遷移金属錯体、該遷移金属錯体の製造方法、三量化用触媒、１−ヘキセンの製造方法、置換シクロペンタジエン化合物、及び、該置換シクロペンタジエン化合物の製造方法
【課題】エチレンの三量化反応により１−ヘキセンを効率的に、選択性よく製造することが可能な触媒成分となる新規なケイ素架橋Ｃｐ−Ａｒ遷移金属錯体、その製造方法、及び１−ヘキセンの製造方法の提供。
【解決手段】式（１）で表される遷移金属錯体、その製造方法。
１−ヘキセンは、式（１）の触媒存在下、エチレンの三量化反応により製造する。
【解決手段】式（１）で表される遷移金属錯体、その製造方法。
１−ヘキセンは、式（１）の触媒存在下、エチレンの三量化反応により製造する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、遷移金属錯体、該遷移金属錯体の製造方法、三量化用触媒、１−ヘキセンの製造方法、置換シクロペンタジエン化合物、及び、該置換シクロペンタジエン化合物の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
α−オレフィンは金属触媒によるエチレンのオリゴマー化により製造される工業的に重要な原料モノマーである。しかしながら、エチレンのオリゴマー化は通常Ｓｃｈｕｌｚ−Ｆｌｏｒｙ分布に従いα−オレフィンの混合物を与えるため、選択的なα−オレフィンを製造しうる触媒系の開発は産業的に非常に重要である。
【０００３】
例えば、特許文献１には、式（Ｃｐ−Ｂ（Ｒ）ｎＡｒ）ＴｉＲ１３で示されるハーフメタロセンチタン錯体が、活性化助触媒成分の存在下、選択的なエチレンの三量化用触媒成分として働くことが報告されている。
これらの選択的エチレン三量化用触媒の中で、［１−（１−メチル−１−（３，５−ジメチルフェニル）エチル）−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライドなどの炭素原子でシクロペンタジエンと置換アリール基が結合されたハーフメタロセンチタン錯体（炭素架橋Ｃｐ−Ａｒ錯体）が、活性化助触媒成分としてＭＡＯ（メチルアルミノキサン）を使用し、３０℃の条件で効率的なエチレン三量化用触媒成分として働くことが報告されている（例えば非特許文献１参照）。一方で、ケイ素原子でシクロペンタジエンと置換アリール基が結合されたハーフメタロセンチタン錯体（ケイ素架橋Ｃｐ−Ａｒ錯体）の一つである［ジメチルフェニルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライドは、同じ条件下においてエチレン三量化反応の触媒活性は低く、１−ヘキセン選択性も低いことが報告されている（非特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特表２００４−５２４９５９
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ ２００２，２１，５１２２−５１３５．
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
かかる状況のもと、本発明が解決しようとする課題は、エチレンの三量化反応により１−ヘキセンを効率的に、選択性よく製造することが可能な触媒成分となる新規なケイ素架橋Ｃｐ−Ａｒ遷移金属錯体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
すなわち、本発明の第１は、一般式（１）で表される遷移金属錯体にかかるものである。
（式中、Ｍ１は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
または−Ｎ（Ｒ２１）２（２つのＲ２１部分はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ２１部分にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、
Ａｒ１は下記一般式（２）、Ａｒ２は下記一般式（３）、Ａｒ３は下記一般式（４）で示されるアリール基であり（ここで、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３の三つのアリール基は、同時にすべて同一とはならない。）、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
または−Ｎ（Ｒ２１）２（２つのＲ２１部分はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ２１部分にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。）
【０００８】
また、本発明の第２は、前記遷移金属錯体と活性化助触媒成分とを接触させて得られる三量化用触媒にかかるものである。
【０００９】
さらに、本発明の第３は、三量化用触媒の存在下、エチレンを三量化させる１−ヘキセンの製造方法にかかるものである。
【００１０】
また、本発明の第４は、前記一般式（１）で表される遷移金属錯体の製造方法にかかるものである。
【００１１】
さらに、本発明の第５は、一般式（５）で示される置換シクロペンタジエン化合物にかかるものである。
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
または−Ｎ（Ｒ２１）２（２つのＲ２１部分はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ２１部分にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、
Ａｒ１は下記一般式（２）、Ａｒ２は下記一般式（３）、Ａｒ３は下記一般式（４）で示されるアリール基であり（ここで、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３の三つのアリール基は、同時にすべて同一とはならない。）、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
または−Ｎ（Ｒ２１）２（２つのＲ２１部分はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ２１部分にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、
【００１２】
また、本発明の第６は、前記一般式（５）で表される置換シクロペンタジエン化合物の製造方法にかかるものである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明により、高温条件においてもエチレンの三量化反応により１−ヘキセンを効率的に、選択性よく製造することが可能な触媒成分に好適な遷移金属錯体を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明において「置換基」という語は、化合物や基を構成するハロゲン原子を包含したものである。
また、本発明において、一般式（５）及び（７）で表される置換シクロペンタジエン化合物には、各シクロペンタジエニル環の二重結合位置がそれぞれ異なる異性体が存在するが、本発明においては、該置換シクロペンタジエニル化合物は、それらのうちのいずれか、またはそれらの混合物を表わす。
【００１５】
＜遷移金属錯体（１）（三量化用触媒成分）＞
以下、一般式（１）で表される遷移金属錯体について詳述する。
遷移金属錯体（１）において、Ｍ１は元素周期律表の第４族元素を示し、例えばチタン原子、ジルコニウム原子及びハフニウム原子等が挙げられる。これらの中でも、チタン原子が好ましい。
【００１６】
前記遷移金属錯体（１）において、Ａｒ１は前記一般式（２）、Ａｒ２は前記一般式（３）、Ａｒ３は前記一般式（４）で示されるアリール基であり（ここで、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３の三つのアリール基は、同時にすべて同一とはならない。）、置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は上述のとおりの定義であり、その具体例を以下に示す。
【００１７】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子であり、好ましくは塩素原子である。
【００１８】
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基の「炭素原子数１〜２０のアルキル基」の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ−ヘキシル基、ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基及びｎ−エイコシル基などが挙げられる。これらのうち好ましいアルキル基としては、炭素原子数１〜１０のアルキル基であり、さらに好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基及びアミル基等を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルキル基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数１〜２０の範囲であると好ましく、炭素原子数１〜１０の範囲がさらに好ましい。好適なハロゲン原子を置換基として有するアルキル基としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、フルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基等を挙げることができる。
【００１９】
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基の「炭素原子数６〜２０のアリール基」の具体例としては、フェニル基、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｎ−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−ヘキシルフェニル基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デシルフェニル基、ｎ−ドデシルフェニル基、ｎ−テトラデシルフェニル基、ナフチル基及びアントラセニル基などが挙げられる。これらのうち好ましいアリール基としては、炭素原子数６〜１０のアリール基であり、さらに好ましはフェニル基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリール基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アリール基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数は６〜２０の範囲であると好ましく、６〜１０の範囲がさらに好ましい。具体的に好適な、ハロゲン原子を置換基として有するアリール基は、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基等を挙げることができる。
【００２０】
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基の「炭素原子数７〜２０のアラルキル基」の具体例としては、ベンジル基、（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、(２，４−ジメチルフェニル)メチル基、(２，５−ジメチルフェニル)メチル基、(２，６−ジメチルフェニル)メチル基、(３，４−ジメチルフェニル)メチル基、(３，５−ジメチルフェニル)メチル基、(２，３，４−トリメチルフェニル)メチル基、(２，３，５−トリメチルフェニル)メチル基、(２，３，６−トリメチルフェニル)メチル基、(３，４，５−トリメチルフェニル)メチル基、(２，４，６−トリメチルフェニル)メチル基、(２，３，４，５−テトラメチルフェニル)メチル基、(２，３，４，６−テトラメチルフェニル)メチル基、(２，３，５，６−テトラメチルフェニル)メチル基、(ペンタメチルフェニル)メチル基、(エチルフェニル)メチル基、(ｎ−プロピルフェニル)メチル基、(イソプロピルフェニル)メチル基、(ｎ−ブチルフェニル)メチル基、(ｓｅｃ−ブチルフェニル)メチル基、(ｔｅｒｔ−ブチルフェニル)メチル基、(ｎ−ペンチルフェニル)メチル基、(ネオペンチルフェニル)メチル基、(ｎ−ヘキシルフェニル)メチル基、(ｎ−オクチルフェニル)メチル基、(ｎ−デシルフェニル)メチル基、(ｎ−ドデシルフェニル)メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などが挙げられる。これらのうち好ましいアラルキル基としては、炭素原子数７〜１０のアラルキル基であり、さらに好ましくはベンジル基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキル基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アラルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数は７〜２０の範囲であると好ましく、７〜１０の範囲がさらに好ましい。
【００２１】
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基の「炭素原子数１〜２０のアルコキシ基」の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ｎ−ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、ｎ−エイコシルオキシ基などが挙げられる。これらのうち好ましいアルコキシ基としては、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基であり、さらに好ましくはメトキシ基、エトキシ基及びｔｅｒｔ−ブトキシ基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルコキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数１〜２０の範囲であると好ましく、１〜１０の範囲がさらに好ましい。
【００２２】
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２〜２０のアルコキシ基の「炭素原子数２〜２０のアルコキシ基」の具体例としては、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ｎ−ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、ｎ−エイコシルオキシ基などが挙げられる。これらのうち好ましいアルコキシ基としては、炭素原子数２〜１０のアルコキシ基であり、さらに好ましくはエトキシ基及びｔｅｒｔ−ブトキシ基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルコキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数２〜２０の範囲であると好ましく、２〜１０の範囲がさらに好ましい。
【００２３】
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基の「炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基」の具体例としては、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２，３−ジメチルフェノキシ基、２，４−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジメチルフェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、３，４−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキシ基、２，３，４−トリメチルフェノキシ基、２，３，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，６−トリメチルフェノキシ基、２，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５−テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ−ヘキシルフェノキシ基、ｎ−オクチルフェノキシ基、ｎ−デシルフェノキシ基、ｎ−テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基及びアントラセノキシ基などが挙げられる。これらのうち好ましいアリールオキシ基としては、炭素原子数６〜１０のアリールオキシ基であり、さらに好ましくはフェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリールオキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アリールオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数は６〜２０の範囲であると好ましく、６〜１０の範囲がさらに好ましい。
【００２４】
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基の「炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基」の具体例としては、ベンジルオキシ基、(２−メチルフェニル)メトキシ基、(３−メチルフェニル)メトキシ基、(４−メチルフェニル)メトキシ基、(２，３−ジメチルフェニル)メトキシ基、(２，４−ジメチルフェニル)メトキシ基、(２，５−ジメチルフェニル)メトキシ基、(２，６−ジメチルフェニル)メトキシ基、(３，４−ジメチルフェニル)メトキシ基、(３，５−ジメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，４−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，５−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，６−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，４，５−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，４，６−トリメチルフェニル)メトキシ基、(３，４，５−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，４，５−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，４，６−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，５，６−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(ペンタメチルフェニル)メトキシ基、(エチルフェニル)メトキシ基、(ｎ−プロピルフェニル)メトキシ基、(イソプロピルフェニル)メトキシ基、(ｎ−ブチルフェニル)メトキシ基、(ｓｅｃ−ブチルフェニル)メトキシ基、(ｔｅｒｔ−ブチルフェニル)メトキシ基、(ｎ−ヘキシルフェニル)メトキシ基、(ｎ−オクチルフェニル)メトキシ基、(ｎ−デシルフェニル)メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などが挙げられる。これらのうち好ましいアラルキルオキシ基としては、炭素原子数７〜１０のアラルキルオキシ基であり、さらに好ましくはベンジルオキシ基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキルオキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アラルキルオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数は７〜２０の範囲であると好ましく、７〜１０の範囲がさらに好ましい。
【００２５】
−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基において、Ｒ２０はそれぞれ独立に、水素原子；炭素原子数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基など）、アリール基（フェニル基など）などのハイドロカルビル基；ハイドロカルビル基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わったハロゲン化ハイドロカルビル基であり、３つのＲ２０部分の炭素原子数の合計が１〜２０の範囲である。この３つのＲ２０部分の炭素原子数の合計は３〜１８の範囲が好ましい。該置換シリル基の具体例としては、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を１つ有する１置換シリル基；ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基及び／又はハロゲン化ハイドロカルビル基を２つ有する２置換シリル基；トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−ｓｅｃ−ブチルシリル基、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル基、トリ−イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチル−ジメチルシリル基、トリ−ｎ−ペンチルシリル基、トリ−ｎ−ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基及び／又はハロゲン化ハイドロカルビル基を３つ有する３置換シリル基などが挙げられる。これらのうち好ましくは３置換シリル基であり、さらに好ましくはトリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基である。
【００２６】
−Ｎ（Ｒ２１）２（２つのＲ２１部分はそれぞれ独立にハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ２１部分にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基において、Ｒ２１はそれぞれ独立に、ハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ２１部分の炭素原子数の合計が２〜２０の範囲であり、２〜１０の範囲がさらに好ましい。かかるハイドロカルビル基およびハロゲン化ハイドロカルビル基は、前記置換シリル基のハイドロカルビル基およびハロゲン化ハイドロカルビル基として説明したものと同じである。また、この２つのＲ２１部分は互いに結合して、これらが結合している窒素原子と一緒になって環を形成していてもよい。かかる２置換アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ヘキシルアミノ基、ジ−ｎ−オクチルアミノ基、ジ−ｎ−デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビストリメチルシリルアミノ基、ビス−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアミノ基、ピロリル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、カルバゾリル基、ジヒドロインドリル基、ジヒドロイソインドリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などが挙げられる。これらのうち、好ましくはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基である。
【００２７】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する基同士は結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する基同士は結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する基同士は結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する基同士は結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。ここでいう環とは、炭素原子数１〜２０のハイドロカルビル基で置換された、飽和もしくは不飽和のハイドロカルビル環、炭素原子数１〜２０のハイドロカルビル基で置換された、飽和もしくは不飽和のシラハイドロカルビル環などである。その具体例としては、シクロプロパン環、シクロプロペン環、シクロブタン環、シクロブテン環、シクロペンタン環、シクロペンテン環、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環、シクロヘプタン環、シクロヘプテン環、シクロオクタン環、シクロオクテン環、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、シラシクロプロパン環、シラシクロブタン環、シラシクロペンタン環、シラシクロヘキサン環である。
【００２８】
前記遷移金属錯体（１）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、または炭素原子数７〜２０のアラルキル基であり、より好ましくは炭素原子数１〜２０のアルキル基であり、さらに好ましくはメチル基である。
【００２９】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４の具体例としては、その部分構造式（９）
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同じ意味を表す。）
において、例えば、次のような部分構造を挙げることができる。
【００３０】
シクロペンタジエニル、メチルシクロペンタジエニル、エチルシクロペンタジエニル、ｎ−プロピルシクロペンタジエニル、イソプロピルシクロペンタジエニル、ｎ−ブチルシクロペンタジエニル、ｓｅｃ−ブチルシクロペンタジエニル、ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル、ジメチルシクロペンタジエニル、トリメチルシクロペンタジエニル、テトラメチルシクロペンタジエニル、フェニルシクロペンタジエニル、ベンジルシクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニル、テトラヒドロインデニル、メチルテトラヒドロインデニル、ジメチルテトラヒドロインデニル、オクタヒドロフルオレニル。
【００３１】
ここに例示した部分構造のうち、好ましい部分構造はテトラメチルシクロペンタジエニルなどである。
【００３２】
前記遷移金属錯体（１）において、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、炭素原子数７〜２０のアラルキル基であり、より好ましくはハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基である。
【００３３】
前記一般式（２）〜（４）において、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９は、それぞれ独立に、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアラルキル基、または−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基であり、より好ましくは水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基である。
【００３４】
前記遷移金属錯体（１）において、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３は上述のとおりの定義であり、例えば、次のような具体例を挙げることができる。
【００３５】
フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ジエチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ジイソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ジ−ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｎ−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−ヘキシルフェニル基、ジ−ｎ−ヘキシルフェニル基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デシルフェニル基、ｎ−ドデシルフェニル基、ｎ−テトラデシルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルメチルフェニル基、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）メチルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基
【００３６】
フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、（トリフルオロメチル）フェニル基、ビス（トリフルオロメチル）フェニル基
【００３７】
メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、トリメトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ジエトキシフェニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、メトキシ（メチル）フェニル基、メトキシ（ジメチル）フェニル基、メトキシ（トリメチル）フェニル基、メトキシ（テトラメチル）フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチル（メトキシ）フェニル基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（メトキシ）フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルメチル（メトキシ）フェニル基、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）メチル（メトキシ）フェニル基、クロロ（メトキシ）フェニル基、ジクロロ（メトキシ）フェニル基、フルオロ（メトキシ）フェニル基、（トリフルオロメチル）（メトキシ）フェニル基、ビス（トリフルオロメチル）（メトキシ）フェニル基
【００３８】
ビフェニル基、ジフェニルフェニル基、トリフェニルフェニル基、（メチルフェニル）フェニル基、ジ（メチルフェニル）フェニル基、（ジメチルフェニル）フェニル基、ビス（ジメチルフェニル）フェニル基、（トリメチルフェニル）フェニル基、ビス（トリメチルフェニル）フェニル基、（テトラメチルフェニル）フェニル基、ビス（テトラメチルフェニル）フェニル基、（ペンタメチルフェニル）フェニル基、ビス（ペンタメチルフェニル）フェニル基、（エチルフェニル）フェニル基、ジ（エチルフェニル）フェニル基、（ジエチルフェニル）フェニル基、ビス（ジエチルフェニル）フェニル基、（イソプロピルフェニル）フェニル基、ジ（イソプロピルフェニル）フェニル基、（ジイソプロピルフェニル）フェニル基、ビス（ジイソプロピルフェニル）フェニル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェニル基、ジ（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェニル基、（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェニル基、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェニル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）フェニル基、ジ（ｎ−ヘキシルフェニル）フェニル基、（ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）フェニル基、ビス（ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）フェニル基、メチル（フェニル）フェニル基、メチルジ（フェニル）フェニル基、メチルトリ（フェニル）フェニル基、メチルテトラ（フェニル）フェニル基、ジメチル（フェニル）フェニル基、ジメチルジ（フェニル）フェニル基、ジメチルトリ（フェニル）フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチル（フェニル）フェニル基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（フェニル）フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルメチル（フェニル）フェニル基、（フルオロフェニル）フェニル基、ジ（フルオロフェニル）フェニル基、（ジフルオロフェニル）フェニル基、ビス（ジフルオロフェニル）フェニル基、（トリフルオロフェニル）フェニル基、ビス（トリフルオロフェニル）フェニル基、（ペンタフルオロフェニル）フェニル基、ビス（ペンタフルオロフェニル）フェニル基、（クロロフェニル）フェニル基、ジ（クロロフェニル）フェニル基、（ジクロロフェニル）フェニル基、ビス（ジクロロフェニル）フェニル基、｛（トリフルオロメチル）フェニル｝フェニル基、ビス｛（トリフルオロメチル）フェニル｝フェニル基、｛ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝フェニル基、ビス｛ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝フェニル基、フルオロ（フェニル）フェニル基、ジフルオロ（フェニル）フェニル基、クロロ（フェニル）フェニル基、ジクロロ（フェニル）フェニル基、（トリフルオロメチル）（フェニル）フェニル基
【００３９】
ベンジルフェニル基、ジベンジルフェニル基、（メチルベンジル）フェニル基、ジ（メチルベンジル）フェニル基、（ジメチルベンジル）フェニル基、ビス（ジメチルベンジル）フェニル基、（トリメチルベンジル）フェニル基、ビス（トリメチルベンジル）フェニル基、（ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）フェニル基、ジ（ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）フェニル基、（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）フェニル基、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）フェニル基、ベンジル（メチル）フェニル基、ジベンジル（メチル）フェニル基、（ベンジル）ジメチルフェニル基、（ジベンジル）ジメチルフェニル基、ベンジル（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル基、ベンジルジ（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル基、（フルオロベンジル）フェニル基、ジ（フルオロベンジル）フェニル基、（ジフルオロベンジル）フェニル基、ビス（ジフルオロベンジル）フェニル基、（トリフルオロベンジル）フェニル基、ビス（トリフルオロベンジル）フェニル基、（クロロベンジル）フェニル基、ジ（クロロベンジル）フェニル基、（ジクロロベンジル）フェニル基、ビス（ジクロロベンジル）フェニル基、（ベンジル）フルオロフェニル基、（ベンジル）クロロフェニル基、（ベンジル）（トリフルオロメチル）フェニル基
【００４０】
トリメチルシリルフェニル基、ビス（トリメチルシリル）フェニル基、トリス（トリメチルシリル）フェニル基、トリイソプロピルシリルフェニル基、ビス（トリイソプロピルシリル）フェニル基、（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）フェニル基、ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）フェニル基、メチル（トリメチルシリル）フェニル基、ジメチル（トリメチルシリル）フェニル基、トリメチル（トリメチルシリル）フェニル基、テトラメチル（トリメチルシリル）フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチル（トリメチルシリル）フェニル基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（トリメチルシリル）フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルメチル（トリメチルシリル）フェニル基、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）メチル（トリメチルシリル）フェニル基、クロロ（トリメチルシリル）フェニル基、ジクロロ（トリメチルシリル）フェニル基、フルオロ（トリメチルシリル）フェニル基、（トリフルオロメチル）（トリメチルシリル）フェニル基、ビス（トリフルオロメチル）（トリメチルシリル）フェニル基、メトキシ（トリメチルシリル）フェニル基
【００４１】
ジメチルアミノフェニル基、ビス（ジメチルアミノ）フェニル基、トリス（ジメチルアミノ）フェニル基、ジエチルアミノフェニル基、ビス（ジエチルアミノ）フェニル基、メチル（ジメチルアミノ）フェニル基、ジメチル（ジメチルアミノ）フェニル基、トリメチル（ジメチルアミノ）フェニル基、テトラメチル（ジメチルアミノ）フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチル（ジメチルアミノ）フェニル基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（ジメチルアミノ）フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルメチル（ジメチルアミノ）フェニル基、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）メチル（ジメチルアミノ）フェニル基、クロロ（ジメチルアミノ）フェニル基、ジクロロ（ジメチルアミノ）フェニル基、フルオロ（ジメチルアミノ）フェニル基、（トリフルオロメチル）（ジメチルアミノ）フェニル基、ビス（トリフルオロメチル）（ジメチルアミノ）フェニル基
【００４２】
ここに例示した具体例のうち、好ましいＡｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３はフェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、ジエチルフェニル基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ジフェニルフェニル基、などである。
【００４３】
前記一般式（２）〜（４）において、Ｒ６、Ｒ１１及びＲ１６は、それぞれ独立に
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
または−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基であることが好ましく、より好ましくは炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基である。
【００４４】
前記一般式（２）〜（４）において、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ１１、Ｒ１３、Ｒ１６及びＲ１８は、それぞれ独立に
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
または−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基であることが好ましく、より好ましくは炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基である。
【００４５】
前記遷移金属錯体（１）において、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３は、同時にすべて同一とはならないが、具体的には、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３のうち二つのアリール基が同一である遷移金属錯体や、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３のアリール基がすべて異なる遷移金属錯体である。
【００４６】
遷移金属錯体（１）を具体的に例示すると、次のような錯体を挙げることができる。
【００４７】
［１−（３，５−ジメチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジエチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジエチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジフェニル（３，５−ジイソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−フェニルビス（３，５−ジイソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジフェニルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジフェニルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジベンジルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジベンジルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメトキシフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメトキシフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ビス（ジメチルアミノ）フェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ビス（ジメチルアミノ）フェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−メチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（３−メチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジフェニル（３−イソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−フェニルジ（３−イソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−トリメチルシリルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３−トリメチルシリルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−フェニルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（３−フェニルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−メトキシフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（３−メトキシフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（４−メチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（４−メチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（４−ｎ−ブチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（４−ｎ−ブチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（４−フルオロフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（４−フルオロフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（４−メトキシフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（４−メトキシフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド
【００４８】
［１−（３，５−ジエチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ジイソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３，５−ジイソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ジフェニルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３，５−ジフェニルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジベンジルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジベンジルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−メチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（３−メチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−メトキシフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（３−メトキシフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−ジメチルアミノフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３−ジメチルアミノフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（４−ｎ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（４−ｎ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（４−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（４−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（４−フルオロフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（４−フルオロフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３−メチル−５−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３−メチル−５−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド
【００４９】
［１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ジフェニルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジベンジルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３−メチル−５−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３−メチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３−メトキシフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３−ジメチルアミノフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（４−ｎ−ブチルフェニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（４−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（４−フルオロフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジフェニルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライドなどの塩素化チタン錯体が挙げられる。
【００５０】
また、ここに例示する錯体において、「２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル」を「シクロペンタジエニル」、「２−メチルシクロペンタジエニル」、「３−メチルシクロペンタジエニル」、「２，３−ジメチルシクロペンタジエニル」、「２，４−ジメチルシクロペンタジエニル」、「２，５−ジメチルシクロペンタジエニル」、「２，３，５−トリメチルシクロペンタジエニル」、「２−エチルシクロペンタジエニル」、「３−エチルシクロペンタジエニル」、「２−ｎ−プロピルシクロペンタジエニル」、「３−ｎ−プロピルシクロペンタジエニル」、「２−イソプロピルシクロペンタジエニル」、「３−イソプロピルシクロペンタジエニル」、「２−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル」、「３−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル」、「２−ｓｅｃ−ブチルシクロペンタジエニル」、「３−ｓｅｃ−ブチルシクロペンタジエニル」、「２−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル」、「３−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル」、「２−フェニルシクロペンタジエニル」、「３−フェニルシクロペンタジエニル」、「２−ベンジルシクロペンタジエニル」、「３−ベンジルシクロペンタジエニル」、「インデニル」、「２−メチルインデニル」、「フルオレニル」、「テトラヒドロインデニル」、「２−メチルテトラヒドロインデニル」、「オクタヒドロフルオレニル」に置き換えた塩素化チタン錯体も同様に遷移金属錯体（１）として例示される。
【００５１】
さらに、ここに例示する錯体において、「チタニウム」を「ジルコニウム」に置き換えた塩素化ジルコニウム錯体、又は「ハフニウム」に置き換えた塩素化ハフニウム錯体などの塩素化遷移金属錯体、「クロライド」を「フルオリド」に置き換えたフッ素化チタン錯体、「ブロマイド」に置き換えた臭素化チタン錯体、「アイオダイド」に置き換えたヨウ素化チタン錯体などのハロゲン化チタン錯体、「ハイドライド」に置き換えた水素化チタン錯体、「メチル」に置き換えたメチル化チタン錯体などのアルキル化チタン錯体、「フェニル」に置き換えたフェニル化チタン錯体などのアリール化チタン錯体、「ベンジル」に置き換えたベンジル化チタン錯体などのアラルキル化チタン錯体、「メトキシド」に置き換えたメトキシ化チタン錯体、「ｎ−ブトキシド」に置き換えたｎ−ブトキシ化チタン錯体、「イソプロポキシド」に置き換えたイソプロポキシ化チタン錯体などのアルコキシ化チタン錯体、「フェノキシド」に置き換えたフェノキシ化チタン錯体などのアリールオキシ化チタン錯体、「ベンジロキシド」に置き換えたベンジロキシ化チタン錯体などのアラルキルオキシ化チタン錯体、「ジメチルアミド」に置き換えたジメチルアミド化チタン錯体、「ジエチルアミド」に置き換えたジエチルアミド化チタン錯体などのアミド化チタン錯体も同様に遷移金属錯体（１）として例示される。これらの中でも、アルキル化チタン錯体が好ましく、トリメチルチタン錯体が特に好ましい。
【００５２】
式（１）の遷移金属錯体として、好ましくは、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジエチルフェニル）ジ（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジエチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ジ（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジエチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ジイソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３，５−ジイソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ジフェニルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３，５−ジフェニルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジベンジルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジベンジルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−メチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（３−メチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−メトキシフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（３−メトキシフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−ジメチルアミノフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３−ジメチルアミノフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（４−ｎ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（４−ｎ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（４−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（４−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（４−フルオロフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（４−フルオロフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３−メチル−５−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３−メチル−５−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ジフェニルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジベンジルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３−メチル−５−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３−メチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３−メトキシフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３−ジメチルアミノフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（４−ｎ−ブチルフェニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（４−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（４−フルオロフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジフェニルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、などが挙げられる。
【００５３】
＜遷移金属錯体（１）の製造方法＞
遷移金属錯体（１）は例えば、式（５）
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３は前記と同義である。］
で示される置換シクロペンタジエン化合物（以下、「置換シクロペンタジエン化合物（５）」という。）と、塩基とをアミン化合物の存在下に反応させる工程；
前記置換シクロペンタジエン化合物（５）と塩基との反応物に、
以下の一般式（６）
（式中、Ｍ１、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は前記と同義であり、Ｘ４は、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
または−Ｎ（Ｒ２１）２（２つのＲ２１部分はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ２１部分にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、ｍは０または１を表す。）
で示される遷移金属化合物（以下、「遷移金属化合物（６）」という。）を反応させる工程を有する製造方法により製造することができる。以下、前記置換シクロペンタジエン化合物（５）と塩基とをアミン化合物の存在下に反応させる工程を「第１反応工程」、前記置換シクロペンタジエン化合物（５）と塩基との反応物に、遷移金属化合物（６）を反応させる工程を「第２反応工程」ということがある。
【００５４】
前記置換シクロペンタジエン化合物（５）において、そのシクロペンタジエン環の二重結合の位置が異なる異性体は以下の構造異性体のことである。
置換シクロペンタジエン化合物（５）には、各シクロペンタジエン環の二重結合位置がそれぞれ異なる異性体が存在するが、本発明においてはそれらのうちのいずれか、またはそれらの混合物を表わす。
【００５５】
前記遷移金属化合物（６）において、置換基Ｘ４は上述のとおりの定義であり、その具体例としてはＸ１、Ｘ２及びＸ３で挙げたものと同様のものを挙げることができる。
【００５６】
前記遷移金属化合物（６）としては、例えば、四塩化チタン、三塩化チタン、四臭化チタン、四ヨウ化チタンなどのハロゲン化チタン；テトラキス（ジメチルアミノ）チタン、ジクロロビス（ジメチルアミノ）チタン、トリクロロ（ジメチルアミノ）チタン、テトラキス（ジエチルアミノ）チタンなどのアミドチタン；テトライソプロポキシチタン、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、ジクロロジイソプロポキシチタン、トリクロロイソプロポキシチタンなどのアルコキシチタンなどが挙げられる。また、これらの各化合物の「チタン」を「ジルコニウム」又は「ハフニウム」に置き換えた化合物などが挙げられる。これらのうち、好ましい遷移金属化合物（６）は四塩化チタンである。
【００５７】
前記第１反応工程において、置換シクロペンタジエン化合物（５）と反応させる塩基としては、例えば、メチルリチウム、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウムトリメチルシリルアセチリド、リチウムアセチリド、トリメチルシリルメチルリチウム、ビニルリチウム、フェニルリチウム及びアリルリチウムなどの有機リチウム化合物に代表される有機アルカリ金属化合物などが挙げられる。
【００５８】
塩基の使用量は、置換シクロペンタジエン化合物（５）１モルあたり、０．５〜５モルの範囲であればよい。
【００５９】
前記第１反応工程における置換シクロペンタジエン化合物（５）と塩基との反応においては、アミン化合物が用いられる。かかるアミン化合物としては、例えば、メチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−デシルアミン、アニリン、エチレンジアミンなどの第１級アミン化合物；ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ジ−ｎ−オクチルアミン、ジ−ｎ−デシルアミン、ピロリジン、ヘキサメチルジシラザン、ジフェニルアミンなどの第２級アミン化合物；トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−ｎ−オクチルアミン、トリ−ｎ−デシルアミン、トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ−メチルピロリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどの第３級アミン化合物；が挙げられる。かかるアミン化合物の使用量は、塩基１モルあたりに、１０モル以下であると好ましく、０．５〜１０モルの範囲であるとより好ましく、１〜５モルの範囲であるとさらに好ましい。
【００６０】
前記第１反応工程において、置換シクロペンタジエン化合物（５）と塩基とを反応させる際には溶媒の存在下で反応させることが好ましい。また、溶媒を用いるときには、該溶媒中で置換シクロペンタジエン化合物（５）及び塩基を反応させた後、この反応混合物中に遷移金属化合物（６）を加えることにより、置換シクロペンタジエン化合物（５）及び塩基の反応物に、遷移金属化合物（６）をさらに反応させることができる。なお、置換シクロペンタジエン化合物（５）及び塩基を反応させた反応混合物には固体が析出することがあるが、この場合には、析出した固体が溶解するまで溶媒を追加したり、析出した固体をろ過等により、一旦分離してもよく、分離した固体に溶媒を加えて溶解させたり、懸濁させた後で、遷移金属化合物（６）を加えてもよい。また、溶媒を用いる場合、該溶媒に置換シクロペンタジエン化合物（５）、塩基、アミン化合物および遷移金属化合物（６）を同時に加えることにより、第１反応工程と第２反応工程とを略同時に実施することもできる。
【００６１】
第１反応工程又は、第１反応工程及び第２反応工程に用いる溶媒は、これらの工程に係る反応の進行を著しく妨げない不活性な溶媒が用いられる。かかる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエンなどの芳香族ハイドロカルビル系溶媒；ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族ハイドロカルビル系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル系溶媒；ヘキサメチルホスホリックアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどの極性溶媒；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性溶媒などが例示される。かかる溶媒は単独もしくは２種以上を混合して用いることができ、その使用量は、置換シクロペンタジエン化合物（５）１重量部にあたり、１〜２００重量部が好ましく、３〜５０重量部がさらに好ましい。
【００６２】
遷移金属化合物（６）の使用量は、置換シクロペンタジエン化合物（５）１モルあたり、０．５〜３モルの範囲が好ましく、０．７〜１．５モルの範囲がさらに好ましい。
【００６３】
第１反応工程及び第２反応工程における反応温度は、−１００℃以上、溶媒の沸点以下であればよく、好ましくは−８０〜１００℃の範囲である。
【００６４】
かくして第１反応工程及び第２反応工程を経て得られた反応混合物からは各種公知の精製方法により、生成した遷移金属錯体（１）を取り出すことができる。例えば、第１反応工程及び第２反応工程の後に、生成した沈殿を濾別後、濾液を濃縮して遷移金属錯体を析出させた後、これを濾取する方法などによって目的の遷移金属錯体（１）を得ることができる。
【００６５】
また、遷移金属錯体（１）のＸ１、Ｘ２及びＸ３のいずれかが、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
またはハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基である化合物は、遷移金属錯体（１）のＸ１、Ｘ２及びＸ３がハロゲン原子である化合物と、対応するアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、アラルキルオキシ基をもつリチウム化合物、ナトリウム化合物、カリウム化合物またはマグネシウム化合物との反応によっても得ることができる。
【００６６】
＜置換シクロペンタジエン化合物（５）＞
【００６７】
前記置換シクロペンタジエン化合物（５）において、置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３は上述のとおりの定義である。
【００６８】
前記置換シクロペンタジエン化合物（５）としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。
【００６９】
１−（３，５−ジメチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジエチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジエチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジフェニル（３，５−ジイソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−フェニルビス（３，５−ジイソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジフェニルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジフェニルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジベンジルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジベンジルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジメトキシフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジメトキシフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ビス（ジメチルアミノ）フェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ビス（ジメチルアミノ）フェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３−メチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジ（３−メチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジフェニル（３−イソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−フェニルジ（３−イソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジ（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３−トリメチルシリルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３−トリメチルシリルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３−フェニルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジ（３−フェニルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３−メトキシフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジ（３−メトキシフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（４−メチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジ（４−メチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（４−ｎ−ブチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジ（４−ｎ−ブチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（４−フルオロフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジ（４−フルオロフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（４−メトキシフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジ（４−メトキシフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン
【００７０】
１−（３，５−ジエチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ジイソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３，５−ジイソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ジフェニルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３，５−ジフェニルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジベンジルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジベンジルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３−メチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジ（３−メチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３−メトキシフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジ（３−メトキシフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３−ジメチルアミノフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３−ジメチルアミノフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（４−ｎ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジ（４−ｎ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（４−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（４−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（４−フルオロフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジ（４−フルオロフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３−メチル−５−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３−メチル−５−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン
【００７１】
１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ジフェニルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジベンジルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３−メチル−５−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３−メチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３−メトキシフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３−ジメチルアミノフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（４−ｎ−ブチルフェニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（４−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（４−フルオロフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジフェニルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエンなどの置換シクロペンタジエン化合物が挙げられる。
【００７２】
また、ここに例示する置換シクロペンタジエン化合物において、「２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン」を「シクロペンタジエン」、「２−メチルシクロペンタジエン」、「３−メチルシクロペンタジエン」、「２，３−ジメチルシクロペンタジエン」、「２，４−ジメチルシクロペンタジエン」、「２，５−ジメチルシクロペンタジエン」、「２，３，４−トリメチルシクロペンタジエン」、「２，３，５−トリメチルシクロペンタジエン」、「２−エチルシクロペンタジエン」、「３−エチルシクロペンタジエン」、「２−ｎ−プロピルシクロペンタジエン」、「３−ｎ−プロピルシクロペンタジエン」、「２−イソプロピルシクロペンタジエン」、「３−イソプロピルシクロペンタジエン」、「２−ｎ−ブチルシクロペンタジエン」、「３−ｎ−ブチルシクロペンタジエン」、「２−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエン」、「３−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエン」、「２−フェニルシクロペンタジエン」、「３−フェニルシクロペンタジエン」、「２−ベンジルシクロペンタジエン」、「３−ベンジルシクロペンタジエン」、「インデン」、「２−メチルインデン」、「フルオレン」、「テトラヒドロインデン」、「２−メチルテトラヒドロインデン」、「オクタヒドロフルオレン」に置き換えた置換シクロペンタジエン化合物も同様に置換シクロペンタジエン化合物（５）として例示される。
【００７３】
ここに例示する置換シクロペンタジエン化合物において、シクロペンタジエン環の二重結合の位置が異なる異性体が存在する場合、これらの異性体混合物であってもよい。
【００７４】
＜置換シクロペンタジエン化合物（５）の製造方法＞
一般式（５）で示される置換シクロペンタジエン化合物は、例えば一般式（７）で示される置換シクロペンタジエン化合物（以下「置換シクロペンタジエン化合物（７）」と略す）と、塩基とを反応させる工程；
前記置換シクロペンタジエン化合物（７）と塩基との反応物に、一般式（８）で示されるハロゲン化ケイ素化合物（以下「ハロゲン化ケイ素化合物（８）」と略す）を反応させる工程により製造することができる。
【００７５】
一般式（７）で示される置換シクロペンタジエン化合物は、下記のとおりである。
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同義であり
【００７６】
前記置換シクロペンタジエン化合物（７）としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。
【００７７】
シクロペンタジエン、メチルシクロペンタジエン、１，２−ジメチルシクロペンタジエン、１，３−ジメチルシクロペンタジエン、１，４−ジメチルシクロペンタジエン、２，３−ジメチルシクロペンタジエン、１，２，３−トリメチルシクロペンタジエン、１，２，４−トリメチルシクロペンタジエン、１，２，３，４−テトラメチルシクロペンタジエン、エチルシクロペンタジエン、１，２−ジエチルシクロペンタジエン、１，３−ジエチルシクロペンタジエン、１，４−ジエチルシクロペンタジエン、２，３−ジエチルシクロペンタジエン、１，２，３−トリエチルシクロペンタジエン、１，２，４−トリエチルシクロペンタジエン、１，２，３，４−テトラエチルシクロペンタジエン、ｎ−プロピルシクロペンタジエン、イソプロピルシクロペンタジエン、ｎ−ブチルシクロペンタジエン、ｓｅｃ−ブチルシクロペンタジエン、ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエン、ｎ−ペンチルシクロペンタジエン、ネオペンチルシクロペンタジエン、ｎ−ヘキシルシクロペンタジエン、ｎ−オクチルシクロペンタジエン、フェニルシクロペンタジエン、ベンジルシクロペンタジエン、ナフチルシクロペンタジエン、トリメチルシリルシクロペンタジエン、トリエチルシリルシクロペンタジエン、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルシクロペンタジエン、インデン、２−メチルインデン、テトラヒドロインデン、２−メチルテトラヒドロインデン、３−メチルテトラヒドロインデン、２，３−ジメチルテトラヒドロインデン、２−エチルテトラヒドロインデン、２−ｎ−プロピルテトラヒドロインデン、２−イソプロピルテトラヒドロインデン、２−ｎ−ブチルテトラヒドロインデン、２−ｓｅｃ−ブチルテトラヒドロインデン、２−ｔｅｒｔ−ブチルテトラヒドロインデン、２−ｎ−ペンチルテトラヒドロインデン、２−ネオペンチルテトラヒドロインデン、２−アミルテトラヒドロインデン、２−ｎ−ヘキシルテトラヒドロインデン、２−シクロヘキシルテトラヒドロインデン、２−ｎ−オクチルテトラヒドロインデン、２−ｎ−デシルテトラヒドロインデン、２−フェニルテトラヒドロインデン、２−ベンジルテトラヒドロインデン、２−ナフチルテトラヒドロインデン、２−メトキシテトラヒドロインデン、２−フェノキシテトラヒドロインデン、２−ベンジルオキシテトラヒドロインデン、２−ジメチルアミノテトラヒドロインデン、２−トリメチルシリルテトラヒドロインデン、フルオレン、オクタヒドロフルオレンなどの置換シクロペンタジエン化合物が挙げられる。
【００７８】
ここに例示する置換シクロペンタジエン化合物（７）において、シクロペンタジエン環の二重結合の位置が異なる異性体が存在する場合、これらの異性体混合物であってもよい。
【００７９】
一般式（８）で示されるハロゲン化ケイ素化合物は、下記の通りである。
一般式（８）
[式中、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３は前記と同義であり、Ｘ５はハロゲン原子である。]
【００８０】
ハロゲン化ケイ素化合物（８）としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。
【００８１】
クロロ（３，５−ジメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロビス（３，５−ジメチルフェニル）フェニルシラン、クロロ（３，５−ジエチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロビス（３，５−ジエチルフェニル）フェニルシラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェニルシラン、クロロジフェニル（３，５−ジイソプロピルフェニル）シラン、クロロフェニルビス（３，５−ジイソプロピルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロビス（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）フェニルシラン、（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）クロロジフェニルシラン、ビス（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）クロロフェニルシラン、クロロ（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）ジフェニルシラン、クロロビス（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）フェニルシラン、クロロ（３，５−ジフェニルフェニル）ジフェニルシラン、クロロビス（３，５−ジフェニルフェニル）フェニルシラン、（３，５−ジベンジルフェニル）クロロジフェニルシラン、ビス（３，５−ジベンジルフェニル）クロロフェニルシラン、クロロ（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）ジフェニルシラン、クロロビス（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）フェニルシラン、クロロ（３，５−ジメトキシフェニル）ジフェニルシラン、クロロビス（３，５−ジメトキシフェニル）フェニルシラン、クロロ（３，５−ビス（ジメチルアミノ）フェニル）ジフェニルシラン、クロロビス（３，５−ビス（ジメチルアミノ）フェニル）フェニルシラン、クロロ（３−メチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロジ（３−メチルフェニル）フェニルシラン、クロロジフェニル（３−イソプロピルフェニル）シラン、クロロフェニルジ（３−イソプロピルフェニル）シラン、（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）クロロジフェニルシラン、ジ（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）クロロフェニルシラン、クロロ（３−トリメチルシリルフェニル）ジフェニルシラン、クロロビス（３−トリメチルシリルフェニル）フェニルシラン、クロロ（３−フェニルフェニル）ジフェニルシラン、クロロジ（３−フェニルフェニル）フェニルシラン、クロロ（３−メトキシフェニル）ジフェニルシラン、クロロジ（３−メトキシフェニル）フェニルシラン、クロロ（４−メチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロジ（４−メチルフェニル）フェニルシラン、（４−ｎ−ブチルフェニル）クロロジフェニルシラン、ジ（４−ｎ−ブチルフェニル）クロロフェニルシラン、クロロ（４−フルオロフェニル）ジフェニルシラン、クロロジ（４−フルオロフェニル）フェニルシラン、クロロ（４−メトキシフェニル）ジフェニルシラン、クロロジ（４−メトキシフェニル）フェニルシラン
【００８２】
クロロ（３，５−ジエチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロビス（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロビス（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ジイソプロピルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３，５−ジイソプロピルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロビス（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロビス（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロビス（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロビス（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ジフェニルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３，５−ジフェニルフェニル）シラン、（３，５−ジベンジルフェニル）クロロビス（３，５−ジメチルフェニル）シラン、ビス（３，５−ジベンジルフェニル）クロロ（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロビス（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シラン、クロロ（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シラン、クロロ（３−メチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロジ（３−メチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロビス（３，５−ジメチルフェニル）（３−トリメチルシリルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３−トリメチルシリルフェニル）シラン、クロロ（３−メトキシフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロジ（３−メトキシフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（３−ジメチルアミノフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロビス（３−ジメチルアミノフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（４−ｎ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロジ（４−ｎ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロビス（３，５−ジメチルフェニル）（４−トリメチルシリルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジメチルフェニル）ビス（４−トリメチルシリルフェニル）シラン、クロロ（４−フルオロフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロジ（４−フルオロフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロビス（３，５−ジメチルフェニル）（３−メチル−５−トリメチルシリルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３−メチル−５−トリメチルシリルフェニル）シラン
【００８３】
クロロ（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（フェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ジフェニルフェニル）シラン、（３，５−ジベンジルフェニル）クロロ（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シラン、クロロ（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３−メチル−５−トリメチルシリルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３−メチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３−トリメチルシリルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３−メトキシフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３−ジメチルアミノフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（４−ｎ−ブチルフェニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（４−トリメチルシリルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（４−フルオロフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジフェニルフェニル）シランなどのハロゲン化ケイ素化合物などが挙げられる。
【００８４】
ここに例示する化合物において、「クロロ」を「フルオロ」、「ブロモ」、「ヨード」に置き換えたものも同様にハロゲン化ケイ素化合物（８）として例示される。
【００８５】
置換シクロペンタジエン化合物（７）と反応させる塩基としては、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属水素化物、水素化カルシウムなどのアルカリ土類金属水素化物、メチルリチウム、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウムトリメチルシリルアセチリド、リチウムアセチリド、トリメチルシリルメチルリチウム、ビニルリチウム、フェニルリチウム及びアリルリチウムなどの有機リチウム化合物に代表される有機アルカリ金属化合物などが挙げられ、その使用量は置換シクロペンタジエン化合物（７）に対して通常０．５〜３モル倍、好ましくは０．９〜２モル倍の範囲である。水素化ナトリウム、水素化カリウムについては、通常市販されているミネラルオイル含有品をそのまま使用できるが、もちろんヘキサン等のハイドロカルビル系溶媒でミネラルオイルを洗浄除去後使用してもよい。
【００８６】
置換シクロペンタジエン化合物（７）と、塩基とを反応させる工程においては、アミン化合物を用いてもよい。かかるアミン化合物としては、例えば、アニリン、クロロアニリン、ブロモアニリン、フルオロアニリン、ジクロロアニリン、ジブロモアニリン、ジフルオロアニリン、トリクロロアニリン、トリブロモアニリン、トリフルオロアニリン、テトラクロロアニリン、テトラブロモアニリン、テトラフルオロアニリン、ペンタクロロアニリン、ペンタフルオロアニリン、ニトロアニリン、ジニトロアニリン、ヒドロキシアニリン、フェニレンジアミン、アニシジン、ジメトキシアニリン、トリメトキシアニリン、エトキシアニリン、ジエトキシアニリン、トリエトキシアニリン、ｎ−プロポキシアニリン、イソプロポキシアニリン、ｎ−ブトキシアニリン、ｓｅｃ−ブトキシアニリン、イソブトキシアニリン、ｔ−ブトキシアニリン、フェノキシアニリン、メチルアニリン、エチルアニリン、ｎ−プロピルアニリン、イソプロピルアニリン、ｎ−ブチルアニリン、ｓｅｃ−ブチルアニリン、イソブチルアニリン、ｔ−ブチルアニリン、ジメチルアニリン、ジエチルアニリン、ジ−ｎ−プロピルアニリン、ジイソプロピルアニリン、ジ−ｎ−ブチルアニリン、ジ−ｓｅｃ−ブチルアニリン、ジイソブチルアニリン、ジ−ｔ−ブチルアニリン、トリメチルアニリン、トリエチルアニリン、ジイソプロピルアニリン、フェニルアニリン、ベンジルアニリン、アミノ安息香酸、アミノ安息香酸メチルエステル、アミノ安息香酸エチルエステル、アミノ安息香酸ｎ−プロピルエステル、アミノ安息香酸イソプロピルエステル、アミノ安息香酸ｎ−ブチルエステル、アミノ安息香酸イソブチルエステル、アミノ安息香酸ｓｅｃ−ブチルエステル、アミノ安息香酸ｔ−ブチルエステル等の１級アニリン類、さらにナフチルアミン、ナフチルメチルアミン、ベンジルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、２−アミノピリジン、３−アミノピリジン、４−アミノピリジン等も含む１級アミン、
【００８７】
Ｎ−メチルアニリン、Ｎ−エチルアニリン、ジフェニルアミン、Ｎ−メチルクロロアニリン、Ｎ−メチルブロモアニリン、Ｎ−メチルフルオロアニリン、Ｎ−メチルアニシジン、Ｎ−メチルメチルアニリン、Ｎ−メチルエチルアニリン、Ｎ−メチル−ｎ−プロピルアニリン、Ｎ−メチルイソプロピルアニリン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、モルホリン、ピペリジン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ピロリジン、２−メチルアミノピリジン、３−メチルアミノピリジン、４−メチルアミノピリジン、等の２級アミン、
【００８８】
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルクロロアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルブロモアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルフルオロアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニシジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｎ−プロピルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルイソプロピルアニリン、１、４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１、５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１、８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン、２−ジメチルアミノピリジン、３−ジメチルアミノピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−ｎ−オクチルアミン、トリ−ｎ−デシルアミン、トリフェニルアミン等の３級アミンが挙げられ、好ましくは１級アミンまたは２級アミン、より好ましくは１級アニリン類が使用される。
【００８９】
かかるアミン化合物の使用量は塩基に対して通常０．００１〜２モル倍、好ましくは０．０１〜０．５モル倍の範囲である。反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族ハイドロカルビル系溶媒、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサンなどの脂肪族ハイドロカルビル系溶媒、ジエチルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ヘキサメチルホスホリックアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド系溶媒、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性溶媒が挙げられる。これらの溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量はシクロペンタジエン類に対して通常１〜２００重量倍、好ましくは３〜３０重量倍の範囲である。
【００９０】
反応に際しては、例えば溶媒中で置換シクロペンタジエン化合物（７）、塩基、アミン化合物を同時に混合してもよいし、予め塩基とアミン化合物を混合した後に置換シクロペンタジエン化合物（７）を添加してもよい。反応温度は特に制限はないが、低温設備を必要としない温度領域が工業的には良く、例えば０〜７０℃、好ましくは１０〜６０℃の範囲である。かかる反応によって置換シクロペンタジエン化合物（７）の金属塩が効率よく生成する。かくして得られた置換シクロペンタジエン化合物（７）の金属塩は、反応混合物のまま用いてもよいし、該反応混合物から取り出して用いてもよいが、通常前者で充分である。
【００９１】
置換シクロペンタジエン化合物（５）を得る反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族ハイドロカルビル系溶媒、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサンなどの脂肪族ハイドロカルビル系溶媒、ジエチルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ヘキサメチルホスホリックアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド系溶媒、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性溶媒が挙げられる。これらの溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は置換シクロペンタジエン化合物（７）に対して通常１〜２００重量倍、好ましくは３〜３０重量倍の範囲である。本反応は、例えば溶媒中で塩基、アミン化合物および置換シクロペンタジエン化合物（７）を混合した後、ハロゲン化ケイ素化合物（８）を添加することによって行われるのが通常であるが、一度に混合する方法を採用しても目的の置換シクロペンタジエン化合物（５）は生成する。反応温度は特に制限はないが、低温設備を必要としない温度領域が工業的には有利であり、例えば０〜７０℃、好ましくは１０〜６０℃の範囲である。
【００９２】
置換シクロペンタジエン類（７）の使用量はハロゲン化ケイ素化合物（８）に対して通常０．５〜５モル倍、好ましくは０．８〜３モル倍の範囲である。
【００９３】
反応終了後、得られた反応混合物に水、炭酸水素ナトリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、塩化アンモニウム水溶液、または塩酸などの水溶液などを加えたのち、有機層と水層とに分液し、有機層として置換シクロペンタジエン化合物（５）の溶液が得られる。反応において水と相溶性の溶媒を用いた場合や反応における溶媒の使用量が少ないために有機層と水層とを容易に分液できない場合には、必要により該反応混合物にトルエン、酢酸エチル、クロロベンゼンなどの水に不溶の有機溶媒を加えた後に分液すればよい。得られた有機層を濃縮すれば置換シクロペンタジエン化合物（５）が得られるが、必要により、蒸留、カラムクロマトグラフ処理などの方法によって精製してもよい。
【００９４】
＜活性化助触媒成分＞
活性化助触媒成分としては、次の化合物（Ａ）及び化合物（Ｂ）を挙げることができる。化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）を併用してもよい。
化合物（Ａ）：下記化合物（Ａ１）、（Ａ２）及び（Ａ３）からなる化合物群から選ばれる１種以上のアルミニウム化合物
（Ａ１）：一般式 （Ｅ１）ａＡｌ（Ｇ）３−ａで表される有機アルミニウム化合物
（Ａ２）：一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ２）−Ｏ−｝ｂで表される構造を有する環状のアルミノキサン
（Ａ３）：一般式 Ｅ３｛−Ａｌ（Ｅ３）−Ｏ−｝ｃＡｌ（Ｅ３）２で表される構造を有する線状のアルミノキサン
（式中、Ｅ１、Ｅ２およびＥ３は、炭素原子数１〜８のハイドロカルビル基を表し、Ｇは、水素原子またはハロゲン原子を表し、ａは１〜３の整数を表し、ｂは２以上の整数を表し、ｃは１以上の整数を表す。Ｅ１が複数ある場合、複数のＥ１部分は互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｇが複数ある場合、複数のＧは互いに同じであっても異なっていてもよい。複数のＥ２は互いに同じであっても異なっていてもよい。複数のＥ３は互いに同じであっても異なっていてもよい。）
化合物（Ｂ）：下記化合物（Ｂ１）、（Ｂ２）及び（Ｂ３）からなる化合物群から選ばれる１種以上のホウ素化合物
（Ｂ１）：一般式 ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物
（Ｂ２）：一般式 Ｔ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるボレート化合物
（Ｂ３）：一般式 （Ｌ−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるボレート化合物
（式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子を表し、Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３およびＱ４は、それぞれ同一または相異なり、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のハイドロカルビル基、炭素原子数１〜２０のハイドロカルビルシリル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基または炭素原子数２〜２０のジハイドロカルビルアミノ基を表し、Ｔ＋は無機または有機のカチオンを表し、（Ｌ−Ｈ）＋はブレンステッド酸を表す。）
【００９５】
化合物（Ａ１）〜（Ａ３）において、Ｅ１、Ｅ２およびＥ３における炭素原子数１〜８のハイドロカルビル基としては、例えば、炭素原子数１〜８のアルキルなどが挙げられ、炭素原子数１〜８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基などが挙げられる。
【００９６】
一般式 （Ｅ１）ａＡｌ（Ｇ）３−ａで表される有機アルミニウム化合物（Ａ１）としては、例えば、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムクロライド、アルキルアルミニウムジクロライド、ジアルキルアルミニウムハイドライドなどが挙げられ、トリアルキルアルミニウムとしては、例えば、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウムなどが挙げられ、ジアルキルアルミニウムクロライドとしては、例えば、ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、ジヘキシルアルミニウムクロライドなどが挙げられ、アルキルアルミニウムジクロライドとしては、例えば、メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ヘキシルアルミニウムジクロライドなどが挙げられ、ジアルキルアルミニウムハイドライドとしては、例えば、ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジヘキシルアルミニウムハイドライドなどが挙げられる。
【００９７】
（Ａ２）：式｛−Ａｌ（Ｅ２）−Ｏ−｝ｂで表される構造を有する環状のアルミノキサン又は（Ａ３）式Ｅ３｛−Ａｌ（Ｅ３）−Ｏ−｝ｃＡｌ（Ｅ３）２で表される構造を有する線状のアルミノキサンにおけるＥ２及びＥ３としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基及びネオペンチル基等のアルキル基があげられる。ｂは２以上の整数であり、ｃは１以上の整数である。好ましくは、Ｅ２及びＥ３はそれぞれ独立にメチル基又はイソブチル基であり、ｂは２〜４０であり、ｃは１〜４０である。
【００９８】
上記のアルミノキサンは各種の方法で作られる。その方法については特に制限はなく、公知の方法に準じて作ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を適当な有機溶剤（ベンゼン、脂肪族ハイドロカルビルなど）に溶かした溶液を水と接触させて作る。また、トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を結晶水を含んでいる金属塩（例えば、硫酸銅水和物など）に接触させて作る方法が例示できる。
【００９９】
化合物（Ｂ１）〜（Ｂ３）において、Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３およびＱ４は、好ましくは、ハロゲン原子またはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のハイドロカルビル基である。Ｔ＋における無機のカチオンとしては、例えば、フェロセニウムカチオン、アルキル置換フェロセニウムカチオン、銀陽イオンなどが挙げられ、有機のカチオンとしては、例えば、トリフェニルメチルカチオンなどが挙げられる。（ＢＱ1Ｑ2Ｑ3Ｑ4）−としては、例えば、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，４−トリフルオロフェニル）ボレート、フェニルトリス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト、テトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどが挙げられる。ブレンステッド酸である（Ｌ−Ｈ）＋としては、例えば、トリアルキル置換アンモニウム、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム、ジアルキルアンモニウム、トリアリールホスホニウムなどが挙げられる。
【０１００】
一般式 ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物（Ｂ１）としては、例えば、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４−トリフルオロフェニル）ボラン、フェニルビス（ペンタフルオロフェニル）ボランなどが挙げられる。
【０１０１】
一般式Ｔ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるボレート化合物（Ｂ２）としては、例えば、フェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、１，１’−ビス−トリメチルシリルフェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、銀テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメチルテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどを挙げられる。
【０１０２】
一般式（Ｌ−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるボレート化合物（Ｂ３）としては、例えば、トリエチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ビス−トリメチルシリルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ビス−トリメチルシリルアニリニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、ジイソプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（メチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ビス−トリメチルシリルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ジメチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどが挙げられる。
【０１０３】
＜三量化用触媒＞
本発明の三量化用触媒とは、上記の遷移金属錯体（１）と活性化助触媒成分とを接触させて得られる三量化用触媒であり、エチレンを三量化させて１−ヘキセンを製造することができる触媒である。
【０１０４】
かかる活性化助触媒成分としては上記の化合物（Ａ）及び化合物（Ｂ）を挙げることができる。また化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）を併用してもよい。
【０１０５】
各触媒成分の使用量としては、化合物（Ａ）（アルミニウム原子換算）と遷移金属錯体（１）のモル比（化合物（Ａ）（アルミニウム原子換算）／遷移金属錯体（１））は、通常０．０１〜１００００であり、好ましくは５〜５０００である。また、化合物（Ｂ）と遷移金属錯体（１）のモル比（化合物（Ｂ）／遷移金属錯体（１））は、通常０．０１〜１００、好ましくは０．５〜１０である。
【０１０６】
各触媒成分を溶液状態で使用する場合、触媒成分として使用する遷移金属錯体（１）の濃度は、通常０．０００１〜５ミリモル／リットルであり、好ましくは、０．００１〜１ミリモル／リットルである。化合物（Ａ）の濃度は、アルミニウム原子換算で、通常０．０１〜５００ミリモル／リットルで、好ましくは、０．１〜１００ミリモル／リットルである。化合物（Ｂ）の濃度は、通常０．０００１〜５ミリモル／リットルであり、好ましくは、０．００１〜１ミリモル／リットルである。
【０１０７】
各触媒成分を接触させる方法は、特に限定されるものではない。遷移金属錯体（１）と活性化助触媒成分とを予め接触させて三量化用触媒を調製し、該三量化用触媒を反応器に供給してもよい。また、各触媒成分を任意の順序で反応器に供給し、反応器内で接触処理を行ってもよい。
【０１０８】
＜１−ヘキセンの製造方法＞
本発明の１−ヘキセンの製造方法とは、エチレンから１−ヘキセンを製造する方法であり、三量化用触媒の存在下、エチレンの三量化反応により１−ヘキセンを製造する方法である。
【０１０９】
三量化反応は、特に限定されるものではないが、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族ハイドロカルビル、ベンゼン、トルエン等の芳香族ハイドロカルビル、又はメチレンジクロライド、クロロベンゼン等のハロゲン化ハイドロカルビルを溶媒として用いる三量化反応、又はスラリー状態での三量化反応、ガス状のエチレン中での三量化反応等が可能である。
【０１１０】
三量化反応は、回分式、半連続式、連続式のいずれかの方法において行うことができる。
【０１１１】
三量化反応におけるエチレンの圧力は、通常、常圧〜１０ＭＰａであるが、好ましくは常圧〜５ＭＰａの範囲である。
【０１１２】
三量化反応の温度は、通常−５０℃〜２２０℃の範囲を取り得る。好ましくは０℃〜１７０℃の範囲であり、より好ましくは５０℃〜１２０℃の範囲である。
【０１１３】
三量化反応の時間は、一般的に、目的とする反応装置により適宜決定されるが、１分間〜２０時間の範囲を取ることができる。
【実施例】
【０１１４】
以下、実施例および比較例により本発明を説明する。
＜遷移金属錯体の製造＞
物性測定は次の方法で行った。
（１）プロトン核磁気共鳴スペクトル（1Ｈ−ＮＭＲ）
装置：ブルカーバイオスピン社製 ＤＰＸ３００
試料セル：５ｍｍφチューブ
測定溶媒：ＣＤＣｌ３
試料濃度：約１０ｍｇ／０．５ｍＬ
測定温度：室温（約２５℃）
測定パラメータ：５ｍｍφプローブ、ＯＢＮＵＣ 1Ｈ、ＰＵＬＰＲＯＧ ｚｇ３０、積算回数１６回以上
繰り返し時間：ＡＣＱＴＭ ２．７秒、ＰＤ １秒
内部標準：ＣＤＣｌ３（７．２６ｐｐｍ）
【０１１５】
（２）カーボン核磁気共鳴スペクトル（１３Ｃ−ＮＭＲ）
装置：ブルカーバイオスピン社製 ＤＰＸ３００
試料セル：５ｍｍφチューブ
測定溶媒：ＣＤＣｌ３
試料濃度：約１０ｍｇ／０．５ｍＬ
測定温度：室温（約２５℃）
測定パラメータ：５ｍｍφプローブ、ＯＢＮＵＣ １３Ｃ、ＰＵＬＰＲＯＧ ｚｇｐｇ３０、積算回数 ２５６回以上
繰り返し時間：ＡＣＱＴＭ １．３６秒、ＰＤ ２秒
内部標準：ＣＤＣｌ３（７７．０ｐｐｍ）
【０１１６】
（３）電子イオン化質量分析（ＥＩ−ＭＳ）
装置：日本電子社製 ＪＭＳ−Ｔ１００ＧＣ
イオン化電圧：７０ｅＶ
イオン源温度：２３０℃
加速電圧：７ｋＶ
ＭＡＳＳ ＲＡＮＧＥ：ｍ／ｚ ３５−１２００
【０１１７】
（４）電界脱離質量分析（ＦＤ−ＭＳ）
装置：日本電子社製 ＪＭＳ−７００
加速電圧：８ｋＶ
カソード：０ｋＶ
カーボンエミッター
ＭＡＳＳ ＲＡＮＧＥ：ｍ／ｚ １０−２０００
【０１１８】
［実施例１］
「［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体１」という。）の合成」
【０１１９】
「トリクロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）シランの合成」
窒素雰囲気下、１−ブロモ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン（３５．００ｇ、１３０．００ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（１７５ｍＬ）に、−７８℃でｎ−ブチルリチウムの１．６５Ｍヘキサン溶液（８８．６７ｍＬ、１４３．００ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で２時間攪拌した。得られた混合物を、−７８℃でテトラクロロシラン（６６．２６ｇ、３９０．００ｍｍｏｌ）をジエチルエーテル（５８ｍＬ）に溶解させた溶液に滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で３時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘキサンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。減圧蒸留により精製し、トリクロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）シランを得た（２４．１１ｇ、収率５７．３％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．３６（ｓ、１８Ｈ）、７．６１−７．６７（ｍ、３Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：３１．５１、３５．２５、１２７．２３、１２７．３９、１３０．７５、１５１．２６
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：３２２（Ｍ＋）
【０１２０】
「クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シランの合成」
窒素雰囲気下、トリクロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）シラン（１２．９５ｇ、４０．００ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（７４ｍＬ）に、−７８℃で３，５−ジメチルフェニルリチウム（１１．０９ｇ、９８．９６ｍｍｏｌ）をジエチルエーテル（９５ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で２時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘキサンを加えて濾過することにより不溶物を除去した。濾液から溶媒を減圧下で濃縮し、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シランを定量的に得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．３０（ｓ、１８Ｈ）、２．３１（ｓ、１２Ｈ）、７．１０（ｓ、２Ｈ）、７．２８（ｓ、４Ｈ）、７．５２（ｓ、３Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：２１．５１、３１．５７、３５．０９、１２４．７２、１２９．６７、１３１．８８、１３２．４５、１３３．０４、１３３．３６、１３７．４６、１５０．０８
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：４６２（Ｍ＋）
【０１２１】
「１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化カリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した。その後、得られた水素化カリウム（１．０９ｇ、２７．２７ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３９ｍＬ）を混合した。この混合物を５０℃に昇温し、１，２，３，４−テトラメチルシクロペンタ−１，３−ジエン（２．４４ｇ、２０．００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（８ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、５０℃で３時間攪拌した。この溶液に５０℃でクロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シラン（８．４２ｇ、１８．１８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１９ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、同温度で６時間攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸ナトリウム水溶液（５０ｍｌ）に滴下した。トルエン（５０ｍＬ）を加えて分液し、油相を水（５０ｍＬ）で２回洗浄し、さらに飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。得られた固体を少量のヘキサンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエンを得た（５．１８ｇ、収率５１．９％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．３１（ｓ、１８Ｈ）、１．５６（ｓ、６Ｈ）、１．６３（ｓ、６Ｈ）、２．２９（ｓ、１２Ｈ）、３．７６（ｓ、１Ｈ）、７．００（ｓ、２Ｈ）、７．２９（ｓ、４Ｈ）、７．３９−７．４７（ｍ、３Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１１．３６、１５．０１、２１．５９、３１．６３、３４．９５、５１．４１、１２２．８０、１３０．４７、１３０．７７、１３１．６４、１３３．４４、１３３．６０、１３５．４５、１３６．５８、１３６．６９、１４８．８８
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：５４８（Ｍ＋）
【０１２２】
「錯体１の合成」
窒素雰囲気下、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン（２．２０ｇ、４．００ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２．０２ｇ、２０．００ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（４５ｍＬ）に、−７８℃でｎ−ブチルリチウムの１．６５Ｍヘキサン溶液（２．９１ｍＬ、４．８０ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、５０℃で７時間攪拌した。得られた混合物を−７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（０．８３ｇ、４．４０ｍｍｏｌ）をトルエン（４ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。徐々に室温まで昇温させた後、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。得られた固体を少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体１及び２，２’−ビス｛（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル｝−１，１’，３，３’，４，４’，５，５’−オクタメチル−５，５’−ビ−１，３−シクロペンタジエニルの混合物をオレンジ固体として得た。フェロセンを内部標準物質として用いて１Ｈ−ＮＭＲにより決定した錯体１の含量は６０．５ｗｔ％であった（０．５３ｇ、収率１８．８％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．２８（ｓ、１８Ｈ）、２．０７（ｓ、６Ｈ）、２．３０（ｓ、１２Ｈ）、２．３９（ｓ、６Ｈ）、７．０８（ｓ、２Ｈ）、７．２８（ｓ、４Ｈ）、７．４８（ｓ、３Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：７０２（Ｍ−）
【０１２３】
［実施例２］
「錯体１の合成」
窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化カリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した。その後、得られた水素化カリウム（０．１５ｇ、３．６４ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３４ｍＬ）を混合した。この混合物に室温で１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン（１．５４ｇ、２．８０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１１ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、その後、５０℃で７時間攪拌した。得られた混合物を室温になるまで冷却し、不溶物を濾過することで除去した。得られた濾液を−７８℃になるまで冷却し、同温度でクロロトリイソプロポキシチタニウム（０．７３ｇ、２．８０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（７ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。徐々に室温まで昇温させた後、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にペンタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。得られた固体を少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリイソプロポキシドを得た（１．９３ｇ、収率８９．４％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）： １．１１（ｄ、Ｊ＝６．２Ｈｚ、１８Ｈ）、１．２４（ｓ、１８Ｈ）、１．６８（ｓ、６Ｈ）、１．９９（ｓ、６Ｈ）、２．２６（ｓ、１２Ｈ）、４．５５（ｓｅｐ、Ｊ＝６．２Ｈｚ、３Ｈ）、６．９６（ｓ、２Ｈ）、７．２１（ｄ、Ｊ＝１．８Ｈｚ、２Ｈ）、７．３６（ｔ、Ｊ＝１．８Ｈｚ、１Ｈ）、７．３９（ｓ、４Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１１．６１、１４．８７、２１．４７、２６．５２、３１．３８、３４．７７、７５．６０、１１３．００、１２２．１０、１２６．６２、１３０．４４、１３１．３９、１３１．５６、１３４．３３、１３４．３９、１３６．１２、１３７．０１、１４８．６８
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：７７２（Ｍ＋）
【０１２４】
窒素雰囲気下、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリイソプロポキシド（０．２２ｇ、０．２８ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（４ｍＬ）に、０℃で四塩化ケイ素（０．４８ｇ、２．８５ｍｍｏｌ）をトルエン（３ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で３時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去した。濾液から溶媒を減圧下で濃縮し、ペンタンから再結晶することで錯体１をオレンジ固体として得た（０．１７ｇ、収率８７．３％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．２５（ｓ、１８Ｈ）、２．０４（ｓ、６Ｈ）、２．２７（ｓ、１２Ｈ）、２．３６（ｓ、６Ｈ）、７．０６（ｓ、２Ｈ）、７．２５（ｓ、４Ｈ）、７．４５（ｓ、３Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１４．４０、１７．６５、２１．３７、３１．３３、３４．９１、１２３．３９、１３１．４０、１３１．５０、１３１．５８、１３３．１１、１３４．５１、１３６．９７、１３７．５２、１４２．３８、１４６．０４、１４９．４９
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：７０２（Ｍ−）
【０１２５】
［実施例３］
「［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体２」という。）の合成」
【０１２６】
「ジクロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）シランの合成」
窒素雰囲気下、１−ブロモ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン（１０．６０ｇ、３９．３７ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（１０６ｍＬ）に、−７８℃でｎ−ブチルリチウムの１．６５Ｍヘキサン溶液（２３．８６ｍＬ、３９．３７ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で３時間攪拌した。得られた混合物を、−７８℃でトリクロロフェニルシラン（２４．９９ｇ、１１８．１２ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（１０６ｍＬ）に滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘキサンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。減圧下で１００℃に加熱し、トリクロロフェニルシランを除去することにより、ジクロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）シランを得た（１１．７７ｇ、収率８１．８％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．３３（ｓ、１８Ｈ）、７．４３−７．６３（ｍ、６Ｈ）、７．７３−７．７８（ｍ、２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：３１．３７、３５．００、１２５．７５、１２６．１１、１２８．１０、１２８．２５、１３０．６９、１３１．５９、１３４．０９、１５０．６３
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：３６４（Ｍ＋）
【０１２７】
「クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シランの合成」
窒素雰囲気下、ジクロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）シラン（７．００ｇ、１９．１６ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（７０ｍＬ）に、−２０℃で３，５−ジメチルフェニルリチウム（２．１５ｇ、１９．１６ｍｍｏｌ）をジエチルエーテル（２２ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で攪拌した。３，５−ジメチルフェニルリチウム（１．２６ｇ、１１．２４ｍｍｏｌ）を追加して、さらに室温で攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘキサンを加えて濾過することにより不溶物を除去した。濾液から溶媒を減圧下で濃縮し、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シラン（７．２１ｇ、収率８６．５％）を黄色オイルとして得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．２２（ｓ、１８Ｈ）、２．２３（ｓ、６Ｈ）、７．０３（ｓ、１Ｈ）、７．２０（ｓ、２Ｈ）、７．２６−７．４８（ｍ、６Ｈ）、７．５５−７．６２（ｍ、２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：２１．３４、３１．３９、３４．９２、１２４．７１、１２５．７５、１２７．９３、１２９．４０、１３０．４３、１３１．５１、１３２．３７、１３２．８９、１３３．６９、１３５．２０、１３７．３７、１５０．０１
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：４３４（Ｍ＋）
【０１２８】
「１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化カリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した。その後、得られた水素化カリウム（０．９８ｇ、２４．５５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（７５ｍＬ）を混合した。この混合物を５０℃に昇温し、１，２，３，４−テトラメチルシクロペンタ−１，３−ジエン（２．４０ｇ、１９．６４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１９ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、５０℃で１時間攪拌した。この溶液に５０℃でクロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シラン（７．１２ｇ、１６．３７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４７ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、還流下で３時間攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸水素ナトリウム（４７ｍＬ）と１０％炭酸ナトリウム（４７ｍＬ）の混合溶液に滴下した。トルエン（４７ｍＬ）を加えて分液し、油相を水（１００ｍＬ）で洗浄した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。得られた固体を少量のヘキサンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエンを得た（３．５４ｇ、収率４１．５％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．２８（ｓ、１８Ｈ）、１．５３（ｓ、６Ｈ）、１．６１（ｓ、６Ｈ）、２．２７（ｓ、６Ｈ）、３．７３（ｓ、１Ｈ）、６．９９（ｓ、１Ｈ）、７．２６（ｓ、２Ｈ）、７．２８−７．３４（ｍ、３Ｈ）、７．４０（ｓ、３Ｈ）、７．６２（ｄｄ、Ｊ＝７．３、２．１Ｈｚ、２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１１．２１、１４．７７、２１．４３、３１．４７、３４．８０、５１．２３、１２２．８３、１２７．３７、１２８．８９、１３０．２２、１３０．７１、１３１．５３、１３３．２９、１３３．４５、１３４．８８、１３５．６７、１３５．９０、１３６．４９、１３６．６７、１４８．９３
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：５２０（Ｍ＋）
【０１２９】
「錯体２の合成」
窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化カリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した。その後、得られた水素化カリウム（０．２６ｇ、６．４０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２０ｍＬ）を混合した。この混合物に室温で１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン（２．５７ｇ、４．９２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２８ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、その後、５０℃で７時間攪拌した。得られた混合物を室温になるまで冷却し、不溶物を濾過することで除去した。得られた濾液を−７８℃になるまで冷却し、同温度でクロロトリイソプロポキシチタニウム（１．２８ｇ、４．９２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２６ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。徐々に室温まで昇温させた後、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にペンタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮することで［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリイソプロポキシドを得た（３．４１ｇ、収率９２．９％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）： １．１１（ｄｄ、Ｊ＝５．９、１．５Ｈｚ、１８Ｈ）、１．２３（ｓ、１８Ｈ）、１．６７（ｓ、６Ｈ）、１．９９（ｓ、６Ｈ）、２．４５（ｓ、６Ｈ）、４．５５（ｓｅｐ、Ｊ＝５．９Ｈｚ、３Ｈ）、６．９６（ｓ、１Ｈ）、７．２０−７．４４（ｍ、８Ｈ）、７．４６（ｄｄ、Ｊ＝７．７、１．８Ｈｚ、２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１１．５９、１１．６４、１４．８７、２１．４４、２６．４６、３１．３９、３４．７７、７５．５８、１１２．７０、１２２．３３、１２６．３５、１２６．６５、１２７．１３、１２８．５６、１３０．５２、１３１．４２、１３１．６０、１３４．３２、１３４．４２、１３６．１９、１３６．７２、１３６．８１、１３７．２４、１４８．８３
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：７４４（Ｍ＋）
【０１３０】
窒素雰囲気下、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリイソプロポキシド（１．４９ｇ、２．００ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３０ｍＬ）に、０℃で四塩化ケイ素（３．４０ｇ、２０．００ｍｍｏｌ）をトルエン（２０ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で３時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去した。濾液から溶媒を減圧下で濃縮し、ペンタンから再結晶することで錯体２をオレンジ固体として得た（０．７３ｇ、収率５４．０％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．２５（ｓ、１８Ｈ）、２．０２（ｓ、３Ｈ）、２．０５（ｓ、３Ｈ）、２．２８（ｓ、６Ｈ）、２．３６（ｓ、６Ｈ）、７．０７（ｓ、１Ｈ）、７．３０（ｓ、２Ｈ）、７．３２−７．４５（ｍ、３Ｈ）、７．４６（ｓ、３Ｈ）、７．５５−７．６０（ｍ、２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１４．４０、１７．５９、１７．６７、２１．３７、３１．３４、３４．９２、１２３．５８、１２７．８２、１２９．８１、１３１．２３、１３１．５５、１３１．５９、１３２．８１、１３３．８３、１３４．５５、１３６．７６、１３７．０６、１４２．３８、１４６．００、１４６．０６、１４９．６３
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：６７４（Ｍ−）
【０１３１】
＜１−ヘキセンの製造＞
（１）１−ヘキセン活性
ガスクロマトグラフィー（島津ＧＣ−２０１０、ＤＢ−１カラム）を用いて分析した。
（２）公知な遷移金属錯体の合成
［ジメチルフェニルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体３」という。）は公知の手法（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ １９９９，５９２，８４−９４．）に従って合成した。
［１−（１−メチル−１−（３，５−ジメチルフェニル）エチル）−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体４」という。）は公知の手法（Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ ２００２，２１，５１２２−５１３５．）に従って合成した。
【０１３２】
［実施例４］
減圧乾燥後、アルゴンで置換した０．４リットルの攪拌機付きオートクレーブに、トルエン６０ｍＬ、Ａｌ濃度が９．０ｗｔ％（３．５ｍｍｏｌ／ｍＬ）であるメチルアルミノキサンのトルエン溶液（東ソー・ファインケム社製 ＴＭＡＯ−ｓ）０．８８ｍＬを仕込み、系内の温度を４０℃まで昇温した後、エチレンを分圧が０．５ＭＰａになるように導入し、系内を安定させた。これに、実施例１で得られた錯体１の混合物のトルエン溶液（錯体１の濃度：１μｍｏｌ／ｍＬ）０．６０ｍＬを投入した。反応中は全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給しながら、４０℃で３０分反応し、エタノールを１．０ｍＬ投入して反応を停止した。その後、エチレンをパージして、オートクレーブ内の内容物をエタノール−塩酸で脱灰し、ろ過した。１−ヘキセンが９．９４×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０１×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
【０１３３】
［実施例５］
減圧乾燥後、アルゴンで置換した０．４リットルの攪拌機付きオートクレーブに、トルエン９０ｍＬ、濃度が０．９３ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）のヘキサン溶液０．４３ｍＬを仕込み、系内の温度を８０℃まで昇温した後、エチレンを分圧が０．５ＭＰａになるように導入し、系内を安定させた。これに、実施例１で得られた錯体１の混合物のトルエン溶液（錯体１の濃度：１μｍｏｌ／ｍＬ）１．０ｍＬを投入し、続いてＮ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＡＢ）のトルエン溶液（２μｍｏｌ／ｍＬ）１．５ｍＬを投入した。反応中は全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給しながら、８０℃で３０分反応し、エタノールを１．０ｍＬ投入して反応を停止した。その後、エチレンをパージして、オートクレーブ内の内容物をエタノール−塩酸で脱灰し、ろ過した。１−ヘキセンが２．７０×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０６×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
【０１３４】
［実施例６］
減圧乾燥後、アルゴンで置換した０．４リットルの攪拌機付きオートクレーブに、トルエン９０ｍＬ、Ａｌ濃度が９．０ｗｔ％（３．４ｍｍｏｌ／ｍＬ）であるメチルアルミノキサンのトルエン溶液（東ソー・ファインケム社製 ＴＭＡＯ−ｓ）０．７４ｍＬを仕込み、系内の温度を８０℃まで昇温した後、エチレンを分圧が０．５ＭＰａになるように導入し、系内を安定させた。これに、実施例２で得られた錯体１のトルエン溶液（１μｍｏｌ／ｍＬ）１．０ｍＬを投入した。反応中は全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給しながら、８０℃で３０分反応し、エタノールを１．０ｍＬ投入して反応を停止した。その後、エチレンをパージして、オートクレーブ内の内容物をエタノール−塩酸で脱灰し、ろ過した。１−ヘキセンが４．５１×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０４×１０５ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
【０１３５】
［実施例７］
減圧乾燥後、アルゴンで置換した０．４リットルの攪拌機付きオートクレーブに、トルエン９０ｍＬ、Ａｌ濃度が９．０ｗｔ％（３．４ｍｍｏｌ／ｍＬ）であるメチルアルミノキサンのトルエン溶液（東ソー・ファインケム社製 ＴＭＡＯ−ｓ）０．７４ｍＬを仕込み、系内の温度を８０℃まで昇温した後、エチレンを分圧が０．５ＭＰａになるように導入し、系内を安定させた。これに、実施例３で得られた錯体２のトルエン溶液（１μｍｏｌ／ｍＬ）１．０ｍＬを投入した。反応中は全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給しながら、８０℃で３０分反応し、エタノールを１．０ｍＬ投入して反応を停止した。その後、エチレンをパージして、オートクレーブ内の内容物をエタノール−塩酸で脱灰し、ろ過した。１−ヘキセンが２．８７×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０２×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
【０１３６】
［比較例１］
錯体１のかわりに、錯体３を使用した以外は、実施例４と同様な操作を行った結果、１−ヘキセンが０．３５×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．１３×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
［比較例２］
錯体１のかわりに、錯体３を使用した以外は、実施例６と同様な操作を行った結果、１−ヘキセンが０．０６×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０２×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
【０１３７】
［比較例３］
錯体１のかわりに、錯体４を使用した以外は、実施例４と同様な操作を行った結果、１−ヘキセンが４．１７×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０６×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
【０１３８】
［比較例４］
錯体１のかわりに、錯体４を使用した以外は、実施例５と同様な操作を行った結果、１−ヘキセンが０．３７×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．１２×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
【０１３９】
［比較例５］
錯体１のかわりに、錯体４を使用した以外は、実施例６と同様な操作を行った結果、１−ヘキセンが０．４３×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０７×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、遷移金属錯体、該遷移金属錯体の製造方法、三量化用触媒、１−ヘキセンの製造方法、置換シクロペンタジエン化合物、及び、該置換シクロペンタジエン化合物の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
α−オレフィンは金属触媒によるエチレンのオリゴマー化により製造される工業的に重要な原料モノマーである。しかしながら、エチレンのオリゴマー化は通常Ｓｃｈｕｌｚ−Ｆｌｏｒｙ分布に従いα−オレフィンの混合物を与えるため、選択的なα−オレフィンを製造しうる触媒系の開発は産業的に非常に重要である。
【０００３】
例えば、特許文献１には、式（Ｃｐ−Ｂ（Ｒ）ｎＡｒ）ＴｉＲ１３で示されるハーフメタロセンチタン錯体が、活性化助触媒成分の存在下、選択的なエチレンの三量化用触媒成分として働くことが報告されている。
これらの選択的エチレン三量化用触媒の中で、［１−（１−メチル−１−（３，５−ジメチルフェニル）エチル）−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライドなどの炭素原子でシクロペンタジエンと置換アリール基が結合されたハーフメタロセンチタン錯体（炭素架橋Ｃｐ−Ａｒ錯体）が、活性化助触媒成分としてＭＡＯ（メチルアルミノキサン）を使用し、３０℃の条件で効率的なエチレン三量化用触媒成分として働くことが報告されている（例えば非特許文献１参照）。一方で、ケイ素原子でシクロペンタジエンと置換アリール基が結合されたハーフメタロセンチタン錯体（ケイ素架橋Ｃｐ−Ａｒ錯体）の一つである［ジメチルフェニルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライドは、同じ条件下においてエチレン三量化反応の触媒活性は低く、１−ヘキセン選択性も低いことが報告されている（非特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特表２００４−５２４９５９
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ ２００２，２１，５１２２−５１３５．
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
かかる状況のもと、本発明が解決しようとする課題は、エチレンの三量化反応により１−ヘキセンを効率的に、選択性よく製造することが可能な触媒成分となる新規なケイ素架橋Ｃｐ−Ａｒ遷移金属錯体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
すなわち、本発明の第１は、一般式（１）で表される遷移金属錯体にかかるものである。
（式中、Ｍ１は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
または−Ｎ（Ｒ２１）２（２つのＲ２１部分はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ２１部分にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、
Ａｒ１は下記一般式（２）、Ａｒ２は下記一般式（３）、Ａｒ３は下記一般式（４）で示されるアリール基であり（ここで、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３の三つのアリール基は、同時にすべて同一とはならない。）、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
または−Ｎ（Ｒ２１）２（２つのＲ２１部分はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ２１部分にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。）
【０００８】
また、本発明の第２は、前記遷移金属錯体と活性化助触媒成分とを接触させて得られる三量化用触媒にかかるものである。
【０００９】
さらに、本発明の第３は、三量化用触媒の存在下、エチレンを三量化させる１−ヘキセンの製造方法にかかるものである。
【００１０】
また、本発明の第４は、前記一般式（１）で表される遷移金属錯体の製造方法にかかるものである。
【００１１】
さらに、本発明の第５は、一般式（５）で示される置換シクロペンタジエン化合物にかかるものである。
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
または−Ｎ（Ｒ２１）２（２つのＲ２１部分はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ２１部分にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、
Ａｒ１は下記一般式（２）、Ａｒ２は下記一般式（３）、Ａｒ３は下記一般式（４）で示されるアリール基であり（ここで、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３の三つのアリール基は、同時にすべて同一とはならない。）、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
または−Ｎ（Ｒ２１）２（２つのＲ２１部分はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ２１部分にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、
【００１２】
また、本発明の第６は、前記一般式（５）で表される置換シクロペンタジエン化合物の製造方法にかかるものである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明により、高温条件においてもエチレンの三量化反応により１−ヘキセンを効率的に、選択性よく製造することが可能な触媒成分に好適な遷移金属錯体を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明において「置換基」という語は、化合物や基を構成するハロゲン原子を包含したものである。
また、本発明において、一般式（５）及び（７）で表される置換シクロペンタジエン化合物には、各シクロペンタジエニル環の二重結合位置がそれぞれ異なる異性体が存在するが、本発明においては、該置換シクロペンタジエニル化合物は、それらのうちのいずれか、またはそれらの混合物を表わす。
【００１５】
＜遷移金属錯体（１）（三量化用触媒成分）＞
以下、一般式（１）で表される遷移金属錯体について詳述する。
遷移金属錯体（１）において、Ｍ１は元素周期律表の第４族元素を示し、例えばチタン原子、ジルコニウム原子及びハフニウム原子等が挙げられる。これらの中でも、チタン原子が好ましい。
【００１６】
前記遷移金属錯体（１）において、Ａｒ１は前記一般式（２）、Ａｒ２は前記一般式（３）、Ａｒ３は前記一般式（４）で示されるアリール基であり（ここで、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３の三つのアリール基は、同時にすべて同一とはならない。）、置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は上述のとおりの定義であり、その具体例を以下に示す。
【００１７】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子であり、好ましくは塩素原子である。
【００１８】
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基の「炭素原子数１〜２０のアルキル基」の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ−ヘキシル基、ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基及びｎ−エイコシル基などが挙げられる。これらのうち好ましいアルキル基としては、炭素原子数１〜１０のアルキル基であり、さらに好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基及びアミル基等を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルキル基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数１〜２０の範囲であると好ましく、炭素原子数１〜１０の範囲がさらに好ましい。好適なハロゲン原子を置換基として有するアルキル基としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、フルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基等を挙げることができる。
【００１９】
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基の「炭素原子数６〜２０のアリール基」の具体例としては、フェニル基、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｎ−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−ヘキシルフェニル基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デシルフェニル基、ｎ−ドデシルフェニル基、ｎ−テトラデシルフェニル基、ナフチル基及びアントラセニル基などが挙げられる。これらのうち好ましいアリール基としては、炭素原子数６〜１０のアリール基であり、さらに好ましはフェニル基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリール基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アリール基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数は６〜２０の範囲であると好ましく、６〜１０の範囲がさらに好ましい。具体的に好適な、ハロゲン原子を置換基として有するアリール基は、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基等を挙げることができる。
【００２０】
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基の「炭素原子数７〜２０のアラルキル基」の具体例としては、ベンジル基、（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、(２，４−ジメチルフェニル)メチル基、(２，５−ジメチルフェニル)メチル基、(２，６−ジメチルフェニル)メチル基、(３，４−ジメチルフェニル)メチル基、(３，５−ジメチルフェニル)メチル基、(２，３，４−トリメチルフェニル)メチル基、(２，３，５−トリメチルフェニル)メチル基、(２，３，６−トリメチルフェニル)メチル基、(３，４，５−トリメチルフェニル)メチル基、(２，４，６−トリメチルフェニル)メチル基、(２，３，４，５−テトラメチルフェニル)メチル基、(２，３，４，６−テトラメチルフェニル)メチル基、(２，３，５，６−テトラメチルフェニル)メチル基、(ペンタメチルフェニル)メチル基、(エチルフェニル)メチル基、(ｎ−プロピルフェニル)メチル基、(イソプロピルフェニル)メチル基、(ｎ−ブチルフェニル)メチル基、(ｓｅｃ−ブチルフェニル)メチル基、(ｔｅｒｔ−ブチルフェニル)メチル基、(ｎ−ペンチルフェニル)メチル基、(ネオペンチルフェニル)メチル基、(ｎ−ヘキシルフェニル)メチル基、(ｎ−オクチルフェニル)メチル基、(ｎ−デシルフェニル)メチル基、(ｎ−ドデシルフェニル)メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基などが挙げられる。これらのうち好ましいアラルキル基としては、炭素原子数７〜１０のアラルキル基であり、さらに好ましくはベンジル基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキル基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アラルキル基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数は７〜２０の範囲であると好ましく、７〜１０の範囲がさらに好ましい。
【００２１】
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基の「炭素原子数１〜２０のアルコキシ基」の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ｎ−ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、ｎ−エイコシルオキシ基などが挙げられる。これらのうち好ましいアルコキシ基としては、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基であり、さらに好ましくはメトキシ基、エトキシ基及びｔｅｒｔ−ブトキシ基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルコキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数１〜２０の範囲であると好ましく、１〜１０の範囲がさらに好ましい。
【００２２】
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数２〜２０のアルコキシ基の「炭素原子数２〜２０のアルコキシ基」の具体例としては、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ｎ−ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ノナデシルオキシ基、ｎ−エイコシルオキシ基などが挙げられる。これらのうち好ましいアルコキシ基としては、炭素原子数２〜１０のアルコキシ基であり、さらに好ましくはエトキシ基及びｔｅｒｔ−ブトキシ基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアルコキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アルコキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数２〜２０の範囲であると好ましく、２〜１０の範囲がさらに好ましい。
【００２３】
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基の「炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基」の具体例としては、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２，３−ジメチルフェノキシ基、２，４−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジメチルフェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、３，４−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキシ基、２，３，４−トリメチルフェノキシ基、２，３，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，６−トリメチルフェノキシ基、２，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５−テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ−ヘキシルフェノキシ基、ｎ−オクチルフェノキシ基、ｎ−デシルフェノキシ基、ｎ−テトラデシルフェノキシ基、ナフトキシ基及びアントラセノキシ基などが挙げられる。これらのうち好ましいアリールオキシ基としては、炭素原子数６〜１０のアリールオキシ基であり、さらに好ましくはフェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアリールオキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アリールオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数は６〜２０の範囲であると好ましく、６〜１０の範囲がさらに好ましい。
【００２４】
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基の「炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基」の具体例としては、ベンジルオキシ基、(２−メチルフェニル)メトキシ基、(３−メチルフェニル)メトキシ基、(４−メチルフェニル)メトキシ基、(２，３−ジメチルフェニル)メトキシ基、(２，４−ジメチルフェニル)メトキシ基、(２，５−ジメチルフェニル)メトキシ基、(２，６−ジメチルフェニル)メトキシ基、(３，４−ジメチルフェニル)メトキシ基、(３，５−ジメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，４−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，５−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，６−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，４，５−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，４，６−トリメチルフェニル)メトキシ基、(３，４，５−トリメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，４，５−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，４，６−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(２，３，５，６−テトラメチルフェニル)メトキシ基、(ペンタメチルフェニル)メトキシ基、(エチルフェニル)メトキシ基、(ｎ−プロピルフェニル)メトキシ基、(イソプロピルフェニル)メトキシ基、(ｎ−ブチルフェニル)メトキシ基、(ｓｅｃ−ブチルフェニル)メトキシ基、(ｔｅｒｔ−ブチルフェニル)メトキシ基、(ｎ−ヘキシルフェニル)メトキシ基、(ｎ−オクチルフェニル)メトキシ基、(ｎ−デシルフェニル)メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基などが挙げられる。これらのうち好ましいアラルキルオキシ基としては、炭素原子数７〜１０のアラルキルオキシ基であり、さらに好ましくはベンジルオキシ基を挙げることができる。また、「ハロゲン原子を置換基として有していてもよいアラルキルオキシ基」の「ハロゲン原子を置換基として有していてもよい」とは、アラルキルオキシ基にある水素原子の一部又は全部が、ハロゲン原子で置き換わっていてもよいことを意味し、該ハロゲン原子の具体例は上述のとおりである。なお、ハロゲン原子を置換基として有する場合、その炭素原子数は７〜２０の範囲であると好ましく、７〜１０の範囲がさらに好ましい。
【００２５】
−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基において、Ｒ２０はそれぞれ独立に、水素原子；炭素原子数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基など）、アリール基（フェニル基など）などのハイドロカルビル基；ハイドロカルビル基にある水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わったハロゲン化ハイドロカルビル基であり、３つのＲ２０部分の炭素原子数の合計が１〜２０の範囲である。この３つのＲ２０部分の炭素原子数の合計は３〜１８の範囲が好ましい。該置換シリル基の具体例としては、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を１つ有する１置換シリル基；ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基及び／又はハロゲン化ハイドロカルビル基を２つ有する２置換シリル基；トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−ｓｅｃ−ブチルシリル基、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル基、トリ−イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチル−ジメチルシリル基、トリ−ｎ−ペンチルシリル基、トリ−ｎ−ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基、これらの基においてハイドロカルビル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などのハイドロカルビル基及び／又はハロゲン化ハイドロカルビル基を３つ有する３置換シリル基などが挙げられる。これらのうち好ましくは３置換シリル基であり、さらに好ましくはトリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基である。
【００２６】
−Ｎ（Ｒ２１）２（２つのＲ２１部分はそれぞれ独立にハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ２１部分にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基において、Ｒ２１はそれぞれ独立に、ハイドロカルビル基又はハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ２１部分の炭素原子数の合計が２〜２０の範囲であり、２〜１０の範囲がさらに好ましい。かかるハイドロカルビル基およびハロゲン化ハイドロカルビル基は、前記置換シリル基のハイドロカルビル基およびハロゲン化ハイドロカルビル基として説明したものと同じである。また、この２つのＲ２１部分は互いに結合して、これらが結合している窒素原子と一緒になって環を形成していてもよい。かかる２置換アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチルイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ヘキシルアミノ基、ジ−ｎ−オクチルアミノ基、ジ−ｎ−デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ビストリメチルシリルアミノ基、ビス−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアミノ基、ピロリル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、カルバゾリル基、ジヒドロインドリル基、ジヒドロイソインドリル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基などが挙げられる。これらのうち、好ましくはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、これらの基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置き換わった基である。
【００２７】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する基同士は結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する基同士は結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する基同士は結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する基同士は結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。ここでいう環とは、炭素原子数１〜２０のハイドロカルビル基で置換された、飽和もしくは不飽和のハイドロカルビル環、炭素原子数１〜２０のハイドロカルビル基で置換された、飽和もしくは不飽和のシラハイドロカルビル環などである。その具体例としては、シクロプロパン環、シクロプロペン環、シクロブタン環、シクロブテン環、シクロペンタン環、シクロペンテン環、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環、シクロヘプタン環、シクロヘプテン環、シクロオクタン環、シクロオクテン環、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、シラシクロプロパン環、シラシクロブタン環、シラシクロペンタン環、シラシクロヘキサン環である。
【００２８】
前記遷移金属錯体（１）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、または炭素原子数７〜２０のアラルキル基であり、より好ましくは炭素原子数１〜２０のアルキル基であり、さらに好ましくはメチル基である。
【００２９】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４の具体例としては、その部分構造式（９）
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同じ意味を表す。）
において、例えば、次のような部分構造を挙げることができる。
【００３０】
シクロペンタジエニル、メチルシクロペンタジエニル、エチルシクロペンタジエニル、ｎ−プロピルシクロペンタジエニル、イソプロピルシクロペンタジエニル、ｎ−ブチルシクロペンタジエニル、ｓｅｃ−ブチルシクロペンタジエニル、ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル、ジメチルシクロペンタジエニル、トリメチルシクロペンタジエニル、テトラメチルシクロペンタジエニル、フェニルシクロペンタジエニル、ベンジルシクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニル、テトラヒドロインデニル、メチルテトラヒドロインデニル、ジメチルテトラヒドロインデニル、オクタヒドロフルオレニル。
【００３１】
ここに例示した部分構造のうち、好ましい部分構造はテトラメチルシクロペンタジエニルなどである。
【００３２】
前記遷移金属錯体（１）において、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、炭素原子数７〜２０のアラルキル基であり、より好ましくはハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基である。
【００３３】
前記一般式（２）〜（４）において、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９は、それぞれ独立に、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアラルキル基、または−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基であり、より好ましくは水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基である。
【００３４】
前記遷移金属錯体（１）において、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３は上述のとおりの定義であり、例えば、次のような具体例を挙げることができる。
【００３５】
フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ジエチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ジイソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ジ−ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｎ−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−ヘキシルフェニル基、ジ−ｎ−ヘキシルフェニル基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デシルフェニル基、ｎ−ドデシルフェニル基、ｎ−テトラデシルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルメチルフェニル基、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）メチルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基
【００３６】
フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、（トリフルオロメチル）フェニル基、ビス（トリフルオロメチル）フェニル基
【００３７】
メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、トリメトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ジエトキシフェニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、メトキシ（メチル）フェニル基、メトキシ（ジメチル）フェニル基、メトキシ（トリメチル）フェニル基、メトキシ（テトラメチル）フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチル（メトキシ）フェニル基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（メトキシ）フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルメチル（メトキシ）フェニル基、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）メチル（メトキシ）フェニル基、クロロ（メトキシ）フェニル基、ジクロロ（メトキシ）フェニル基、フルオロ（メトキシ）フェニル基、（トリフルオロメチル）（メトキシ）フェニル基、ビス（トリフルオロメチル）（メトキシ）フェニル基
【００３８】
ビフェニル基、ジフェニルフェニル基、トリフェニルフェニル基、（メチルフェニル）フェニル基、ジ（メチルフェニル）フェニル基、（ジメチルフェニル）フェニル基、ビス（ジメチルフェニル）フェニル基、（トリメチルフェニル）フェニル基、ビス（トリメチルフェニル）フェニル基、（テトラメチルフェニル）フェニル基、ビス（テトラメチルフェニル）フェニル基、（ペンタメチルフェニル）フェニル基、ビス（ペンタメチルフェニル）フェニル基、（エチルフェニル）フェニル基、ジ（エチルフェニル）フェニル基、（ジエチルフェニル）フェニル基、ビス（ジエチルフェニル）フェニル基、（イソプロピルフェニル）フェニル基、ジ（イソプロピルフェニル）フェニル基、（ジイソプロピルフェニル）フェニル基、ビス（ジイソプロピルフェニル）フェニル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェニル基、ジ（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェニル基、（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェニル基、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェニル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）フェニル基、ジ（ｎ−ヘキシルフェニル）フェニル基、（ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）フェニル基、ビス（ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）フェニル基、メチル（フェニル）フェニル基、メチルジ（フェニル）フェニル基、メチルトリ（フェニル）フェニル基、メチルテトラ（フェニル）フェニル基、ジメチル（フェニル）フェニル基、ジメチルジ（フェニル）フェニル基、ジメチルトリ（フェニル）フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチル（フェニル）フェニル基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（フェニル）フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルメチル（フェニル）フェニル基、（フルオロフェニル）フェニル基、ジ（フルオロフェニル）フェニル基、（ジフルオロフェニル）フェニル基、ビス（ジフルオロフェニル）フェニル基、（トリフルオロフェニル）フェニル基、ビス（トリフルオロフェニル）フェニル基、（ペンタフルオロフェニル）フェニル基、ビス（ペンタフルオロフェニル）フェニル基、（クロロフェニル）フェニル基、ジ（クロロフェニル）フェニル基、（ジクロロフェニル）フェニル基、ビス（ジクロロフェニル）フェニル基、｛（トリフルオロメチル）フェニル｝フェニル基、ビス｛（トリフルオロメチル）フェニル｝フェニル基、｛ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝フェニル基、ビス｛ビス（トリフルオロメチル）フェニル｝フェニル基、フルオロ（フェニル）フェニル基、ジフルオロ（フェニル）フェニル基、クロロ（フェニル）フェニル基、ジクロロ（フェニル）フェニル基、（トリフルオロメチル）（フェニル）フェニル基
【００３９】
ベンジルフェニル基、ジベンジルフェニル基、（メチルベンジル）フェニル基、ジ（メチルベンジル）フェニル基、（ジメチルベンジル）フェニル基、ビス（ジメチルベンジル）フェニル基、（トリメチルベンジル）フェニル基、ビス（トリメチルベンジル）フェニル基、（ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）フェニル基、ジ（ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）フェニル基、（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）フェニル基、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）フェニル基、ベンジル（メチル）フェニル基、ジベンジル（メチル）フェニル基、（ベンジル）ジメチルフェニル基、（ジベンジル）ジメチルフェニル基、ベンジル（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル基、ベンジルジ（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニル基、（フルオロベンジル）フェニル基、ジ（フルオロベンジル）フェニル基、（ジフルオロベンジル）フェニル基、ビス（ジフルオロベンジル）フェニル基、（トリフルオロベンジル）フェニル基、ビス（トリフルオロベンジル）フェニル基、（クロロベンジル）フェニル基、ジ（クロロベンジル）フェニル基、（ジクロロベンジル）フェニル基、ビス（ジクロロベンジル）フェニル基、（ベンジル）フルオロフェニル基、（ベンジル）クロロフェニル基、（ベンジル）（トリフルオロメチル）フェニル基
【００４０】
トリメチルシリルフェニル基、ビス（トリメチルシリル）フェニル基、トリス（トリメチルシリル）フェニル基、トリイソプロピルシリルフェニル基、ビス（トリイソプロピルシリル）フェニル基、（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）フェニル基、ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）フェニル基、メチル（トリメチルシリル）フェニル基、ジメチル（トリメチルシリル）フェニル基、トリメチル（トリメチルシリル）フェニル基、テトラメチル（トリメチルシリル）フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチル（トリメチルシリル）フェニル基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（トリメチルシリル）フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルメチル（トリメチルシリル）フェニル基、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）メチル（トリメチルシリル）フェニル基、クロロ（トリメチルシリル）フェニル基、ジクロロ（トリメチルシリル）フェニル基、フルオロ（トリメチルシリル）フェニル基、（トリフルオロメチル）（トリメチルシリル）フェニル基、ビス（トリフルオロメチル）（トリメチルシリル）フェニル基、メトキシ（トリメチルシリル）フェニル基
【００４１】
ジメチルアミノフェニル基、ビス（ジメチルアミノ）フェニル基、トリス（ジメチルアミノ）フェニル基、ジエチルアミノフェニル基、ビス（ジエチルアミノ）フェニル基、メチル（ジメチルアミノ）フェニル基、ジメチル（ジメチルアミノ）フェニル基、トリメチル（ジメチルアミノ）フェニル基、テトラメチル（ジメチルアミノ）フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチル（ジメチルアミノ）フェニル基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（ジメチルアミノ）フェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルメチル（ジメチルアミノ）フェニル基、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）メチル（ジメチルアミノ）フェニル基、クロロ（ジメチルアミノ）フェニル基、ジクロロ（ジメチルアミノ）フェニル基、フルオロ（ジメチルアミノ）フェニル基、（トリフルオロメチル）（ジメチルアミノ）フェニル基、ビス（トリフルオロメチル）（ジメチルアミノ）フェニル基
【００４２】
ここに例示した具体例のうち、好ましいＡｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３はフェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、ジエチルフェニル基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ジフェニルフェニル基、などである。
【００４３】
前記一般式（２）〜（４）において、Ｒ６、Ｒ１１及びＲ１６は、それぞれ独立に
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
または−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基であることが好ましく、より好ましくは炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基である。
【００４４】
前記一般式（２）〜（４）において、Ｒ６、Ｒ８、Ｒ１１、Ｒ１３、Ｒ１６及びＲ１８は、それぞれ独立に
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
または−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基であることが好ましく、より好ましくは炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基である。
【００４５】
前記遷移金属錯体（１）において、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３は、同時にすべて同一とはならないが、具体的には、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３のうち二つのアリール基が同一である遷移金属錯体や、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３のアリール基がすべて異なる遷移金属錯体である。
【００４６】
遷移金属錯体（１）を具体的に例示すると、次のような錯体を挙げることができる。
【００４７】
［１−（３，５−ジメチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジエチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジエチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジフェニル（３，５−ジイソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−フェニルビス（３，５−ジイソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジフェニルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジフェニルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジベンジルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジベンジルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメトキシフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメトキシフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ビス（ジメチルアミノ）フェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ビス（ジメチルアミノ）フェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−メチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（３−メチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジフェニル（３−イソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−フェニルジ（３−イソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−トリメチルシリルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３−トリメチルシリルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−フェニルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（３−フェニルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−メトキシフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（３−メトキシフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（４−メチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（４−メチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（４−ｎ−ブチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（４−ｎ−ブチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（４−フルオロフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（４−フルオロフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（４−メトキシフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（４−メトキシフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド
【００４８】
［１−（３，５−ジエチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ジイソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３，５−ジイソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ジフェニルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３，５−ジフェニルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジベンジルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジベンジルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−メチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（３−メチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−メトキシフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（３−メトキシフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−ジメチルアミノフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３−ジメチルアミノフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（４−ｎ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（４−ｎ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（４−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（４−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（４−フルオロフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（４−フルオロフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３−メチル−５−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３−メチル−５−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド
【００４９】
［１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ジフェニルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジベンジルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３−メチル−５−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３−メチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３−メトキシフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３−ジメチルアミノフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（４−ｎ−ブチルフェニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（４−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（４−フルオロフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジフェニルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライドなどの塩素化チタン錯体が挙げられる。
【００５０】
また、ここに例示する錯体において、「２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル」を「シクロペンタジエニル」、「２−メチルシクロペンタジエニル」、「３−メチルシクロペンタジエニル」、「２，３−ジメチルシクロペンタジエニル」、「２，４−ジメチルシクロペンタジエニル」、「２，５−ジメチルシクロペンタジエニル」、「２，３，５−トリメチルシクロペンタジエニル」、「２−エチルシクロペンタジエニル」、「３−エチルシクロペンタジエニル」、「２−ｎ−プロピルシクロペンタジエニル」、「３−ｎ−プロピルシクロペンタジエニル」、「２−イソプロピルシクロペンタジエニル」、「３−イソプロピルシクロペンタジエニル」、「２−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル」、「３−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル」、「２−ｓｅｃ−ブチルシクロペンタジエニル」、「３−ｓｅｃ−ブチルシクロペンタジエニル」、「２−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル」、「３−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル」、「２−フェニルシクロペンタジエニル」、「３−フェニルシクロペンタジエニル」、「２−ベンジルシクロペンタジエニル」、「３−ベンジルシクロペンタジエニル」、「インデニル」、「２−メチルインデニル」、「フルオレニル」、「テトラヒドロインデニル」、「２−メチルテトラヒドロインデニル」、「オクタヒドロフルオレニル」に置き換えた塩素化チタン錯体も同様に遷移金属錯体（１）として例示される。
【００５１】
さらに、ここに例示する錯体において、「チタニウム」を「ジルコニウム」に置き換えた塩素化ジルコニウム錯体、又は「ハフニウム」に置き換えた塩素化ハフニウム錯体などの塩素化遷移金属錯体、「クロライド」を「フルオリド」に置き換えたフッ素化チタン錯体、「ブロマイド」に置き換えた臭素化チタン錯体、「アイオダイド」に置き換えたヨウ素化チタン錯体などのハロゲン化チタン錯体、「ハイドライド」に置き換えた水素化チタン錯体、「メチル」に置き換えたメチル化チタン錯体などのアルキル化チタン錯体、「フェニル」に置き換えたフェニル化チタン錯体などのアリール化チタン錯体、「ベンジル」に置き換えたベンジル化チタン錯体などのアラルキル化チタン錯体、「メトキシド」に置き換えたメトキシ化チタン錯体、「ｎ−ブトキシド」に置き換えたｎ−ブトキシ化チタン錯体、「イソプロポキシド」に置き換えたイソプロポキシ化チタン錯体などのアルコキシ化チタン錯体、「フェノキシド」に置き換えたフェノキシ化チタン錯体などのアリールオキシ化チタン錯体、「ベンジロキシド」に置き換えたベンジロキシ化チタン錯体などのアラルキルオキシ化チタン錯体、「ジメチルアミド」に置き換えたジメチルアミド化チタン錯体、「ジエチルアミド」に置き換えたジエチルアミド化チタン錯体などのアミド化チタン錯体も同様に遷移金属錯体（１）として例示される。これらの中でも、アルキル化チタン錯体が好ましく、トリメチルチタン錯体が特に好ましい。
【００５２】
式（１）の遷移金属錯体として、好ましくは、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジエチルフェニル）ジ（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジエチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ジ（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジエチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ジイソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３，５−ジイソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ジフェニルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３，５−ジフェニルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジベンジルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジベンジルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−メチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（３−メチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−メトキシフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（３−メトキシフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３−ジメチルアミノフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３−ジメチルアミノフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（４−ｎ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（４−ｎ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（４−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（４−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（４−フルオロフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ジ（４−フルオロフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３−メチル−５−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３−メチル−５−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ジフェニルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジベンジルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３−メチル−５−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３−メチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３−メトキシフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３−ジメチルアミノフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（４−ｎ−ブチルフェニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（４−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（４−フルオロフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジフェニルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド、などが挙げられる。
【００５３】
＜遷移金属錯体（１）の製造方法＞
遷移金属錯体（１）は例えば、式（５）
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３は前記と同義である。］
で示される置換シクロペンタジエン化合物（以下、「置換シクロペンタジエン化合物（５）」という。）と、塩基とをアミン化合物の存在下に反応させる工程；
前記置換シクロペンタジエン化合物（５）と塩基との反応物に、
以下の一般式（６）
（式中、Ｍ１、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は前記と同義であり、Ｘ４は、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
または−Ｎ（Ｒ２１）２（２つのＲ２１部分はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ２１部分にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、ｍは０または１を表す。）
で示される遷移金属化合物（以下、「遷移金属化合物（６）」という。）を反応させる工程を有する製造方法により製造することができる。以下、前記置換シクロペンタジエン化合物（５）と塩基とをアミン化合物の存在下に反応させる工程を「第１反応工程」、前記置換シクロペンタジエン化合物（５）と塩基との反応物に、遷移金属化合物（６）を反応させる工程を「第２反応工程」ということがある。
【００５４】
前記置換シクロペンタジエン化合物（５）において、そのシクロペンタジエン環の二重結合の位置が異なる異性体は以下の構造異性体のことである。
置換シクロペンタジエン化合物（５）には、各シクロペンタジエン環の二重結合位置がそれぞれ異なる異性体が存在するが、本発明においてはそれらのうちのいずれか、またはそれらの混合物を表わす。
【００５５】
前記遷移金属化合物（６）において、置換基Ｘ４は上述のとおりの定義であり、その具体例としてはＸ１、Ｘ２及びＸ３で挙げたものと同様のものを挙げることができる。
【００５６】
前記遷移金属化合物（６）としては、例えば、四塩化チタン、三塩化チタン、四臭化チタン、四ヨウ化チタンなどのハロゲン化チタン；テトラキス（ジメチルアミノ）チタン、ジクロロビス（ジメチルアミノ）チタン、トリクロロ（ジメチルアミノ）チタン、テトラキス（ジエチルアミノ）チタンなどのアミドチタン；テトライソプロポキシチタン、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、ジクロロジイソプロポキシチタン、トリクロロイソプロポキシチタンなどのアルコキシチタンなどが挙げられる。また、これらの各化合物の「チタン」を「ジルコニウム」又は「ハフニウム」に置き換えた化合物などが挙げられる。これらのうち、好ましい遷移金属化合物（６）は四塩化チタンである。
【００５７】
前記第１反応工程において、置換シクロペンタジエン化合物（５）と反応させる塩基としては、例えば、メチルリチウム、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウムトリメチルシリルアセチリド、リチウムアセチリド、トリメチルシリルメチルリチウム、ビニルリチウム、フェニルリチウム及びアリルリチウムなどの有機リチウム化合物に代表される有機アルカリ金属化合物などが挙げられる。
【００５８】
塩基の使用量は、置換シクロペンタジエン化合物（５）１モルあたり、０．５〜５モルの範囲であればよい。
【００５９】
前記第１反応工程における置換シクロペンタジエン化合物（５）と塩基との反応においては、アミン化合物が用いられる。かかるアミン化合物としては、例えば、メチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−デシルアミン、アニリン、エチレンジアミンなどの第１級アミン化合物；ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ジ−ｎ−オクチルアミン、ジ−ｎ−デシルアミン、ピロリジン、ヘキサメチルジシラザン、ジフェニルアミンなどの第２級アミン化合物；トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−ｎ−オクチルアミン、トリ−ｎ−デシルアミン、トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ−メチルピロリジン、４−ジメチルアミノピリジンなどの第３級アミン化合物；が挙げられる。かかるアミン化合物の使用量は、塩基１モルあたりに、１０モル以下であると好ましく、０．５〜１０モルの範囲であるとより好ましく、１〜５モルの範囲であるとさらに好ましい。
【００６０】
前記第１反応工程において、置換シクロペンタジエン化合物（５）と塩基とを反応させる際には溶媒の存在下で反応させることが好ましい。また、溶媒を用いるときには、該溶媒中で置換シクロペンタジエン化合物（５）及び塩基を反応させた後、この反応混合物中に遷移金属化合物（６）を加えることにより、置換シクロペンタジエン化合物（５）及び塩基の反応物に、遷移金属化合物（６）をさらに反応させることができる。なお、置換シクロペンタジエン化合物（５）及び塩基を反応させた反応混合物には固体が析出することがあるが、この場合には、析出した固体が溶解するまで溶媒を追加したり、析出した固体をろ過等により、一旦分離してもよく、分離した固体に溶媒を加えて溶解させたり、懸濁させた後で、遷移金属化合物（６）を加えてもよい。また、溶媒を用いる場合、該溶媒に置換シクロペンタジエン化合物（５）、塩基、アミン化合物および遷移金属化合物（６）を同時に加えることにより、第１反応工程と第２反応工程とを略同時に実施することもできる。
【００６１】
第１反応工程又は、第１反応工程及び第２反応工程に用いる溶媒は、これらの工程に係る反応の進行を著しく妨げない不活性な溶媒が用いられる。かかる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエンなどの芳香族ハイドロカルビル系溶媒；ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族ハイドロカルビル系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル系溶媒；ヘキサメチルホスホリックアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶媒；アセトニトリル、プロピオニトリル、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどの極性溶媒；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性溶媒などが例示される。かかる溶媒は単独もしくは２種以上を混合して用いることができ、その使用量は、置換シクロペンタジエン化合物（５）１重量部にあたり、１〜２００重量部が好ましく、３〜５０重量部がさらに好ましい。
【００６２】
遷移金属化合物（６）の使用量は、置換シクロペンタジエン化合物（５）１モルあたり、０．５〜３モルの範囲が好ましく、０．７〜１．５モルの範囲がさらに好ましい。
【００６３】
第１反応工程及び第２反応工程における反応温度は、−１００℃以上、溶媒の沸点以下であればよく、好ましくは−８０〜１００℃の範囲である。
【００６４】
かくして第１反応工程及び第２反応工程を経て得られた反応混合物からは各種公知の精製方法により、生成した遷移金属錯体（１）を取り出すことができる。例えば、第１反応工程及び第２反応工程の後に、生成した沈殿を濾別後、濾液を濃縮して遷移金属錯体を析出させた後、これを濾取する方法などによって目的の遷移金属錯体（１）を得ることができる。
【００６５】
また、遷移金属錯体（１）のＸ１、Ｘ２及びＸ３のいずれかが、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
またはハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基である化合物は、遷移金属錯体（１）のＸ１、Ｘ２及びＸ３がハロゲン原子である化合物と、対応するアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基、アラルキルオキシ基をもつリチウム化合物、ナトリウム化合物、カリウム化合物またはマグネシウム化合物との反応によっても得ることができる。
【００６６】
＜置換シクロペンタジエン化合物（５）＞
【００６７】
前記置換シクロペンタジエン化合物（５）において、置換基Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３は上述のとおりの定義である。
【００６８】
前記置換シクロペンタジエン化合物（５）としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。
【００６９】
１−（３，５−ジメチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジエチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジエチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジフェニル（３，５−ジイソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−フェニルビス（３，５−ジイソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジフェニルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジフェニルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジベンジルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジベンジルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジメトキシフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジメトキシフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ビス（ジメチルアミノ）フェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ビス（ジメチルアミノ）フェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３−メチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジ（３−メチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジフェニル（３−イソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−フェニルジ（３−イソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジ（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３−トリメチルシリルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３−トリメチルシリルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３−フェニルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジ（３−フェニルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３−メトキシフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジ（３−メトキシフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（４−メチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジ（４−メチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（４−ｎ−ブチルフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジ（４−ｎ−ブチルフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（４−フルオロフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジ（４−フルオロフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（４−メトキシフェニル）ジフェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジ（４−メトキシフェニル）フェニルシリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン
【００７０】
１−（３，５−ジエチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ジイソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３，５−ジイソプロピルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ジフェニルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３，５−ジフェニルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジベンジルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジベンジルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３−メチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジ（３−メチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３−メトキシフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジ（３−メトキシフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３−ジメチルアミノフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３−ジメチルアミノフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（４−ｎ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジ（４−ｎ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（４−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（４−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（４−フルオロフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ジ（４−フルオロフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−ビス（３，５−ジメチルフェニル）（３−メチル−５−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３−メチル−５−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン
【００７１】
１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ジフェニルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジベンジルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３−メチル−５−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３−メチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３−メトキシフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３−ジメチルアミノフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（４−ｎ−ブチルフェニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（４−トリメチルシリルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（４−フルオロフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジフェニルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエンなどの置換シクロペンタジエン化合物が挙げられる。
【００７２】
また、ここに例示する置換シクロペンタジエン化合物において、「２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン」を「シクロペンタジエン」、「２−メチルシクロペンタジエン」、「３−メチルシクロペンタジエン」、「２，３−ジメチルシクロペンタジエン」、「２，４−ジメチルシクロペンタジエン」、「２，５−ジメチルシクロペンタジエン」、「２，３，４−トリメチルシクロペンタジエン」、「２，３，５−トリメチルシクロペンタジエン」、「２−エチルシクロペンタジエン」、「３−エチルシクロペンタジエン」、「２−ｎ−プロピルシクロペンタジエン」、「３−ｎ−プロピルシクロペンタジエン」、「２−イソプロピルシクロペンタジエン」、「３−イソプロピルシクロペンタジエン」、「２−ｎ−ブチルシクロペンタジエン」、「３−ｎ−ブチルシクロペンタジエン」、「２−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエン」、「３−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエン」、「２−フェニルシクロペンタジエン」、「３−フェニルシクロペンタジエン」、「２−ベンジルシクロペンタジエン」、「３−ベンジルシクロペンタジエン」、「インデン」、「２−メチルインデン」、「フルオレン」、「テトラヒドロインデン」、「２−メチルテトラヒドロインデン」、「オクタヒドロフルオレン」に置き換えた置換シクロペンタジエン化合物も同様に置換シクロペンタジエン化合物（５）として例示される。
【００７３】
ここに例示する置換シクロペンタジエン化合物において、シクロペンタジエン環の二重結合の位置が異なる異性体が存在する場合、これらの異性体混合物であってもよい。
【００７４】
＜置換シクロペンタジエン化合物（５）の製造方法＞
一般式（５）で示される置換シクロペンタジエン化合物は、例えば一般式（７）で示される置換シクロペンタジエン化合物（以下「置換シクロペンタジエン化合物（７）」と略す）と、塩基とを反応させる工程；
前記置換シクロペンタジエン化合物（７）と塩基との反応物に、一般式（８）で示されるハロゲン化ケイ素化合物（以下「ハロゲン化ケイ素化合物（８）」と略す）を反応させる工程により製造することができる。
【００７５】
一般式（７）で示される置換シクロペンタジエン化合物は、下記のとおりである。
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同義であり
【００７６】
前記置換シクロペンタジエン化合物（７）としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。
【００７７】
シクロペンタジエン、メチルシクロペンタジエン、１，２−ジメチルシクロペンタジエン、１，３−ジメチルシクロペンタジエン、１，４−ジメチルシクロペンタジエン、２，３−ジメチルシクロペンタジエン、１，２，３−トリメチルシクロペンタジエン、１，２，４−トリメチルシクロペンタジエン、１，２，３，４−テトラメチルシクロペンタジエン、エチルシクロペンタジエン、１，２−ジエチルシクロペンタジエン、１，３−ジエチルシクロペンタジエン、１，４−ジエチルシクロペンタジエン、２，３−ジエチルシクロペンタジエン、１，２，３−トリエチルシクロペンタジエン、１，２，４−トリエチルシクロペンタジエン、１，２，３，４−テトラエチルシクロペンタジエン、ｎ−プロピルシクロペンタジエン、イソプロピルシクロペンタジエン、ｎ−ブチルシクロペンタジエン、ｓｅｃ−ブチルシクロペンタジエン、ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエン、ｎ−ペンチルシクロペンタジエン、ネオペンチルシクロペンタジエン、ｎ−ヘキシルシクロペンタジエン、ｎ−オクチルシクロペンタジエン、フェニルシクロペンタジエン、ベンジルシクロペンタジエン、ナフチルシクロペンタジエン、トリメチルシリルシクロペンタジエン、トリエチルシリルシクロペンタジエン、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルシクロペンタジエン、インデン、２−メチルインデン、テトラヒドロインデン、２−メチルテトラヒドロインデン、３−メチルテトラヒドロインデン、２，３−ジメチルテトラヒドロインデン、２−エチルテトラヒドロインデン、２−ｎ−プロピルテトラヒドロインデン、２−イソプロピルテトラヒドロインデン、２−ｎ−ブチルテトラヒドロインデン、２−ｓｅｃ−ブチルテトラヒドロインデン、２−ｔｅｒｔ−ブチルテトラヒドロインデン、２−ｎ−ペンチルテトラヒドロインデン、２−ネオペンチルテトラヒドロインデン、２−アミルテトラヒドロインデン、２−ｎ−ヘキシルテトラヒドロインデン、２−シクロヘキシルテトラヒドロインデン、２−ｎ−オクチルテトラヒドロインデン、２−ｎ−デシルテトラヒドロインデン、２−フェニルテトラヒドロインデン、２−ベンジルテトラヒドロインデン、２−ナフチルテトラヒドロインデン、２−メトキシテトラヒドロインデン、２−フェノキシテトラヒドロインデン、２−ベンジルオキシテトラヒドロインデン、２−ジメチルアミノテトラヒドロインデン、２−トリメチルシリルテトラヒドロインデン、フルオレン、オクタヒドロフルオレンなどの置換シクロペンタジエン化合物が挙げられる。
【００７８】
ここに例示する置換シクロペンタジエン化合物（７）において、シクロペンタジエン環の二重結合の位置が異なる異性体が存在する場合、これらの異性体混合物であってもよい。
【００７９】
一般式（８）で示されるハロゲン化ケイ素化合物は、下記の通りである。
一般式（８）
[式中、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３は前記と同義であり、Ｘ５はハロゲン原子である。]
【００８０】
ハロゲン化ケイ素化合物（８）としては、例えば、次のような化合物を挙げることができる。
【００８１】
クロロ（３，５−ジメチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロビス（３，５−ジメチルフェニル）フェニルシラン、クロロ（３，５−ジエチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロビス（３，５−ジエチルフェニル）フェニルシラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フェニルシラン、クロロジフェニル（３，５−ジイソプロピルフェニル）シラン、クロロフェニルビス（３，５−ジイソプロピルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロビス（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）フェニルシラン、（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）クロロジフェニルシラン、ビス（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）クロロフェニルシラン、クロロ（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）ジフェニルシラン、クロロビス（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）フェニルシラン、クロロ（３，５−ジフェニルフェニル）ジフェニルシラン、クロロビス（３，５−ジフェニルフェニル）フェニルシラン、（３，５−ジベンジルフェニル）クロロジフェニルシラン、ビス（３，５−ジベンジルフェニル）クロロフェニルシラン、クロロ（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）ジフェニルシラン、クロロビス（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）フェニルシラン、クロロ（３，５−ジメトキシフェニル）ジフェニルシラン、クロロビス（３，５−ジメトキシフェニル）フェニルシラン、クロロ（３，５−ビス（ジメチルアミノ）フェニル）ジフェニルシラン、クロロビス（３，５−ビス（ジメチルアミノ）フェニル）フェニルシラン、クロロ（３−メチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロジ（３−メチルフェニル）フェニルシラン、クロロジフェニル（３−イソプロピルフェニル）シラン、クロロフェニルジ（３−イソプロピルフェニル）シラン、（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）クロロジフェニルシラン、ジ（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）クロロフェニルシラン、クロロ（３−トリメチルシリルフェニル）ジフェニルシラン、クロロビス（３−トリメチルシリルフェニル）フェニルシラン、クロロ（３−フェニルフェニル）ジフェニルシラン、クロロジ（３−フェニルフェニル）フェニルシラン、クロロ（３−メトキシフェニル）ジフェニルシラン、クロロジ（３−メトキシフェニル）フェニルシラン、クロロ（４−メチルフェニル）ジフェニルシラン、クロロジ（４−メチルフェニル）フェニルシラン、（４−ｎ−ブチルフェニル）クロロジフェニルシラン、ジ（４−ｎ−ブチルフェニル）クロロフェニルシラン、クロロ（４−フルオロフェニル）ジフェニルシラン、クロロジ（４−フルオロフェニル）フェニルシラン、クロロ（４−メトキシフェニル）ジフェニルシラン、クロロジ（４−メトキシフェニル）フェニルシラン
【００８２】
クロロ（３，５−ジエチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロビス（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロビス（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ジイソプロピルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３，５−ジイソプロピルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロビス（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロビス（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロビス（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロビス（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ジフェニルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３，５−ジフェニルフェニル）シラン、（３，５−ジベンジルフェニル）クロロビス（３，５−ジメチルフェニル）シラン、ビス（３，５−ジベンジルフェニル）クロロ（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロビス（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シラン、クロロ（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シラン、クロロ（３−メチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロジ（３−メチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロビス（３，５−ジメチルフェニル）（３−トリメチルシリルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３−トリメチルシリルフェニル）シラン、クロロ（３−メトキシフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロジ（３−メトキシフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（３−ジメチルアミノフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロビス（３−ジメチルアミノフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（４−ｎ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロジ（４−ｎ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロビス（３，５−ジメチルフェニル）（４−トリメチルシリルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジメチルフェニル）ビス（４−トリメチルシリルフェニル）シラン、クロロ（４−フルオロフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロジ（４−フルオロフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロビス（３，５−ジメチルフェニル）（３−メチル−５−トリメチルシリルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジメチルフェニル）ビス（３−メチル−５−トリメチルシリルフェニル）シラン
【００８３】
クロロ（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（フェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ジフェニルフェニル）シラン、（３，５−ジベンジルフェニル）クロロ（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シラン、クロロ（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３−メチル−５−トリメチルシリルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３，５−ビス（トリメチルシリル）フェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３−メチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（３−トリメチルシリルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３−メトキシフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３−ジメチルアミノフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（４−ｎ−ブチルフェニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（４−トリメチルシリルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（４−フルオロフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジ−ｎ−ヘキシルフェニル）シラン、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジエチルフェニル）（３，５−ジフェニルフェニル）シランなどのハロゲン化ケイ素化合物などが挙げられる。
【００８４】
ここに例示する化合物において、「クロロ」を「フルオロ」、「ブロモ」、「ヨード」に置き換えたものも同様にハロゲン化ケイ素化合物（８）として例示される。
【００８５】
置換シクロペンタジエン化合物（７）と反応させる塩基としては、水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属水素化物、水素化カルシウムなどのアルカリ土類金属水素化物、メチルリチウム、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウムトリメチルシリルアセチリド、リチウムアセチリド、トリメチルシリルメチルリチウム、ビニルリチウム、フェニルリチウム及びアリルリチウムなどの有機リチウム化合物に代表される有機アルカリ金属化合物などが挙げられ、その使用量は置換シクロペンタジエン化合物（７）に対して通常０．５〜３モル倍、好ましくは０．９〜２モル倍の範囲である。水素化ナトリウム、水素化カリウムについては、通常市販されているミネラルオイル含有品をそのまま使用できるが、もちろんヘキサン等のハイドロカルビル系溶媒でミネラルオイルを洗浄除去後使用してもよい。
【００８６】
置換シクロペンタジエン化合物（７）と、塩基とを反応させる工程においては、アミン化合物を用いてもよい。かかるアミン化合物としては、例えば、アニリン、クロロアニリン、ブロモアニリン、フルオロアニリン、ジクロロアニリン、ジブロモアニリン、ジフルオロアニリン、トリクロロアニリン、トリブロモアニリン、トリフルオロアニリン、テトラクロロアニリン、テトラブロモアニリン、テトラフルオロアニリン、ペンタクロロアニリン、ペンタフルオロアニリン、ニトロアニリン、ジニトロアニリン、ヒドロキシアニリン、フェニレンジアミン、アニシジン、ジメトキシアニリン、トリメトキシアニリン、エトキシアニリン、ジエトキシアニリン、トリエトキシアニリン、ｎ−プロポキシアニリン、イソプロポキシアニリン、ｎ−ブトキシアニリン、ｓｅｃ−ブトキシアニリン、イソブトキシアニリン、ｔ−ブトキシアニリン、フェノキシアニリン、メチルアニリン、エチルアニリン、ｎ−プロピルアニリン、イソプロピルアニリン、ｎ−ブチルアニリン、ｓｅｃ−ブチルアニリン、イソブチルアニリン、ｔ−ブチルアニリン、ジメチルアニリン、ジエチルアニリン、ジ−ｎ−プロピルアニリン、ジイソプロピルアニリン、ジ−ｎ−ブチルアニリン、ジ−ｓｅｃ−ブチルアニリン、ジイソブチルアニリン、ジ−ｔ−ブチルアニリン、トリメチルアニリン、トリエチルアニリン、ジイソプロピルアニリン、フェニルアニリン、ベンジルアニリン、アミノ安息香酸、アミノ安息香酸メチルエステル、アミノ安息香酸エチルエステル、アミノ安息香酸ｎ−プロピルエステル、アミノ安息香酸イソプロピルエステル、アミノ安息香酸ｎ−ブチルエステル、アミノ安息香酸イソブチルエステル、アミノ安息香酸ｓｅｃ−ブチルエステル、アミノ安息香酸ｔ−ブチルエステル等の１級アニリン類、さらにナフチルアミン、ナフチルメチルアミン、ベンジルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、２−アミノピリジン、３−アミノピリジン、４−アミノピリジン等も含む１級アミン、
【００８７】
Ｎ−メチルアニリン、Ｎ−エチルアニリン、ジフェニルアミン、Ｎ−メチルクロロアニリン、Ｎ−メチルブロモアニリン、Ｎ−メチルフルオロアニリン、Ｎ−メチルアニシジン、Ｎ−メチルメチルアニリン、Ｎ−メチルエチルアニリン、Ｎ−メチル−ｎ−プロピルアニリン、Ｎ−メチルイソプロピルアニリン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、モルホリン、ピペリジン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ピロリジン、２−メチルアミノピリジン、３−メチルアミノピリジン、４−メチルアミノピリジン、等の２級アミン、
【００８８】
Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルクロロアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルブロモアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルフルオロアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニシジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｎ−プロピルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルイソプロピルアニリン、１、４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１、５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１、８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン、２−ジメチルアミノピリジン、３−ジメチルアミノピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリ−ｎ−オクチルアミン、トリ−ｎ−デシルアミン、トリフェニルアミン等の３級アミンが挙げられ、好ましくは１級アミンまたは２級アミン、より好ましくは１級アニリン類が使用される。
【００８９】
かかるアミン化合物の使用量は塩基に対して通常０．００１〜２モル倍、好ましくは０．０１〜０．５モル倍の範囲である。反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族ハイドロカルビル系溶媒、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサンなどの脂肪族ハイドロカルビル系溶媒、ジエチルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ヘキサメチルホスホリックアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド系溶媒、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性溶媒が挙げられる。これらの溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量はシクロペンタジエン類に対して通常１〜２００重量倍、好ましくは３〜３０重量倍の範囲である。
【００９０】
反応に際しては、例えば溶媒中で置換シクロペンタジエン化合物（７）、塩基、アミン化合物を同時に混合してもよいし、予め塩基とアミン化合物を混合した後に置換シクロペンタジエン化合物（７）を添加してもよい。反応温度は特に制限はないが、低温設備を必要としない温度領域が工業的には良く、例えば０〜７０℃、好ましくは１０〜６０℃の範囲である。かかる反応によって置換シクロペンタジエン化合物（７）の金属塩が効率よく生成する。かくして得られた置換シクロペンタジエン化合物（７）の金属塩は、反応混合物のまま用いてもよいし、該反応混合物から取り出して用いてもよいが、通常前者で充分である。
【００９１】
置換シクロペンタジエン化合物（５）を得る反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族ハイドロカルビル系溶媒、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサンなどの脂肪族ハイドロカルビル系溶媒、ジエチルエーテル、メチルｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ヘキサメチルホスホリックアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド系溶媒、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性溶媒が挙げられる。これらの溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は置換シクロペンタジエン化合物（７）に対して通常１〜２００重量倍、好ましくは３〜３０重量倍の範囲である。本反応は、例えば溶媒中で塩基、アミン化合物および置換シクロペンタジエン化合物（７）を混合した後、ハロゲン化ケイ素化合物（８）を添加することによって行われるのが通常であるが、一度に混合する方法を採用しても目的の置換シクロペンタジエン化合物（５）は生成する。反応温度は特に制限はないが、低温設備を必要としない温度領域が工業的には有利であり、例えば０〜７０℃、好ましくは１０〜６０℃の範囲である。
【００９２】
置換シクロペンタジエン類（７）の使用量はハロゲン化ケイ素化合物（８）に対して通常０．５〜５モル倍、好ましくは０．８〜３モル倍の範囲である。
【００９３】
反応終了後、得られた反応混合物に水、炭酸水素ナトリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、塩化アンモニウム水溶液、または塩酸などの水溶液などを加えたのち、有機層と水層とに分液し、有機層として置換シクロペンタジエン化合物（５）の溶液が得られる。反応において水と相溶性の溶媒を用いた場合や反応における溶媒の使用量が少ないために有機層と水層とを容易に分液できない場合には、必要により該反応混合物にトルエン、酢酸エチル、クロロベンゼンなどの水に不溶の有機溶媒を加えた後に分液すればよい。得られた有機層を濃縮すれば置換シクロペンタジエン化合物（５）が得られるが、必要により、蒸留、カラムクロマトグラフ処理などの方法によって精製してもよい。
【００９４】
＜活性化助触媒成分＞
活性化助触媒成分としては、次の化合物（Ａ）及び化合物（Ｂ）を挙げることができる。化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）を併用してもよい。
化合物（Ａ）：下記化合物（Ａ１）、（Ａ２）及び（Ａ３）からなる化合物群から選ばれる１種以上のアルミニウム化合物
（Ａ１）：一般式 （Ｅ１）ａＡｌ（Ｇ）３−ａで表される有機アルミニウム化合物
（Ａ２）：一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ２）−Ｏ−｝ｂで表される構造を有する環状のアルミノキサン
（Ａ３）：一般式 Ｅ３｛−Ａｌ（Ｅ３）−Ｏ−｝ｃＡｌ（Ｅ３）２で表される構造を有する線状のアルミノキサン
（式中、Ｅ１、Ｅ２およびＥ３は、炭素原子数１〜８のハイドロカルビル基を表し、Ｇは、水素原子またはハロゲン原子を表し、ａは１〜３の整数を表し、ｂは２以上の整数を表し、ｃは１以上の整数を表す。Ｅ１が複数ある場合、複数のＥ１部分は互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｇが複数ある場合、複数のＧは互いに同じであっても異なっていてもよい。複数のＥ２は互いに同じであっても異なっていてもよい。複数のＥ３は互いに同じであっても異なっていてもよい。）
化合物（Ｂ）：下記化合物（Ｂ１）、（Ｂ２）及び（Ｂ３）からなる化合物群から選ばれる１種以上のホウ素化合物
（Ｂ１）：一般式 ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物
（Ｂ２）：一般式 Ｔ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるボレート化合物
（Ｂ３）：一般式 （Ｌ−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるボレート化合物
（式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子を表し、Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３およびＱ４は、それぞれ同一または相異なり、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のハイドロカルビル基、炭素原子数１〜２０のハイドロカルビルシリル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基または炭素原子数２〜２０のジハイドロカルビルアミノ基を表し、Ｔ＋は無機または有機のカチオンを表し、（Ｌ−Ｈ）＋はブレンステッド酸を表す。）
【００９５】
化合物（Ａ１）〜（Ａ３）において、Ｅ１、Ｅ２およびＥ３における炭素原子数１〜８のハイドロカルビル基としては、例えば、炭素原子数１〜８のアルキルなどが挙げられ、炭素原子数１〜８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基などが挙げられる。
【００９６】
一般式 （Ｅ１）ａＡｌ（Ｇ）３−ａで表される有機アルミニウム化合物（Ａ１）としては、例えば、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムクロライド、アルキルアルミニウムジクロライド、ジアルキルアルミニウムハイドライドなどが挙げられ、トリアルキルアルミニウムとしては、例えば、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウムなどが挙げられ、ジアルキルアルミニウムクロライドとしては、例えば、ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、ジヘキシルアルミニウムクロライドなどが挙げられ、アルキルアルミニウムジクロライドとしては、例えば、メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ヘキシルアルミニウムジクロライドなどが挙げられ、ジアルキルアルミニウムハイドライドとしては、例えば、ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジヘキシルアルミニウムハイドライドなどが挙げられる。
【００９７】
（Ａ２）：式｛−Ａｌ（Ｅ２）−Ｏ−｝ｂで表される構造を有する環状のアルミノキサン又は（Ａ３）式Ｅ３｛−Ａｌ（Ｅ３）−Ｏ−｝ｃＡｌ（Ｅ３）２で表される構造を有する線状のアルミノキサンにおけるＥ２及びＥ３としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基及びネオペンチル基等のアルキル基があげられる。ｂは２以上の整数であり、ｃは１以上の整数である。好ましくは、Ｅ２及びＥ３はそれぞれ独立にメチル基又はイソブチル基であり、ｂは２〜４０であり、ｃは１〜４０である。
【００９８】
上記のアルミノキサンは各種の方法で作られる。その方法については特に制限はなく、公知の方法に準じて作ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を適当な有機溶剤（ベンゼン、脂肪族ハイドロカルビルなど）に溶かした溶液を水と接触させて作る。また、トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を結晶水を含んでいる金属塩（例えば、硫酸銅水和物など）に接触させて作る方法が例示できる。
【００９９】
化合物（Ｂ１）〜（Ｂ３）において、Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３およびＱ４は、好ましくは、ハロゲン原子またはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のハイドロカルビル基である。Ｔ＋における無機のカチオンとしては、例えば、フェロセニウムカチオン、アルキル置換フェロセニウムカチオン、銀陽イオンなどが挙げられ、有機のカチオンとしては、例えば、トリフェニルメチルカチオンなどが挙げられる。（ＢＱ1Ｑ2Ｑ3Ｑ4）−としては、例えば、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，４−トリフルオロフェニル）ボレート、フェニルトリス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト、テトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどが挙げられる。ブレンステッド酸である（Ｌ−Ｈ）＋としては、例えば、トリアルキル置換アンモニウム、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム、ジアルキルアンモニウム、トリアリールホスホニウムなどが挙げられる。
【０１００】
一般式 ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物（Ｂ１）としては、例えば、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４−トリフルオロフェニル）ボラン、フェニルビス（ペンタフルオロフェニル）ボランなどが挙げられる。
【０１０１】
一般式Ｔ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるボレート化合物（Ｂ２）としては、例えば、フェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、１，１’−ビス−トリメチルシリルフェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、銀テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメチルテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどを挙げられる。
【０１０２】
一般式（Ｌ−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるボレート化合物（Ｂ３）としては、例えば、トリエチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ビス−トリメチルシリルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ビス−トリメチルシリルアニリニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、ジイソプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（メチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ビス−トリメチルシリルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ジメチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどが挙げられる。
【０１０３】
＜三量化用触媒＞
本発明の三量化用触媒とは、上記の遷移金属錯体（１）と活性化助触媒成分とを接触させて得られる三量化用触媒であり、エチレンを三量化させて１−ヘキセンを製造することができる触媒である。
【０１０４】
かかる活性化助触媒成分としては上記の化合物（Ａ）及び化合物（Ｂ）を挙げることができる。また化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）を併用してもよい。
【０１０５】
各触媒成分の使用量としては、化合物（Ａ）（アルミニウム原子換算）と遷移金属錯体（１）のモル比（化合物（Ａ）（アルミニウム原子換算）／遷移金属錯体（１））は、通常０．０１〜１００００であり、好ましくは５〜５０００である。また、化合物（Ｂ）と遷移金属錯体（１）のモル比（化合物（Ｂ）／遷移金属錯体（１））は、通常０．０１〜１００、好ましくは０．５〜１０である。
【０１０６】
各触媒成分を溶液状態で使用する場合、触媒成分として使用する遷移金属錯体（１）の濃度は、通常０．０００１〜５ミリモル／リットルであり、好ましくは、０．００１〜１ミリモル／リットルである。化合物（Ａ）の濃度は、アルミニウム原子換算で、通常０．０１〜５００ミリモル／リットルで、好ましくは、０．１〜１００ミリモル／リットルである。化合物（Ｂ）の濃度は、通常０．０００１〜５ミリモル／リットルであり、好ましくは、０．００１〜１ミリモル／リットルである。
【０１０７】
各触媒成分を接触させる方法は、特に限定されるものではない。遷移金属錯体（１）と活性化助触媒成分とを予め接触させて三量化用触媒を調製し、該三量化用触媒を反応器に供給してもよい。また、各触媒成分を任意の順序で反応器に供給し、反応器内で接触処理を行ってもよい。
【０１０８】
＜１−ヘキセンの製造方法＞
本発明の１−ヘキセンの製造方法とは、エチレンから１−ヘキセンを製造する方法であり、三量化用触媒の存在下、エチレンの三量化反応により１−ヘキセンを製造する方法である。
【０１０９】
三量化反応は、特に限定されるものではないが、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族ハイドロカルビル、ベンゼン、トルエン等の芳香族ハイドロカルビル、又はメチレンジクロライド、クロロベンゼン等のハロゲン化ハイドロカルビルを溶媒として用いる三量化反応、又はスラリー状態での三量化反応、ガス状のエチレン中での三量化反応等が可能である。
【０１１０】
三量化反応は、回分式、半連続式、連続式のいずれかの方法において行うことができる。
【０１１１】
三量化反応におけるエチレンの圧力は、通常、常圧〜１０ＭＰａであるが、好ましくは常圧〜５ＭＰａの範囲である。
【０１１２】
三量化反応の温度は、通常−５０℃〜２２０℃の範囲を取り得る。好ましくは０℃〜１７０℃の範囲であり、より好ましくは５０℃〜１２０℃の範囲である。
【０１１３】
三量化反応の時間は、一般的に、目的とする反応装置により適宜決定されるが、１分間〜２０時間の範囲を取ることができる。
【実施例】
【０１１４】
以下、実施例および比較例により本発明を説明する。
＜遷移金属錯体の製造＞
物性測定は次の方法で行った。
（１）プロトン核磁気共鳴スペクトル（1Ｈ−ＮＭＲ）
装置：ブルカーバイオスピン社製 ＤＰＸ３００
試料セル：５ｍｍφチューブ
測定溶媒：ＣＤＣｌ３
試料濃度：約１０ｍｇ／０．５ｍＬ
測定温度：室温（約２５℃）
測定パラメータ：５ｍｍφプローブ、ＯＢＮＵＣ 1Ｈ、ＰＵＬＰＲＯＧ ｚｇ３０、積算回数１６回以上
繰り返し時間：ＡＣＱＴＭ ２．７秒、ＰＤ １秒
内部標準：ＣＤＣｌ３（７．２６ｐｐｍ）
【０１１５】
（２）カーボン核磁気共鳴スペクトル（１３Ｃ−ＮＭＲ）
装置：ブルカーバイオスピン社製 ＤＰＸ３００
試料セル：５ｍｍφチューブ
測定溶媒：ＣＤＣｌ３
試料濃度：約１０ｍｇ／０．５ｍＬ
測定温度：室温（約２５℃）
測定パラメータ：５ｍｍφプローブ、ＯＢＮＵＣ １３Ｃ、ＰＵＬＰＲＯＧ ｚｇｐｇ３０、積算回数 ２５６回以上
繰り返し時間：ＡＣＱＴＭ １．３６秒、ＰＤ ２秒
内部標準：ＣＤＣｌ３（７７．０ｐｐｍ）
【０１１６】
（３）電子イオン化質量分析（ＥＩ−ＭＳ）
装置：日本電子社製 ＪＭＳ−Ｔ１００ＧＣ
イオン化電圧：７０ｅＶ
イオン源温度：２３０℃
加速電圧：７ｋＶ
ＭＡＳＳ ＲＡＮＧＥ：ｍ／ｚ ３５−１２００
【０１１７】
（４）電界脱離質量分析（ＦＤ−ＭＳ）
装置：日本電子社製 ＪＭＳ−７００
加速電圧：８ｋＶ
カソード：０ｋＶ
カーボンエミッター
ＭＡＳＳ ＲＡＮＧＥ：ｍ／ｚ １０−２０００
【０１１８】
［実施例１］
「［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体１」という。）の合成」
【０１１９】
「トリクロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）シランの合成」
窒素雰囲気下、１−ブロモ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン（３５．００ｇ、１３０．００ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（１７５ｍＬ）に、−７８℃でｎ−ブチルリチウムの１．６５Ｍヘキサン溶液（８８．６７ｍＬ、１４３．００ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で２時間攪拌した。得られた混合物を、−７８℃でテトラクロロシラン（６６．２６ｇ、３９０．００ｍｍｏｌ）をジエチルエーテル（５８ｍＬ）に溶解させた溶液に滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で３時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘキサンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。減圧蒸留により精製し、トリクロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）シランを得た（２４．１１ｇ、収率５７．３％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．３６（ｓ、１８Ｈ）、７．６１−７．６７（ｍ、３Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：３１．５１、３５．２５、１２７．２３、１２７．３９、１３０．７５、１５１．２６
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：３２２（Ｍ＋）
【０１２０】
「クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シランの合成」
窒素雰囲気下、トリクロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）シラン（１２．９５ｇ、４０．００ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（７４ｍＬ）に、−７８℃で３，５−ジメチルフェニルリチウム（１１．０９ｇ、９８．９６ｍｍｏｌ）をジエチルエーテル（９５ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で２時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘキサンを加えて濾過することにより不溶物を除去した。濾液から溶媒を減圧下で濃縮し、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シランを定量的に得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．３０（ｓ、１８Ｈ）、２．３１（ｓ、１２Ｈ）、７．１０（ｓ、２Ｈ）、７．２８（ｓ、４Ｈ）、７．５２（ｓ、３Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：２１．５１、３１．５７、３５．０９、１２４．７２、１２９．６７、１３１．８８、１３２．４５、１３３．０４、１３３．３６、１３７．４６、１５０．０８
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：４６２（Ｍ＋）
【０１２１】
「１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化カリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した。その後、得られた水素化カリウム（１．０９ｇ、２７．２７ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３９ｍＬ）を混合した。この混合物を５０℃に昇温し、１，２，３，４−テトラメチルシクロペンタ−１，３−ジエン（２．４４ｇ、２０．００ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（８ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、５０℃で３時間攪拌した。この溶液に５０℃でクロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シラン（８．４２ｇ、１８．１８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１９ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、同温度で６時間攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸ナトリウム水溶液（５０ｍｌ）に滴下した。トルエン（５０ｍＬ）を加えて分液し、油相を水（５０ｍＬ）で２回洗浄し、さらに飽和食塩水（５０ｍＬ）で洗浄した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。得られた固体を少量のヘキサンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエンを得た（５．１８ｇ、収率５１．９％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．３１（ｓ、１８Ｈ）、１．５６（ｓ、６Ｈ）、１．６３（ｓ、６Ｈ）、２．２９（ｓ、１２Ｈ）、３．７６（ｓ、１Ｈ）、７．００（ｓ、２Ｈ）、７．２９（ｓ、４Ｈ）、７．３９−７．４７（ｍ、３Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１１．３６、１５．０１、２１．５９、３１．６３、３４．９５、５１．４１、１２２．８０、１３０．４７、１３０．７７、１３１．６４、１３３．４４、１３３．６０、１３５．４５、１３６．５８、１３６．６９、１４８．８８
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：５４８（Ｍ＋）
【０１２２】
「錯体１の合成」
窒素雰囲気下、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン（２．２０ｇ、４．００ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（２．０２ｇ、２０．００ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（４５ｍＬ）に、−７８℃でｎ−ブチルリチウムの１．６５Ｍヘキサン溶液（２．９１ｍＬ、４．８０ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、５０℃で７時間攪拌した。得られた混合物を−７８℃になるまで冷却し、同温度で四塩化チタン（０．８３ｇ、４．４０ｍｍｏｌ）をトルエン（４ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。徐々に室温まで昇温させた後、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。得られた固体を少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、錯体１及び２，２’−ビス｛（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル｝−１，１’，３，３’，４，４’，５，５’−オクタメチル−５，５’−ビ−１，３−シクロペンタジエニルの混合物をオレンジ固体として得た。フェロセンを内部標準物質として用いて１Ｈ−ＮＭＲにより決定した錯体１の含量は６０．５ｗｔ％であった（０．５３ｇ、収率１８．８％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．２８（ｓ、１８Ｈ）、２．０７（ｓ、６Ｈ）、２．３０（ｓ、１２Ｈ）、２．３９（ｓ、６Ｈ）、７．０８（ｓ、２Ｈ）、７．２８（ｓ、４Ｈ）、７．４８（ｓ、３Ｈ）
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：７０２（Ｍ−）
【０１２３】
［実施例２］
「錯体１の合成」
窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化カリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した。その後、得られた水素化カリウム（０．１５ｇ、３．６４ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３４ｍＬ）を混合した。この混合物に室温で１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン（１．５４ｇ、２．８０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１１ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、その後、５０℃で７時間攪拌した。得られた混合物を室温になるまで冷却し、不溶物を濾過することで除去した。得られた濾液を−７８℃になるまで冷却し、同温度でクロロトリイソプロポキシチタニウム（０．７３ｇ、２．８０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（７ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。徐々に室温まで昇温させた後、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にペンタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。得られた固体を少量のペンタンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリイソプロポキシドを得た（１．９３ｇ、収率８９．４％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）： １．１１（ｄ、Ｊ＝６．２Ｈｚ、１８Ｈ）、１．２４（ｓ、１８Ｈ）、１．６８（ｓ、６Ｈ）、１．９９（ｓ、６Ｈ）、２．２６（ｓ、１２Ｈ）、４．５５（ｓｅｐ、Ｊ＝６．２Ｈｚ、３Ｈ）、６．９６（ｓ、２Ｈ）、７．２１（ｄ、Ｊ＝１．８Ｈｚ、２Ｈ）、７．３６（ｔ、Ｊ＝１．８Ｈｚ、１Ｈ）、７．３９（ｓ、４Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１１．６１、１４．８７、２１．４７、２６．５２、３１．３８、３４．７７、７５．６０、１１３．００、１２２．１０、１２６．６２、１３０．４４、１３１．３９、１３１．５６、１３４．３３、１３４．３９、１３６．１２、１３７．０１、１４８．６８
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：７７２（Ｍ＋）
【０１２４】
窒素雰囲気下、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ビス（３，５−ジメチルフェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリイソプロポキシド（０．２２ｇ、０．２８ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（４ｍＬ）に、０℃で四塩化ケイ素（０．４８ｇ、２．８５ｍｍｏｌ）をトルエン（３ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で３時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去した。濾液から溶媒を減圧下で濃縮し、ペンタンから再結晶することで錯体１をオレンジ固体として得た（０．１７ｇ、収率８７．３％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．２５（ｓ、１８Ｈ）、２．０４（ｓ、６Ｈ）、２．２７（ｓ、１２Ｈ）、２．３６（ｓ、６Ｈ）、７．０６（ｓ、２Ｈ）、７．２５（ｓ、４Ｈ）、７．４５（ｓ、３Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１４．４０、１７．６５、２１．３７、３１．３３、３４．９１、１２３．３９、１３１．４０、１３１．５０、１３１．５８、１３３．１１、１３４．５１、１３６．９７、１３７．５２、１４２．３８、１４６．０４、１４９．４９
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：７０２（Ｍ−）
【０１２５】
［実施例３］
「［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体２」という。）の合成」
【０１２６】
「ジクロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）シランの合成」
窒素雰囲気下、１−ブロモ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン（１０．６０ｇ、３９．３７ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（１０６ｍＬ）に、−７８℃でｎ−ブチルリチウムの１．６５Ｍヘキサン溶液（２３．８６ｍＬ、３９．３７ｍｍｏｌ）を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で３時間攪拌した。得られた混合物を、−７８℃でトリクロロフェニルシラン（２４．９９ｇ、１１８．１２ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（１０６ｍＬ）に滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘキサンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮した。減圧下で１００℃に加熱し、トリクロロフェニルシランを除去することにより、ジクロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）シランを得た（１１．７７ｇ、収率８１．８％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．３３（ｓ、１８Ｈ）、７．４３−７．６３（ｍ、６Ｈ）、７．７３−７．７８（ｍ、２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：３１．３７、３５．００、１２５．７５、１２６．１１、１２８．１０、１２８．２５、１３０．６９、１３１．５９、１３４．０９、１５０．６３
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：３６４（Ｍ＋）
【０１２７】
「クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シランの合成」
窒素雰囲気下、ジクロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）シラン（７．００ｇ、１９．１６ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（７０ｍＬ）に、−２０℃で３，５−ジメチルフェニルリチウム（２．１５ｇ、１９．１６ｍｍｏｌ）をジエチルエーテル（２２ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で攪拌した。３，５−ジメチルフェニルリチウム（１．２６ｇ、１１．２４ｍｍｏｌ）を追加して、さらに室温で攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘキサンを加えて濾過することにより不溶物を除去した。濾液から溶媒を減圧下で濃縮し、クロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シラン（７．２１ｇ、収率８６．５％）を黄色オイルとして得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．２２（ｓ、１８Ｈ）、２．２３（ｓ、６Ｈ）、７．０３（ｓ、１Ｈ）、７．２０（ｓ、２Ｈ）、７．２６−７．４８（ｍ、６Ｈ）、７．５５−７．６２（ｍ、２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：２１．３４、３１．３９、３４．９２、１２４．７１、１２５．７５、１２７．９３、１２９．４０、１３０．４３、１３１．５１、１３２．３７、１３２．８９、１３３．６９、１３５．２０、１３７．３７、１５０．０１
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：４３４（Ｍ＋）
【０１２８】
「１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエンの合成」
窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化カリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した。その後、得られた水素化カリウム（０．９８ｇ、２４．５５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（７５ｍＬ）を混合した。この混合物を５０℃に昇温し、１，２，３，４−テトラメチルシクロペンタ−１，３−ジエン（２．４０ｇ、１９．６４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１９ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、５０℃で１時間攪拌した。この溶液に５０℃でクロロ（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シラン（７．１２ｇ、１６．３７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４７ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、還流下で３時間攪拌した。得られた混合物を０℃で１０％炭酸水素ナトリウム（４７ｍＬ）と１０％炭酸ナトリウム（４７ｍＬ）の混合溶液に滴下した。トルエン（４７ｍＬ）を加えて分液し、油相を水（１００ｍＬ）で洗浄した。油相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過して溶媒を減圧下で濃縮した。得られた固体を少量のヘキサンで洗浄した後、減圧乾燥することにより、１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエンを得た（３．５４ｇ、収率４１．５％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．２８（ｓ、１８Ｈ）、１．５３（ｓ、６Ｈ）、１．６１（ｓ、６Ｈ）、２．２７（ｓ、６Ｈ）、３．７３（ｓ、１Ｈ）、６．９９（ｓ、１Ｈ）、７．２６（ｓ、２Ｈ）、７．２８−７．３４（ｍ、３Ｈ）、７．４０（ｓ、３Ｈ）、７．６２（ｄｄ、Ｊ＝７．３、２．１Ｈｚ、２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１１．２１、１４．７７、２１．４３、３１．４７、３４．８０、５１．２３、１２２．８３、１２７．３７、１２８．８９、１３０．２２、１３０．７１、１３１．５３、１３３．２９、１３３．４５、１３４．８８、１３５．６７、１３５．９０、１３６．４９、１３６．６７、１４８．９３
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：５２０（Ｍ＋）
【０１２９】
「錯体２の合成」
窒素雰囲気下、ミネラルオイル中に分散した水素化カリウムをヘキサンで洗浄することでミネラルオイルを除去した。その後、得られた水素化カリウム（０．２６ｇ、６．４０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２０ｍＬ）を混合した。この混合物に室温で１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエン（２．５７ｇ、４．９２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２８ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、その後、５０℃で７時間攪拌した。得られた混合物を室温になるまで冷却し、不溶物を濾過することで除去した。得られた濾液を−７８℃になるまで冷却し、同温度でクロロトリイソプロポキシチタニウム（１．２８ｇ、４．９２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２６ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下した。徐々に室温まで昇温させた後、室温で終夜攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にペンタンを加えて濾過することにより不溶物を除去し、濾液から溶媒を減圧下で濃縮することで［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリイソプロポキシドを得た（３．４１ｇ、収率９２．９％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）： １．１１（ｄｄ、Ｊ＝５．９、１．５Ｈｚ、１８Ｈ）、１．２３（ｓ、１８Ｈ）、１．６７（ｓ、６Ｈ）、１．９９（ｓ、６Ｈ）、２．４５（ｓ、６Ｈ）、４．５５（ｓｅｐ、Ｊ＝５．９Ｈｚ、３Ｈ）、６．９６（ｓ、１Ｈ）、７．２０−７．４４（ｍ、８Ｈ）、７．４６（ｄｄ、Ｊ＝７．７、１．８Ｈｚ、２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１１．５９、１１．６４、１４．８７、２１．４４、２６．４６、３１．３９、３４．７７、７５．５８、１１２．７０、１２２．３３、１２６．３５、１２６．６５、１２７．１３、１２８．５６、１３０．５２、１３１．４２、１３１．６０、１３４．３２、１３４．４２、１３６．１９、１３６．７２、１３６．８１、１３７．２４、１４８．８３
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：７４４（Ｍ＋）
【０１３０】
窒素雰囲気下、［１−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（３，５−ジメチルフェニル）（フェニル）シリル−２，３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル］チタニウムトリイソプロポキシド（１．４９ｇ、２．００ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３０ｍＬ）に、０℃で四塩化ケイ素（３．４０ｇ、２０．００ｍｍｏｌ）をトルエン（２０ｍＬ）に溶解させた溶液を滴下し、徐々に室温まで昇温させた後、室温で３時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧下で濃縮した後、残渣にヘプタンを加えて濾過することにより不溶物を除去した。濾液から溶媒を減圧下で濃縮し、ペンタンから再結晶することで錯体２をオレンジ固体として得た（０．７３ｇ、収率５４．０％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１．２５（ｓ、１８Ｈ）、２．０２（ｓ、３Ｈ）、２．０５（ｓ、３Ｈ）、２．２８（ｓ、６Ｈ）、２．３６（ｓ、６Ｈ）、７．０７（ｓ、１Ｈ）、７．３０（ｓ、２Ｈ）、７．３２−７．４５（ｍ、３Ｈ）、７．４６（ｓ、３Ｈ）、７．５５−７．６０（ｍ、２Ｈ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δｐｐｍ）：１４．４０、１７．５９、１７．６７、２１．３７、３１．３４、３４．９２、１２３．５８、１２７．８２、１２９．８１、１３１．２３、１３１．５５、１３１．５９、１３２．８１、１３３．８３、１３４．５５、１３６．７６、１３７．０６、１４２．３８、１４６．００、１４６．０６、１４９．６３
質量スペクトル（ＥＩ−ＭＳ、ｍ／ｚ）：６７４（Ｍ−）
【０１３１】
＜１−ヘキセンの製造＞
（１）１−ヘキセン活性
ガスクロマトグラフィー（島津ＧＣ−２０１０、ＤＢ−１カラム）を用いて分析した。
（２）公知な遷移金属錯体の合成
［ジメチルフェニルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体３」という。）は公知の手法（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ １９９９，５９２，８４−９４．）に従って合成した。
［１−（１−メチル−１−（３，５−ジメチルフェニル）エチル）−３−トリメチルシリルシクロペンタジエニル］チタニウムトリクロライド（以下、「錯体４」という。）は公知の手法（Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ ２００２，２１，５１２２−５１３５．）に従って合成した。
【０１３２】
［実施例４］
減圧乾燥後、アルゴンで置換した０．４リットルの攪拌機付きオートクレーブに、トルエン６０ｍＬ、Ａｌ濃度が９．０ｗｔ％（３．５ｍｍｏｌ／ｍＬ）であるメチルアルミノキサンのトルエン溶液（東ソー・ファインケム社製 ＴＭＡＯ−ｓ）０．８８ｍＬを仕込み、系内の温度を４０℃まで昇温した後、エチレンを分圧が０．５ＭＰａになるように導入し、系内を安定させた。これに、実施例１で得られた錯体１の混合物のトルエン溶液（錯体１の濃度：１μｍｏｌ／ｍＬ）０．６０ｍＬを投入した。反応中は全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給しながら、４０℃で３０分反応し、エタノールを１．０ｍＬ投入して反応を停止した。その後、エチレンをパージして、オートクレーブ内の内容物をエタノール−塩酸で脱灰し、ろ過した。１−ヘキセンが９．９４×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０１×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
【０１３３】
［実施例５］
減圧乾燥後、アルゴンで置換した０．４リットルの攪拌機付きオートクレーブに、トルエン９０ｍＬ、濃度が０．９３ｍｍｏｌ／ｍＬであるトリイソブチルアルミニウム（ＴＩＢＡ）のヘキサン溶液０．４３ｍＬを仕込み、系内の温度を８０℃まで昇温した後、エチレンを分圧が０．５ＭＰａになるように導入し、系内を安定させた。これに、実施例１で得られた錯体１の混合物のトルエン溶液（錯体１の濃度：１μｍｏｌ／ｍＬ）１．０ｍＬを投入し、続いてＮ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（ＡＢ）のトルエン溶液（２μｍｏｌ／ｍＬ）１．５ｍＬを投入した。反応中は全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給しながら、８０℃で３０分反応し、エタノールを１．０ｍＬ投入して反応を停止した。その後、エチレンをパージして、オートクレーブ内の内容物をエタノール−塩酸で脱灰し、ろ過した。１−ヘキセンが２．７０×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０６×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
【０１３４】
［実施例６］
減圧乾燥後、アルゴンで置換した０．４リットルの攪拌機付きオートクレーブに、トルエン９０ｍＬ、Ａｌ濃度が９．０ｗｔ％（３．４ｍｍｏｌ／ｍＬ）であるメチルアルミノキサンのトルエン溶液（東ソー・ファインケム社製 ＴＭＡＯ−ｓ）０．７４ｍＬを仕込み、系内の温度を８０℃まで昇温した後、エチレンを分圧が０．５ＭＰａになるように導入し、系内を安定させた。これに、実施例２で得られた錯体１のトルエン溶液（１μｍｏｌ／ｍＬ）１．０ｍＬを投入した。反応中は全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給しながら、８０℃で３０分反応し、エタノールを１．０ｍＬ投入して反応を停止した。その後、エチレンをパージして、オートクレーブ内の内容物をエタノール−塩酸で脱灰し、ろ過した。１−ヘキセンが４．５１×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０４×１０５ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
【０１３５】
［実施例７］
減圧乾燥後、アルゴンで置換した０．４リットルの攪拌機付きオートクレーブに、トルエン９０ｍＬ、Ａｌ濃度が９．０ｗｔ％（３．４ｍｍｏｌ／ｍＬ）であるメチルアルミノキサンのトルエン溶液（東ソー・ファインケム社製 ＴＭＡＯ−ｓ）０．７４ｍＬを仕込み、系内の温度を８０℃まで昇温した後、エチレンを分圧が０．５ＭＰａになるように導入し、系内を安定させた。これに、実施例３で得られた錯体２のトルエン溶液（１μｍｏｌ／ｍＬ）１．０ｍＬを投入した。反応中は全圧を一定に維持するように、エチレンガスを連続的に供給しながら、８０℃で３０分反応し、エタノールを１．０ｍＬ投入して反応を停止した。その後、エチレンをパージして、オートクレーブ内の内容物をエタノール−塩酸で脱灰し、ろ過した。１−ヘキセンが２．８７×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０２×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
【０１３６】
［比較例１］
錯体１のかわりに、錯体３を使用した以外は、実施例４と同様な操作を行った結果、１−ヘキセンが０．３５×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．１３×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
［比較例２］
錯体１のかわりに、錯体３を使用した以外は、実施例６と同様な操作を行った結果、１−ヘキセンが０．０６×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０２×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
【０１３７】
［比較例３］
錯体１のかわりに、錯体４を使用した以外は、実施例４と同様な操作を行った結果、１−ヘキセンが４．１７×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０６×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
【０１３８】
［比較例４］
錯体１のかわりに、錯体４を使用した以外は、実施例５と同様な操作を行った結果、１−ヘキセンが０．３７×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．１２×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
【０１３９】
［比較例５］
錯体１のかわりに、錯体４を使用した以外は、実施例６と同様な操作を行った結果、１−ヘキセンが０．４３×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られ、重合体が０．０７×１０６ｇ／ｍｏｌ錯体／ｈの活性で得られた。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される遷移金属錯体。
（式中、Ｍ１は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
または−Ｎ（Ｒ２１）２（２つのＲ２１部分はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ２１部分にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、
Ａｒ１は下記一般式（２）、Ａｒ２は下記一般式（３）、Ａｒ３は下記一般式（４）で示されるアリール基であり（ここで、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３の三つのアリール基は、同時にすべて同一とはならない。）、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
または−Ｎ（Ｒ２１）２（２つのＲ２１部分はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ２１部分にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。）
【請求項２】
一般式（１）におけるＭ１がチタン原子である請求項１に記載の遷移金属錯体。
【請求項３】
一般式（１）におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４がそれぞれメチル基である請求項１または２に記載の遷移金属錯体。
【請求項４】
一般式（２）〜（４）におけるＲ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９が、それぞれ独立に
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
または−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
である請求項１〜３のいずれかに記載の遷移金属錯体。
【請求項５】
一般式（２）〜（４）におけるＲ６、Ｒ１１及びＲ１６が、それぞれ独立に
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
または−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
である請求項１〜４のいずれかに記載の遷移金属錯体。
【請求項６】
一般式（２）〜（４）におけるＲ６、Ｒ８、Ｒ１１、Ｒ１３、Ｒ１６及びＲ１８が、それぞれ独立に
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
または−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
である請求項１〜５のいずれかに記載の遷移金属錯体。
【請求項７】
Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３のうち二つのアリール基が同一である請求項１〜６のいずれかに記載の遷移金属錯体。
【請求項８】
Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３のアリール基がすべて異なる請求項１〜６のいずれかに記載の遷移金属錯体。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の遷移金属錯体からなる三量化用触媒成分。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれかに記載の遷移金属錯体と活性化助触媒成分とを接触させて得られる三量化用触媒。
【請求項１１】
活性化助触媒成分が次の化合物（Ａ）を含む請求項１０に記載の三量化用触媒。
化合物（Ａ）：下記化合物（Ａ１）、（Ａ２）及び（Ａ３）からなる化合物群から選ばれる１種以上のアルミニウム化合物
（Ａ１）：一般式 （Ｅ１）ａＡｌ（Ｇ）３−ａで表される有機アルミニウム化合物
（Ａ２）：一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ２）−Ｏ−｝ｂで表される構造を有する環状のアルミノキサン
（Ａ３）：一般式 Ｅ３｛−Ａｌ（Ｅ３）−Ｏ−｝ｃＡｌ（Ｅ３）２で表される構造を有する線状のアルミノキサン
（式中、Ｅ１、Ｅ２およびＥ３は、それぞれ、炭素原子数１〜８のハイドロカルビル基を表し、Ｇは、水素原子またはハロゲン原子を表し、ａは１〜３の整数を表し、ｂは２以上の整数を表し、ｃは１以上の整数を表す。Ｅ１が複数ある場合、複数のＥ１部分は互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｇが複数ある場合、複数のＧは互いに同じであっても異なっていてもよい。複数のＥ２は互いに同じであっても異なっていてもよい。複数のＥ３は互いに同じであっても異なっていてもよい。）
【請求項１２】
活性化助触媒成分が次の化合物（Ｂ）を含む請求項１０または１１に記載の三量化用触媒。
化合物（Ｂ）：下記化合物（Ｂ１）、（Ｂ２）及び（Ｂ３）からなる化合物群から選ばれる１種以上のホウ素化合物
（Ｂ１）：一般式 ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物
（Ｂ２）：一般式 Ｔ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるボレート化合物
（Ｂ３）：一般式 （Ｌ−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるボレート化合物
（式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子を表し、Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３およびＱ４は、それぞれ同一または相異なり、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のハイドロカルビル基、炭素原子数１〜２０のハイドロカルビルシリル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基または炭素原子数２〜２０のジハイドロカルビルアミノ基を表し、Ｔ＋は無機または有機のカチオンを表し、（Ｌ−Ｈ）＋はブレンステッド酸を表す。）
【請求項１３】
請求項１０〜１２のいずれかに記載の三量化用触媒の存在下、エチレンを三量化させる１−ヘキセンの製造方法。
【請求項１４】
一般式（５）
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３は前記と同義であり
で示される置換シクロペンタジエン化合物と、塩基とをアミン化合物の存在下に反応させる工程；および
前記置換シクロペンタジエン化合物（５）と塩基との反応物に、
以下の一般式（６）
（式中、Ｍ１、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は前記と同義であり、Ｘ４は、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
または−Ｎ（Ｒ２１）２（２つのＲ２１部分はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ２１部分にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、ｍは０または１を表す。）
で示される遷移金属化合物を反応させる工程を有する、請求項１に記載の一般式（１）で表される遷移金属錯体の製造方法。
【請求項１５】
一般式（５）
で示される置換シクロペンタジエン化合物。
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
または−Ｎ（Ｒ２１）２（２つのＲ２１部分はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ２１部分にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、
Ａｒ１は下記一般式（２）、Ａｒ２は下記一般式（３）、Ａｒ３は下記一般式（４）で示されるアリール基であり（ここで、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３の三つのアリール基は、同時にすべて同一とはならない。）、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
または−Ｎ（Ｒ２１）２（２つのＲ２１部分はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ２１部分にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、
【請求項１６】
一般式（７）
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同義であり
で示される置換シクロペンタジエン化合物と、塩基とを反応させる工程；
前記置換シクロペンタジエン化合物（７）と塩基との反応物に、
以下の一般式（８）
[式中、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３は前記と同義であり、Ｘ５はハロゲン原子である。]
で示されるハロゲン化ケイ素化合物を反応させる工程を有する、請求項１５に記載の一般式（５）で表される置換シクロペンタジエン化合物の製造方法。
【請求項１】
下記一般式（１）で表される遷移金属錯体。
（式中、Ｍ１は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
または−Ｎ（Ｒ２１）２（２つのＲ２１部分はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ２１部分にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、
Ａｒ１は下記一般式（２）、Ａｒ２は下記一般式（３）、Ａｒ３は下記一般式（４）で示されるアリール基であり（ここで、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３の三つのアリール基は、同時にすべて同一とはならない。）、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
または−Ｎ（Ｒ２１）２（２つのＲ２１部分はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ２１部分にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよい。）
【請求項２】
一般式（１）におけるＭ１がチタン原子である請求項１に記載の遷移金属錯体。
【請求項３】
一般式（１）におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４がそれぞれメチル基である請求項１または２に記載の遷移金属錯体。
【請求項４】
一般式（２）〜（４）におけるＲ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９が、それぞれ独立に
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
または−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
である請求項１〜３のいずれかに記載の遷移金属錯体。
【請求項５】
一般式（２）〜（４）におけるＲ６、Ｒ１１及びＲ１６が、それぞれ独立に
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
または−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
である請求項１〜４のいずれかに記載の遷移金属錯体。
【請求項６】
一般式（２）〜（４）におけるＲ６、Ｒ８、Ｒ１１、Ｒ１３、Ｒ１６及びＲ１８が、それぞれ独立に
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
または−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
である請求項１〜５のいずれかに記載の遷移金属錯体。
【請求項７】
Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３のうち二つのアリール基が同一である請求項１〜６のいずれかに記載の遷移金属錯体。
【請求項８】
Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３のアリール基がすべて異なる請求項１〜６のいずれかに記載の遷移金属錯体。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の遷移金属錯体からなる三量化用触媒成分。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれかに記載の遷移金属錯体と活性化助触媒成分とを接触させて得られる三量化用触媒。
【請求項１１】
活性化助触媒成分が次の化合物（Ａ）を含む請求項１０に記載の三量化用触媒。
化合物（Ａ）：下記化合物（Ａ１）、（Ａ２）及び（Ａ３）からなる化合物群から選ばれる１種以上のアルミニウム化合物
（Ａ１）：一般式 （Ｅ１）ａＡｌ（Ｇ）３−ａで表される有機アルミニウム化合物
（Ａ２）：一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ２）−Ｏ−｝ｂで表される構造を有する環状のアルミノキサン
（Ａ３）：一般式 Ｅ３｛−Ａｌ（Ｅ３）−Ｏ−｝ｃＡｌ（Ｅ３）２で表される構造を有する線状のアルミノキサン
（式中、Ｅ１、Ｅ２およびＥ３は、それぞれ、炭素原子数１〜８のハイドロカルビル基を表し、Ｇは、水素原子またはハロゲン原子を表し、ａは１〜３の整数を表し、ｂは２以上の整数を表し、ｃは１以上の整数を表す。Ｅ１が複数ある場合、複数のＥ１部分は互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｇが複数ある場合、複数のＧは互いに同じであっても異なっていてもよい。複数のＥ２は互いに同じであっても異なっていてもよい。複数のＥ３は互いに同じであっても異なっていてもよい。）
【請求項１２】
活性化助触媒成分が次の化合物（Ｂ）を含む請求項１０または１１に記載の三量化用触媒。
化合物（Ｂ）：下記化合物（Ｂ１）、（Ｂ２）及び（Ｂ３）からなる化合物群から選ばれる１種以上のホウ素化合物
（Ｂ１）：一般式 ＢＱ１Ｑ２Ｑ３で表されるホウ素化合物
（Ｂ２）：一般式 Ｔ＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるボレート化合物
（Ｂ３）：一般式 （Ｌ−Ｈ）＋（ＢＱ１Ｑ２Ｑ３Ｑ４）−で表されるボレート化合物
（式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子を表し、Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３およびＱ４は、それぞれ同一または相異なり、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１〜２０のハイドロカルビル基、炭素原子数１〜２０のハイドロカルビルシリル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基または炭素原子数２〜２０のジハイドロカルビルアミノ基を表し、Ｔ＋は無機または有機のカチオンを表し、（Ｌ−Ｈ）＋はブレンステッド酸を表す。）
【請求項１３】
請求項１０〜１２のいずれかに記載の三量化用触媒の存在下、エチレンを三量化させる１−ヘキセンの製造方法。
【請求項１４】
一般式（５）
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３は前記と同義であり
で示される置換シクロペンタジエン化合物と、塩基とをアミン化合物の存在下に反応させる工程；および
前記置換シクロペンタジエン化合物（５）と塩基との反応物に、
以下の一般式（６）
（式中、Ｍ１、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は前記と同義であり、Ｘ４は、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
または−Ｎ（Ｒ２１）２（２つのＲ２１部分はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ２１部分にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、ｍは０または１を表す。）
で示される遷移金属化合物を反応させる工程を有する、請求項１に記載の一般式（１）で表される遷移金属錯体の製造方法。
【請求項１５】
一般式（５）
で示される置換シクロペンタジエン化合物。
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
または−Ｎ（Ｒ２１）２（２つのＲ２１部分はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ２１部分にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、
Ａｒ１は下記一般式（２）、Ａｒ２は下記一般式（３）、Ａｒ３は下記一般式（４）で示されるアリール基であり（ここで、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３の三つのアリール基は、同時にすべて同一とはならない。）、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９は、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
ハロゲン原子を置換基として有していてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
−Ｓｉ（Ｒ２０）３（３つのＲ２０部分はそれぞれ独立に、水素原子、ハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、３つのＲ２０部分にある炭素原子数の合計が１〜２０である。）で示される置換シリル基、
または−Ｎ（Ｒ２１）２（２つのＲ２１部分はそれぞれ独立にハイドロカルビル基またはハロゲン化ハイドロカルビル基を表し、２つのＲ２１部分にある炭素原子数の合計が２〜２０である。）で示される２置換アミノ基を表し、
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８及びＲ１９のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、
【請求項１６】
一般式（７）
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同義であり
で示される置換シクロペンタジエン化合物と、塩基とを反応させる工程；
前記置換シクロペンタジエン化合物（７）と塩基との反応物に、
以下の一般式（８）
[式中、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３は前記と同義であり、Ｘ５はハロゲン原子である。]
で示されるハロゲン化ケイ素化合物を反応させる工程を有する、請求項１５に記載の一般式（５）で表される置換シクロペンタジエン化合物の製造方法。
【公開番号】特開２０１２−２１４４５７（Ｐ２０１２−２１４４５７Ａ）
【公開日】平成２４年１１月８日（２０１２．１１．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−７１２９９（Ｐ２０１２−７１２９９）
【出願日】平成２４年３月２７日（２０１２．３．２７）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１１月８日（２０１２．１１．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２４年３月２７日（２０１２．３．２７）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】
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