＭＥＡ」はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの略称である。
【００５２】
【表５】
【００５３】
【表６】
表５及び表６から明らかなように、比較例１５ではイソプロパノール（溶媒、略称：ＩＰＡに全く分散しなかったのに対し、実施例３９〜５６では２週間後も沈殿せずコロイド特有のインク状態のままであった。この結果、上記実施例のような簡便な方法で、特別な分散装置を使用せずに、高濃度の金属粒子の分散した粒子分散体（コロイド液）が比較的容易に製造できることが判った。
【００５４】
＜実施例５７＞
先ず実施例１１の粒子分散体（濃度約３０重量％のＩＴＯ粒子を分散した分散液）をエタノールで、ＩＴＯ粒子の含有量が４．０重量％となるように希釈し、この希釈した粒子分散体に光開始剤（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製のイルガキュア５００）を０．１重量％溶かして粒子分散体を調製した。次いで洗浄済みのソーダガラス板（縦１００ｍｍ、横１００ｍｍ、厚さ２．８ｍｍ）を４０℃に保温し、このソーダガラス板をスピンコーターで１５０ｒｐｍの速度で回転させた状態で、上記希釈調製した粒子分散体を５ｃｃ滴下し、１２０秒間振り切って膜を作製した。
上記膜を上に向けたガラス板にステンレス製フォトマスク３１（図２）を載せた。このフォトマスク３１は、縦×横×厚さがそれぞれ１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．０ｍｍの正方形状に形成され、幅×長さがそれぞれ２０ｍｍ×５０ｍｍの長方形の窓孔３１ａが１０ｍｍ間隔で３個形成される。次いでガラス板の上方から紫外線照射装置（１６０Ｗメタルハライドランプ：距離１０ｃｍ）により２５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線エネルギを照射した後、フォトマスクを取除いたガラス板をホットプレートに載せて大気中で１００℃に１０分間保持した。次にN,N-ジメチルホルムアミド１０重量％及びアセチルアセトン５重量％を相溶させたエタノール溶液で上記ガラス板をリンスすることにより、非光照射部の膜を溶かし、光照射の膜だけを残して、フォトマスクの長方形の窓孔と同一形状のパターニングされた膜を得た。更にこのガラス板を窒素ガス雰囲気中で２２０℃に３０分間保持して膜を焼成した後に室温まで冷却した。このガラス板を実施例５７とした。
【００５５】
＜実施例５８＞
実施例１７の粒子分散体（濃度約３０重量％のＩＺＯ粒子を分散した分散液）を用いたことを除いて、実施例５７と同様の方法でガラス板を作製した。このガラス板を実施例５８とした。
【００５６】
＜比較試験５及び評価＞
実施例５７及び５８のガラス板の膜の厚さを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて測定した。その結果、実施例５８の膜の厚さは２１５ｎｍと見積もられ、実施例５９の膜の厚さは３２１ｎｍと見積もられた。またこれらの膜の表面抵抗値を四探針法にて測定したところ、実施例５７の膜は４９２０Ω／□の導電性を示し、実施例５８の膜は５２９０Ω／□の導電性を示した。更に実施例５７及び５８の膜の可視光透過率を分光光度計にて測定したところ、９７．５％及び９６．２％と高い透明性を示した。
【００５７】
＜実施例５９＞
先ず実施例５２の粒子分散体（濃度約３０重量％のＡｇ粒子を分散した分散液）をイソプロパノールで、Ａｇ粒子の含有量が２０重量％となるように希釈し、この希釈した粒子分散体に光開始剤（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製のイルガキュア５００）を０．５重量％溶かして粒子分散体を調製した。次いで洗浄済みのソーダガラス板（縦１００ｍｍ、横１００ｍｍ、厚さ２．８ｍｍ）を４０℃に保温し、このソーダガラス板をスピンコーターで１５０ｒｐｍの速度で回転させた状態で、上記希釈調製した粒子分散体を５ｃｃ滴下し、１２０秒間振り切って膜を作製した。
上記膜を上に向けたガラス板にステンレス製フォトマスクをそれぞれ載せた。このフォトマスクは、縦×横×厚さがそれぞれ１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．０ｍｍの正方形状に形成され、幅×長さがそれぞれ２０ｍｍ×５０ｍｍの長方形の窓孔が１０ｍｍ間隔で３個形成される。次いでガラス板の上方から紫外線照射装置（１６０Ｗメタルハライドランプ：距離１０ｃｍ）により２５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線エネルギを照射した後、フォトマスクを取除いたガラス板をホットプレートに載せて大気中で１００℃に１０分間保持した。次にN,N-ジメチルホルムアミド１０重量％及びアセチルアセトン５重量％を相溶させたエタノール溶液で上記ガラス板をリンスすることにより、非光照射部の膜を溶かし、光照射の膜だけを残して、フォトマスクの長方形の窓孔と同一形状のパターニングされた膜を得た。更にこのガラス板を大気中で２００℃に３０分間保持して膜を焼成した後に室温まで冷却した。このガラス板を実施例５９とした。
＜実施例６０＞
実施例５３の粒子分散体（濃度約３０重量％のＡｇ粒子及びＰｄ粒子を分散した分散液）を用いたことを除いて実施例５９と同様にしてガラス板を作製した。このガラス板を実施例６０とした。
【００５８】
＜実施例６１＞
先ず実施例５４の粒子分散体（濃度約３０重量％のＩｎ粒子及びＳｎ粒子を分散した分散液）をヘキサンで、Ｉｎ粒子及びＳｎ粒子の含有量が１．０重量％となるように希釈し、この希釈した粒子分散体に光開始剤（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製のイルガキュア５００）を０．０５重量％溶かして粒子分散体を調製した。次いで洗浄済みのアクリル板（縦１００ｍｍ、横１００ｍｍ、厚さ２．８ｍｍ）を４０℃に保温し、このアクリル板をスピンコーターで１５０ｒｐｍの速度で回転させた状態で、上記希釈調製した粒子分散体を５ｃｃ滴下し、１２０秒間振り切って膜を作製した。
上記膜に向けたアクリル板にステンレス製フォトマスクをそれぞれ載せた。このフォトマスクは、縦×横×厚さがそれぞれ１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．０ｍｍの正方形状に形成され、幅×長さがそれぞれ２０ｍｍ×５０ｍｍの長方形の窓孔が１０ｍｍ間隔で３個形成される。次いでアクリル板の上方から紫外線照射装置（１６０Ｗメタルハライドランプ：距離１０ｃｍ）により２５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線エネルギを照射した後、フォトマスクを取除いたアクリル板をホットプレートに載せて大気中で１００℃に１０分間保持した。次にN,N-ジメチルホルムアミド１０重量％及びアセチルアセトン５重量％を相溶させたエタノール溶液で上記アクリル板をリンスすることにより、非光照射部の膜を溶かし、光照射の膜だけを残して、フォトマスクの長方形の窓孔と同一形状のパターニングされた膜を得た。更にこのアクリル板を窒素ガス雰囲気中で２００℃に３０分間保持し、大気中で２００℃に６０分間保持して、膜を焼成した後に室温まで冷却した。このガラス板を実施例５９とした。した。このアクリル板を実施例６１とした。
【００５９】
＜実施例６２＞
先ず実施例５５の粒子分散体（濃度約３０重量％のＡｕ粒子を分散した分散液）をヘキサンで、Ａｕ粒子の含有量が２０重量％となるように希釈し、この希釈した粒子分散体に光開始剤（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製のイルガキュア５００）を０．５重量％溶かして粒子分散体を調製した。次いで洗浄済みのソーダガラス板（縦１００ｍｍ、横１００ｍｍ、厚さ２．８ｍｍ）を４０℃に保温し、このソーダガラス板をスピンコーターで１５０ｒｐｍの速度で回転させた状態で、上記希釈調製した粒子分散体を５ｃｃ滴下し、１２０秒間振り切って膜を作製した。
上記膜を上に向けたガラス板にステンレス製フォトマスクをそれぞれ載せた。このフォトマスクは、縦×横×厚さがそれぞれ１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．０ｍｍの正方形状に形成され、幅×長さがそれぞれ２０ｍｍ×５０ｍｍの長方形の窓孔が１０ｍｍ間隔で３個形成される。次いでガラス板の上方から紫外線照射装置（１６０Ｗメタルハライドランプ：距離１０ｃｍ）により２５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線エネルギを照射した後、フォトマスクを取除いたガラス板をホットプレートに載せて大気中で１００℃に１０分間保持した。次にN,N-ジメチルホルムアミド１０重量％及びアセチルアセトン５重量％を相溶させたエタノール溶液で上記ガラス板をリンスすることにより、非光照射部の膜を溶かし、光照射の膜だけを残して、フォトマスクの長方形の窓孔と同一形状のパターニングされた膜を得た。更にこのガラス板を大気中で１５０℃に３０分間保持して膜を焼成した後に室温まで冷却した。このガラス板を実施例６２とした。
【００６０】
＜実施例６３＞
先ず実施例５６の粒子分散体（濃度約３０重量％のＰｔ粒子を分散した分散液）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで、Ｐｔ粒子の含有量が２０重量％となるように希釈し、この希釈した粒子分散体に光開始剤（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製のイルガキュア５００）を０．５重量％溶かして粒子分散体を調製した。次いで洗浄済みのソーダガラス板（縦１００ｍｍ、横１００ｍｍ、厚さ２．８ｍｍ）を４０℃に保温し、このソーダガラス板をスピンコーターで１５０ｒｐｍの速度で回転させた状態で、上記希釈調製した粒子分散体を５ｃｃ滴下し、１２０秒間振り切って膜を作製した。
上記膜を上に向けたガラス板にステンレス製フォトマスクをそれぞれ載せた。このフォトマスクは、縦×横×厚さがそれぞれ１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．０ｍｍの正方形状に形成され、幅×長さがそれぞれ２０ｍｍ×５０ｍｍの長方形の窓孔が１０ｍｍ間隔で３個形成される。次いでガラス板の上方から紫外線照射装置（１６０Ｗメタルハライドランプ：距離１０ｃｍ）により２５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線エネルギを照射した後、フォトマスクを取除いたガラス板をホットプレートに載せて大気中で１００℃に１０分間保持した。次にN,N-ジメチルホルムアミド１０重量％及びアセチルアセトン５重量％を相溶させたエタノール溶液で上記ガラス板をリンスすることにより、非光照射部の膜を溶かし、光照射の膜だけを残して、フォトマスクの長方形の窓孔と同一形状のパターニングされた膜を得た。更にこのガラス板を大気中で１５０℃に３０分間保持して膜を焼成した後に室温まで冷却した。このガラス板を実施例６３とした。
【００６１】
＜比較試験６及び評価＞
実施例５９、６０、６２及び６３のガラス板の膜と実施例６１のアクリル板の膜の厚さと可視光透過率と体積抵抗率をそれぞれ測定した。上記膜の厚さは走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて測定し、透明膜の可視光透過率は分光光度計にて測定し、体積抵抗率は四探針法にて測定した。その結果を表７に示す。表７において、「ＩＰＡ」はイソプロパノールの略称であり、「Ｈｘ」はヘキサンの略称であり、「ＰＧＭＥＡ」はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの略称である。
【００６２】
【表７】
表７から明らかなように、実施例５９、６０、６２及び６３の膜では電極の配線として極めて有効な導電性が得られることが判った。また実施例６１の膜では透明導電膜として極めて優れた可視光透過率と導電性を有することが判った。
【符号の説明】
【００６３】
１２ 混合物
１４ 粒子分散体
【技術分野】
【０００１】
本発明は、酸化物半導体粒子が分散した粒子分散体を製造する方法と、この方法で製造された粒子分散体と、この粒子分散体を乾燥して得られた粉末状の酸化物半導体粒子、金属粒子及び半金属粒子に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、1,4-グルコシド結合を有する化合物と金属化合物とを溶媒に溶解し、得られた溶液中の金属イオンを還元し、金属ナノ粒子とする金属ナノ粒子の製造方法（例えば、特許文献１参照。）が開示されている。この金属ナノ粒子の製造方法では、上記溶液を加熱し、その後還元剤を添加することにより、金属イオンを還元する。このように極めて簡便な方法により単分散かつ微細な金属ナノ粒子を製造できるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−２１３３１１号公報（請求項１及び４、段落［００３２］）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、上記従来の特許文献１に示された金属ナノ粒子の製造方法では、還元反応が有機金属の自己分解に頼っているため、不均一に反応して凝集物が発生し易く、分散体を得ることが難しく、歩留まりが悪いという不具合があった。
本発明の目的は、極めて簡便に、導電性、分散性、分散安定性、透明性、沈降防止性等を付与若しくは改善することができる、粒子分散体の製造方法及びこの方法で製造された粒子分散体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の第１の観点は、図１に示すように、有機金属化合物及び有機半金属化合物からなる群より選ばれた１種又は２種以上の単一物又は混合物に、所定の雰囲気中で出力８００〜１２５０Ｗのマイクロ波を３〜１０分間照射して粒子が分散したコロイド状の分散体を作製する工程を含む粒子分散体を製造する方法である。
この第１の観点の粒子分散体を製造する方法では、上記単一物又は混合物に所定の雰囲気中でマイクロ波を照射すると、単一物又は混合物の分子がマイクロ波により振動して摩擦熱が発生することにより加熱されるため、化学的に反応しながら有機金属化合物中の金属若しくは金属酸化物又は有機半金属化合物中の半金属又は半金属酸化物が中心となって有機金属化合物又は有機半金属化合物が分解する。この有機金属化合物又は有機半金属化合物の分解により、結合の外れた金属、半金属又はそれらの酸化物生成体からなる粒子の表面に、同様に結合の外れた有機物又はその分解生成物が付くため、導電性、分散性、分散安定性、透明性、沈降防止性等の特性を有する膜として用いられる粒子分散体が得られる。
【発明の効果】
【０００６】
第１の観点の粒子分散体を製造する方法では、有機金属化合物及び有機半金属化合物からなる群より選ばれた１種又は２種以上の単一物又は混合物に、所定の雰囲気中で８００〜１２５０Ｗのマイクロ波を３〜１０分間照射して粒子が分散したコロイド状の分散体を作製したので、極めて簡便に、導電性、分散性、分散安定性、透明性、沈降防止性等を付与若しくは改善した粒子分散体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明実施形態の粒子分散体を実験的に製造する装置の断面構成図である。
【図２】ステンレス製のフォトマスクの斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
次に本発明を実施するための形態を図面に基づいて説明する。
＜第１の実施の形態＞
図１に示すように、粒子分散体を製造するには、先ず有機金属化合物及び有機半金属化合物からなる群より選ばれた１種又は２種以上の単一物を作製するか或いは混合物を調製する。上記有機金属化合物に含まれる金属は、Ｃｕ，Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｒｅ，Ｏｓ，Ｉｒ，Ｓｃ，Ｙ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｔｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｅｒ，Ｔｍ及びＹｂからなる群より選ばれた１種又は２種以上の金属、好ましくはＣｕ，Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｒｅ，Ｔｉ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｉｎ及びＳｎからなる群より選ばれた１種又は２種以上の金属である。また上記有機半金属化合物に含まれる半金属は、Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｂ及びＢｉからなる群より選ばれた１種又は２種以上の半金属である。
【０００９】
上記有機金属化合物又は有機半金属化合物の有機成分は、有機酸及びアミンからなる群より選ばれた１種又は２種以上の化合物であり、上記有機酸は、炭素数２〜２９、好ましくは炭素数３〜１８の炭素を含む化合物からなる群より選ばれた１種又は２種以上の化合物であることが好ましい。具体的には、上記有機酸は、リンゴ酸、クエン酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ビバル酸、吉草酸、イソ吉草酸、カプロン酸、２−エチル酪酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、２−エチルヘキサン酸、カプリン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸、リシノール酸、１２−ヒドロキシステアリン酸、ナフテン酸、アビエチン酸、デキストロピマル酸、パルミトレイン酸、オレイン酸、リノール酸及びリノレン酸からなる群より選ばれた１種又は２種以上の有機酸であることが好ましく、更にリンゴ酸、クエン酸、フマル酸、マレイン酸、２−エチルヘキサン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、１２−ヒドロキシステアリン酸、オレイン酸、リノール酸及びリノレン酸からなる群より選ばれた１種又は２種以上の有機酸であることが好ましい。有機酸は、光重合性化合物であることが好ましい。具体的には、光重合性化合物は、アクリロイル基、メタクリロイル基及びビニル基からなる群より選ばれた１種又は２種以上を含むことが好ましい。ここで、炭素数を２〜２９の範囲に限定したのは、炭素数が２未満は所望の有機酸を得ることができず、炭素数が２９を越える有機酸は見当たらず実質的に使用しないからである。
【００１０】
一方、アミンは、ジブチルアミン、ジイソブチルアミン、トリペンチルアミン、アリルアミン、シクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、プロピレンジアミン、ジエチレントリアミン、ドデシルアミン、１，３−ジメチル−ｎ−ブチルアミン、１−アミノウンデカン、１−アミノトリデカン、テトラデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン、オレイルアミン、ジオレイルアミン、ドデシルジメチルアミン、テトラデシルジメチルアミン、ヘキサデシルジメチルアミン、オクタデシルジメチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン及び３−メトキシプロピルアミンからなる群より選ばれた１種又は２種以上であることが好ましく、更にジブチルアミン、ドデシルアミン、テトラデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン、オレイルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン及び３−メトキシプロピルアミンからなる群より選ばれた１種又は２種以上のアミンであることが好ましい。また還元剤は、ヒドラジン、水素化ホウ素塩、ジメチルアミンボラン、ギ酸、ギ酸塩及びジ亜燐酸塩からなる群より選ばれた１種又は２種以上であることが好ましい。
【００１１】
次に上記単一物又は混合物を所定の雰囲気中で出力８００〜１２５０Ｗ、好ましくは９００〜１２００Ｗのマイクロ波を３〜１０分間、好ましくは４〜８分間保持する。このマイクロ波を発生する手段としては、電子レンジを用いることが好ましく、そのマイクロ波の周波数は２．４５ＧＨｚに設定されている。また単一物又は混合物にマイクロ波を照射するときの雰囲気は、不活性ガス雰囲気、還元性ガス雰囲気又は大気雰囲気であることが好ましい。ここで、マイクロ波の出力を８００〜１２５０Ｗの範囲に限定したのは、８００Ｗ未満では分散体の生成が不十分となり、１２５０Ｗを越えると有機物の分解が著しくなり、安定した分散体が得られないからである。またマイクロ波の照射時間を３〜１０分間の範囲に限定したのは、３分間未満では分散体の生成が不十分となり、１０分間を越えると反応が著しく過度に進行し、凝集塊が生成するからである。このような簡便な方法で粒子が分散したコロイド状の分散体を作製できる。
【００１２】
上記方法により製造された粒子分散体としては、平均粒径０．００５〜１．０μｍ、好ましくは０．０１〜０．８μｍの酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛含有酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウム含有酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウム含有酸化亜鉛（ＧＺＯ）、セリウム含有酸化亜鉛（ＣＺＯ）、ホウ素含有酸化亜鉛（ＢＺＯ）、アンチモン含有酸化錫（ＡＴＯ）、或いはリン含有酸化錫（ＰＴＯ）の酸化物半導体粒子を含む粒子分散体が挙げられる。また上記粒子分散体を乾燥して得られた酸化物半導体粒子としては、平均粒径０．００５〜１．０μｍ、好ましくは０．０１〜０．８μｍの酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛含有酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウム含有酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウム含有酸化亜鉛（ＧＺＯ）、セリウム含有酸化亜鉛（ＣＺＯ）、ホウ素含有酸化亜鉛（ＢＺＯ）、アンチモン含有酸化錫（ＡＴＯ）、或いはリン含有酸化錫（ＰＴＯ）の酸化物半導体粒子が挙げられる。ここで、酸化物半導体粒子の平均粒径を０．００５〜１．０μｍの範囲に限定したのは、０．００５μｍ未満の粒子や１．０μｍを越える粒子がこの方法では得られないからである。なお、本発明で使用される酸化物半導体粒子などの平均粒径とは、レーザー回折／散乱式粒度分布測定装置（堀場製作所製 ＬＡ−９５０）にて測定し、粒子径基準を個数として演算した５０％平均粒子径（Ｄ50）をいう。このレーザー回折／散乱式粒度分布測定装置による個数基準平均粒径の値は、走査型電子顕微鏡（日立ハイテクノロジーズ製 Ｓ−４３００ＳＥ及びＳ−９００）により観察した画像において、任意の５０個の粒子について粒径を実測したときのその平均粒径とほぼ一致する。
【００１３】
＜第２の実施の形態＞
上記第１の実施の形態で作製又は調製された単一物又は混合物に更にフッ化アンモニウムを添加することを除いて、第１の実施の形態と同様にして粒子が分散したコロイド状の分散体を作製する。この方法により製造された粒子分散体としては、平均粒径０．００５〜１．０μｍ、好ましくは０．０１〜０．８μｍのフッ素含有酸化錫（ＦＴＯ）、フッ素含有酸化インジウム（ＦＩＯ）、フッ素含有酸化亜鉛（ＦＺＯ）、フッ素錫含有酸化インジウム（ＦＩＴＯ）、フッ素亜鉛含有酸化インジウム（ＦＩＺＯ）、フッ素アルミニウム含有酸化亜鉛（ＦＡＺＯ）、フッ素ガリウム含有酸化亜鉛（ＦＧＺＯ）、フッ素セリウム含有酸化亜鉛（ＦＣＺＯ）、或いはフッ素アンチモン含有酸化錫（ＦＡＴＯ）の酸化物半導体粒子を含む粒子分散体が挙げられる。また上記粒子分散体を乾燥して得られた酸化粒半導体粒子としては、平均粒径０．００５〜１．０μｍ、好ましくは０．０１〜０．８μｍのフッ素含有酸化錫（ＦＴＯ）、フッ素含有酸化インジウム（ＦＩＯ）、フッ素含有酸化亜鉛（ＦＺＯ）、フッ素錫含有酸化インジウム（ＦＩＴＯ）、フッ素亜鉛含有酸化インジウム（ＦＩＺＯ）、フッ素アルミニウム含有酸化亜鉛（ＦＡＺＯ）、フッ素ガリウム含有酸化亜鉛（ＦＧＺＯ）、フッ素セリウム含有酸化亜鉛（ＦＣＺＯ）、或いはフッ素アンチモン含有酸化錫（ＦＡＴＯ）の酸化物半導体粒子が挙げられる。ここで、酸化物半導体粒子の平均粒径を０．００５〜１．０μｍの範囲に限定したのは、０．００５μｍ未満の粒子や１．０μｍを越える粒子がこの方法では得られないからである。
【００１４】
なお、上記第１及び第２の実施の形態では、酸化物半導体粒子を含む粒子分散体を製造したが、平均粒径０．００５〜１．０μｍ、好ましくは０．０１〜０．８μｍのＣｕ，Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｒｅ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｉｎ及びＳｎからなる群より選ばれた１種又は２種以上の純金属粒子、混合金属粒子或いは合金粒子を含む粒子分散体であってもよい。また、上記第１及び第２の実施の形態では、粒子分散体を乾燥して酸化物半導体粒子を製造したが、上記純金属粒子、混合金属粒子或いは合金粒子を含む粒子分散体を乾燥して、平均粒径０．００５〜１．０μｍ、好ましくは０．０１〜０．８μｍのＣｕ，Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｒｅ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｉｎ及びＳｎからなる群より選ばれた１種又は２種以上の純金属、混合金属或いは合金からなる金属粒子であってもよい。ここで、金属粒子の平均粒径を０．００５〜１．０μｍの範囲に限定したのは、０．００５μｍ未満の粒子や１．０μｍを越える粒子がこの方法では得られないからである。
また、上記第１及び第２の実施の形態では、酸化物半導体粒子を含む粒子分散体を製造したが、平均粒径０．００５〜１．０μｍ、好ましくは０．０１〜０．８μｍのＳｂの半金属粒子を含む粒子分散体であってもよい。更に、上記第１及び第２の実施の形態では、粒子分散体を乾燥して酸化物半導体粒子を製造したが、上記Ｓｂの半金属粒子を含む粒子分散体を乾燥して、平均粒径０．００５〜１．０μｍ、好ましくは０．０１〜０．８μｍのＳｂからなる半金属粒子であってもよい。ここで、半金属粒子の平均粒径を０．００５〜１．０μｍの範囲に限定したのは、０．００５μｍ未満の粒子や１．０μｍを越える粒子がこの方法では得られないからである。
【実施例】
【００１５】
次に本発明の実施例を比較例とともに詳しく説明する。
＜実施例１＞
先ずエチレンオキシド変性コハク酸メタクリレート（新中村化学社製のＮＫエステルＳＡ）を水酸化ナトリウムでけん化して石鹸を調製した。この石鹸を２つに分け、一方の石鹸に塩化インジウム溶液（アジア物性社製）を混合して撹拌することによりインジウムの金属石鹸を調製した。このインジウムの金属石鹸を十分に水で洗浄して濾過することにより脱塩した後に、この脱塩したインジウムの金属石鹸を８０℃の真空乾燥機に一晩入れて脱水することによりインジウム石鹸（炭素数：１０）を得た。一方、上記石鹸の他方に塩化錫溶液（アジア物性社製）を混合して撹拌することにより錫の金属石鹸を調製した。この錫の金属石鹸を十分に水で洗浄して濾過することにより脱塩した後に、この脱塩した錫の金属石鹸を８０℃の真空乾燥機に一晩入れて脱水することにより錫石鹸（炭素数：１０）を得た。なお、上記エチレンオキシド変性コハク酸メタクリレートの化学式（１）をここに示す。
【００１６】
【化１】
次いで図１に示すように、２０ｃｃのガラス瓶に上記インジウム石鹸７．５ｇと錫石鹸０．５ｇとを入れて、気密であって所定のガスを給排可能なグローブボックス１１内に収容された電子レンジ１２のターンテーブル１２ａ上に置いた。次に上記インジウム石鹸と錫石鹸の混合物１３の入ったガラス瓶１４に、直径及び深さがそれぞれ１５０ｍｍ及び７０ｍｍである透明な石英製坩堝１６を被せるとともに、グローブボックス１１内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジ１２を出力１０００Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶１４を電子レンジ１２から取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体１７を得た。この粒子分散体１７を実施例１とした。なお、図１において、符号１２ｂはマイクロ波を発生するマグネトロンであり、符号１２ｃはトランスであり、符号１２ｄは空気を流通させるとともにトランス１２ｃを冷却するファンであり、符号１２ｅはターンテーブル１２ａを回転駆動するモータである。また図１において、破線矢印はマイクロ波の流れを示し、一点鎖線矢印は空気の流れを示す。
【００１７】
＜実施例２＞
先ず12-ヒドロキシステアリン酸インジウム（炭素数：１８）７．５ｇとステアリン酸錫（炭素数：１８）０．５ｇとをガラス瓶に入れ、更にフッ化アンモニウムを０．３ｇ添加して混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力９５０Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例２とした。
＜実施例３＞
先ずステアリン酸錫（炭素数：１８）７．５ｇをガラス瓶に入れ、フッ化アンモニウムを０．３ｇ添加して混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力８５０Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例３とした。
【００１８】
＜実施例４＞
先ずステアリン酸錫（炭素数：１８）７．５ｇをガラス瓶に入れ、フッ化アンモニウムを０．３ｇ添加して混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力８５０Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例４とした。
＜実施例５＞
先ずステアリン酸錫（炭素数：１８）７．５ｇとモンタン酸／2-アミノエタノールアンチモン錯体（炭素数：２９）０．８ｇとをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力１０００Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例５とした。
＜実施例６＞
先ずオレイン酸インジウム（炭素数：１８）７．５ｇとパルミチン酸亜鉛（炭素数：１６）０．７ｇとをガラスに入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力９５０Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例６とした。
【００１９】
＜実施例７＞
先ずエチレンオキシド変性コハク酸メタクリレート（新中村化学社製のＮＫエステルＳＡ）を水酸化ナトリウムでけん化して石鹸を調製した後に、この石鹸に塩化インジウム溶液（アジア物性社製）を混合して撹拌することによりインジウムの金属石鹸を調製した。このインジウムの金属石鹸を十分に水で洗浄して濾過することにより脱塩した後に、この脱塩したインジウムの金属石鹸を８０℃の真空乾燥機に一晩入れて脱水することによりインジウム石鹸（炭素数：１０）を得た。一方、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレート（東亞合成社製のアロニックスＭ−５３００）を水酸化ナトリウムでけん化して石鹸を調製した後に、この石鹸に塩化亜鉛溶液を混合して撹拌することにより亜鉛の金属石鹸を調製した。この亜鉛の金属石鹸を十分に水で洗浄して濾過することにより脱塩した後に、この脱塩した亜鉛の金属石鹸を８０℃の真空乾燥機に一晩入れて脱水することにより亜鉛石鹸（炭素数：１５）を得た。なお、上記ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレートの化学式（２）をここに示す。
【００２０】
【化２】
次いで上記インジウム石鹸７．５ｇと亜鉛石鹸０．７ｇとをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力９５０Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例７とした。
【００２１】
＜実施例８＞
先ずβ−カルボキシルエチルアクリレート（ダイセル・ユーシービー社製のβ−ＣＥＡ）を水酸化ナトリウムでけん化して石鹸を調製した後に、この石鹸に塩化チタン溶液を混合して撹拌することによりチタンの金属石鹸を調製した。このチタンの金属石鹸を十分に水で洗浄して濾過することにより脱塩した後に、この脱塩したチタンの金属石鹸を８０℃の真空乾燥機に一晩入れて脱水することによりチタン石鹸を得た。なお、上記β−カルボキシルエチルアクリレートの化学式（３）をここに示す。
【００２２】
【化３】
次いで上記チタン石鹸７．５ｇをガラス瓶に入れた。次にこのチタン石鹸（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力１２００Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例８とした。
【００２３】
＜実施例９＞
先ずチタンカップリング剤（味の素社製のＫＲ４４、炭素数：３及び４）７．５ｇをガラス瓶に入れる。次にこのチタンカップリング剤（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力１２００Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例９とした。なお、上記チタンカップリング剤（味の素社製のＫＲ４４）の化学式（４）をここに示す。
【００２４】
【化４】
＜実施例１０＞
先ずチタンカップリング剤（味の素社製の９ＳＡ、炭素数：３及び１８）７．５ｇをガラス瓶に入れた。次にこのチタンカップリング剤（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力１２００Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例１０とした。なお、上記チタンカップリング剤（味の素社製の９ＳＡ）の化学式（５）をここに示す。
【００２５】
【化５】
＜比較例１＞
先ずオレイン酸インジウム（炭素数：１８）７．５ｇとステアリン酸錫（炭素数：１８）０．５ｇとをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力１３００Ｗで６分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を比較例１とした。
＜比較例２＞
先ずオレイン酸インジウム（炭素数：１８）７．５ｇとステアリン酸錫（炭素数：１８）０．５ｇとをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力１０００Ｗで１１分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を比較例２とした。
＜比較例３＞
先ずオレイン酸インジウム（炭素数：１８）７．５ｇとステアリン酸錫（炭素数：１８）０．５ｇとをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力７５０Ｗで４分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を比較例３とした。
【００２６】
＜比較例４＞
先ずオレイン酸インジウム（炭素数：１８）７．５ｇとステアリン酸錫（炭素数：１８）０．５ｇとをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力８００Ｗで２分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を比較例４とした。
＜比較例５＞
先ずオレイン酸インジウム（炭素数：１８）７．５ｇとステアリン酸錫（炭素数：１８）０．５ｇとをガラス瓶に入れ、更に溶媒としてメチルカルビトール（略称：ＭＣＴ）を添加して混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に空気（鈴木商事館社製の一般空気ボンベに貯留された空気）を２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力８５０Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を比較例５とした。
【００２７】
＜比較試験１及び評価＞
実施例１〜１０及び比較例１〜５の粒子分散体をアセトンで洗浄した後、真空雰囲気中に室温で２時間保持して金属又は半金属化合物粒子からなる乾燥粉末を作製し、Ｘ線回折法（ＸＲＤ法）により乾燥粉末を構成する化合物の同定を行ってその化合物のパターン（結晶構造）及び名称を特定し、また蛍光Ｘ線分光分析法（ＸＦＳ法）により上記乾燥粉末の元素分析を行い、更に透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）により乾燥粉末の一次粒子の平均粒径を求めた。その結果を表１に示す。なお、表１の比較例５の「ＭＣＴ」はメチルカルビトールである。
【００２８】
【表１】
表１から明らかなように、比較例３及び４では未反応部分が多く、比較例５では原料粉末の有機金属化合物と変わっていなかった。これに対し、実施例１、２、４、６及び７では乾燥粉末の金属又は半金属化合物粒子のパターン（結晶構造）がビックスバイト（bixbite）型構造であり、実施例３及び５では乾燥粉末の金属又は半金属化合物粒子のパターン（結晶構造）がルチル（rutile）型構造であり、実施例８〜１０では乾燥粉末の金属又は半金属化合物粒子のパターン（結晶構造）がアナターゼ（anataze）型構造であった。また実施例１〜１０では、乾燥粉末の金属又は半金属化合物粒子がＩｎ、Ｓｎ、Ｓｂ等の金属又は半金属を含んでおり、金属又は半金属化合物粒子の一次粒子の平均粒径が４〜１０ｎｍと極めて微細であることが分かった。なお、比較例１及び２では乾燥粉末の金属化合物粒子のパターン（結晶構造）がビックスバイト（bixbite）型構造であり、金属化合物粒子の平均粒径がそれぞれ１４ｎｍ及び１１ｎｍと比較的微細であったが、後述する比較試験２に示すように沈殿してしまい、分散液が得られなかった。
【００２９】
＜実施例１１＞
実施例１の粒子分散体を2-イソプロポキシエタノール（溶媒、略称：ｉｓｏＰＧ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例１１とした。
＜実施例１２＞
実施例２の粒子分散体をメチルカルビトール（溶媒、略称：ＭＣＴ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例１２とした。
＜実施例１３＞
実施例３の粒子分散体をイソプロパノール（溶媒、略称：ＩＰＡ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例１３とした。
＜実施例１４＞
実施例４の粒子分散体をイソプロパノール（溶媒、略称：ＩＰＡ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例１４とした。
＜実施例１５＞
実施例５の粒子分散体をイソプロパノール（溶媒、略称：ＩＰＡ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例１５とした。
【００３０】
＜実施例１６＞
実施例６の粒子分散体をN-メチルピロリドン（溶媒、略称：ＮＭＰ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例１６とした。
＜実施例１７＞
実施例１８の粒子分散体をヘキサン（溶媒、略称：Ｈｘ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例１７とした。
＜実施例１８＞
実施例８の粒子分散体をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（溶媒、略称：ＰＧＭＥＡ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例１８とした。
＜実施例１９＞
実施例９の粒子分散体をプロピレングリコールモノメチルエーテル（溶媒、略称：ＰＧＭ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例１９とした。
＜実施例２０＞
実施例１０の粒子分散体をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（溶媒、略称：ＰＧＭＥＡ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例２０とした。
【００３１】
＜比較例６＞
比較例１の粒子分散体をメチルカルビトール（溶媒、略称：ＭＣＴ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を比較例６とした。
＜比較例７＞
比較例２の粒子分散体をメチルカルビトール（溶媒、略称：ＭＣＴ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を比較例７とした。
＜比較例８＞
比較例３の粒子分散体をメチルカルビトール（溶媒、略称：ＭＣＴ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を比較例８とした。
＜比較例９＞
比較例４の粒子分散体をメチルカルビトール（溶媒、略称：ＭＣＴ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約３０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を比較例９とした。
【００３２】
＜比較試験２及び評価＞
実施例１１〜２０及び比較例６〜１０の約３０重量％に洗浄・濃縮した直後の粒子分散体の状態と、密栓したガラス瓶に入れて４０℃に２週間保持した後の状態を目視にて観察した。その結果を表２に示す。表２において、「ｉｓｏＰＧ」は2-イソプロポキシエタノールの略称であり、「ＭＣＴ」はメチルカルビトールの略称であり、「ＩＰＡ」はイソプロパノールの略称であり、「ＮＭＰ」はN-メチルピロリドンの略称であり、「Ｈｘ」はヘキサンの略称であり、「ＰＧＭＥＡ」はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの略称であり、「ＰＧＭ」はプロピレングリコールモノメチルエーテルの略称である。
【００３３】
【表２】
表２から明らかなように、比較例６〜９では２週間後いずれも沈殿していたのに対し、実施例１１〜２０では２週間後も沈殿せずコロイド特有のインク状態のままであった。この結果、上記実施例のような簡便な方法で、特別な分散装置を使用せずに、高濃度の金属又は半金属化合物粒子の分散した粒子分散体（コロイド液）が比較的容易に製造できることが判った。
【００３４】
＜実施例２１＞
先ずイソステアリン酸銅（炭素数：１８）０．７ｇをガラス瓶に入れた。次にこのイソステアリン酸銅（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力１０００Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例２１とした。
＜実施例２２＞
先ずカプロン酸銀（炭素数：６）０．７ｇをガラス瓶に入れた。次にこのカプロン酸銀（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力８５０Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例２２とした。
【００３５】
＜実施例２３＞
先ずオレイン酸銀（炭素数：１８）０．３５ｇと2-エチルヘキサン酸パラジウム（炭素数：８）０．３５ｇとをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力８５０Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例２３とした。
＜実施例２４＞
先ず2-エチルヘキサン酸パラジウム（炭素数：８）０．７ｇをガラス瓶に入れた。次にこの2-エチルヘキサン酸パラジウム（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力８５０Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例２４とした。
【００３６】
＜実施例２５＞
先ずカプロン酸／2-エチルヘキシルアミン金錯体（炭素数：６，８）０．７ｇをガラス瓶にいれた。次にこのカプロン酸／2-エチルヘキシルアミン金錯体（単一物）を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら電子レンジを出力１０００Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例２５とした。
＜実施例２６＞
先ずオレイン酸／プロピレンジアミン金錯体（炭素数：１８，３）０．６ｇとイソステアリン酸銅（炭素数：１８）０．１ｇとをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力１０００Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例２６とした。
【００３７】
＜実施例２７＞
先ずオレイルアミン白金錯体（炭素数：１８）０．７をガラス瓶に入れた。次にこのオレイルアミン白金錯体（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力８５０Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例２７とした。
＜実施例２８＞
先ずビバル酸ルテニウム（炭素数：５）０．７ｇをガラス瓶に入れた。次にこのビバル酸ルテニウム（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力１２００Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例２８とした。
【００３８】
＜実施例２９＞
先ずステアリン酸鉄（炭素数：１８）０．３ｇと酢酸コバルト（炭素数：２）０．１ｇとベヘン酸ニッケル（炭素数：２２）０．３ｇとをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力１２００Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例２９とした。
＜実施例３０＞
先ずリノール酸／テトラデシルアミンロジウム錯体（炭素数：１８，１４）０．７ｇをガラス瓶に入れた。次にリノール酸／テトラデシルアミンロジウム錯体（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力１０００Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例３０とした。
【００３９】
＜実施例３１＞
先ずリノレン酸／ヘキサデシルアミンレニウム錯体（炭素数：１８，１６）０．７ｇをガラス瓶に入れた。次にこのリノレン酸／ヘキサデシルアミンレニウム錯体（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力１０００Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例３１とした。
＜実施例３２＞
先ずオレイン酸インジウム（炭素数：１８）０．６５ｇとドデシルアミン錫錯体（炭素数：１２）０．５ｇとをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力１０００Ｗで９分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例３２とした。
【００４０】
＜実施例３３＞
先ず12-ヒドロキシステアリン酸インジウム（炭素数：１８）０．６ｇとパルミチン酸亜鉛（炭素数：１６）０．１ｇとをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力８５０Ｗで９分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例３３とした。
＜実施例３４＞
先ずアクリル酸銀（炭素数：４）０．７をガラス瓶に入れた。次にこのパルミチン酸亜鉛（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力８５０Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例３４とした。
【００４１】
＜実施例３５＞
先ずモンタン酸／2-アミノエタノールアンチモン錯体（炭素数：２９）０．３５ｇとアクリル酸パラジウム（炭素数：４）とをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力８５０Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例３５とした。
＜実施例３６＞
実施例１のインジウム石鹸（炭素数：１０）０．６５ｇと実施例１の錫石鹸（炭素数：１０）０．５ｇとをガラス瓶に入れて混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力１１００Ｗで９分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例３６とした。
【００４２】
＜実施例３７＞
先ずエチレンオキシド変性コハク酸メタクリレート（新中村化学社製のＮＫエステルＳＡ）を水酸化ナトリウムでけん化して石鹸を調製した後に、この石鹸に塩化金溶液を混合して撹拌することにより金の金属石鹸を調製した。次いでこの金の金属石鹸を十分に水で洗浄して濾過することにより脱塩した後に、この脱塩した金の金属石鹸を８０℃の真空乾燥機に一晩入れて脱水することにより金石鹸（炭素数：１０）を得た。次にこの金石鹸０．７ｇをガラス瓶に入れた。更にこの金石鹸（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力１０００Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例３７とした。
＜実施例３８＞
先ずメタクリル酸白金（炭素数：５）０．７ｇをガラス瓶に入れた。次にメタクリル酸白金（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力１０００Ｗで５分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を実施例３８とした。
【００４３】
＜比較例１０＞
先ずカプロン酸銀（炭素数：６）０．７ｇをガラス瓶に入れた。次にこのカプロン酸銀（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力１３００Ｗで６分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を比較例１０とした。
＜比較例１１＞
先ずカプロン酸銀（炭素数：６）０．７ｇをガラス瓶に入れた。次にこのカプロン酸銀（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力１０００Ｗで１１分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を比較例１１とした。
＜比較例１２＞
先ずカプロン酸銀（炭素数：６）０．７ｇをガラス瓶に入れた。次にこのカプロン酸銀（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力７５０Ｗで４分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を比較例１２とした。
＜比較例１３＞
先ずカプロン酸銀（炭素数：６）０．７ｇをガラス瓶に入れた。次にこのカプロン酸銀（単一物）の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力８００Ｗで２分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を比較例１３とした。
【００４４】
＜比較例１４＞
先ずカプロン酸銀（炭素数：６）０．７ｇをガラス瓶に入れ、デカリン（溶媒）１．５ｇを添加して混合物を得た。次に上記混合物の入ったガラス瓶を電子レンジに入れるとともに、グローブボックス内に窒素ガスを２００ｃｃ／分ずつ供給しながら、電子レンジを出力８５０Ｗで８分間作動させた。その後、上記ガラス瓶を電子レンジから取出して室温まで冷却し、コロイド状の粒子分散体を得た。この粒子分散体を比較例１４とした。
＜比較試験３及び評価＞
実施例２１〜３８及び比較例９〜１４の粒子分散体をアセトンで洗浄した後、真空雰囲気中に室温で２時間保持して金属粒子からなる乾燥粉末を作製し、Ｘ線光電子スペクトル法（ＸＰＳ法）により乾燥粉末を構成する化合物の同定を行ってその化合物の酸化数を求め、またフィールドエミッション透過電子顕微鏡（ＦＥ−ＴＥＭ）により上記乾燥粉末の元素分析を行うとともに、乾燥粉末の一次粒子の平均粒径を求めた。その結果を表３及び表４に示す。
【００４５】
【表３】
【００４６】
【表４】
表３及び表４から明らかなように、比較例１０では銀メタルの凝集塊が発生し、比較例１１では酸化数がゼロであったけれども金属粒子の一次粒子の平均粒径がミクロンオーダと大きく、比較例１２では反応部分が多く、更に比較例１３及び１４では原料粉末の有機金属化合物と変わっていなかった。これに対し、実施例２１〜３８では乾燥粉末の金属粒子の酸化数がゼロであり、また実施例２１〜３８では、乾燥粉末の金属粒子がＩｎ、Ｓｎ等の金属を含み、更に金属粒子の一次粒子の平均粒径が２〜１３ｎｍと極めて微細であることが分かった。
【００４７】
＜実施例３９＞
実施例２１の粒子分散体をトルエン（溶媒、略称：ＴＬ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例３９とした。
＜実施例４０＞
実施例２２の粒子分散体をイソプロパノール（溶媒、略称：ＩＰＡ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例４０とした。
＜実施例４１＞
実施例２３の粒子分散体を2-イソプロポキシエタノール（溶媒、略称：ｉｓｏＰＧ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例４１とした。
＜実施例４２＞
実施例２４の粒子分散体をイソプロパノール（溶媒、略称：ＩＰＡ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例４２とした。
＜実施例４３＞
実施例２５の粒子分散体をイソプロパノール（溶媒、略称：ＩＰＡ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例４３とした。
【００４８】
＜実施例４４＞
実施例２６の粒子分散体をα−テルピネオール（溶媒、略称：ＴＰ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例４４とした。
＜実施例４５＞
実施例２７の粒子分散体をα−テルピネオール（溶媒、略称：ＴＰ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例４５とした。
＜実施例４６＞
実施例２８の粒子分散体を水（溶媒、略称：Ｗ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例４６とした。
＜実施例４７＞
実施例２９の粒子分散体をプロピレングリコールモノメチルエーテル（溶媒、略称：ＰＧＭ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例４７とした。
＜実施例４８＞
実施例３０の粒子分散体をヘキサン（溶媒、略称：Ｈｘ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例４８とした。
【００４９】
＜実施例４９＞
実施例３１の粒子分散体をメチルカルビトール（溶媒、略称：ＭＣＴ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例４９とした。
＜実施例５０＞
実施例３２の粒子分散体をデカリン（溶媒、略称：ＤＣ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例５０とした。
＜実施例５１＞
実施例３３の粒子分散体をデカリン（溶媒、略称：ＤＣ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例５１とした。
＜実施例５２＞
実施例３４の粒子分散体をイソプロパノール（溶媒、略称：ＩＰＡ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例５２とした。
＜実施例５３＞
実施例３５の粒子分散体をイソプロパノール（溶媒、略称：ＩＰＡ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例５３とした。
【００５０】
＜実施例５４＞
実施例３６の粒子分散体をテトラデカン（溶媒、略称：ＴＤ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例５４とした。
＜実施例５５＞
実施例３７の粒子分散体をヘキサン（溶媒、略称：Ｈｘ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例５５とした。
＜実施例５６＞
実施例３８の粒子分散体をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（溶媒、略称：ＰＧＭＥＡ）で希釈した後に、限外濾過法により洗浄・濃縮して粒子の含有量が約４０重量％となるように粒子分散体を調製した。この粒子分散体を実施例５６とした。
＜比較例１５＞
比較例１１の粒子分散体をイソプロパノール（溶媒、略称：ＩＰＡ）と混合した。この混合物を比較例１５とした。
【００５１】
＜比較試験４及び評価＞
実施例３９〜５６の粒子分散体と比較例１５の混合物の、約３０重量％に洗浄・濃縮した直後の粒子分散体の状態と、密栓したガラス瓶に入れて４０℃に２週間保持した後の状態を目視にて観察した。その結果を表５及び表６に示す。表５及び表６において、「ＴＬ」はトルエンの略称であり、「ＩＰＡ」はイソプロパノールの略称であり、「ｉｓｏＰＧ」は2-イソプロポキシエタノールの略称であり、「ＴＰ」はα−テルピネオールの略称であり、「Ｗ」は水の略称であり、「ＰＧＭ」はプロピレングリコールモノメチルエーテルの略称であり、「Ｈｘ」はヘキサンの略称であり、「ＭＣＴ」はメチルカルビトールの略称であり、「ＤＣ」はデカリンの略称であり、「ＴＤ」はテトラデカンの略称であり、「ＰＧＭＥＡ」はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの略称である。
【００５２】
【表５】
【００５３】
【表６】
表５及び表６から明らかなように、比較例１５ではイソプロパノール（溶媒、略称：ＩＰＡに全く分散しなかったのに対し、実施例３９〜５６では２週間後も沈殿せずコロイド特有のインク状態のままであった。この結果、上記実施例のような簡便な方法で、特別な分散装置を使用せずに、高濃度の金属粒子の分散した粒子分散体（コロイド液）が比較的容易に製造できることが判った。
【００５４】
＜実施例５７＞
先ず実施例１１の粒子分散体（濃度約３０重量％のＩＴＯ粒子を分散した分散液）をエタノールで、ＩＴＯ粒子の含有量が４．０重量％となるように希釈し、この希釈した粒子分散体に光開始剤（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製のイルガキュア５００）を０．１重量％溶かして粒子分散体を調製した。次いで洗浄済みのソーダガラス板（縦１００ｍｍ、横１００ｍｍ、厚さ２．８ｍｍ）を４０℃に保温し、このソーダガラス板をスピンコーターで１５０ｒｐｍの速度で回転させた状態で、上記希釈調製した粒子分散体を５ｃｃ滴下し、１２０秒間振り切って膜を作製した。
上記膜を上に向けたガラス板にステンレス製フォトマスク３１（図２）を載せた。このフォトマスク３１は、縦×横×厚さがそれぞれ１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．０ｍｍの正方形状に形成され、幅×長さがそれぞれ２０ｍｍ×５０ｍｍの長方形の窓孔３１ａが１０ｍｍ間隔で３個形成される。次いでガラス板の上方から紫外線照射装置（１６０Ｗメタルハライドランプ：距離１０ｃｍ）により２５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線エネルギを照射した後、フォトマスクを取除いたガラス板をホットプレートに載せて大気中で１００℃に１０分間保持した。次にN,N-ジメチルホルムアミド１０重量％及びアセチルアセトン５重量％を相溶させたエタノール溶液で上記ガラス板をリンスすることにより、非光照射部の膜を溶かし、光照射の膜だけを残して、フォトマスクの長方形の窓孔と同一形状のパターニングされた膜を得た。更にこのガラス板を窒素ガス雰囲気中で２２０℃に３０分間保持して膜を焼成した後に室温まで冷却した。このガラス板を実施例５７とした。
【００５５】
＜実施例５８＞
実施例１７の粒子分散体（濃度約３０重量％のＩＺＯ粒子を分散した分散液）を用いたことを除いて、実施例５７と同様の方法でガラス板を作製した。このガラス板を実施例５８とした。
【００５６】
＜比較試験５及び評価＞
実施例５７及び５８のガラス板の膜の厚さを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて測定した。その結果、実施例５８の膜の厚さは２１５ｎｍと見積もられ、実施例５９の膜の厚さは３２１ｎｍと見積もられた。またこれらの膜の表面抵抗値を四探針法にて測定したところ、実施例５７の膜は４９２０Ω／□の導電性を示し、実施例５８の膜は５２９０Ω／□の導電性を示した。更に実施例５７及び５８の膜の可視光透過率を分光光度計にて測定したところ、９７．５％及び９６．２％と高い透明性を示した。
【００５７】
＜実施例５９＞
先ず実施例５２の粒子分散体（濃度約３０重量％のＡｇ粒子を分散した分散液）をイソプロパノールで、Ａｇ粒子の含有量が２０重量％となるように希釈し、この希釈した粒子分散体に光開始剤（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製のイルガキュア５００）を０．５重量％溶かして粒子分散体を調製した。次いで洗浄済みのソーダガラス板（縦１００ｍｍ、横１００ｍｍ、厚さ２．８ｍｍ）を４０℃に保温し、このソーダガラス板をスピンコーターで１５０ｒｐｍの速度で回転させた状態で、上記希釈調製した粒子分散体を５ｃｃ滴下し、１２０秒間振り切って膜を作製した。
上記膜を上に向けたガラス板にステンレス製フォトマスクをそれぞれ載せた。このフォトマスクは、縦×横×厚さがそれぞれ１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．０ｍｍの正方形状に形成され、幅×長さがそれぞれ２０ｍｍ×５０ｍｍの長方形の窓孔が１０ｍｍ間隔で３個形成される。次いでガラス板の上方から紫外線照射装置（１６０Ｗメタルハライドランプ：距離１０ｃｍ）により２５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線エネルギを照射した後、フォトマスクを取除いたガラス板をホットプレートに載せて大気中で１００℃に１０分間保持した。次にN,N-ジメチルホルムアミド１０重量％及びアセチルアセトン５重量％を相溶させたエタノール溶液で上記ガラス板をリンスすることにより、非光照射部の膜を溶かし、光照射の膜だけを残して、フォトマスクの長方形の窓孔と同一形状のパターニングされた膜を得た。更にこのガラス板を大気中で２００℃に３０分間保持して膜を焼成した後に室温まで冷却した。このガラス板を実施例５９とした。
＜実施例６０＞
実施例５３の粒子分散体（濃度約３０重量％のＡｇ粒子及びＰｄ粒子を分散した分散液）を用いたことを除いて実施例５９と同様にしてガラス板を作製した。このガラス板を実施例６０とした。
【００５８】
＜実施例６１＞
先ず実施例５４の粒子分散体（濃度約３０重量％のＩｎ粒子及びＳｎ粒子を分散した分散液）をヘキサンで、Ｉｎ粒子及びＳｎ粒子の含有量が１．０重量％となるように希釈し、この希釈した粒子分散体に光開始剤（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製のイルガキュア５００）を０．０５重量％溶かして粒子分散体を調製した。次いで洗浄済みのアクリル板（縦１００ｍｍ、横１００ｍｍ、厚さ２．８ｍｍ）を４０℃に保温し、このアクリル板をスピンコーターで１５０ｒｐｍの速度で回転させた状態で、上記希釈調製した粒子分散体を５ｃｃ滴下し、１２０秒間振り切って膜を作製した。
上記膜に向けたアクリル板にステンレス製フォトマスクをそれぞれ載せた。このフォトマスクは、縦×横×厚さがそれぞれ１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．０ｍｍの正方形状に形成され、幅×長さがそれぞれ２０ｍｍ×５０ｍｍの長方形の窓孔が１０ｍｍ間隔で３個形成される。次いでアクリル板の上方から紫外線照射装置（１６０Ｗメタルハライドランプ：距離１０ｃｍ）により２５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線エネルギを照射した後、フォトマスクを取除いたアクリル板をホットプレートに載せて大気中で１００℃に１０分間保持した。次にN,N-ジメチルホルムアミド１０重量％及びアセチルアセトン５重量％を相溶させたエタノール溶液で上記アクリル板をリンスすることにより、非光照射部の膜を溶かし、光照射の膜だけを残して、フォトマスクの長方形の窓孔と同一形状のパターニングされた膜を得た。更にこのアクリル板を窒素ガス雰囲気中で２００℃に３０分間保持し、大気中で２００℃に６０分間保持して、膜を焼成した後に室温まで冷却した。このガラス板を実施例５９とした。した。このアクリル板を実施例６１とした。
【００５９】
＜実施例６２＞
先ず実施例５５の粒子分散体（濃度約３０重量％のＡｕ粒子を分散した分散液）をヘキサンで、Ａｕ粒子の含有量が２０重量％となるように希釈し、この希釈した粒子分散体に光開始剤（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製のイルガキュア５００）を０．５重量％溶かして粒子分散体を調製した。次いで洗浄済みのソーダガラス板（縦１００ｍｍ、横１００ｍｍ、厚さ２．８ｍｍ）を４０℃に保温し、このソーダガラス板をスピンコーターで１５０ｒｐｍの速度で回転させた状態で、上記希釈調製した粒子分散体を５ｃｃ滴下し、１２０秒間振り切って膜を作製した。
上記膜を上に向けたガラス板にステンレス製フォトマスクをそれぞれ載せた。このフォトマスクは、縦×横×厚さがそれぞれ１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．０ｍｍの正方形状に形成され、幅×長さがそれぞれ２０ｍｍ×５０ｍｍの長方形の窓孔が１０ｍｍ間隔で３個形成される。次いでガラス板の上方から紫外線照射装置（１６０Ｗメタルハライドランプ：距離１０ｃｍ）により２５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線エネルギを照射した後、フォトマスクを取除いたガラス板をホットプレートに載せて大気中で１００℃に１０分間保持した。次にN,N-ジメチルホルムアミド１０重量％及びアセチルアセトン５重量％を相溶させたエタノール溶液で上記ガラス板をリンスすることにより、非光照射部の膜を溶かし、光照射の膜だけを残して、フォトマスクの長方形の窓孔と同一形状のパターニングされた膜を得た。更にこのガラス板を大気中で１５０℃に３０分間保持して膜を焼成した後に室温まで冷却した。このガラス板を実施例６２とした。
【００６０】
＜実施例６３＞
先ず実施例５６の粒子分散体（濃度約３０重量％のＰｔ粒子を分散した分散液）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで、Ｐｔ粒子の含有量が２０重量％となるように希釈し、この希釈した粒子分散体に光開始剤（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製のイルガキュア５００）を０．５重量％溶かして粒子分散体を調製した。次いで洗浄済みのソーダガラス板（縦１００ｍｍ、横１００ｍｍ、厚さ２．８ｍｍ）を４０℃に保温し、このソーダガラス板をスピンコーターで１５０ｒｐｍの速度で回転させた状態で、上記希釈調製した粒子分散体を５ｃｃ滴下し、１２０秒間振り切って膜を作製した。
上記膜を上に向けたガラス板にステンレス製フォトマスクをそれぞれ載せた。このフォトマスクは、縦×横×厚さがそれぞれ１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．０ｍｍの正方形状に形成され、幅×長さがそれぞれ２０ｍｍ×５０ｍｍの長方形の窓孔が１０ｍｍ間隔で３個形成される。次いでガラス板の上方から紫外線照射装置（１６０Ｗメタルハライドランプ：距離１０ｃｍ）により２５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線エネルギを照射した後、フォトマスクを取除いたガラス板をホットプレートに載せて大気中で１００℃に１０分間保持した。次にN,N-ジメチルホルムアミド１０重量％及びアセチルアセトン５重量％を相溶させたエタノール溶液で上記ガラス板をリンスすることにより、非光照射部の膜を溶かし、光照射の膜だけを残して、フォトマスクの長方形の窓孔と同一形状のパターニングされた膜を得た。更にこのガラス板を大気中で１５０℃に３０分間保持して膜を焼成した後に室温まで冷却した。このガラス板を実施例６３とした。
【００６１】
＜比較試験６及び評価＞
実施例５９、６０、６２及び６３のガラス板の膜と実施例６１のアクリル板の膜の厚さと可視光透過率と体積抵抗率をそれぞれ測定した。上記膜の厚さは走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて測定し、透明膜の可視光透過率は分光光度計にて測定し、体積抵抗率は四探針法にて測定した。その結果を表７に示す。表７において、「ＩＰＡ」はイソプロパノールの略称であり、「Ｈｘ」はヘキサンの略称であり、「ＰＧＭＥＡ」はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの略称である。
【００６２】
【表７】
表７から明らかなように、実施例５９、６０、６２及び６３の膜では電極の配線として極めて有効な導電性が得られることが判った。また実施例６１の膜では透明導電膜として極めて優れた可視光透過率と導電性を有することが判った。
【符号の説明】
【００６３】
１２ 混合物
１４ 粒子分散体
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機金属化合物及び有機半金属化合物からなる群より選ばれた１種又は２種以上の単一物又は混合物に、所定の雰囲気中で出力８００〜１２５０Ｗのマイクロ波を３〜１０分間照射して粒子が分散したコロイド状の分散体を作製する工程を含む粒子分散体を製造する方法。
【請求項２】
単一物又は混合物にマイクロ波を照射するときの雰囲気が、不活性ガス雰囲気、還元性ガス雰囲気又は大気雰囲気である請求項１記載の粒子分散体を製造する方法。
【請求項３】
有機金属化合物に含まれる金属が、Ｃｕ，Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｒｅ，Ｏｓ，Ｉｒ，Ｓｃ，Ｙ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｔｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｅｒ，Ｔｍ及びＹｂからなる群より選ばれた１種又は２種以上の金属である請求項１記載の粒子分散体を製造する方法。
【請求項４】
有機半金属化合物に含まれる半金属が、Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｂ及びＢｉからなる群より選ばれた１種又は２種以上の半金属である請求項１記載の粒子分散体を製造する方法。
【請求項５】
有機金属化合物又は有機半金属化合物の有機成分が、有機酸及びアミンからなる群より選ばれた１種又は２種以上の化合物である請求項１記載の粒子分散体を製造する方法。
【請求項６】
有機酸が、炭素数２〜２９の炭素を含む化合物からなる群より選ばれた１種又は２種以上の化合物である請求項５記載の粒子分散体を製造する方法。
【請求項７】
有機酸が、リンゴ酸、クエン酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ビバル酸、吉草酸、イソ吉草酸、カプロン酸、２−エチル酪酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、２−エチルヘキサン酸、カプリン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸、リシノール酸、１２−ヒドロキシステアリン酸、ナフテン酸、アビエチン酸、デキストロピマル酸、パルミトレイン酸、オレイン酸、リノール酸及びリノレン酸からなる群より選ばれた１種又は２種以上の有機酸である請求項５記載の粒子分散体を製造する方法。
【請求項８】
有機酸が、光重合性化合物である請求項５記載の粒子分散体を製造する方法。
【請求項９】
光重合性化合物が、アクリロイル基、メタクリロイル基及びビニル基からなる群より選ばれた１種又は２種以上を含む請求項８記載の粒子分散体を製造する方法。
【請求項１０】
アミンが、ジブチルアミン、ジイソブチルアミン、トリペンチルアミン、アリルアミン、シクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、プロピレンジアミン、ジエチレントリアミン、ドデシルアミン、１，３−ジメチル−ｎ−ブチルアミン、１−アミノウンデカン、１−アミノトリデカン、テトラデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン、オレイルアミン、ジオレイルアミン、ドデシルジメチルアミン、テトラデシルジメチルアミン、ヘキサデシルジメチルアミン、オクタデシルジメチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン及び３−メトキシプロピルアミンからなる群より選ばれた１種又は２種以上である請求項５項記載の粒子分散体を製造する方法。
【請求項１１】
単一物又は混合物に更にフッ化アンモニウムを添加した請求項１記載の粒子分散体を製造する方法。
【請求項１２】
請求項１ないし１０いずれか１項に記載の方法により製造された、平均粒径０．００５〜１．０μｍの酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛含有酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウム含有酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウム含有酸化亜鉛（ＧＺＯ）、セリウム含有酸化亜鉛（ＣＺＯ）、ホウ素含有酸化亜鉛（ＢＺＯ）、アンチモン含有酸化錫（ＡＴＯ）、或いはリン含有酸化錫（ＰＴＯ）の酸化物半導体粒子を含む粒子分散体。
【請求項１３】
請求項１２に記載の粒子分散体を乾燥して得られた、平均粒径０．００５〜１．０μｍの酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛含有酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウム含有酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウム含有酸化亜鉛（ＧＺＯ）、セリウム含有酸化亜鉛（ＣＺＯ）、ホウ素含有酸化亜鉛（ＢＺＯ）、アンチモン含有酸化錫（ＡＴＯ）、或いはリン含有酸化錫（ＰＴＯ）の酸化物半導体粒子。
【請求項１４】
請求項１１に記載の方法により製造された、平均粒径０．００５〜１．０μｍのフッ素含有酸化錫（ＦＴＯ）、フッ素含有酸化インジウム（ＦＩＯ）、フッ素含有酸化亜鉛（ＦＺＯ）、フッ素錫含有酸化インジウム（ＦＩＴＯ）、フッ素亜鉛含有酸化インジウム（ＦＩＺＯ）、フッ素アルミニウム含有酸化亜鉛（ＦＡＺＯ）、フッ素ガリウム含有酸化亜鉛（ＦＧＺＯ）、フッ素セリウム含有酸化亜鉛（ＦＣＺＯ）、或いはフッ素アンチモン含有酸化錫（ＦＡＴＯ）の酸化物半導体粒子を含む粒子分散体。
【請求項１５】
請求項１４に記載の粒子分散体を乾燥して得られた、平均粒径０．００５〜１．０μｍのフッ素含有酸化錫（ＦＴＯ）、フッ素含有酸化インジウム（ＦＩＯ）、フッ素含有酸化亜鉛（ＦＺＯ）、フッ素錫含有酸化インジウム（ＦＩＴＯ）、フッ素亜鉛含有酸化インジウム（ＦＩＺＯ）、フッ素アルミニウム含有酸化亜鉛（ＦＡＺＯ）、フッ素ガリウム含有酸化亜鉛（ＦＧＺＯ）、フッ素セリウム含有酸化亜鉛（ＦＣＺＯ）、或いはフッ素アンチモン含有酸化錫（ＦＡＴＯ）の酸化物半導体粒子。
【請求項１６】
請求項１、２、３ないし５いずれか１項に記載の方法により製造された、平均粒径０．００５〜１．０μｍの、Ｃｕ，Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｒｅ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｉｎ，Ｓｎ及びＳｂからなる群より選ばれた１種又は２種以上の純金属粒子、混合金属粒子或いは合金粒子を含む粒子分散体。
【請求項１７】
請求項１６に記載の粒子分散体を乾燥して得られた、平均粒径０．００５〜１．０μｍの、Ｃｕ，Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｒｅ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｉｎ，Ｓｎ及びＳｂからなる群より選ばれた１種又は２種以上の純金属、混合金属或いは合金からなる金属粒子。
【請求項１８】
請求項１、２ないし４いずれか１項に記載の方法により製造された、平均粒径０．００５〜１．０μｍのＳｂの半金属粒子を含む粒子分散体。
【請求項１９】
請求項１８に記載の粒子分散体を乾燥して得られた、平均粒径０．００５〜１．０μｍのＳｂの半金属粒子。
【請求項１】
有機金属化合物及び有機半金属化合物からなる群より選ばれた１種又は２種以上の単一物又は混合物に、所定の雰囲気中で出力８００〜１２５０Ｗのマイクロ波を３〜１０分間照射して粒子が分散したコロイド状の分散体を作製する工程を含む粒子分散体を製造する方法。
【請求項２】
単一物又は混合物にマイクロ波を照射するときの雰囲気が、不活性ガス雰囲気、還元性ガス雰囲気又は大気雰囲気である請求項１記載の粒子分散体を製造する方法。
【請求項３】
有機金属化合物に含まれる金属が、Ｃｕ，Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｒｅ，Ｏｓ，Ｉｒ，Ｓｃ，Ｙ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｔｌ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｅｒ，Ｔｍ及びＹｂからなる群より選ばれた１種又は２種以上の金属である請求項１記載の粒子分散体を製造する方法。
【請求項４】
有機半金属化合物に含まれる半金属が、Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｂ及びＢｉからなる群より選ばれた１種又は２種以上の半金属である請求項１記載の粒子分散体を製造する方法。
【請求項５】
有機金属化合物又は有機半金属化合物の有機成分が、有機酸及びアミンからなる群より選ばれた１種又は２種以上の化合物である請求項１記載の粒子分散体を製造する方法。
【請求項６】
有機酸が、炭素数２〜２９の炭素を含む化合物からなる群より選ばれた１種又は２種以上の化合物である請求項５記載の粒子分散体を製造する方法。
【請求項７】
有機酸が、リンゴ酸、クエン酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ビバル酸、吉草酸、イソ吉草酸、カプロン酸、２−エチル酪酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、２−エチルヘキサン酸、カプリン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、イソステアリン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸、リシノール酸、１２−ヒドロキシステアリン酸、ナフテン酸、アビエチン酸、デキストロピマル酸、パルミトレイン酸、オレイン酸、リノール酸及びリノレン酸からなる群より選ばれた１種又は２種以上の有機酸である請求項５記載の粒子分散体を製造する方法。
【請求項８】
有機酸が、光重合性化合物である請求項５記載の粒子分散体を製造する方法。
【請求項９】
光重合性化合物が、アクリロイル基、メタクリロイル基及びビニル基からなる群より選ばれた１種又は２種以上を含む請求項８記載の粒子分散体を製造する方法。
【請求項１０】
アミンが、ジブチルアミン、ジイソブチルアミン、トリペンチルアミン、アリルアミン、シクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、プロピレンジアミン、ジエチレントリアミン、ドデシルアミン、１，３−ジメチル−ｎ−ブチルアミン、１−アミノウンデカン、１−アミノトリデカン、テトラデシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン、オレイルアミン、ジオレイルアミン、ドデシルジメチルアミン、テトラデシルジメチルアミン、ヘキサデシルジメチルアミン、オクタデシルジメチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン及び３−メトキシプロピルアミンからなる群より選ばれた１種又は２種以上である請求項５項記載の粒子分散体を製造する方法。
【請求項１１】
単一物又は混合物に更にフッ化アンモニウムを添加した請求項１記載の粒子分散体を製造する方法。
【請求項１２】
請求項１ないし１０いずれか１項に記載の方法により製造された、平均粒径０．００５〜１．０μｍの酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛含有酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウム含有酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウム含有酸化亜鉛（ＧＺＯ）、セリウム含有酸化亜鉛（ＣＺＯ）、ホウ素含有酸化亜鉛（ＢＺＯ）、アンチモン含有酸化錫（ＡＴＯ）、或いはリン含有酸化錫（ＰＴＯ）の酸化物半導体粒子を含む粒子分散体。
【請求項１３】
請求項１２に記載の粒子分散体を乾燥して得られた、平均粒径０．００５〜１．０μｍの酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛含有酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウム含有酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウム含有酸化亜鉛（ＧＺＯ）、セリウム含有酸化亜鉛（ＣＺＯ）、ホウ素含有酸化亜鉛（ＢＺＯ）、アンチモン含有酸化錫（ＡＴＯ）、或いはリン含有酸化錫（ＰＴＯ）の酸化物半導体粒子。
【請求項１４】
請求項１１に記載の方法により製造された、平均粒径０．００５〜１．０μｍのフッ素含有酸化錫（ＦＴＯ）、フッ素含有酸化インジウム（ＦＩＯ）、フッ素含有酸化亜鉛（ＦＺＯ）、フッ素錫含有酸化インジウム（ＦＩＴＯ）、フッ素亜鉛含有酸化インジウム（ＦＩＺＯ）、フッ素アルミニウム含有酸化亜鉛（ＦＡＺＯ）、フッ素ガリウム含有酸化亜鉛（ＦＧＺＯ）、フッ素セリウム含有酸化亜鉛（ＦＣＺＯ）、或いはフッ素アンチモン含有酸化錫（ＦＡＴＯ）の酸化物半導体粒子を含む粒子分散体。
【請求項１５】
請求項１４に記載の粒子分散体を乾燥して得られた、平均粒径０．００５〜１．０μｍのフッ素含有酸化錫（ＦＴＯ）、フッ素含有酸化インジウム（ＦＩＯ）、フッ素含有酸化亜鉛（ＦＺＯ）、フッ素錫含有酸化インジウム（ＦＩＴＯ）、フッ素亜鉛含有酸化インジウム（ＦＩＺＯ）、フッ素アルミニウム含有酸化亜鉛（ＦＡＺＯ）、フッ素ガリウム含有酸化亜鉛（ＦＧＺＯ）、フッ素セリウム含有酸化亜鉛（ＦＣＺＯ）、或いはフッ素アンチモン含有酸化錫（ＦＡＴＯ）の酸化物半導体粒子。
【請求項１６】
請求項１、２、３ないし５いずれか１項に記載の方法により製造された、平均粒径０．００５〜１．０μｍの、Ｃｕ，Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｒｅ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｉｎ，Ｓｎ及びＳｂからなる群より選ばれた１種又は２種以上の純金属粒子、混合金属粒子或いは合金粒子を含む粒子分散体。
【請求項１７】
請求項１６に記載の粒子分散体を乾燥して得られた、平均粒径０．００５〜１．０μｍの、Ｃｕ，Ａｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｒｅ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｚｎ，Ｉｎ，Ｓｎ及びＳｂからなる群より選ばれた１種又は２種以上の純金属、混合金属或いは合金からなる金属粒子。
【請求項１８】
請求項１、２ないし４いずれか１項に記載の方法により製造された、平均粒径０．００５〜１．０μｍのＳｂの半金属粒子を含む粒子分散体。
【請求項１９】
請求項１８に記載の粒子分散体を乾燥して得られた、平均粒径０．００５〜１．０μｍのＳｂの半金属粒子。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２０１０−２４０５２０（Ｐ２０１０−２４０５２０Ａ）
【公開日】平成２２年１０月２８日（２０１０．１０．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−８９３４５（Ｐ２００９−８９３４５）
【出願日】平成２１年４月１日（２００９．４．１）
【出願人】（０００００６２６４）三菱マテリアル株式会社 (4,417)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１０月２８日（２０１０．１０．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年４月１日（２００９．４．１）
【出願人】（０００００６２６４）三菱マテリアル株式会社 (4,417)
【Ｆターム（参考）】
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