褐色化及び老化からヒトの肌を保護するための透過染料の使用
【課題】褐色化及び老化からヒトの肌を保護するための透過染料の使用の提供。
【解決手段】開示されるものは、褐色化及び肌老化からヒトの肌を保護するための、
（ａ）３８０ないし４２０ｎｍに極大を有するＵＶ−Ｖｉｓスペクトルを示す微粉末化された難溶性有機化合物；及び
（ｂ）アニオン性分散剤；
を含む水分散液の使用である。
【解決手段】開示されるものは、褐色化及び肌老化からヒトの肌を保護するための、
（ａ）３８０ないし４２０ｎｍに極大を有するＵＶ−Ｖｉｓスペクトルを示す微粉末化された難溶性有機化合物；及び
（ｂ）アニオン性分散剤；
を含む水分散液の使用である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＵＶ照射及び肌老化に対するヒトの毛髪及び肌の保護のための及び日焼け防止のための特定の透過染料の使用並びにこれらの染料を含む化粧用又は肌用組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
ある種の光安定有機ＵＶフィルター、例えば、ビス−エチルヘキシルオキシフェノール
メトキシフェニルトリアジン、メチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール２ナトリウム フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホネート又はテレフタリリデンジカンファースルホン酸又はオクトクリレンと共に光安定化されるブチルメトキシジベンゾイルメタンが、３８０ｎｍまでのＵＶ−Ａ領域において顕著なＵＶフィルター特性を示すことが知られている。３８０ｎｍないし４２０ｎｍの領域において、充分なＵＶ保護が達成され得るものはない。
【０００３】
しかしながら、３８０ｎｍを超える領域において、日光は著しく肌の老化及び皮膚癌リスクの増大の原因となることが知られている。
【発明の開示】
【０００４】
驚くべきことに、３８０ｎｍを超える吸収極大を有する特定のＵＶ吸収剤が肌に塗布された場合、顕著な着色を示さないことが見出された。
【０００５】
従って、本発明は、褐色化及び肌老化からヒトの肌を保護するための、
（ａ）３８０ないし４２０ｎｍに極大を有するＵＶ−Ｖｉｓスペクトルを示す微粉末化された難溶性有機化合物；及び
（ｂ）アニオン性分散剤
を含む水分散液の使用に関する。
【０００６】
好ましくは、粉末化された有機ＵＶ吸収剤はベンゾフェノン誘導体から選択される。
【０００７】
より好ましくは、これらは、式（１）
【化１】
（式中、Ｒ1及びＲ2は互いに独立して、炭素原子数１ないし２０のアルキル基；炭素原子数２ないし２０のアルケニル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルケニル基；を表すか又はＲ1及びＲ2は、結合している窒素原子と一緒になって５−又は６−員の複素環を形成し、
ｎ1は１ないし４の数を表し、
ｎ1＝１の場合、
Ｒ3は、飽和又は不飽和の複素環基；ヒドロキシ−炭素原子数１ないし５のアルキル基；
１つ以上の炭素原子数１ないし５のアルキル基で任意に置換されたシクロヘキシル基；複素環基、アミノカルボニル基又は炭素原子数１ないし５のアルキルカルボキシ基で任意に
置換されたフェニル基を表し、
ｎ1が２の場合、
Ｒ3は、カルボニル基又はカルボキシ基で任意に置換された、アルキレン基、シクロアル
キレン基、アルケニレン基又はフェニレン基；式
【化２】
で表される基を表す又はＲ3は、Ａと一緒になって式（１ａ）
【化３】
（式中、ｎ2は１ないし３の数を表す。）で表される２価の基を形成し、
ｎ1が３の場合、
Ｒ3は、アルカントリイル基を表し、
ｎ1が４の場合、
Ｒ3は、アルカンテトライル基を表し、
Ａは、−Ｏ−又は−Ｎ（Ｒ5）−を表し、及び
Ｒ5は、水素原子、炭素原子数１ないし５のアルキル基又はヒドロキシ−炭素原子数１な
いし５のアルキル基を表す。）で表される化合物に対応する。
【０００８】
炭素原子数１ないし２０のアルキル基は、直鎖又は分岐鎖の、不飽和又は飽和したアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−オクタデシル基、エイコシル基、メトキシエチル基、エトキシプロピル基、２−エチルヘキシル基、ヒドロキシエチル基、クロロプロピル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル基、シアノエチル基、フェネチル基、ベンジル基、ｐ−第三ブチルフェネチル基、ｐ−第三オクチルフェノキシエチル基、３−（２，４−ジ−第三アミルフェノキシ）−プロピル基、エトキシカルボニルメチル−２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル基又は２−フリルエチル基等を意味する。
【０００９】
炭素原子数２ないし２０のアルケニル基は、例えば、アリル基、メタリル基、イソプロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、イソブテニル基、ｎ−ペンタ−２，４−ジエニル基、３−メチル−ブテ−２−エニル基、ｎ−オクテ−２−エニル基、ｎ−ドデセ−２−エニル基、イソ−ドデセニル基、ｎ−ドデセ−２−エニル基又はｎ−オクタデセ−４−エニル基を表す。
【００１０】
炭素原子数３ないし１０のシクロアルキル基は、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基又はシクロデシル基、及び、好ましくはシクロヘキシル基を表す。これらの基は、例えば、１つ以上の、同一又は異なる炭素原子数１ないし４のアルキル基により、好ましくはメチル基及び／又はヒドロキシ基により置換され得る。シクロアルキル基が１つ以上の基により置換される場合、それらは好ましくは、１つ、２つ又は４つ、好ましくは１つ又は２つの同一又は基により置換される。
【００１１】
炭素原子数３ないし１０のシクロアルケニル基は、例えば、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロノネニル基又はシクロデセニル基、及び、好ましくはシクロヘキセニル基を表す。これら
の基は、１つ以上の、同一又は異なる炭素原子数１ないし４のアルキル基で、好ましくはメチル基及び／又はヒドロキシ基で置換され得る。シクロアルケニル基が１つ以上の基で置換される場合、それらは好ましくは、１つ、２つ、３つ又は４つの、好ましくは１つ又は２つの同一又は異なる基で置換される。
【００１２】
ヒドロキシ基で置換された炭素原子数１ないし５のアルキル基は、例えば、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基又はヒドロキシペンチル基である。
【００１３】
アルキレン基は、好ましくは炭素原子数１ないし１２のアルキレン基、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基又はオクチレン基等である。
【００１４】
上記アルキレン基は、１つ以上の炭素原子数１ないし５のアルキル基により任意に置換され得る。
【００１５】
Ｒ1及びＲ2が複素環基の場合、これらは、１つ、２つ、３つ又は４つの同一又は異なる環ヘテロ原子を含む。特に好ましいものは、１つ、２つ又は３つの、特に１つ又は２つの同一又は異なるヘテロ原子を含む複素環であると考えられる。該へテロ環は単環性又は多環性、例えば、単環性、２環性又は３環性であり得る。それらは、好ましくは、単環性又は２環性、特に単環性である。該環は、好ましくは、５、６又は７環員を含む。誘導され得る式（１）又は（２）で表される化合物中に存在する基が由来する単環性又は２環性の複素環系の例は、例えば、ピロール、フラン、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、ピラン、チオピラン、１，４−ジオキサン、１，２−オキサジン、１，３−オキサジン、１，４−オキサジン、インドール、ベンゾチオフェン、ベンゾフラン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン及びチオモルホリンである。
【００１６】
最も好ましくは、式（２）
【化４】
に対応する、本発明に使用されるベンゾフェノン誘導体である。
【００１７】
更に、以下に示すベンゾフェノン誘導体が興味深い：
【化５】
【００１８】
式（１）で表される化合物は、例えば、欧州特許第１，０４６，３９１号明細書又は国際公開第０４／０５２８３７号パンフレットに記載されるような既知の方法に従って製造され得る。
【００１９】
本発明において使用される難溶性有機化合物は、微粉末化された状態で存在する。それ
らは、微粒子の製造のために好適な何れかの既知の方法、例えば：湿式粉砕、湿式混練、好適な溶媒からの噴霧乾燥、超臨界流体（例えば、ＣＯ2）のＲＥＳＳ法（超臨界急速膨
張法（Ｒａｐｉｄ Ｅｘｐａｎｓｉｏｎ ｏｆ Ｓｕｐｅｒｃｒｉｔｉｃａｌ Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ））による膨張によって、超臨界流体を含んだ好適な溶媒からの再沈殿（ＧＡＳＲ方法＝Gas Anti−Solvent Recrystalization/PCA方法＝圧縮された反溶媒での沈殿）によっても製造され得る。
【００２０】
難溶性の微粉末化された有機化合物の製造のための粉砕装置としてここで使用され得るものは、例えば、ジェットミル、ボールミル、振動ミル又はハンマーミル、好ましくは高速回転ミルである。更に好ましいミルは、最新のボールミルであり、それらのタイプのミルの製造会社は、例えば、Ｎｅｔｚｓｃｈ（ＬＭＺミル）、Ｄｒａｉｓ（ＤＣＰ−Ｖｉｓｃｏｆｌｏｗ又はＣｏｓｍｏ）、Ｂｕｈｌｅｒ ＡＧ（遠心分離ミル）又はＢａｃｈｈｏｆｅｒである。
【００２１】
微粉末化された有機ＵＶ吸収剤の製造のための混練装置の例は、典型的にはシグマ−ブレードバッチニーダー、また、直列バッチニーダー（ＩＫＡ−Ｗｅｒｋｅ）又は連続ニーダー（Ｗｅｒｎｅｒ ｕｎｄ Ｐｆｌｅｉｄｅｒｅｒからの連続製品）でもある。
【００２２】
本発明に使用される難溶性有機化合物の粉砕は、好ましくは粉砕助剤を用いて行われる。
【００２３】
分散剤（ｂ）は全ての上記微粉末化工程において低分子量粉砕助剤として使用される。
【００２４】
有用なアニオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤又は両性界面活性剤は、“特定の分散剤（ｓｐｅｃｉｆｉｃ ｄｉｓｐｅｒｓｉｎｇ ａｇｅｎｔｓ）”と題した項において以下に開示されている。
【００２５】
水分散液にとって好ましい有用な粉砕助剤は、８よりも高く、より好ましくは１０よりも高いＨＬＢ（親水親油バランス（Ｈｙｄｒｏｐｈｉｌｅ−Ｌｉｐｏｐｈｉｌｅ Ｂａｌａｎｃｅ））値を有するアニオン性界面活性剤である。
【００２６】
慣用的に使用されるどのアニオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤又は両性界面活性剤も分散剤（成分（ｂ））として使用され得る。
そのような界面活性剤系は、例えば以下を含み得る：カルボン酸及びそれらの塩：ナトリウム、カリウム及びアンモニウムのアルカリ石鹸及びカルシウム又はマグネシウムの金属石鹸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸及びオレイン酸等のような有機ベースの石鹸、アルキルホスフェート又はリン酸エステル、酸ホスフェート、ジエタノールアミンホスフェート、カリウムセチルホスフェート。エトキシル化カルボン酸又はポリエチレングリコールエステル、ＰＥＧ−ｎアクリレート。
ラウレス−ｎ、ミレス−ｎ、セテアレス−ｎ、ステアレス−ｎ、オレス−ｎのような脂肪アルコールポリグリコールエーテル。
ＰＥＧ−ｎステアレート、ＰＥＧ−ｎオレエート、ＰＥＧ−ｎココエートのような脂肪酸ポリグリコールエーテル。モノグリセリド及びポリオールエステル。１ないし１００モルのポリオールを持ったエチレンオキシドの付加生成物の炭素原子数１２ないし２２の脂肪酸モノ−及びジ−エステル。モノステアレートグリセロール、ジイソステアロイルポリグリセリル−３−ジイソステアレート、ポリグリセリル−３−ジイソステアレート、トリグリセリルジイソステアレート、ポリグリセリル−２−セスキイソステアレート又はポリグリセリルジメレートのような脂肪酸及びポリグリセロールエステル。
多数のそれらの物質類からの化合物の混合物もまた好適である。
モノステアレートジエチレングリコールのような脂肪酸ポリグリコールエステル、脂肪
酸及びポリエチレングリコールエステル、糖エステルのような脂肪酸及びショ糖エステル、糖グリセリドのようなグリセロール及びショ糖エステル。
ソルビトール及びソルビタン、６ないし２２個の炭素原子を有する飽和及び不飽和脂肪酸のソルビタンモノ−及びジ−エステル及びエチレンオキシド付加生成物。
ポリソルベート−ｎ系列、セスキイソステアレートのようなソルビタンエステル、ソルビタン、ＰＥＧ−（６）−イソステアレートソルビタン、ＰＥＧ−（１０）−ソルビタンラウレート、ＰＥＧ−１７−ジオレエートソルビタン。
グルコース誘導体、炭素原子数８ないし２２のアルキル−モノ及びオリゴ−配糖体及び糖成分として好ましいグルコースを有するエトキシ化類似体。
メチルグルセス−２０セスキステアレート、ソルビタンステアレート／スクロースココエート、メチルグルコースセスキステアレート、セテアリルアルコール／セテアリル配糖体のようなＯ／Ｗ乳化剤。
メチルグルコースジオレエート／メチルグルコースイソステアレートのようなＷ／Ｏ乳化剤。スルフェート及びスルホネート誘導体、ジアルキルスルホサクシネート、ジオクチルサクシネート、アルキルラウリルスルホネート、直鎖スルホネートパラフィン、スルホン化テトラプロピレンスルホネート、ナトリウムラウリルスルフェート、アンモニウムとエタノールアミンラウリルスルホネート、ラウリルエーテルスルホネート、ナトリウムラウリルスルホネート［テキサポン Ｎ７０（Ｔｅｘａｐｏｎ Ｎ７０）］又はナトリウムミレススルフェート［テキサポン Ｋ１４Ｓ（Ｔｅｘａｐｏｎ Ｋ１４Ｓ）］、スルホサクシネート、アセチルイソチオネート、アルカノールアミドスルフェート、タウリン、メチルタウリン、イミダゾールスルフェート。
分子中に、少なくとも１つの四級アンモニウム基及び少なくとも１つのカルボキシレート基及び／又はスルホネート基を有する双性イオン性又は両性界面活性剤。
特に好適な双性イオン性界面活性剤は、アルキル基又はアシル基中に８ないし１８個の炭素原子をそれぞれ有する、Ｎ−アルキル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニウムグリシネート、ココアルキルジメチルアンモニウムグリシネート、Ｎ−アシルアミノプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニウムグリシネート、ココアシルアミノプロピルジメチルアンモニウムグリシネート及び２−アルキル−３−カルボキシメチル−３−ヒドロキシエチルイミダゾリンのようなベタイン並びにココアシルアミノエチルヒドロキシエチルカルボキシメチルグリシネート、Ｎ−アルキルベタイン、Ｎ−アルキルアミノベタインである。
【００２７】
分散剤として好適な低刺激性の界面活性剤、即ち、特に肌が良好な耐容性を示す界面活性剤の例は、脂肪アルコールポリグリコールエーテルスルフェート、モノグリセリドスルフェート、モノ−及び／又はジ−アルキルスルホスクシネート、脂肪酸イセチオネート、脂肪酸サルコシネート、脂肪酸タウリド、脂肪酸グルタメート、α−オレフィンスルホネート、エーテルカルボン酸、アルキルオリゴグルコシド、脂肪酸グルカミド、アルキルアミドベタイン及び／又はタンパク質脂肪酸縮合生成物を含むが、後者は好ましくは、小麦タンパク質をベースとする。
【００２８】
非イオン性界面活性剤は、例えば、ＰＥＧ−６蜜ろう（及び）ＰＥＧ−６ステアレート（及び）ポリグリセリル−２−イソステアレート［アピファック（Ａｐｉｆａｃ）］、グリセリルステアレート（及び）ＰＥＧ−１００ステアレート［アラセル １６５（Ａｒｌａｃｅｌ １６５）］、ＰＥＧ−５グリセリルステアレート［アラトン ９８３Ｓ（ａｒｌａｔｏｎｅ ９８３ Ｓ）］、ソルビタンオレエート（及び）ポリグリセリル−３リシノレエート［アルラセル １６８９（Ａｒｌａｃｅｌ １６８９）］、ソルビタンステアレート及びスクロースココエート［アラトン ２１２１（ａｒｌａｔｏｎｅ ２１２１）］、グリセリルステアレート及びラウレス２３［セラシンス ９４５（Ｃｅｒａｓｙｎｔｈ ９４５）］、セテアリルアルコール及びセテス−２０［セトマクロゴール ワックス（Ｃｅｔｏｍａｃｒｏｇｏｌ Ｗａｘ）］、セテアリルアルコール及びコリソルベート ６０及びＰＥＧ−１５０及びステアレート−２０［ポラワックス ＧＰ ２００（Ｐｏｌ
ａｗａｘ ＧＰ ２００）、ポラワックス ＮＦ（Ｐｏｌａｗａｘ ＮＦ）］、セテアリルアルコール及びセテアリルポリグルコシド［エマルゲード ＰＬ １６１８（Ｅｍｕｌｇａｄｅ ＰＬ １６１８）］、セテアリルアルコール及びセテアレス−２０［エマルゲード １０００ＮＩ（Ｅｍｕｌｇａｄｅ １０００ＮＩ）、コスモワックス（Ｃｏｓｍｏｗａｘ）］、セテアリルアルコール及びＰＥＧ−４０ヒマシ油［エマルゲード Ｆ スペシャル（Ｅｍｕｌｇａｄｅ Ｆ Ｓｐｅｃｉａｌ）］、セテアリルアルコール及びＰＥＧ−４０ヒマシ油及びナトリウムセテアリルスルフェート［エマルゲード Ｆ（Ｅｍｕｌｇａｄｅ Ｆ）］、セテアリルアルコール及びセテアレス−７及びセテアレス−１０［エマルゲーター Ｅ ２１５５（Ｅｍｕｌｇａｔｏｒ Ｅ ２１５５）］、セテアリルアルコール及びスゼアレス−７及びセテアレス−１０［エマルジファイング ワックス Ｕ．Ｓ．Ｎ．Ｆ（Ｅｍｕｌｓｉｆｙｉｎｇ ｗａｘ Ｕ．Ｓ．Ｎ．Ｆ）］、グルセリルステアレート及びＰＥＧ−７５ステアレート［ゲロット ６４（Ｇｅｌｏｔ ６４）］、プロピレングリコールセテス−３アセテート［ヘトエステル ＰＣＳ（Ｈｅｔｅｓｔｅｒ ＰＣＳ）］、プロピレングリコールイソセス−３アセテート［ヘテステル ＰＨＡ（Ｈｅｔｅｓｔｅｒ ＰＨＡ）］、セテアリルアルコール及びセテス−１２及びオレス−１２［ランブリトール ワックス Ｎ ２１（Ｌａｎｂｒｉｔｏｌ Ｗａｘ Ｎ ２１）］、ＰＥＧ−６ステアレート及びＰＥＧ−３２ステアレート［テフォス １５００（Ｔｅｆｏｓｅ １５００）］、ＰＥＧ−６ステアレート及びセテス−２０及びセテアレス−２０［テフォス
２０００（Ｔｅｆｏｓｅ ２０００）］、ＰＥＧ−６ステアレート及びセテス−２０及びグリセリルステアレート及びステアレス−２０［テフォス ２５６１（Ｔｅｆｏｓｅ ２５６１）］、グリセリルステアレート及びセテアレス−２０［テジンアシッド Ｈ，Ｃ，Ｘ（Ｔｅｇｉｎａｃｉｄ Ｈ，Ｃ，Ｘ）］である。
【００２９】
アニオン性乳化剤は、例えば、ＰＥＧ−２ステアレートＳＥ、グリセリルステアレートＳＥ［モネルジン（Ｍｏｎｅｌｇｉｎｅ）、クチナ ＫＤ（Ｃｕｔｉｎａ ＫＤ）］、プロピレングリコールステアレート［テジン Ｐ（Ｔｅｇｉｎ Ｐ）］、セテアリルアルコール及びナトリウムセテアリルスルフェート［ラネット Ｎ（Ｌａｎｅｔｔｅ Ｎ）、クチナ ＬＥ（Ｃｕｔｉｎａ ＬＥ）、クロダコール ＧＰ（Ｃｒｏｄａｃｏｌ ＧＰ）］、セテアリルアルコール及びナトリウムラウリルスルフェート［ラネット Ｗ（Ｌａｎｅｔｔｅ Ｗ）］、トリラネス−４ホスフェート及びグリコールステアレート及びＰＥＧ−２ステアレート［セデフォス ７５（Ｓｅｄｅｆｏｓ ７５）］、グリセリルステアレート及びナトリウムラウリルスルフェート［テジンアシッド スペシャル（Ｔｅｇｉｎａｃｉｄ Ｓｐｅｃｉａｌ）］である。カチオン性酸塩基は、例えば、セテアリルアルコール及びセトリモニウムブロミドである。
【００３０】
最も好ましい分散剤（ｂ）は、ナトリウムラウレススルフェート［コグニス社からのテキサポン Ｎ７０（Ｔｅｘａｐｏｎ Ｎ７０）］又はナトリウムミレススルフェート［コグニス社からのテキサポン Ｋ１４ Ｓ（Ｔｅｘａｐｏｎ Ｋ１４ Ｓ）］のような、ナトリウムアルキルスルフェート又はナトリウムアルキルエーテルスルフェートである。
【００３１】
特定の分散剤は、組成物の総質量に基づいて、例えば、１ないし３０質量％、特に、２ないし２０質量％及び好ましくは、３ないし１０質量％の量で使用され得る。
【００３２】
有用な溶媒は、水、食塩水、（ポリ−）エチレングリコール、グリセロール又は化粧品に使用可能な油である。他の有用な溶媒は、以下、“脂肪酸のエステル（Ｅｓｔｅｒｓ ｏｆ ｆａｔｔｙ ａｃｉｄｓ）”、“グリセリルエステル及び誘導体を含む天然及び合成トリグリセリド（Ｎａｔｕｒａｌ ａｎｄ ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ ｔｒｉｇｌｙｃｅｒｉｄｅｓ，ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ ｇｌｙｃｅｒｙｌ ｅｓｔｅｒｓ ａｎｄ ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅｓ）”“真珠光沢ワックス（Ｐｅａｒｌｅｓｃｅｎｔ ｗａｘｅｓ）”、“炭化水素油（Ｈｙｄｒｏｃａｒｂｏｎ ｏｉｌｓ）”及び“シリコン又はシロキサン（Ｓｉ
ｌｉｃｏｎｅｓ ｏｒ ｓｉｌｏｘａｎｅｓ）”と題された項中に開示されている。
【００３３】
得られた微粉末化された難溶性有機化合物は、通常、０．０２ないし２μｍ、好ましくは０．０３ないし１．５μｍ、及び、より好ましくは０．０５ないし１．０μｍの平均粒子径を有する。
【００３４】
本発明で使用される水分散液は、微粉末化された難溶性有機物質を、通常３０ないし６０部、好ましくは３５ないし５５部；分散剤を２ないし２０部、好ましくは２ないし２０部；増粘剤（例えば、キサンタンガム）を０．１ないし１部、好ましくは０．１ないし０．５部；及び水を２０ないし６８部含む。
【００３５】
本発明に従う化粧品配合物又は医薬組成物はまた、表１に列挙された１種以上の更なるＵＶフィルターも含み得る：
【表１Ａ】
【表１Ｂ】
【表１Ｃ】
【表１Ｄ】
【００３６】
化粧品配合物又は医薬品製剤は、慣用の方法を用いてＵＶ吸収剤と助剤を物理的に混合することにより、例えば、単に個々の成分を一緒に攪拌することにより、特に、オクチルメトキシシンナメート、サリチル酸イソオクチルエステル等のような既に公知の化粧品用ＵＶ吸収剤の溶解特性を使用することにより製造することができる。該ＵＶ吸収剤は、例えば、更なる処理を行うことなく又は微粉末化された状態で又は粉末の形態で使用され得
る。
【００３７】
化粧品又は医薬品製剤は、組成物の総質量に基づいて、１種のＵＶ吸収剤又はＵＶ吸収剤の混合物を０．０５ないし４０質量％含む。
【００３８】
好ましいものは、本発明の式（１）で表される化合物と所望による更なる光−保護剤の混合比を質量に基づいて、１：９９ないし９９：１、好ましくは１：９５ないし９５：１及び最も好ましくは１０：９０ないし９０：１０にした使用と考えられる。特定の関心が持たれることには、２０：８０ないし８０：２０の混合比であることで、好ましくは４０：６０ないし６０：４０及び最も好ましくは約５０：５０の混合比である。そのような混合物は、とりわけ溶解性を改善するために又はＵＶ吸収を向上するために使用され得る。
【００３９】
式（１）で表される化合物はまた、しわを目立たなくさせる重合調整剤（ａｎｔｉ−ｗｒｉｎｋｌｅ ｐｅｒｃｅｐｔｉｏｎ ｍｏｄｉｆｉｅｒ）として使用され得る。
これは、本発明の更なる目的である。
【００４０】
化粧品又は医薬品製剤は、例えば、クリーム、ジェル、ローション、アルコール及び水性／アルコール溶液、エマルジョン、ワックス／脂肪組成物、スティック状製剤、パウダー又は軟膏であり得る。上記したＵＶフィルターに加え、化粧品又は医薬品製剤は、下記のような更なる助剤を含み得る。
【００４１】
水−及びオイル−含有エマルジョン（例えば、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ、Ｏ／Ｗ／Ｏ及びＷ／Ｏ／Ｗエマルジョン又はミクロエマルジョン）として、製剤は、例えば、組成物の総質量に基づき、１種以上のＵＶ吸収剤を０．１ないし３０質量％、好ましくは０．１ないし１５質量％、特に０．５ないし１０質量％、組成物の総質量に基づき、少なくとも１種のオイル成分を１ないし６０質量％、特に５ないし５０質量％、好ましくは１０ないし３５質量％、組成物の総質量に基づき、少なくとも１種の乳化剤を０ないし３０質量％、特に１ないし３０質量％、好ましくは４ないし２０質量％、組成物の総質量に基づき、水を１０ないし９０質量％、特に３０ないし９０質量％、及び更なる化粧品的に許容可能な助剤を０ないし８８．９質量％、特に１ないし５０質量％含む。
【００４２】
本発明に従った化粧品又は医薬品組成物／製剤はまた、脂肪アルコール、脂肪酸のエステル、グリセリルエステル及び誘導体を含む天然又は合成トリグリセリド、真珠光沢ワックス：炭化水素油、シリコーン又はシロキサン（有機置換ポリシロキサン）、フッ素化又は過フッ素化油、乳化剤、助剤及び添加剤、過脂肪剤、界面活性剤、稠度調整剤／増粘剤及び流動改良剤、ポリマー、生物由来の活性成分、脱臭活性成分、フケ防止剤、抗酸化剤、ヒドロトロープ剤、防腐剤、細菌抑制剤、香油、着色剤、ＳＰＦ向上剤としてのポリマー状ビーズ又は中空球等の１種以上の更なる化合物も含み得る。
【００４３】
化粧品又は医薬品製剤
化粧品又は医薬品配合物は、様々な化粧品製剤中に含まれる。例えば、特に以下の製剤、スキンケア製剤、バス製剤、化粧品パーソナルケア製剤、フットケア製剤、光保護製剤、日焼け製剤、脱色製剤、防虫剤、脱臭剤、発汗抑制剤、傷んだ肌を清浄及びケアするための製剤、化学的形態にある脱毛製剤（除毛）、シェービング製剤、芳香製剤、化粧品ヘアトリートメント製剤等の製剤が考慮される。
【００４４】
存在形態
列挙された最終配合物は、様々な存在形態、例えば：
−Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ、Ｏ／Ｗ／Ｏ、Ｗ／Ｏ／Ｗ又はＰＩＴエマルジョン及び全ての種類のミクロエマルジョンとして液体製剤の形態で、
−ジェル形態で、
−オイル、クリーム、ミルク又はローション形態で、
−粉末、ラッカー、タブレット又はメイクアップ形態で、
−スティック形態で、
−スプレー（噴射ガスを有するスプレー又はポンプ−作動式スプレー）又はエアゾール形態で、
−フォーム形態で、或いは
−ペーストの形態で、
存在し得る。
【００４５】
肌のための化粧品製剤として特に重要なものは、サンミルク、ローション、クリーム、オイル、サンブロック又はトロピカル、日焼け止め製剤又は日焼け後製剤、同様に日焼け用製剤、またスキンタンニング製剤、例えばセルフタンニングクリームである。特に興味深いものは、日焼け止めクリーム、日焼け止めローション、日焼け止めミルク、及び、スプレーの形態の日焼け止め製剤である。
【００４６】
毛髪のための化粧品製剤として特に重要なものは、ヘアトリートメントのために上記された製剤、特に、シャンプーの形態の洗髪製剤、ヘアコンディショナー、ヘアケア製剤、例えば、プレトリートメント製剤、ヘアトニック、スタイリングクリーム、スタイリングジェル、ポマード、ヘアリンス、トリートメントパック、強力ヘアトリートメント、ヘアストレートニング製剤、液体ヘアセッティング製剤、ヘアフォーム及びヘアスプレーである。特に興味深いものは、シャンプーの形態の洗髪製剤である。
【００４７】
そのような配合物における他の典型的成分は、保存料、殺菌剤及び静菌剤、香料、染料、顔料、増粘剤、加湿剤、保湿剤、脂肪、オイル、ワックスであるか又は、アルコール、ポリ−アルコール、ポリマー、電解質、有機溶媒、シリコン誘導体、皮膚軟化剤、乳化剤、乳化界面活性剤、界面活性剤、分散剤、抗酸化剤、抗刺激剤及び抗炎症剤等のような化粧品及びパーソナルケア配合物の他の典型的成分である。
【００４８】
本発明に従った化粧品製剤は、日光の損傷効果に対してヒトの肌を卓越して保護することを特徴とする。
【実施例】
【００４９】
ＵＶ吸収剤の製造
実施例１：式（１０１）
【化６】
で表される化合物の製造
式（１０１ａ）
【化７】
で表される３ジエチルアミノ−ジベンゾ−オキセピン５９．０ｇ（国際公開第２０４／０５２８３７号パンフレットの実施例１に従って製造した）を室温で酢酸エチルエステル２５０ｍＬ中に溶解した。
ピペラジン８．６ｇを、この溶液に攪拌しながら添加したところ、温度が４０℃まで上がった。
生成物が反応塊を添加する間に沈殿した。
その後、該懸濁液を還流下で約３時間攪拌し、ろ去し、残渣を２−メトキシ−エタノールから再結晶した。
レモンイエローの結晶を乾燥した後、６７ｇの最終生成物を得た。
Ｆｐ＝２５３−２５６℃
式（１０１）で表される化合物は異なった形態で得ることができた。
単結晶形はそのＸ−線回折図に特徴付けられた。
式（１０１）で表される化合物のＸ−線回折図形
Ａ形態：（部分的）非晶質生成物、脱イオン水を伴う溶液から沈殿
【表２】
Ｂ形態：反応混合物からの粗生成物／結晶化前の反応塊
【表３】
Ｃ形態：２−メトキシエタノールからの再結晶化から得られた結晶
【表４】
Ｄ形態：Ｎ−メチル−ピロリドン／１−プロパノールからの再結晶からの結晶
【表５】
【００５０】
実施例２−５：分散配合物
一般的な分散配合物
微粉末化された難溶性有機物質 ３０−６０部
分散剤 ２−２０部
（例えば、ＡＰＧ、炭素原子数１２ないし１４のエーテルスルフェート）
水 ２０−６８部
増粘剤（例えば、キサンタンガム） ０．１−１部
分散液
【表６】
【００５１】
【表７】
【００５２】
【表８】
【００５３】
【表９】
この方法を用いて、ＵＶ吸収剤の微細顔料分散液を得た。
【００５４】
適用例
【表１０】
【００５５】
【表１１】
【００５６】
【表１２】
【００５７】
【表１３】
【００５８】
【表１４】
【００５９】
実施例１１：紫外線日中用ローション
【表１５】
製造仕様：
Ａ部を、すべての成分を配合することにより製造し、その後、穏やかな速度にて撹拌し、そして７５℃まで加熱した。Ｂ部を製造し、７５℃まで加熱した。該温度において、Ｂ部を、急激な撹拌速度下においてＡ部へ注いだ。その後、混合物を均一化した（３０秒、１５０００ｒｐｍ）。５５℃未満の温度において、Ｃ部の成分を配合した。混合物を穏やかな撹拌下において冷却し、その後、ｐＨをチェックし、トリエタノールアミンで調整した。
【００６０】
実施例１２：日焼け止めエマルジョン
【表１６】
製造仕様：
Ａ部を、すべての成分を配合することにより製造し、その後、穏やかな速度にて撹拌し、そして７５℃まで加熱した。Ｂ部を製造し、７５℃まで加熱した。該温度において、Ｂ部を、急激な撹拌速度下においてＡ部へ注いだ。６５℃より低い温度にて、Ｄ部の成分を別々に添加した。穏やかな撹拌下にて５５℃まで冷却した後、Ｃ部を添加した。その後、ｐＨをチェックし、水酸化ナトリウムで調整した。混合物を、１６０００ｒｐｍにて３０秒間均一化した。
【００６１】
実施例１３：常用ローション
【表１７】
製造仕様：
Ａ部を、すべての成分を配合することにより製造し、その後、穏やかな速度にて撹拌し、７５℃まで加熱した。Ｃ部を製造し、７５℃まで加熱した。Ｃ部を、穏やかな撹拌下においてＡ部へ注いだ。乳化後直ちに、Ｂ部を添加し、その後、一部のトリエタノールアミンを用いて中和した。混合物を３０秒間均一化した。冷却後、穏やかな撹拌下においてシクロペンタシロキサン（及び）ジメチコノールを添加した。３５℃より低い温度にて、ｐＨをチェックし、トリエタノールアミンで調整した。
【００６２】
実施例１４：スプレー式サンスクリーンエマルジョン
【表１８】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を８０℃まで加熱した。Ａ部を、撹拌下において、Ｂ部にブレンドし、そしてウルトラ ツラックス（Ｕｌｔｒａ Ｔｕｒｒａｘ）を使用して１１０００ｒｐｍに
て３０秒間均一化した。Ｃ部を６０℃まで加熱し、エマルジョンにゆっくりと添加した。４０℃まで冷却した後、Ｄ部を室温において配合し、Ｅ部を添加した。
【００６３】
実施例１５：常用ケア用ローション
【表１９】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を７５℃まで加熱した。Ａ部を、連続撹拌下においてＢ部へ添加し、そして１１０００ｒｐｍにて１分間均一化した。５０℃まで冷却した後、Ｃ部を連続撹拌下において添加した。更に３０℃まで冷却した後、Ｄ部を添加した。その後ｐＨを６．００ないし６．５０に調整した。
【００６４】
実施例１６：日焼け止め常用ケア品
【表２０】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に７５℃まで加熱した。Ｂ部をＡ部へ添加した後、混合物を（Ｕｌｔｒａ Ｔｕｒｒａｘ）を使用して１１０００ｒｐｍにて１分間均一化した。５０℃まで冷却した後、Ｃ部を添加した。その後、該混合物を１６０００ｒｐｍにて１分間均一化した。４０℃未満の温度において、Ｄ部を添加した。室温において、ｐＨ値を、Ｅ部を用いて６．００ないし６．５０に調整した。
【００６５】
実施例１７：Ｏ／Ｗ常用ＵＶ保護ローション
【表２１】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に７５℃まで加熱し、Ｃ部を６０℃まで加熱した。その後、Ｂ部を、撹拌下においてＡ部へ注いだ。混合物を、ウルトラ ツラックスを使用して１１０００
ｒｐｍにて３０秒間均一化し、Ｃ部を配合した。４０℃まで冷却した後、Ｄ部を添加した。室温において、ｐＨ値を、水酸化ナトリウムを用いて６．３０ないし６．７０に調整し、Ｆ部を添加した。
【００６６】
実施例１８：Ｏ／Ｗ常用ＵＶ保護剤
【表２２】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に７５℃まで加熱し、Ｃ部を６０℃まで加熱した。その後、Ｂ部を、撹拌下においてＡ部へ注いだ。混合物を、ウルトラ ツラックスを使用して１１０００
ｒｐｍにて３０秒間均一質化し、Ｃ部を配合した。４０℃まで冷却した後、Ｄ部を添加した。室温にて、ｐＨ値を、水酸化ナトリウムを用いて６．３０ないし６．７０に調整し、Ｆ部を添加した。
【００６７】
実施例１９：サンスクリーンクリーム
【表２３】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に７５℃まで加熱した。Ｂ部を、連続撹拌下においてＡ部へ添加し、その後、ウルトラ ツラックスを使用して１１０００ｒｐｍにて３０秒間均一化した。
６０℃まで冷却した後、Ｃ部を添加した。４０℃にてＣ部を添加し、そして１１０００ｒｐｍにて１５秒間均一化した。室温において、ｐＨ値を、Ｅ部を用いて調整した。
【００６８】
実施例２０：ＵＶＡ／ＵＶＢ常用ケア用ローション、Ｏ／Ｗ型
【表２４】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に７５℃まで加熱し；Ｃ部を６０℃まで加熱した。Ｂ部を、撹拌下においてＡ部へ注いだ。１１０００ｒｐｍにおける１分間の均一化の後、Ｃ部をＡ／Ｂの混合物へ添加した。４０℃まで冷却した後、Ｄ部を配合した。室温において、ｐＨ値を、Ｅ部を用いて６．３ないし７．０に調整した。最後にＦ部を添加した。
【００６９】
実施例２１：ＵＶＡ／ＵＶＢ常用ケア用ローション、Ｏ／Ｗ型
【表２５】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に７５℃まで加熱した。Ａ部を、撹拌下においてＢ部に注いだ。乳化後直ちに、Ｃ部を混合物に添加し、そしてウルトラ ツラックスを使用して１１０００
ｒｐｍにて３０秒間均一化した。６５℃まで冷却した後、アクリル酸ナトリウムコポリマー（及び）ミネラルオイル（及び）ＰＰＧ−１トリデセス−６を、５０℃において、ゆっくりとＵＶ吸収剤分散液に添加した。約３５ないし３０℃において、Ｆ部を配合した。ｐＨ値を、Ｇ部を用いて５．５ないし６．５に調整した。
【００７０】
実施例２２：ＵＶ−Ａ／ＵＶ−Ｂ常用保護ローションＯ／Ｗ
【表２６】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に８０℃まで加熱した。Ａ部を、撹拌しながらＢ部に注ぎ、ウルトラ ツラックスを使用して１１０００ｒｐｍにて３０秒間均一化した。６０℃まで冷却し
た後、Ｃ部を配合した。４０℃にて、Ｄ部を連続撹拌下においてゆっくりと添加した。ｐＨ値を、Ｅ部を用いて６．５０ないし７．００に調整した。
【００７１】
実施例２３：スプレー式サンスクリーンローション
【表２７】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に８０℃まで加熱し、Ｃ部を５０℃まで加熱した。Ｂ部をＡ部に注ぎ、そしてウルトラ ツラックスを使用して１１０００ｒｐｍにて１分間均一化した。５
０℃まで冷却した後、Ｃ部を連続撹拌下において添加した。４０℃において、Ｄ部を配合し、１１０００ｒｐｍにて１０秒間再度均一化した。ｐＨ値を、Ｅ部を用いて調整した。
【００７２】
実施例２４：Ｏ／Ｗ常用ＵＶ保護ローション
【表２８】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に７５℃まで加熱し、Ｃ部を６０℃まで加熱した。その後、Ｂ部を、撹拌下においてＡ部に注いだ。混合物を、ウルトラ ツラックスを使用して１１０００
ｒｐｍにて３０秒間均一化し、Ｃ部を配合した。４０℃まで冷却した後、Ｄ部を添加した。室温にて、ｐＨ値を、水酸化ナトリウムを用いて６．３０ないし６．７０に調整し、Ｆ部を添加した。
【００７３】
実施例２５：耐水性サンスクーンエマルジョン
【表２９】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に８０℃まで加熱した。Ａ部を、連続撹拌下においてＢ部に注いだ。その後、混合物を、ウルトラ ツラックスを使用して１１０００ｒｐｍにて１分間均一
化した。６０℃まで冷却した後、Ｃ部を配合した。４０℃において、Ｄ部を添加し、混合物を、再度、短時間均一化した。３５℃において、Ｅ部を添加し、室温にて、香料を添加した。最後に、ｐＨを、水酸化ナトリウムを用いて調整した。
【００７４】
実施例２６：ＵＶＡ／ＵＶＢ日焼け止めローション、Ｏ／Ｗ型
【表３０】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に８０℃まで加熱した。Ｂ部を、穏やかな撹拌下においてＡ部に注いだ。混合物を、ウルトラ ツラックスを使用して１１０００ｒｐｍにて１分間均一化し
た。７０℃まで冷却した後、Ｃ部を撹拌下にて添加した。更に５０℃まで冷却した後、Ｄ部を非常にゆっくりと配合した。４０℃において、Ｅ部を添加した。室温において、ｐＨを、Ｆ部を用いて７．００に調整し、Ｇ部を添加した。
【００７５】
実施例２７：ＵＶＡ／ＵＶＢ日焼け止めローション、Ｏ／Ｗ型
【表３１】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に８０℃まで加熱した。Ｂ部を、穏やかな撹拌下においてＡ部に注いだ。混合物を、ウルトラ ツラックスを使用して１１０００ｒｐｍにて１分間均一化し
た。７０℃まで冷却した後、Ｃ部を撹拌下において添加した。さらに５０℃まで冷却した後、Ｄ部を非常にゆっくりと配合した。４０℃において、Ｅ部を添加した。室温において、ｐＨを、Ｆ部を用いて７．００に調整し、Ｇ部を添加した。
【００７６】
実施例２８：サンスクリーンローション
【表３２】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に７５℃まで加熱した。Ｂ部を、急激な撹拌速度下においてＡ部に注いだ。６５℃未満の温度において、Ｄ部の成分を別々に添加した。５５℃まで冷却した後、穏やかな撹拌下においてＣ部を添加した。３５℃未満の温度において、ｐＨをチェックし、水酸化ナトリウムを用いて調整し、そしてウルトラ ツラックスを使用して１１０
００ｒｐｍにて３０秒間均一化した。室温においてＦ部を添加した。
【００７７】
実施例２９：Ｗ／Ｏサンスクリーンローション
【表３３】
製造仕様：
Ａ部を、撹拌しながら８０℃まで加熱した。Ｂ部をＡ部に添加し、そしてウルトラ ツ
ラックスを使用して１１０００ｒｐｍにて１分間均一化した。３０℃まで冷却した後、Ｃ部を配合した。
【００７８】
実施例３０：肌保護サンスクリーンローションＷ／Ｏ
【表３４】
製造仕様：
Ａ部を、穏やかな撹拌下にて８０℃までそれぞれ加熱した。Ｂ部をＡ部に添加し、そして１１０００ｒｐｍにて１分間均一化した。３０℃まで冷却した後、Ｃ部を連続撹拌下において添加した。
【００７９】
実施例３１：サンスクリーン
【表３５】
このサンスクリーンはまた、しわを目立たせなくさせる重合調整剤（ａｎｔｉ−ｗｒｉｎｋｌｅ ｐｅｒｃｅｐｔｉｏｎ ｍｏｄｉｆｉｅｒ）としても使用され得る。
製造仕様：
Ａ部を混合し、６０℃ないし６５℃まで加熱し、高速撹拌下においてゆっくりと分散液に添加した。
６０℃において穏やかな撹拌下でＢ部を添加した。
６０℃ないし７５℃において撹拌下でＢ部をＡ部へ添加した。
均一化するまで撹拌下においてＣ部を添加した（ウルトラ ツラックスを使用し得る高速
撹拌における乳化）。
穏やかな撹拌下（６０℃）においてＤ部を添加した。
最後に、撹拌下（６０℃）において、Ｅ部を添加し、穏やかな撹拌下において冷却した。
【００８０】
実施例３２：ＰＥＧ非含有サンスクリーン
【表３６】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＵＶ照射及び肌老化に対するヒトの毛髪及び肌の保護のための及び日焼け防止のための特定の透過染料の使用並びにこれらの染料を含む化粧用又は肌用組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
ある種の光安定有機ＵＶフィルター、例えば、ビス−エチルヘキシルオキシフェノール
メトキシフェニルトリアジン、メチレンビス−ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール２ナトリウム フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホネート又はテレフタリリデンジカンファースルホン酸又はオクトクリレンと共に光安定化されるブチルメトキシジベンゾイルメタンが、３８０ｎｍまでのＵＶ−Ａ領域において顕著なＵＶフィルター特性を示すことが知られている。３８０ｎｍないし４２０ｎｍの領域において、充分なＵＶ保護が達成され得るものはない。
【０００３】
しかしながら、３８０ｎｍを超える領域において、日光は著しく肌の老化及び皮膚癌リスクの増大の原因となることが知られている。
【発明の開示】
【０００４】
驚くべきことに、３８０ｎｍを超える吸収極大を有する特定のＵＶ吸収剤が肌に塗布された場合、顕著な着色を示さないことが見出された。
【０００５】
従って、本発明は、褐色化及び肌老化からヒトの肌を保護するための、
（ａ）３８０ないし４２０ｎｍに極大を有するＵＶ−Ｖｉｓスペクトルを示す微粉末化された難溶性有機化合物；及び
（ｂ）アニオン性分散剤
を含む水分散液の使用に関する。
【０００６】
好ましくは、粉末化された有機ＵＶ吸収剤はベンゾフェノン誘導体から選択される。
【０００７】
より好ましくは、これらは、式（１）
【化１】
（式中、Ｒ1及びＲ2は互いに独立して、炭素原子数１ないし２０のアルキル基；炭素原子数２ないし２０のアルケニル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルケニル基；を表すか又はＲ1及びＲ2は、結合している窒素原子と一緒になって５−又は６−員の複素環を形成し、
ｎ1は１ないし４の数を表し、
ｎ1＝１の場合、
Ｒ3は、飽和又は不飽和の複素環基；ヒドロキシ−炭素原子数１ないし５のアルキル基；
１つ以上の炭素原子数１ないし５のアルキル基で任意に置換されたシクロヘキシル基；複素環基、アミノカルボニル基又は炭素原子数１ないし５のアルキルカルボキシ基で任意に
置換されたフェニル基を表し、
ｎ1が２の場合、
Ｒ3は、カルボニル基又はカルボキシ基で任意に置換された、アルキレン基、シクロアル
キレン基、アルケニレン基又はフェニレン基；式
【化２】
で表される基を表す又はＲ3は、Ａと一緒になって式（１ａ）
【化３】
（式中、ｎ2は１ないし３の数を表す。）で表される２価の基を形成し、
ｎ1が３の場合、
Ｒ3は、アルカントリイル基を表し、
ｎ1が４の場合、
Ｒ3は、アルカンテトライル基を表し、
Ａは、−Ｏ−又は−Ｎ（Ｒ5）−を表し、及び
Ｒ5は、水素原子、炭素原子数１ないし５のアルキル基又はヒドロキシ−炭素原子数１な
いし５のアルキル基を表す。）で表される化合物に対応する。
【０００８】
炭素原子数１ないし２０のアルキル基は、直鎖又は分岐鎖の、不飽和又は飽和したアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−オクタデシル基、エイコシル基、メトキシエチル基、エトキシプロピル基、２−エチルヘキシル基、ヒドロキシエチル基、クロロプロピル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル基、シアノエチル基、フェネチル基、ベンジル基、ｐ−第三ブチルフェネチル基、ｐ−第三オクチルフェノキシエチル基、３−（２，４−ジ−第三アミルフェノキシ）−プロピル基、エトキシカルボニルメチル−２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル基又は２−フリルエチル基等を意味する。
【０００９】
炭素原子数２ないし２０のアルケニル基は、例えば、アリル基、メタリル基、イソプロペニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、イソブテニル基、ｎ−ペンタ−２，４−ジエニル基、３−メチル−ブテ−２−エニル基、ｎ−オクテ−２−エニル基、ｎ−ドデセ−２−エニル基、イソ−ドデセニル基、ｎ−ドデセ−２−エニル基又はｎ−オクタデセ−４−エニル基を表す。
【００１０】
炭素原子数３ないし１０のシクロアルキル基は、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基又はシクロデシル基、及び、好ましくはシクロヘキシル基を表す。これらの基は、例えば、１つ以上の、同一又は異なる炭素原子数１ないし４のアルキル基により、好ましくはメチル基及び／又はヒドロキシ基により置換され得る。シクロアルキル基が１つ以上の基により置換される場合、それらは好ましくは、１つ、２つ又は４つ、好ましくは１つ又は２つの同一又は基により置換される。
【００１１】
炭素原子数３ないし１０のシクロアルケニル基は、例えば、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロノネニル基又はシクロデセニル基、及び、好ましくはシクロヘキセニル基を表す。これら
の基は、１つ以上の、同一又は異なる炭素原子数１ないし４のアルキル基で、好ましくはメチル基及び／又はヒドロキシ基で置換され得る。シクロアルケニル基が１つ以上の基で置換される場合、それらは好ましくは、１つ、２つ、３つ又は４つの、好ましくは１つ又は２つの同一又は異なる基で置換される。
【００１２】
ヒドロキシ基で置換された炭素原子数１ないし５のアルキル基は、例えば、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基又はヒドロキシペンチル基である。
【００１３】
アルキレン基は、好ましくは炭素原子数１ないし１２のアルキレン基、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基又はオクチレン基等である。
【００１４】
上記アルキレン基は、１つ以上の炭素原子数１ないし５のアルキル基により任意に置換され得る。
【００１５】
Ｒ1及びＲ2が複素環基の場合、これらは、１つ、２つ、３つ又は４つの同一又は異なる環ヘテロ原子を含む。特に好ましいものは、１つ、２つ又は３つの、特に１つ又は２つの同一又は異なるヘテロ原子を含む複素環であると考えられる。該へテロ環は単環性又は多環性、例えば、単環性、２環性又は３環性であり得る。それらは、好ましくは、単環性又は２環性、特に単環性である。該環は、好ましくは、５、６又は７環員を含む。誘導され得る式（１）又は（２）で表される化合物中に存在する基が由来する単環性又は２環性の複素環系の例は、例えば、ピロール、フラン、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、ピラン、チオピラン、１，４−ジオキサン、１，２−オキサジン、１，３−オキサジン、１，４−オキサジン、インドール、ベンゾチオフェン、ベンゾフラン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン及びチオモルホリンである。
【００１６】
最も好ましくは、式（２）
【化４】
に対応する、本発明に使用されるベンゾフェノン誘導体である。
【００１７】
更に、以下に示すベンゾフェノン誘導体が興味深い：
【化５】
【００１８】
式（１）で表される化合物は、例えば、欧州特許第１，０４６，３９１号明細書又は国際公開第０４／０５２８３７号パンフレットに記載されるような既知の方法に従って製造され得る。
【００１９】
本発明において使用される難溶性有機化合物は、微粉末化された状態で存在する。それ
らは、微粒子の製造のために好適な何れかの既知の方法、例えば：湿式粉砕、湿式混練、好適な溶媒からの噴霧乾燥、超臨界流体（例えば、ＣＯ2）のＲＥＳＳ法（超臨界急速膨
張法（Ｒａｐｉｄ Ｅｘｐａｎｓｉｏｎ ｏｆ Ｓｕｐｅｒｃｒｉｔｉｃａｌ Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ））による膨張によって、超臨界流体を含んだ好適な溶媒からの再沈殿（ＧＡＳＲ方法＝Gas Anti−Solvent Recrystalization/PCA方法＝圧縮された反溶媒での沈殿）によっても製造され得る。
【００２０】
難溶性の微粉末化された有機化合物の製造のための粉砕装置としてここで使用され得るものは、例えば、ジェットミル、ボールミル、振動ミル又はハンマーミル、好ましくは高速回転ミルである。更に好ましいミルは、最新のボールミルであり、それらのタイプのミルの製造会社は、例えば、Ｎｅｔｚｓｃｈ（ＬＭＺミル）、Ｄｒａｉｓ（ＤＣＰ−Ｖｉｓｃｏｆｌｏｗ又はＣｏｓｍｏ）、Ｂｕｈｌｅｒ ＡＧ（遠心分離ミル）又はＢａｃｈｈｏｆｅｒである。
【００２１】
微粉末化された有機ＵＶ吸収剤の製造のための混練装置の例は、典型的にはシグマ−ブレードバッチニーダー、また、直列バッチニーダー（ＩＫＡ−Ｗｅｒｋｅ）又は連続ニーダー（Ｗｅｒｎｅｒ ｕｎｄ Ｐｆｌｅｉｄｅｒｅｒからの連続製品）でもある。
【００２２】
本発明に使用される難溶性有機化合物の粉砕は、好ましくは粉砕助剤を用いて行われる。
【００２３】
分散剤（ｂ）は全ての上記微粉末化工程において低分子量粉砕助剤として使用される。
【００２４】
有用なアニオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤又は両性界面活性剤は、“特定の分散剤（ｓｐｅｃｉｆｉｃ ｄｉｓｐｅｒｓｉｎｇ ａｇｅｎｔｓ）”と題した項において以下に開示されている。
【００２５】
水分散液にとって好ましい有用な粉砕助剤は、８よりも高く、より好ましくは１０よりも高いＨＬＢ（親水親油バランス（Ｈｙｄｒｏｐｈｉｌｅ−Ｌｉｐｏｐｈｉｌｅ Ｂａｌａｎｃｅ））値を有するアニオン性界面活性剤である。
【００２６】
慣用的に使用されるどのアニオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤又は両性界面活性剤も分散剤（成分（ｂ））として使用され得る。
そのような界面活性剤系は、例えば以下を含み得る：カルボン酸及びそれらの塩：ナトリウム、カリウム及びアンモニウムのアルカリ石鹸及びカルシウム又はマグネシウムの金属石鹸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸及びオレイン酸等のような有機ベースの石鹸、アルキルホスフェート又はリン酸エステル、酸ホスフェート、ジエタノールアミンホスフェート、カリウムセチルホスフェート。エトキシル化カルボン酸又はポリエチレングリコールエステル、ＰＥＧ−ｎアクリレート。
ラウレス−ｎ、ミレス−ｎ、セテアレス−ｎ、ステアレス−ｎ、オレス−ｎのような脂肪アルコールポリグリコールエーテル。
ＰＥＧ−ｎステアレート、ＰＥＧ−ｎオレエート、ＰＥＧ−ｎココエートのような脂肪酸ポリグリコールエーテル。モノグリセリド及びポリオールエステル。１ないし１００モルのポリオールを持ったエチレンオキシドの付加生成物の炭素原子数１２ないし２２の脂肪酸モノ−及びジ−エステル。モノステアレートグリセロール、ジイソステアロイルポリグリセリル−３−ジイソステアレート、ポリグリセリル−３−ジイソステアレート、トリグリセリルジイソステアレート、ポリグリセリル−２−セスキイソステアレート又はポリグリセリルジメレートのような脂肪酸及びポリグリセロールエステル。
多数のそれらの物質類からの化合物の混合物もまた好適である。
モノステアレートジエチレングリコールのような脂肪酸ポリグリコールエステル、脂肪
酸及びポリエチレングリコールエステル、糖エステルのような脂肪酸及びショ糖エステル、糖グリセリドのようなグリセロール及びショ糖エステル。
ソルビトール及びソルビタン、６ないし２２個の炭素原子を有する飽和及び不飽和脂肪酸のソルビタンモノ−及びジ−エステル及びエチレンオキシド付加生成物。
ポリソルベート−ｎ系列、セスキイソステアレートのようなソルビタンエステル、ソルビタン、ＰＥＧ−（６）−イソステアレートソルビタン、ＰＥＧ−（１０）−ソルビタンラウレート、ＰＥＧ−１７−ジオレエートソルビタン。
グルコース誘導体、炭素原子数８ないし２２のアルキル−モノ及びオリゴ−配糖体及び糖成分として好ましいグルコースを有するエトキシ化類似体。
メチルグルセス−２０セスキステアレート、ソルビタンステアレート／スクロースココエート、メチルグルコースセスキステアレート、セテアリルアルコール／セテアリル配糖体のようなＯ／Ｗ乳化剤。
メチルグルコースジオレエート／メチルグルコースイソステアレートのようなＷ／Ｏ乳化剤。スルフェート及びスルホネート誘導体、ジアルキルスルホサクシネート、ジオクチルサクシネート、アルキルラウリルスルホネート、直鎖スルホネートパラフィン、スルホン化テトラプロピレンスルホネート、ナトリウムラウリルスルフェート、アンモニウムとエタノールアミンラウリルスルホネート、ラウリルエーテルスルホネート、ナトリウムラウリルスルホネート［テキサポン Ｎ７０（Ｔｅｘａｐｏｎ Ｎ７０）］又はナトリウムミレススルフェート［テキサポン Ｋ１４Ｓ（Ｔｅｘａｐｏｎ Ｋ１４Ｓ）］、スルホサクシネート、アセチルイソチオネート、アルカノールアミドスルフェート、タウリン、メチルタウリン、イミダゾールスルフェート。
分子中に、少なくとも１つの四級アンモニウム基及び少なくとも１つのカルボキシレート基及び／又はスルホネート基を有する双性イオン性又は両性界面活性剤。
特に好適な双性イオン性界面活性剤は、アルキル基又はアシル基中に８ないし１８個の炭素原子をそれぞれ有する、Ｎ−アルキル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニウムグリシネート、ココアルキルジメチルアンモニウムグリシネート、Ｎ−アシルアミノプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニウムグリシネート、ココアシルアミノプロピルジメチルアンモニウムグリシネート及び２−アルキル−３−カルボキシメチル−３−ヒドロキシエチルイミダゾリンのようなベタイン並びにココアシルアミノエチルヒドロキシエチルカルボキシメチルグリシネート、Ｎ−アルキルベタイン、Ｎ−アルキルアミノベタインである。
【００２７】
分散剤として好適な低刺激性の界面活性剤、即ち、特に肌が良好な耐容性を示す界面活性剤の例は、脂肪アルコールポリグリコールエーテルスルフェート、モノグリセリドスルフェート、モノ−及び／又はジ−アルキルスルホスクシネート、脂肪酸イセチオネート、脂肪酸サルコシネート、脂肪酸タウリド、脂肪酸グルタメート、α−オレフィンスルホネート、エーテルカルボン酸、アルキルオリゴグルコシド、脂肪酸グルカミド、アルキルアミドベタイン及び／又はタンパク質脂肪酸縮合生成物を含むが、後者は好ましくは、小麦タンパク質をベースとする。
【００２８】
非イオン性界面活性剤は、例えば、ＰＥＧ−６蜜ろう（及び）ＰＥＧ−６ステアレート（及び）ポリグリセリル−２−イソステアレート［アピファック（Ａｐｉｆａｃ）］、グリセリルステアレート（及び）ＰＥＧ−１００ステアレート［アラセル １６５（Ａｒｌａｃｅｌ １６５）］、ＰＥＧ−５グリセリルステアレート［アラトン ９８３Ｓ（ａｒｌａｔｏｎｅ ９８３ Ｓ）］、ソルビタンオレエート（及び）ポリグリセリル−３リシノレエート［アルラセル １６８９（Ａｒｌａｃｅｌ １６８９）］、ソルビタンステアレート及びスクロースココエート［アラトン ２１２１（ａｒｌａｔｏｎｅ ２１２１）］、グリセリルステアレート及びラウレス２３［セラシンス ９４５（Ｃｅｒａｓｙｎｔｈ ９４５）］、セテアリルアルコール及びセテス−２０［セトマクロゴール ワックス（Ｃｅｔｏｍａｃｒｏｇｏｌ Ｗａｘ）］、セテアリルアルコール及びコリソルベート ６０及びＰＥＧ−１５０及びステアレート−２０［ポラワックス ＧＰ ２００（Ｐｏｌ
ａｗａｘ ＧＰ ２００）、ポラワックス ＮＦ（Ｐｏｌａｗａｘ ＮＦ）］、セテアリルアルコール及びセテアリルポリグルコシド［エマルゲード ＰＬ １６１８（Ｅｍｕｌｇａｄｅ ＰＬ １６１８）］、セテアリルアルコール及びセテアレス−２０［エマルゲード １０００ＮＩ（Ｅｍｕｌｇａｄｅ １０００ＮＩ）、コスモワックス（Ｃｏｓｍｏｗａｘ）］、セテアリルアルコール及びＰＥＧ−４０ヒマシ油［エマルゲード Ｆ スペシャル（Ｅｍｕｌｇａｄｅ Ｆ Ｓｐｅｃｉａｌ）］、セテアリルアルコール及びＰＥＧ−４０ヒマシ油及びナトリウムセテアリルスルフェート［エマルゲード Ｆ（Ｅｍｕｌｇａｄｅ Ｆ）］、セテアリルアルコール及びセテアレス−７及びセテアレス−１０［エマルゲーター Ｅ ２１５５（Ｅｍｕｌｇａｔｏｒ Ｅ ２１５５）］、セテアリルアルコール及びスゼアレス−７及びセテアレス−１０［エマルジファイング ワックス Ｕ．Ｓ．Ｎ．Ｆ（Ｅｍｕｌｓｉｆｙｉｎｇ ｗａｘ Ｕ．Ｓ．Ｎ．Ｆ）］、グルセリルステアレート及びＰＥＧ−７５ステアレート［ゲロット ６４（Ｇｅｌｏｔ ６４）］、プロピレングリコールセテス−３アセテート［ヘトエステル ＰＣＳ（Ｈｅｔｅｓｔｅｒ ＰＣＳ）］、プロピレングリコールイソセス−３アセテート［ヘテステル ＰＨＡ（Ｈｅｔｅｓｔｅｒ ＰＨＡ）］、セテアリルアルコール及びセテス−１２及びオレス−１２［ランブリトール ワックス Ｎ ２１（Ｌａｎｂｒｉｔｏｌ Ｗａｘ Ｎ ２１）］、ＰＥＧ−６ステアレート及びＰＥＧ−３２ステアレート［テフォス １５００（Ｔｅｆｏｓｅ １５００）］、ＰＥＧ−６ステアレート及びセテス−２０及びセテアレス−２０［テフォス
２０００（Ｔｅｆｏｓｅ ２０００）］、ＰＥＧ−６ステアレート及びセテス−２０及びグリセリルステアレート及びステアレス−２０［テフォス ２５６１（Ｔｅｆｏｓｅ ２５６１）］、グリセリルステアレート及びセテアレス−２０［テジンアシッド Ｈ，Ｃ，Ｘ（Ｔｅｇｉｎａｃｉｄ Ｈ，Ｃ，Ｘ）］である。
【００２９】
アニオン性乳化剤は、例えば、ＰＥＧ−２ステアレートＳＥ、グリセリルステアレートＳＥ［モネルジン（Ｍｏｎｅｌｇｉｎｅ）、クチナ ＫＤ（Ｃｕｔｉｎａ ＫＤ）］、プロピレングリコールステアレート［テジン Ｐ（Ｔｅｇｉｎ Ｐ）］、セテアリルアルコール及びナトリウムセテアリルスルフェート［ラネット Ｎ（Ｌａｎｅｔｔｅ Ｎ）、クチナ ＬＥ（Ｃｕｔｉｎａ ＬＥ）、クロダコール ＧＰ（Ｃｒｏｄａｃｏｌ ＧＰ）］、セテアリルアルコール及びナトリウムラウリルスルフェート［ラネット Ｗ（Ｌａｎｅｔｔｅ Ｗ）］、トリラネス−４ホスフェート及びグリコールステアレート及びＰＥＧ−２ステアレート［セデフォス ７５（Ｓｅｄｅｆｏｓ ７５）］、グリセリルステアレート及びナトリウムラウリルスルフェート［テジンアシッド スペシャル（Ｔｅｇｉｎａｃｉｄ Ｓｐｅｃｉａｌ）］である。カチオン性酸塩基は、例えば、セテアリルアルコール及びセトリモニウムブロミドである。
【００３０】
最も好ましい分散剤（ｂ）は、ナトリウムラウレススルフェート［コグニス社からのテキサポン Ｎ７０（Ｔｅｘａｐｏｎ Ｎ７０）］又はナトリウムミレススルフェート［コグニス社からのテキサポン Ｋ１４ Ｓ（Ｔｅｘａｐｏｎ Ｋ１４ Ｓ）］のような、ナトリウムアルキルスルフェート又はナトリウムアルキルエーテルスルフェートである。
【００３１】
特定の分散剤は、組成物の総質量に基づいて、例えば、１ないし３０質量％、特に、２ないし２０質量％及び好ましくは、３ないし１０質量％の量で使用され得る。
【００３２】
有用な溶媒は、水、食塩水、（ポリ−）エチレングリコール、グリセロール又は化粧品に使用可能な油である。他の有用な溶媒は、以下、“脂肪酸のエステル（Ｅｓｔｅｒｓ ｏｆ ｆａｔｔｙ ａｃｉｄｓ）”、“グリセリルエステル及び誘導体を含む天然及び合成トリグリセリド（Ｎａｔｕｒａｌ ａｎｄ ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ ｔｒｉｇｌｙｃｅｒｉｄｅｓ，ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ ｇｌｙｃｅｒｙｌ ｅｓｔｅｒｓ ａｎｄ ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅｓ）”“真珠光沢ワックス（Ｐｅａｒｌｅｓｃｅｎｔ ｗａｘｅｓ）”、“炭化水素油（Ｈｙｄｒｏｃａｒｂｏｎ ｏｉｌｓ）”及び“シリコン又はシロキサン（Ｓｉ
ｌｉｃｏｎｅｓ ｏｒ ｓｉｌｏｘａｎｅｓ）”と題された項中に開示されている。
【００３３】
得られた微粉末化された難溶性有機化合物は、通常、０．０２ないし２μｍ、好ましくは０．０３ないし１．５μｍ、及び、より好ましくは０．０５ないし１．０μｍの平均粒子径を有する。
【００３４】
本発明で使用される水分散液は、微粉末化された難溶性有機物質を、通常３０ないし６０部、好ましくは３５ないし５５部；分散剤を２ないし２０部、好ましくは２ないし２０部；増粘剤（例えば、キサンタンガム）を０．１ないし１部、好ましくは０．１ないし０．５部；及び水を２０ないし６８部含む。
【００３５】
本発明に従う化粧品配合物又は医薬組成物はまた、表１に列挙された１種以上の更なるＵＶフィルターも含み得る：
【表１Ａ】
【表１Ｂ】
【表１Ｃ】
【表１Ｄ】
【００３６】
化粧品配合物又は医薬品製剤は、慣用の方法を用いてＵＶ吸収剤と助剤を物理的に混合することにより、例えば、単に個々の成分を一緒に攪拌することにより、特に、オクチルメトキシシンナメート、サリチル酸イソオクチルエステル等のような既に公知の化粧品用ＵＶ吸収剤の溶解特性を使用することにより製造することができる。該ＵＶ吸収剤は、例えば、更なる処理を行うことなく又は微粉末化された状態で又は粉末の形態で使用され得
る。
【００３７】
化粧品又は医薬品製剤は、組成物の総質量に基づいて、１種のＵＶ吸収剤又はＵＶ吸収剤の混合物を０．０５ないし４０質量％含む。
【００３８】
好ましいものは、本発明の式（１）で表される化合物と所望による更なる光−保護剤の混合比を質量に基づいて、１：９９ないし９９：１、好ましくは１：９５ないし９５：１及び最も好ましくは１０：９０ないし９０：１０にした使用と考えられる。特定の関心が持たれることには、２０：８０ないし８０：２０の混合比であることで、好ましくは４０：６０ないし６０：４０及び最も好ましくは約５０：５０の混合比である。そのような混合物は、とりわけ溶解性を改善するために又はＵＶ吸収を向上するために使用され得る。
【００３９】
式（１）で表される化合物はまた、しわを目立たなくさせる重合調整剤（ａｎｔｉ−ｗｒｉｎｋｌｅ ｐｅｒｃｅｐｔｉｏｎ ｍｏｄｉｆｉｅｒ）として使用され得る。
これは、本発明の更なる目的である。
【００４０】
化粧品又は医薬品製剤は、例えば、クリーム、ジェル、ローション、アルコール及び水性／アルコール溶液、エマルジョン、ワックス／脂肪組成物、スティック状製剤、パウダー又は軟膏であり得る。上記したＵＶフィルターに加え、化粧品又は医薬品製剤は、下記のような更なる助剤を含み得る。
【００４１】
水−及びオイル−含有エマルジョン（例えば、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ、Ｏ／Ｗ／Ｏ及びＷ／Ｏ／Ｗエマルジョン又はミクロエマルジョン）として、製剤は、例えば、組成物の総質量に基づき、１種以上のＵＶ吸収剤を０．１ないし３０質量％、好ましくは０．１ないし１５質量％、特に０．５ないし１０質量％、組成物の総質量に基づき、少なくとも１種のオイル成分を１ないし６０質量％、特に５ないし５０質量％、好ましくは１０ないし３５質量％、組成物の総質量に基づき、少なくとも１種の乳化剤を０ないし３０質量％、特に１ないし３０質量％、好ましくは４ないし２０質量％、組成物の総質量に基づき、水を１０ないし９０質量％、特に３０ないし９０質量％、及び更なる化粧品的に許容可能な助剤を０ないし８８．９質量％、特に１ないし５０質量％含む。
【００４２】
本発明に従った化粧品又は医薬品組成物／製剤はまた、脂肪アルコール、脂肪酸のエステル、グリセリルエステル及び誘導体を含む天然又は合成トリグリセリド、真珠光沢ワックス：炭化水素油、シリコーン又はシロキサン（有機置換ポリシロキサン）、フッ素化又は過フッ素化油、乳化剤、助剤及び添加剤、過脂肪剤、界面活性剤、稠度調整剤／増粘剤及び流動改良剤、ポリマー、生物由来の活性成分、脱臭活性成分、フケ防止剤、抗酸化剤、ヒドロトロープ剤、防腐剤、細菌抑制剤、香油、着色剤、ＳＰＦ向上剤としてのポリマー状ビーズ又は中空球等の１種以上の更なる化合物も含み得る。
【００４３】
化粧品又は医薬品製剤
化粧品又は医薬品配合物は、様々な化粧品製剤中に含まれる。例えば、特に以下の製剤、スキンケア製剤、バス製剤、化粧品パーソナルケア製剤、フットケア製剤、光保護製剤、日焼け製剤、脱色製剤、防虫剤、脱臭剤、発汗抑制剤、傷んだ肌を清浄及びケアするための製剤、化学的形態にある脱毛製剤（除毛）、シェービング製剤、芳香製剤、化粧品ヘアトリートメント製剤等の製剤が考慮される。
【００４４】
存在形態
列挙された最終配合物は、様々な存在形態、例えば：
−Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ、Ｏ／Ｗ／Ｏ、Ｗ／Ｏ／Ｗ又はＰＩＴエマルジョン及び全ての種類のミクロエマルジョンとして液体製剤の形態で、
−ジェル形態で、
−オイル、クリーム、ミルク又はローション形態で、
−粉末、ラッカー、タブレット又はメイクアップ形態で、
−スティック形態で、
−スプレー（噴射ガスを有するスプレー又はポンプ−作動式スプレー）又はエアゾール形態で、
−フォーム形態で、或いは
−ペーストの形態で、
存在し得る。
【００４５】
肌のための化粧品製剤として特に重要なものは、サンミルク、ローション、クリーム、オイル、サンブロック又はトロピカル、日焼け止め製剤又は日焼け後製剤、同様に日焼け用製剤、またスキンタンニング製剤、例えばセルフタンニングクリームである。特に興味深いものは、日焼け止めクリーム、日焼け止めローション、日焼け止めミルク、及び、スプレーの形態の日焼け止め製剤である。
【００４６】
毛髪のための化粧品製剤として特に重要なものは、ヘアトリートメントのために上記された製剤、特に、シャンプーの形態の洗髪製剤、ヘアコンディショナー、ヘアケア製剤、例えば、プレトリートメント製剤、ヘアトニック、スタイリングクリーム、スタイリングジェル、ポマード、ヘアリンス、トリートメントパック、強力ヘアトリートメント、ヘアストレートニング製剤、液体ヘアセッティング製剤、ヘアフォーム及びヘアスプレーである。特に興味深いものは、シャンプーの形態の洗髪製剤である。
【００４７】
そのような配合物における他の典型的成分は、保存料、殺菌剤及び静菌剤、香料、染料、顔料、増粘剤、加湿剤、保湿剤、脂肪、オイル、ワックスであるか又は、アルコール、ポリ−アルコール、ポリマー、電解質、有機溶媒、シリコン誘導体、皮膚軟化剤、乳化剤、乳化界面活性剤、界面活性剤、分散剤、抗酸化剤、抗刺激剤及び抗炎症剤等のような化粧品及びパーソナルケア配合物の他の典型的成分である。
【００４８】
本発明に従った化粧品製剤は、日光の損傷効果に対してヒトの肌を卓越して保護することを特徴とする。
【実施例】
【００４９】
ＵＶ吸収剤の製造
実施例１：式（１０１）
【化６】
で表される化合物の製造
式（１０１ａ）
【化７】
で表される３ジエチルアミノ−ジベンゾ−オキセピン５９．０ｇ（国際公開第２０４／０５２８３７号パンフレットの実施例１に従って製造した）を室温で酢酸エチルエステル２５０ｍＬ中に溶解した。
ピペラジン８．６ｇを、この溶液に攪拌しながら添加したところ、温度が４０℃まで上がった。
生成物が反応塊を添加する間に沈殿した。
その後、該懸濁液を還流下で約３時間攪拌し、ろ去し、残渣を２−メトキシ−エタノールから再結晶した。
レモンイエローの結晶を乾燥した後、６７ｇの最終生成物を得た。
Ｆｐ＝２５３−２５６℃
式（１０１）で表される化合物は異なった形態で得ることができた。
単結晶形はそのＸ−線回折図に特徴付けられた。
式（１０１）で表される化合物のＸ−線回折図形
Ａ形態：（部分的）非晶質生成物、脱イオン水を伴う溶液から沈殿
【表２】
Ｂ形態：反応混合物からの粗生成物／結晶化前の反応塊
【表３】
Ｃ形態：２−メトキシエタノールからの再結晶化から得られた結晶
【表４】
Ｄ形態：Ｎ−メチル−ピロリドン／１−プロパノールからの再結晶からの結晶
【表５】
【００５０】
実施例２−５：分散配合物
一般的な分散配合物
微粉末化された難溶性有機物質 ３０−６０部
分散剤 ２−２０部
（例えば、ＡＰＧ、炭素原子数１２ないし１４のエーテルスルフェート）
水 ２０−６８部
増粘剤（例えば、キサンタンガム） ０．１−１部
分散液
【表６】
【００５１】
【表７】
【００５２】
【表８】
【００５３】
【表９】
この方法を用いて、ＵＶ吸収剤の微細顔料分散液を得た。
【００５４】
適用例
【表１０】
【００５５】
【表１１】
【００５６】
【表１２】
【００５７】
【表１３】
【００５８】
【表１４】
【００５９】
実施例１１：紫外線日中用ローション
【表１５】
製造仕様：
Ａ部を、すべての成分を配合することにより製造し、その後、穏やかな速度にて撹拌し、そして７５℃まで加熱した。Ｂ部を製造し、７５℃まで加熱した。該温度において、Ｂ部を、急激な撹拌速度下においてＡ部へ注いだ。その後、混合物を均一化した（３０秒、１５０００ｒｐｍ）。５５℃未満の温度において、Ｃ部の成分を配合した。混合物を穏やかな撹拌下において冷却し、その後、ｐＨをチェックし、トリエタノールアミンで調整した。
【００６０】
実施例１２：日焼け止めエマルジョン
【表１６】
製造仕様：
Ａ部を、すべての成分を配合することにより製造し、その後、穏やかな速度にて撹拌し、そして７５℃まで加熱した。Ｂ部を製造し、７５℃まで加熱した。該温度において、Ｂ部を、急激な撹拌速度下においてＡ部へ注いだ。６５℃より低い温度にて、Ｄ部の成分を別々に添加した。穏やかな撹拌下にて５５℃まで冷却した後、Ｃ部を添加した。その後、ｐＨをチェックし、水酸化ナトリウムで調整した。混合物を、１６０００ｒｐｍにて３０秒間均一化した。
【００６１】
実施例１３：常用ローション
【表１７】
製造仕様：
Ａ部を、すべての成分を配合することにより製造し、その後、穏やかな速度にて撹拌し、７５℃まで加熱した。Ｃ部を製造し、７５℃まで加熱した。Ｃ部を、穏やかな撹拌下においてＡ部へ注いだ。乳化後直ちに、Ｂ部を添加し、その後、一部のトリエタノールアミンを用いて中和した。混合物を３０秒間均一化した。冷却後、穏やかな撹拌下においてシクロペンタシロキサン（及び）ジメチコノールを添加した。３５℃より低い温度にて、ｐＨをチェックし、トリエタノールアミンで調整した。
【００６２】
実施例１４：スプレー式サンスクリーンエマルジョン
【表１８】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を８０℃まで加熱した。Ａ部を、撹拌下において、Ｂ部にブレンドし、そしてウルトラ ツラックス（Ｕｌｔｒａ Ｔｕｒｒａｘ）を使用して１１０００ｒｐｍに
て３０秒間均一化した。Ｃ部を６０℃まで加熱し、エマルジョンにゆっくりと添加した。４０℃まで冷却した後、Ｄ部を室温において配合し、Ｅ部を添加した。
【００６３】
実施例１５：常用ケア用ローション
【表１９】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を７５℃まで加熱した。Ａ部を、連続撹拌下においてＢ部へ添加し、そして１１０００ｒｐｍにて１分間均一化した。５０℃まで冷却した後、Ｃ部を連続撹拌下において添加した。更に３０℃まで冷却した後、Ｄ部を添加した。その後ｐＨを６．００ないし６．５０に調整した。
【００６４】
実施例１６：日焼け止め常用ケア品
【表２０】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に７５℃まで加熱した。Ｂ部をＡ部へ添加した後、混合物を（Ｕｌｔｒａ Ｔｕｒｒａｘ）を使用して１１０００ｒｐｍにて１分間均一化した。５０℃まで冷却した後、Ｃ部を添加した。その後、該混合物を１６０００ｒｐｍにて１分間均一化した。４０℃未満の温度において、Ｄ部を添加した。室温において、ｐＨ値を、Ｅ部を用いて６．００ないし６．５０に調整した。
【００６５】
実施例１７：Ｏ／Ｗ常用ＵＶ保護ローション
【表２１】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に７５℃まで加熱し、Ｃ部を６０℃まで加熱した。その後、Ｂ部を、撹拌下においてＡ部へ注いだ。混合物を、ウルトラ ツラックスを使用して１１０００
ｒｐｍにて３０秒間均一化し、Ｃ部を配合した。４０℃まで冷却した後、Ｄ部を添加した。室温において、ｐＨ値を、水酸化ナトリウムを用いて６．３０ないし６．７０に調整し、Ｆ部を添加した。
【００６６】
実施例１８：Ｏ／Ｗ常用ＵＶ保護剤
【表２２】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に７５℃まで加熱し、Ｃ部を６０℃まで加熱した。その後、Ｂ部を、撹拌下においてＡ部へ注いだ。混合物を、ウルトラ ツラックスを使用して１１０００
ｒｐｍにて３０秒間均一質化し、Ｃ部を配合した。４０℃まで冷却した後、Ｄ部を添加した。室温にて、ｐＨ値を、水酸化ナトリウムを用いて６．３０ないし６．７０に調整し、Ｆ部を添加した。
【００６７】
実施例１９：サンスクリーンクリーム
【表２３】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に７５℃まで加熱した。Ｂ部を、連続撹拌下においてＡ部へ添加し、その後、ウルトラ ツラックスを使用して１１０００ｒｐｍにて３０秒間均一化した。
６０℃まで冷却した後、Ｃ部を添加した。４０℃にてＣ部を添加し、そして１１０００ｒｐｍにて１５秒間均一化した。室温において、ｐＨ値を、Ｅ部を用いて調整した。
【００６８】
実施例２０：ＵＶＡ／ＵＶＢ常用ケア用ローション、Ｏ／Ｗ型
【表２４】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に７５℃まで加熱し；Ｃ部を６０℃まで加熱した。Ｂ部を、撹拌下においてＡ部へ注いだ。１１０００ｒｐｍにおける１分間の均一化の後、Ｃ部をＡ／Ｂの混合物へ添加した。４０℃まで冷却した後、Ｄ部を配合した。室温において、ｐＨ値を、Ｅ部を用いて６．３ないし７．０に調整した。最後にＦ部を添加した。
【００６９】
実施例２１：ＵＶＡ／ＵＶＢ常用ケア用ローション、Ｏ／Ｗ型
【表２５】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に７５℃まで加熱した。Ａ部を、撹拌下においてＢ部に注いだ。乳化後直ちに、Ｃ部を混合物に添加し、そしてウルトラ ツラックスを使用して１１０００
ｒｐｍにて３０秒間均一化した。６５℃まで冷却した後、アクリル酸ナトリウムコポリマー（及び）ミネラルオイル（及び）ＰＰＧ−１トリデセス−６を、５０℃において、ゆっくりとＵＶ吸収剤分散液に添加した。約３５ないし３０℃において、Ｆ部を配合した。ｐＨ値を、Ｇ部を用いて５．５ないし６．５に調整した。
【００７０】
実施例２２：ＵＶ−Ａ／ＵＶ−Ｂ常用保護ローションＯ／Ｗ
【表２６】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に８０℃まで加熱した。Ａ部を、撹拌しながらＢ部に注ぎ、ウルトラ ツラックスを使用して１１０００ｒｐｍにて３０秒間均一化した。６０℃まで冷却し
た後、Ｃ部を配合した。４０℃にて、Ｄ部を連続撹拌下においてゆっくりと添加した。ｐＨ値を、Ｅ部を用いて６．５０ないし７．００に調整した。
【００７１】
実施例２３：スプレー式サンスクリーンローション
【表２７】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に８０℃まで加熱し、Ｃ部を５０℃まで加熱した。Ｂ部をＡ部に注ぎ、そしてウルトラ ツラックスを使用して１１０００ｒｐｍにて１分間均一化した。５
０℃まで冷却した後、Ｃ部を連続撹拌下において添加した。４０℃において、Ｄ部を配合し、１１０００ｒｐｍにて１０秒間再度均一化した。ｐＨ値を、Ｅ部を用いて調整した。
【００７２】
実施例２４：Ｏ／Ｗ常用ＵＶ保護ローション
【表２８】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に７５℃まで加熱し、Ｃ部を６０℃まで加熱した。その後、Ｂ部を、撹拌下においてＡ部に注いだ。混合物を、ウルトラ ツラックスを使用して１１０００
ｒｐｍにて３０秒間均一化し、Ｃ部を配合した。４０℃まで冷却した後、Ｄ部を添加した。室温にて、ｐＨ値を、水酸化ナトリウムを用いて６．３０ないし６．７０に調整し、Ｆ部を添加した。
【００７３】
実施例２５：耐水性サンスクーンエマルジョン
【表２９】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に８０℃まで加熱した。Ａ部を、連続撹拌下においてＢ部に注いだ。その後、混合物を、ウルトラ ツラックスを使用して１１０００ｒｐｍにて１分間均一
化した。６０℃まで冷却した後、Ｃ部を配合した。４０℃において、Ｄ部を添加し、混合物を、再度、短時間均一化した。３５℃において、Ｅ部を添加し、室温にて、香料を添加した。最後に、ｐＨを、水酸化ナトリウムを用いて調整した。
【００７４】
実施例２６：ＵＶＡ／ＵＶＢ日焼け止めローション、Ｏ／Ｗ型
【表３０】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に８０℃まで加熱した。Ｂ部を、穏やかな撹拌下においてＡ部に注いだ。混合物を、ウルトラ ツラックスを使用して１１０００ｒｐｍにて１分間均一化し
た。７０℃まで冷却した後、Ｃ部を撹拌下にて添加した。更に５０℃まで冷却した後、Ｄ部を非常にゆっくりと配合した。４０℃において、Ｅ部を添加した。室温において、ｐＨを、Ｆ部を用いて７．００に調整し、Ｇ部を添加した。
【００７５】
実施例２７：ＵＶＡ／ＵＶＢ日焼け止めローション、Ｏ／Ｗ型
【表３１】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に８０℃まで加熱した。Ｂ部を、穏やかな撹拌下においてＡ部に注いだ。混合物を、ウルトラ ツラックスを使用して１１０００ｒｐｍにて１分間均一化し
た。７０℃まで冷却した後、Ｃ部を撹拌下において添加した。さらに５０℃まで冷却した後、Ｄ部を非常にゆっくりと配合した。４０℃において、Ｅ部を添加した。室温において、ｐＨを、Ｆ部を用いて７．００に調整し、Ｇ部を添加した。
【００７６】
実施例２８：サンスクリーンローション
【表３２】
製造仕様：
Ａ部及びＢ部を別々に７５℃まで加熱した。Ｂ部を、急激な撹拌速度下においてＡ部に注いだ。６５℃未満の温度において、Ｄ部の成分を別々に添加した。５５℃まで冷却した後、穏やかな撹拌下においてＣ部を添加した。３５℃未満の温度において、ｐＨをチェックし、水酸化ナトリウムを用いて調整し、そしてウルトラ ツラックスを使用して１１０
００ｒｐｍにて３０秒間均一化した。室温においてＦ部を添加した。
【００７７】
実施例２９：Ｗ／Ｏサンスクリーンローション
【表３３】
製造仕様：
Ａ部を、撹拌しながら８０℃まで加熱した。Ｂ部をＡ部に添加し、そしてウルトラ ツ
ラックスを使用して１１０００ｒｐｍにて１分間均一化した。３０℃まで冷却した後、Ｃ部を配合した。
【００７８】
実施例３０：肌保護サンスクリーンローションＷ／Ｏ
【表３４】
製造仕様：
Ａ部を、穏やかな撹拌下にて８０℃までそれぞれ加熱した。Ｂ部をＡ部に添加し、そして１１０００ｒｐｍにて１分間均一化した。３０℃まで冷却した後、Ｃ部を連続撹拌下において添加した。
【００７９】
実施例３１：サンスクリーン
【表３５】
このサンスクリーンはまた、しわを目立たせなくさせる重合調整剤（ａｎｔｉ−ｗｒｉｎｋｌｅ ｐｅｒｃｅｐｔｉｏｎ ｍｏｄｉｆｉｅｒ）としても使用され得る。
製造仕様：
Ａ部を混合し、６０℃ないし６５℃まで加熱し、高速撹拌下においてゆっくりと分散液に添加した。
６０℃において穏やかな撹拌下でＢ部を添加した。
６０℃ないし７５℃において撹拌下でＢ部をＡ部へ添加した。
均一化するまで撹拌下においてＣ部を添加した（ウルトラ ツラックスを使用し得る高速
撹拌における乳化）。
穏やかな撹拌下（６０℃）においてＤ部を添加した。
最後に、撹拌下（６０℃）において、Ｅ部を添加し、穏やかな撹拌下において冷却した。
【００８０】
実施例３２：ＰＥＧ非含有サンスクリーン
【表３６】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
褐色化及び肌老化からヒトの肌を保護するための、
（ａ）３８０ないし４２０ｎｍに極大を有するＵＶ−Ｖｉｓスペクトルを示す微粉末化された難溶性有機化合物；及び
（ｂ）アニオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤及び両性界面活性剤から選択された分散剤
を含む水分散液の使用。
【請求項２】
前記有機化合物がベンゾフェノン誘導体から選択される請求項１記載の使用。
【請求項３】
前記有機化合物が式（１）
【化１】
（式中、Ｒ1及びＲ2は互いに独立して、炭素原子数１ないし２０のアルキル基；炭素原子数２ないし２０のアルケニル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルケニル基；を表すか又はＲ1及びＲ2は、結合している窒素原子と一緒になって５−又は６−員の複素環を形成し、
ｎ1は１ないし４の数を表し、
ｎ1＝１の場合、
Ｒ3は、飽和の又は不飽和の複素環基；ヒドロキシ−炭素原子数１ないし５のアルキル基
；１つ以上の炭素原子数１ないし５のアルキル基で任意に置換されたシクロヘキシル基；複素環基、アミノカルボニル基又は炭素原子数１ないし５のアルキルカルボキシ基で任意に置換されたフェニル基を表し、
ｎ1が２の場合、
Ｒ3は、カルボニル基又はカルボキシ基で任意に置換された、アルキレン基、シクロアル
キレン基、アルケニレン基又はフェニレン基；式
【化２】
で表される基を表す又はＲ3は、Ａと一緒になって式（１ａ）
【化３】
（式中、ｎ2は１ないし３の数を表す。）で表される２価の基を形成し、
ｎ1が３の場合、
Ｒ3は、アルカントリイル基を表し、
ｎ1が４の場合、
Ｒ3は、アルカンテトライル基を表し、
Ａは、−Ｏ−又は−Ｎ（Ｒ5）−を表し、及び
Ｒ5は、水素原子、炭素原子数１ないし５のアルキル基又はヒドロキシ−炭素原子数１な
いし５のアルキル基を表す。）で表される化合物から選択される請求項１又は２記載の使
用。
【請求項４】
前記ベンゾフェノン誘導体が式（２）
【化４】
で表される化合物である請求項１ないし３の何れか１項に記載の使用。
【請求項５】
前記微粉末化された難溶性有機化合物（ａ）が、更なるＵＶ吸収剤の組合せと共に使用される請求項１ないし４の何れか１項に記載の使用。
【請求項６】
前記ベンゾフェノン誘導体は、式（２）で表される化合物であって、該結晶形はＸ−線回折パターンにより特徴付けられ、以下で示される回折角（２Θ）を示すＣｕ−Ｋα−放射線を用いて得られる請求項１ないし４の何れか１項に記載の使用。
【表１】
【請求項７】
前記ベンゾフェノン誘導体は、式（２）で表される化合物であって、該結晶形はＸ−線回折パターンにより特徴付けられ、以下で示される回折角（２Θ）を示すＣｕ−Ｋα−放射線を用いて得られる請求項１ないし４の何れか１項に記載の使用。
【表２】
【請求項８】
前記ベンゾフェノン誘導体は、式（２）で表される化合物であって、該結晶形はＸ−線回折パターンにより特徴付けられ、以下で示される回折角（２Θ）を示すＣｕ−Ｋα−放射線を用いて得られる請求項１ないし４の何れか１項に記載の使用。
【表３】
【請求項９】
式（２）
【化５】
で表される化合物の結晶形であって、該結晶形はＸ−線回折パターンにより特徴付けられ、以下で示される回折角（２Θ）を示すＣｕ−Ｋα−放射線を用いて得られる結晶形。
【表４】
【請求項１０】
式（２）
【化６】
で表される化合物の結晶形であって、該結晶形はＸ−線回折パターンにより特徴付けられ、以下で示される回折角（２Θ）を示すＣｕ−Ｋα−放射線を用いて得られる結晶形。
【表５】
【請求項１１】
式（２）
【化７】
で表される化合物の結晶形であって、該結晶形はＸ−線回折パターンにより特徴付けられ、以下で示される回折角（２Θ）を示すＣｕ−Ｋα−放射線を用いて得られる結晶形。
【表６】
【請求項１】
褐色化及び肌老化からヒトの肌を保護するための、
（ａ）３８０ないし４２０ｎｍに極大を有するＵＶ−Ｖｉｓスペクトルを示す微粉末化された難溶性有機化合物；及び
（ｂ）アニオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤及び両性界面活性剤から選択された分散剤
を含む水分散液の使用。
【請求項２】
前記有機化合物がベンゾフェノン誘導体から選択される請求項１記載の使用。
【請求項３】
前記有機化合物が式（１）
【化１】
（式中、Ｒ1及びＲ2は互いに独立して、炭素原子数１ないし２０のアルキル基；炭素原子数２ないし２０のアルケニル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルキル基；炭素原子数３ないし１０のシクロアルケニル基；を表すか又はＲ1及びＲ2は、結合している窒素原子と一緒になって５−又は６−員の複素環を形成し、
ｎ1は１ないし４の数を表し、
ｎ1＝１の場合、
Ｒ3は、飽和の又は不飽和の複素環基；ヒドロキシ−炭素原子数１ないし５のアルキル基
；１つ以上の炭素原子数１ないし５のアルキル基で任意に置換されたシクロヘキシル基；複素環基、アミノカルボニル基又は炭素原子数１ないし５のアルキルカルボキシ基で任意に置換されたフェニル基を表し、
ｎ1が２の場合、
Ｒ3は、カルボニル基又はカルボキシ基で任意に置換された、アルキレン基、シクロアル
キレン基、アルケニレン基又はフェニレン基；式
【化２】
で表される基を表す又はＲ3は、Ａと一緒になって式（１ａ）
【化３】
（式中、ｎ2は１ないし３の数を表す。）で表される２価の基を形成し、
ｎ1が３の場合、
Ｒ3は、アルカントリイル基を表し、
ｎ1が４の場合、
Ｒ3は、アルカンテトライル基を表し、
Ａは、−Ｏ−又は−Ｎ（Ｒ5）−を表し、及び
Ｒ5は、水素原子、炭素原子数１ないし５のアルキル基又はヒドロキシ−炭素原子数１な
いし５のアルキル基を表す。）で表される化合物から選択される請求項１又は２記載の使
用。
【請求項４】
前記ベンゾフェノン誘導体が式（２）
【化４】
で表される化合物である請求項１ないし３の何れか１項に記載の使用。
【請求項５】
前記微粉末化された難溶性有機化合物（ａ）が、更なるＵＶ吸収剤の組合せと共に使用される請求項１ないし４の何れか１項に記載の使用。
【請求項６】
前記ベンゾフェノン誘導体は、式（２）で表される化合物であって、該結晶形はＸ−線回折パターンにより特徴付けられ、以下で示される回折角（２Θ）を示すＣｕ−Ｋα−放射線を用いて得られる請求項１ないし４の何れか１項に記載の使用。
【表１】
【請求項７】
前記ベンゾフェノン誘導体は、式（２）で表される化合物であって、該結晶形はＸ−線回折パターンにより特徴付けられ、以下で示される回折角（２Θ）を示すＣｕ−Ｋα−放射線を用いて得られる請求項１ないし４の何れか１項に記載の使用。
【表２】
【請求項８】
前記ベンゾフェノン誘導体は、式（２）で表される化合物であって、該結晶形はＸ−線回折パターンにより特徴付けられ、以下で示される回折角（２Θ）を示すＣｕ−Ｋα−放射線を用いて得られる請求項１ないし４の何れか１項に記載の使用。
【表３】
【請求項９】
式（２）
【化５】
で表される化合物の結晶形であって、該結晶形はＸ−線回折パターンにより特徴付けられ、以下で示される回折角（２Θ）を示すＣｕ−Ｋα−放射線を用いて得られる結晶形。
【表４】
【請求項１０】
式（２）
【化６】
で表される化合物の結晶形であって、該結晶形はＸ−線回折パターンにより特徴付けられ、以下で示される回折角（２Θ）を示すＣｕ−Ｋα−放射線を用いて得られる結晶形。
【表５】
【請求項１１】
式（２）
【化７】
で表される化合物の結晶形であって、該結晶形はＸ−線回折パターンにより特徴付けられ、以下で示される回折角（２Θ）を示すＣｕ−Ｋα−放射線を用いて得られる結晶形。
【表６】
【公表番号】特表２００９−５２０７４５（Ｐ２００９−５２０７４５Ａ）
【公表日】平成２１年５月２８日（２００９．５．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−５４６３６５（Ｐ２００８−５４６３６５）
【出願日】平成１８年１２月１１日（２００６．１２．１１）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００６／０６９５１９
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０７１５８４
【国際公開日】平成１９年６月２８日（２００７．６．２８）
【出願人】（３９６０２３９４８）チバ ホールディング インコーポレーテッド (530)
【氏名又は名称原語表記】Ｃｉｂａ Ｈｏｌｄｉｎｇ Ｉｎｃ．
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２１年５月２８日（２００９．５．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１２月１１日（２００６．１２．１１）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００６／０６９５１９
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０７１５８４
【国際公開日】平成１９年６月２８日（２００７．６．２８）
【出願人】（３９６０２３９４８）チバ ホールディング インコーポレーテッド (530)
【氏名又は名称原語表記】Ｃｉｂａ Ｈｏｌｄｉｎｇ Ｉｎｃ．
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]