【課題】異常放電を抑制できるスパッタリングターゲット及び成膜方法を提供し、またそのようなターゲットとして使用可能な複合酸化物焼結体を提供する。
【解決手段】主にＺｎ、Ａｌ、Ｔｉ及びＯから構成され、原子比で（Ａｌ＋Ｔｉ）／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｔｉ）＝０．００４〜０．０５５、Ａｌ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｔｉ）＝０．００２〜０．０２５、Ｔｉ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｔｉ）＝０．００２〜０．０４８、主に酸化亜鉛を含有し平均粒径が２０μｍ以下の六方晶ウルツ型構造を有する粒子、及びＡｌ及びＴｉを含有し平均粒径が５μｍ以下のＺｎＴｉＯ_３類似構造及び／又はＺｎ_２Ｔｉ_３Ｏ_８類似構造を有する粒子で、ＺｎとＡｌが固溶したアルミニウム酸亜鉛のスピネル酸化物構造を有する粒子を含有しないもの、からなる複合酸化物焼結体、及びそれからなるスパッタリングターゲット。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
主として亜鉛、アルミニウム、チタン及び酸素から構成される複合酸化物焼結体において、当該焼結体を構成する元素の原子比が、
（Ａｌ＋Ｔｉ）／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｔｉ）＝０．００４〜０．０５５
Ａｌ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｔｉ）＝０．００２〜０．０２５
Ｔｉ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｔｉ）＝０．００２〜０．０４８
であり、
当該焼結体が
・主として酸化亜鉛を含有し平均粒径が２０μｍ以下の六方晶系ウルツ型構造を有する粒子、及び
・アルミニウム及びチタンを含有し平均粒径が５μｍ以下のＺｎＴｉＯ_３型類似構造及び／またはＺｎ_２Ｔｉ_３Ｏ_８型類似構造を有する粒子であって、亜鉛とアルミニウムが固溶したアルミニウム酸亜鉛のスピネル酸化物構造を有する粒子を含有しないもの、
からなることを特徴とする、複合酸化物焼結体。
【請求項２】
当該焼結体中に、酸化アルミニウム粒子および酸化チタン粒子が存在しない、請求項１に記載の複合酸化物焼結体。
【請求項３】
アルミニウム源となる粉末とチタン源となる粉末を予備混合し、仮焼した後に、平均粒径が１μｍ以下となるように調整し、次いで最終組成が、金属元素の原子比で表して、
（Ａｌ＋Ｔｉ）／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｔｉ）＝０．００４〜０．０５５
Ａｌ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｔｉ）＝０．００２〜０．０２５
Ｔｉ／（Ｚｎ＋Ａｌ＋Ｔｉ）＝０．００２〜０．０４８
となるように酸化亜鉛粉末を追加して混合し、得られた混合粉末を成形し、８００〜１５００℃で焼成することを特徴とする、請求項１または２に記載の複合酸化物焼結体の製造方法。
【請求項４】
請求項１または２に記載の複合酸化物焼結体からなることを特徴とする、スパッタリングターゲット。
【請求項５】
スパッタリング面の中心線平均粗さＲａが３μｍ以下である、請求項４に記載のスパッタングターゲット。
【請求項６】
請求項４または５に記載のスパッタリングターゲットを用いてスパッタリングすることを特徴とする、酸化物透明導電膜の製造方法。
【請求項７】
請求項６の製法で得られた酸化物透明導電膜。

【図１】

【図２】

【図３】

【図４】

【公開番号】特開２０１２−９２００３（Ｐ２０１２−９２００３Ａ）
【公開日】平成２４年５月１７日（２０１２．５．１７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２１１２７３（Ｐ２０１１−２１１２７３）
【出願日】平成２３年９月２７日（２０１１．９．２７）
【出願人】（０００００３３００）東ソー株式会社 (1,901)
【Ｆターム（参考）】