電気光学装置及び電子機器
【課題】従来の電気光学装置では、コストを低減することが困難である。
【解決手段】対向基板７３と、素子基板７１と、対向基板７３及び素子基板７１の間に介在し、対向基板７３及び素子基板７１のうち少なくとも一方から出射する光の量を、複数の画素の前記画素ごとに制御する液晶と、対向基板７３の素子基板７１側とは反対側において対向基板７３に対向し、対向基板７３及び素子基板７１を保持するフレーム１５１と、を含み、フレーム１５１は、熱可塑性樹脂で構成される基部１６３を有し、且つ透光性を有する、ことを特徴とする電気光学装置。
【解決手段】対向基板７３と、素子基板７１と、対向基板７３及び素子基板７１の間に介在し、対向基板７３及び素子基板７１のうち少なくとも一方から出射する光の量を、複数の画素の前記画素ごとに制御する液晶と、対向基板７３の素子基板７１側とは反対側において対向基板７３に対向し、対向基板７３及び素子基板７１を保持するフレーム１５１と、を含み、フレーム１５１は、熱可塑性樹脂で構成される基部１６３を有し、且つ透光性を有する、ことを特徴とする電気光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置及び電子機器等に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、電気光学装置の１つである液晶装置において、液晶パネルに防塵用基板を接着した構成が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−１２９３４号公報（第３頁〜第４頁、図１２）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記特許文献１に記載された液晶装置では、防塵用基板によって、ごみなどの異物が液晶パネルに付着することを低く抑えることができる。また、防塵用基板に異物が付着しても、異物は、少なくとも防塵用基板の厚みの分だけ液晶パネルから離間する。このため、表示される画像において、投影される異物を目立ちにくくすることができる。
【０００５】
上記特許文献１に記載された液晶装置では、液晶パネルを構成する基板と、防塵用基板とは、互いに同じ材料である石英基板で構成されている。
ここで、例えば、液晶パネルを構成する基板と防塵用基板とが互いに異なる材料で構成されていると、加熱されたときに、液晶パネルを構成する基板や、防塵用基板に、ひずみが発生することがある。これは、材料における熱膨張係数の違いに起因する。
【０００６】
これに対し、特許文献１に記載された液晶装置では、液晶パネルを構成する基板の熱膨張係数と、防塵用基板の熱膨張係数とが同等である。このため、例えば、液晶装置が加熱されても、液晶パネルを構成する基板や、防塵用基板に、ひずみが発生することを低く抑えやすくすることができる。
しかしながら、特許文献１に記載された液晶装置では、液晶パネルを構成する基板と防塵用基板とが互いに同じ材料で構成されるので、材料の選択の自由度を高めることが困難である。これに起因して、コストの低減が困難となる。
つまり、従来の電気光学装置では、コストを低減することが困難であるという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現され得る。
【０００８】
［適用例１］第１基板と、前記第１基板に対向する第２基板と、前記第１基板及び前記第２基板の間に介在し、前記第１基板及び前記第２基板のうち少なくとも一方から出射する光の量を、複数の画素の前記画素ごとに制御する電気光学物質と、前記第１基板の前記第２基板側とは反対側において前記第１基板に対向し、前記第１基板及び前記第２基板を保持する保持部材と、を含み、前記保持部材は、熱可塑性樹脂で構成されており、且つ透光性を有する、ことを特徴とする電気光学装置。
【０００９】
この適用例の電気光学装置は、第１基板と、第２基板と、電気光学物質と、保持部材と、を含む。
第２基板は、第１基板に対向している。電気光学物質は、第１基板及び第２基板の間に介在している。電気光学物質は、第１基板及び第２基板のうち少なくとも一方から出射する光の量を、複数の画素の画素ごとに制御する。保持部材は、第１基板及び第２基板を保持する。保持部材は、第１基板の第２基板側とは反対側において第１基板に対向している。保持部材は、熱可塑性樹脂で構成されており、且つ透光性を有している。
この電気光学装置では、第１基板の第２基板側とは反対側に保持部材が設けられているので、第１基板に異物が付着することを防止しやすい。このため、防塵用基板を省略することができる。この結果、コストを低減しやすくすることができる。
また、第１基板と保持部材とが互いに固着されていなくてもよいので、熱膨張係数の違いに起因するひずみの発生を低く抑えやすくすることができる。
【００１０】
［適用例２］上記の電気光学装置であって、前記保持部材は、前記第１基板及び前記第２基板の側面に対向する側壁部を有する、ことを特徴とする電気光学装置。
【００１１】
この適用例では、保持部材が側壁部を有しているので、第１基板及び第２基板の側面を保持部材で囲みやすくすることができる。これにより、第１基板や第２基板に異物が付着することを防止しやすい。
【００１２】
［適用例３］上記の電気光学装置であって、前記保持部材には、少なくとも、前記第１基板に対峙する面と、前記第１基板側とは反対側の面とに、透光性フィルムが設けられている、ことを特徴とする電気光学装置。
【００１３】
この適用例では、保持部材の第１基板に対峙する面と、第１基板側とは反対側の面とを、透光性フィルムで保護しやすくすることができる。
【００１４】
［適用例４］上記の電気光学装置であって、前記保持部材は、エチレン酢酸ビニル共重合樹脂を含有する材料で構成されており、前記透光性フィルムは、フッ素化合物を含有する材料で構成されていることを特徴とする電気光学装置。
【００１５】
この適用例では、保持部材は、エチレン酢酸ビニル共重合樹脂を含有する材料で構成されている。透光性フィルムは、フッ素化合物を含有する材料で構成されている。上記により、透光性フィルムを有する保持部材を構成することができる。
【００１６】
［適用例５］上記の電気光学装置であって、前記第１基板と前記透光性フィルムとが、互いに離間している、ことを特徴とする電気光学装置。
【００１７】
この適用例では、第１基板と透光性フィルムとが互いに離間しているので、熱膨張係数の違いに起因するひずみの発生を一層低く抑えやすくすることができる。
【００１８】
［適用例６］上記の電気光学装置を有する、ことを特徴とする電子機器。
【００１９】
この適用例の電子機器は、電気光学装置を有している。この電気光学装置は、第１基板と、第２基板と、電気光学物質と、保持部材と、を含む。
第２基板は、第１基板に対向している。電気光学物質は、第１基板及び第２基板の間に介在している。電気光学物質は、第１基板及び第２基板のうち少なくとも一方から出射する光の量を、複数の画素の画素ごとに制御する。保持部材は、第１基板及び第２基板を保持する。保持部材は、第１基板の第２基板側とは反対側において第１基板に対向している。保持部材は、熱可塑性樹脂で構成されており、且つ透光性を有している。
この電気光学装置では、第１基板の第２基板側の反対側に保持部材が設けられているので、第１基板に異物が付着することを防止しやすい。このため、防塵用基板を省略することができる。この結果、コストを低減しやすくすることができる。
また、第１基板と保持部材とが互いに固着されていなくてもよいので、熱膨張係数の違いに起因するひずみの発生を低く抑えやすくすることができる。
そして、この電子機器は、コストを低減しやすくすることができる電気光学装置を有しているので、コストを低減しやすくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本実施形態におけるプロジェクターの主要構成を示すブロック図。
【図２】本実施形態におけるプロジェクターの画像形成部の主要構成を示す図。
【図３】本実施形態におけるプロジェクターの画像形成パネルを示す斜視図。
【図４】図３中のＡ−Ａ線における断面図。
【図５】本実施形態での液晶パネルを示すブロック図。
【図６】本実施形態における液晶パネルの等価回路図。
【図７】本実施形態での画像形成パネルにおける偏光状態を説明する図。
【図８】本実施形態におけるライトバルブユニットを示す平面図。
【図９】図８中のＤ−Ｄ線における断面図。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
実施形態について、電子機器の１つであるプロジェクターを例に、図面を参照しながら説明する。
本実施形態におけるプロジェクター１は、主要構成を示すブロック図である図１に示すように、光学系３と、制御部５と、を有している。プロジェクター１は、図示しない外部装置から入力される画像信号に応じた画像を、光学系３を介してスクリーン８などに投射することができる。
光学系３は、画像信号に基づいた画像を形成し、形成した画像をスクリーン８などに投射する。制御部５は、画像信号に基づいて光学系３の駆動を制御する。
【００２２】
光学系３は、ランプ１１と、画像形成部１３と、投射レンズ部１５と、を有している。
ランプ１１は、画像形成部１３や投射レンズ部１５を経てスクリーン８に向けて出射される投射光１７を発生する。ランプ１１としては、例えば、高圧水銀ランプやメタルハライドランプなどが採用され得る。
画像形成部１３は、後述する画像形成パネルなどを有している。画像形成部１３は、制御部５から入力される画像データなどに基づいて画像形成パネルに画像を形成する。画像形成部１３には、ランプ１１からの光が照射される。このため、画像形成部１３に形成された画像は、ランプ１１からの光によって投射レンズ部１５に投影される。
【００２３】
投射レンズ部１５には、ランプ１１からの光が画像形成部１３を経て入射される。投射レンズ部１５は、入射された光を広げる方向に屈折させて、投射光１７として出射する。このため、画像形成部１３に形成された画像は、拡大された状態でスクリーン８に投射され得る。
【００２４】
ここで、画像形成部１３の構成について、詳細を説明する。
画像形成部１３は、主要構成を示す図である図２に示すように、分光部３１と、液晶パネル３３と、クロスダイクロイックプリズム３５と、を有している。
分光部３１には、ランプ１１からの光４１が入射される。分光部３１は、光４１から、赤系（Ｒ）の色の光４１Ｒ、緑系（Ｇ）の色の光４１Ｇ、及び青系（Ｂ）の色の光４１Ｂのそれぞれを分離する。
【００２５】
ここで、Ｒの色は、純粋な赤の色相に限定されず、橙等を含む。Ｇの色は、純粋な緑の色相に限定されず、青緑や黄緑等を含む。Ｂの色は、純粋な青の色相に限定されず、青紫や青緑等を含む。他の観点から、Ｒの色を呈する光４１Ｒは、光の波長のピークが、可視光領域で５７０ｎｍ以上の範囲にある光であると定義され得る。また、Ｇの色を呈する光４１Ｇは、光の波長のピークが５００ｎｍ〜５６５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。Ｂの色を呈する光４１Ｂは、光の波長のピークが４１５ｎｍ〜４９５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。
【００２６】
分光部３１は、ダイクロイックミラー４３と、ダイクロイックミラー４５と、反射ミラー４７と、反射ミラー４８と、反射ミラー４９と、を有している。光４１は、光軸５１ａに沿って分光部３１に入射する。
ダイクロイックミラー４３は、光軸５１ａと交差する位置に設けられている。ダイクロイックミラー４３は、光軸５１ａの方向に対して傾斜している。ダイクロイックミラー４３は、光４１のうちで、Ｒの光４１Ｒを透過させ、Ｇの光４１Ｇ及びＢの光４１Ｂを反射させることができる。
【００２７】
従って、ダイクロイックミラー４３によって、光４１からＲの光４１Ｒが分離され得る。他方で、Ｇの光４１Ｇ及びＢの光４１Ｂが混合した光５３が、ダイクロイックミラー４３によって、光４１から分離され得る。
ダイクロイックミラー４３を透過した光４１Ｒは、光軸５１ａに沿って反射ミラー４７へ導かれる。
他方で、ダイクロイックミラー４３によって反射された光５３は、光軸５１ａが光軸５１ｂに変えられてから、ダイクロイックミラー４５へ導かれる。
【００２８】
ダイクロイックミラー４５は、光軸５１ｂと交差する位置に設けられている。ダイクロイックミラー４５は、光軸５１ｂの方向に対して傾斜している。ダイクロイックミラー４５は、光５３のうちで、Ｂの光４１Ｂを透過させ、Ｇの光４１Ｇを反射させることができる。従って、ダイクロイックミラー４５によって、光５３からＧの光４１ＧとＢの光４１Ｂとが分離され得る。
ダイクロイックミラー４５を透過した光４１Ｂは、光軸５１ｂに沿って反射ミラー４８へ導かれる。
他方で、ダイクロイックミラー４５によって反射された光４１Ｇは、光軸５１ｂが光軸５１ｃに変えられる。
【００２９】
反射ミラー４７は、光４１Ｒの光軸５１ａと交差する位置に設けられている。反射ミラー４７は、光軸５１ａの方向に対して傾斜している。光４１Ｒは、反射ミラー４７で反射することによって、光軸５１ａが光軸５１ｄに変えられる。
反射ミラー４８は、光４１Ｂの光軸５１ｂと交差する位置に設けられている。反射ミラー４８は、光軸５１ｂの方向に対して傾斜している。光４１Ｂは、反射ミラー４８によって光軸５１ｂが光軸５１ｅに変えられてから、反射ミラー４９に導かれる。
反射ミラー４９は、光４１Ｂの光軸５１ｅと交差する位置に設けられている。反射ミラー４９は、光軸５１ｅの方向に対して傾斜している。光４１Ｂは、反射ミラー４９で反射することによって、光軸５１ｅが光軸５１ｆに変えられる。
【００３０】
クロスダイクロイックプリズム３５は、光軸５１ｃ、光軸５１ｄ及び光軸５１ｆの交点に重なる位置に設けられている。クロスダイクロイックプリズム３５は、面３５ａと、面３５ｂと、面３５ｃと、面３５ｄと、を有している。
面３５ａは、反射ミラー４７側に向けられている。面３５ｂは、ダイクロイックミラー４５側に向けられている。面３５ｃは、反射ミラー４９側に向けられている。
【００３１】
液晶パネル３３は、光４１Ｒ，４１Ｇ及び４１Ｂごとに設けられている。つまり、プロジェクター１は、光４１Ｒに対応する液晶パネル３３と、光４１Ｇに対応する液晶パネル３３と、光４１Ｂに対応する液晶パネル３３と、を有している。なお、以下において、液晶パネル３３を光４１Ｒ，４１Ｇ及び４１Ｂごとに識別する場合には、液晶パネル３３は、液晶パネル３３Ｒ、液晶パネル３３Ｇ及び液晶パネル３３Ｂと表記される。
液晶パネル３３Ｒ、液晶パネル３３Ｇ及び液晶パネル３３Ｂは、相互に同じ仕様の液晶パネル３３が採用され得る。
【００３２】
液晶パネル３３Ｒは、面３５ａと反射ミラー４７との間において、光軸５１ｄに交差する位置に設けられている。液晶パネル３３Ｒは、面３５ａに対向している。
液晶パネル３３Ｇは、面３５ｂとダイクロイックミラー４５との間において、光軸５１ｃに交差する位置に設けられている。液晶パネル３３Ｇは、面３５ｂに対向している。
液晶パネル３３Ｂは、面３５ｃと反射ミラー４９との間において、光軸５１ｆに交差する位置に設けられている。液晶パネル３３Ｂは、面３５ｃに対向している。
【００３３】
ここで、液晶パネル３３は、透過型の液晶パネルであり、ライトバルブとしてプロジェクター１に適用されている。
液晶パネル３３は、後述する複数の画素と、画素ごとに駆動が制御される液晶と、を有している。液晶パネル３３は、複数の画素に入射された光の偏光状態を、画素ごとに変化させることができる。
なお、分光部３１と各液晶パネル３３との間には、後述する偏光板及び位相差板（図示せず）が設けられている。また、各液晶パネル３３とクロスダイクロイックプリズム３５との間にも、後述する偏光板及び位相差板（図示せず）が設けられている。
この構成により、液晶パネル３３では、液晶パネル３３の複数の画素に入射された光の偏光状態を画素ごとに変化させることによって、液晶パネル３３を透過した光で画像を形成することができる。
【００３４】
液晶パネル３３を透過した光は、クロスダイクロイックプリズム３５に導かれる。
液晶パネル３３Ｒを透過した光４１Ｒは、面３５ａからクロスダイクロイックプリズム３５に入射する。
液晶パネル３３Ｇを透過した光４１Ｇは、面３５ｂからクロスダイクロイックプリズム３５に入射する。
液晶パネル３３Ｂを透過した光４１Ｂは、面３５ｃからクロスダイクロイックプリズム３５に入射する。
このため、面３５ａには、Ｒの画像が投影され、面３５ｂには、Ｇの画像が投影され、面３５ｃには、Ｂの画像が投影され得る。
【００３５】
クロスダイクロイックプリズム３５に入射した光４１Ｒ，４１Ｇ及び４１Ｂは、クロスダイクロイックプリズム３５によって合成される。つまり、クロスダイクロイックプリズム３５によって、Ｒの画像、Ｇの画像及びＢの画像が合成され得る。
クロスダイクロイックプリズム３５によって合成された光４１Ｒ，４１Ｇ及び４１Ｂは、画像光５５としてクロスダイクロイックプリズム３５の面３５ｄから出射される。
【００３６】
面３５ｄから出射された画像光５５は、投射レンズ部１５へ導かれてから、投射レンズ部１５に入射する。投射レンズ部１５に入射した画像光５５は、投射光１７（図１）としてスクリーン８などに投射される。
【００３７】
ここで、液晶パネル３３の構成について、詳細を説明する。
液晶パネル３３は、斜視図である図３に示すように、入射面５７を有している。入射面５７は、図２に示す光源の一例であるランプ１１から出射された光４１（光４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂ）が入射する面である。また、液晶パネル３３は、図３中のＡ−Ａ線における断面図である図４に示すように、出射面５９を有している。液晶パネル３３において、出射面５９は、入射面５７とは反対側の面である。出射面５９は、図２に示す画像形成部１３において、クロスダイクロイックプリズム３５側に向けられている。
【００３８】
また、液晶パネル３３は、図４に示すように、防塵用基板６３と、素子基板７１と、対向基板７３と、液晶７５と、シール材７７と、を有している。
素子基板７１には、入射面５７側すなわち液晶７５側に、後述するスイッチング素子などが設けられている。
対向基板７３は、素子基板７１よりも入射面５７側で素子基板７１に対向し、且つ素子基板７１との間に隙間を有した状態で設けられている。対向基板７３には、出射面５９側すなわち液晶７５側に、後述する共通電極などが設けられている。
なお、本実施形態では、素子基板７１は、平面視で、対向基板７３よりもはみ出ている。素子基板７１において、対向基板７３よりもはみ出た領域は、張出領域７１ａと呼ばれる。張出領域７１ａは、図３に示すように、対向基板７３の輪郭に沿って周状に設けられている。張出領域７１ａは、平面視で、対向基板７３を外側から囲んでいる。
【００３９】
液晶７５は、図４に示すように、素子基板７１及び対向基板７３の間に挟持されており、液晶パネル３３の周縁よりも内側で表示領域を囲むシール材７７によって、素子基板７１及び対向基板７３の間に封止されている。本実施形態では、液晶７５の駆動方式として、ＶＡ（Vertical Alignment）型の駆動方式が採用されている。
防塵用基板６３は、素子基板７１よりも出射面５９側、すなわち液晶７５側とは反対側に設けられている。プロジェクター１では、素子基板７１や対向基板７３にごみなどの異物が付着すると、スクリーン８などに異物が投影されてしまうことがある。素子基板７１や対向基板７３と異物との間に防塵用基板６３を介在させることによって、異物がデフォーカスされる。これにより、投写画像において、異物の投影像を目立ちにくくすることができる。
【００４０】
前述した位相差板６６ａは、対向基板７３の入射面５７側、すなわち液晶７５側とは反対側に設けられている。
位相差板６６ｂは、防塵用基板６３の出射面５９側、すなわち液晶７５側とは反対側に設けられている。液晶パネル３３では、位相差板６６ａ及び位相差板６６ｂは、それぞれ、入射された光に対して１／４波長の位相差を付与する。
また、前述した偏光板６７ａは、位相差板６６ａの液晶パネル３３側とは反対側に設けられている。偏光板６７ｂは、位相差板６６ｂの液晶パネル３３側とは反対側に設けられている。偏光板６７ａ及び偏光板６７ｂは、それぞれ、透過軸に沿った偏光軸を有する直線偏光を透過させることができる。
【００４１】
ここで、液晶パネル３３には、液晶パネル３３の平面図である図５に示すように、複数の画素７８が設定されている。複数の画素７８は、領域７９内で、図中のＸ方向及びＹ方向に配列しており、Ｘ方向を行方向とし、Ｙ方向を列方向とするマトリクスＭを構成している。図５では、構成をわかりやすく示すため、画素７８が誇張され、且つ画素７８の個数が減じられている。
なお、領域７９は、画像が形成（表示）される領域に相当する。このため、以下において、領域７９は、画素領域７９と表記される。
本実施形態では、Ｙ方向に沿って並ぶ複数の画素７８が、１つの画素列７８Ｃを構成している。また、Ｘ方向に沿って並ぶ複数の画素７８が、１つの画素行７８Ｌを構成している。この観点から、Ｘ方向は、画素行７８Ｌが延在する方向であるともみなされ得る。また、Ｙ方向は、画素列７８Ｃが延在する方向であるともみなされ得る。
【００４２】
また、液晶パネル３３は、走査線駆動回路８１と、信号線駆動回路８３と、封止材８５と、端子電極８７と、複数の走査線Ｔと、複数の信号線Ｓと、を有している。
なお、走査線駆動回路８１と、信号線駆動回路８３と、端子電極８７とは、後述するスイッチング素子と同様に、素子基板７１に形成されている。図５では、構成をわかりやすく示すため、端子電極８７が誇張され、且つ端子電極８７の個数が減じられている。
なお、本実施形態では、Ｘ方向は、走査線Ｔが延在する方向に相当している。Ｙ方向は、信号線Ｓが延在する方向に相当している。
【００４３】
走査線駆動回路８１は、各走査線Ｔに選択信号を供給する。信号線駆動回路８３は、各信号線Ｓにデータ信号（画像データ）を供給する。
端子電極８７は、ＦＰＣ（Flexible Printed Circuit）などの外部配線を接続するための端子である。端子電極８７と走査線駆動回路８１との間や、端子電極８７と信号線駆動回路８３との間は、配線８９を介して電気的に接続されている。
【００４４】
シール材７７には、注入口７７ａが形成されている。注入口７７ａは、液晶７５のセル内への導入路である。注入口７７ａは、環状に設けられるシール材７７の一部を欠いた構成を有しており、セル内とセル外とを連通させる。
本実施形態では、液晶７５のセル内への注入方法として、減圧注入法が採用されている。減圧注入法とは、注入口７７ａと液晶７５とを真空に近い減圧環境下で当接させてから、減圧環境の圧力を上昇させることによってセル内に液晶７５を注入する方法である。
注入口７７ａは、封止材８５によって塞がれている。これにより、液晶７５は、セル内に封止されている。
なお、セル内への液晶７５の注入方法は、減圧注入法に限定されず、滴下法（ＯＤＦ（One Drop Fill）とも呼ばれる）も採用され得る。滴下法が採用される場合、注入口７７ａ及び封止材８５は省略され得る。
【００４５】
複数の走査線Ｔ及び複数の信号線Ｓは、図６に示すように、格子状に配線されている。複数の走査線Ｔは、Ｙ方向に互いに間隔をあけた状態で、Ｘ方向に沿って延びている。複数の信号線Ｓは、Ｘ方向に互いに間隔をあけた状態で、Ｙ方向に沿って延びている。各画素７８は、各走査線Ｔと各信号線Ｓとの交差に対応して設定されている。
各信号線Ｓは、Ｙ方向に沿って並ぶ複数の画素７８すなわち各画素列７８Ｃ（図５）に対応している。各走査線Ｔは、Ｘ方向に沿って並ぶ複数の画素７８すなわち各画素行７８Ｌ（図５）に対応している。
また、液晶パネル３３は、画素７８ごとに、スイッチング素子の１つであるＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子９１と、画素電極９３と、共通電極９７と、を有している。なお、共通電極９７は、マトリクスＭを構成する複数の画素７８間にまたがって一連した状態で設けられている。つまり、共通電極９７は、マトリクスＭを構成する複数の画素７８に平面視で重なる領域に設けられており、複数の画素７８間にまたがって共通して機能する。
【００４６】
ＴＦＴ素子９１のゲート電極は、対応する走査線Ｔに電気的に接続されている。ＴＦＴ素子９１のソース電極は、対応する信号線Ｓに電気的に接続されている。各画素７８において、ＴＦＴ素子９１のドレイン電極は、画素電極９３に電気的に接続されている。
各画素７８において、画素電極９３と共通電極９７とは、画素電極９３と共通電極９７との間に電界を形成する一対の電極を構成している。液晶７５（図４）は、画素電極９３と共通電極９７との間に介在している。本実施形態では、画素電極９３と共通電極９７とは、互いに対向している。
ＴＦＴ素子９１は、このＴＦＴ素子９１に電気的に接続される走査線Ｔに選択信号が供給されるとオン状態となる。このとき、このＴＦＴ素子９１に電気的に接続される信号線Ｓからデータ信号が供給され、画素電極９３がデータ信号の大きさに応じた電位に保たれる。このとき、共通電極９７を画素電極９３の電位とは異なる電位に保つと、画素電極９３と共通電極９７との間に電位差が発生する。これにより、画素７８ごとに、画素電極９３と共通電極９７との間に電界を発生させることができる。
【００４７】
液晶パネル３３では、画素電極９３と共通電極９７との間に電圧を印加すると、画素電極９３と共通電極９７との間に電界が発生する。この電界によって液晶７５の配向状態を画素７８ごとに変化させることができる。
本実施形態では、液晶７５に電界が作用すると、液晶７５がオン状態になる。他方で、液晶７５に作用する電界が解除されると、液晶７５がオフ状態になる。
プロジェクター１では、図２に示す画像形成部１３に光４１を照射した状態で、各液晶パネル３３における液晶７５の配向状態を画素７８ごとに変化させることにより、表示が制御される。液晶７５の配向状態は、画素電極９３の電位と共通電極９７の電位との差（以下、駆動電圧と呼ぶ）によって変化し得る。
なお、本実施形態では、液晶７５は、入射した光に１／２波長の位相差を付与することができる。これは、液晶７５のリタデーション（複屈折率と厚みとの積）の設定により実現され得る。本実施形態では、入射した光に１／２波長の位相差を付与するリタデーションが設定されている。
【００４８】
液晶パネル３３では、駆動電圧が０Ｖのときに、液晶７５がオフ状態にある。他方で、駆動電圧が０Ｖを超えると、液晶７５がオフ状態からオン状態に変化する。
図７（ａ）は、液晶７５がオフ状態のときの液晶パネル３３における偏光状態を示す図であり、図７（ｂ）は、液晶７５がオン状態のときの液晶パネル３３における偏光状態を示す図である。
液晶パネル３３では、偏光板６７ａの透過軸１２１と、偏光板６７ｂの透過軸１２３とは、図７（ａ）及び図７（ｂ）に示すように、互いに直交している。
なお、図７（ａ）及び図７（ｂ）において、Ｘ'方向及びＹ'方向は、Ｘ'方向が偏光板６７ａの透過軸１２１の方向を示し、Ｙ'方向が偏光板６７ｂの透過軸１２３の方向を示している。Ｘ'方向及びＹ'方向は、ＸＹ平面内で互いに直交する任意の２方向である。
【００４９】
位相差板６６ａの遅相軸１２５は、平面視でＸ'方向に対して、時計方向に４５度の傾きを有する方向に設定されている。
従って、偏光板６７ａを透過した直線偏光１４３は、位相差板６６ａによって１／４波長の位相差が与えられ、平面視で反時計方向に回転する円偏光１４４として液晶７５に入射する。
【００５０】
液晶７５に入射した円偏光１４４は、液晶７５がオフ状態のときに、図７（ａ）に示すように、偏光状態が維持されたまま（位相差が付与されずに）円偏光１４４として位相差板６６ｂに向けて出射される。
ここで、位相差板６６ｂの遅相軸１２７は、平面視でＸ'方向に対して、時計方向に４５度の傾きを有する方向に設定されている。
【００５１】
このため、位相差板６６ｂに入射した円偏光１４４は、位相差板６６ｂによって１／４波長の位相差が与えられ、平面視でＸ'方向に沿った偏光軸を有する直線偏光１４５として偏光板６７ｂに向けて出射される。
偏光板６７ｂに向けて出射された直線偏光１４５は、偏光軸が偏光板６７ｂの透過軸１２３に対して直交しているため、偏光板６７ｂによって吸収される。
【００５２】
他方で、液晶７５がオン状態のときに、液晶７５に入射された円偏光１４４は、図７（ｂ）に示すように、１／２波長の位相差が与えられ、平面視で時計方向に回転する（円偏光１４４とは逆回転の）円偏光１４７として位相差板６６ｂに向けて出射される。
位相差板６６ｂに入射した円偏光１４７は、位相差板６６ｂによって１／４波長の位相差が与えられ、平面視でＹ'方向に沿った偏光軸を有する直線偏光１４９として偏光板６７ｂに向けて出射される。
偏光板６７ｂに向けて出射された直線偏光１４９は、偏光軸が偏光板６７ｂの透過軸１２３に沿っているため、偏光板６７ｂを透過する。
【００５３】
このように、液晶パネル３３では、液晶７５のオン状態及びオフ状態の切り替えにより、画像の形成が制御される。
本実施形態では、液晶７５がオフ状態のときに液晶パネル３３からの光の出射が遮断される所謂ノーマリーブラック（初期的に“黒表示”の状態）の表示モードが採用されている。しかしながら、表示モードは、ノーマリーブラックに限定されず、所謂ノーマリーホワイト（初期的に“白表示”の状態）も採用され得る。
【００５４】
上述した液晶パネル３３は、図８に示すように、フレーム１５１に収容された状態で、ライトバルブユニット１５０としてプロジェクター１に組み込まれている。
フレーム１５１は、光透過性を有している。このため、ライトバルブユニット１５０では、フレーム１５１を介して液晶パネル３３が視認され得る。また、フレーム１５１は、ねじ孔１５４を有している。ライトバルブユニット１５０は、フレーム１５１のねじ孔１５４に挿入されたねじ（図示せず）を介してプロジェクター１に取り付けられている。
なお、液晶パネル３３の端子電極８７（図５）に接続されたＦＰＣ１５５は、フレーム１５１の内側から外側に延びている。
【００５５】
ライトバルブユニット１５０は、図８中のＤ−Ｄ線における断面図である図９に示すように、液晶パネル３３と、フレーム１５１と、固定プレート１６１と、を有している。
フレーム１５１は、基部１６３と、第１フィルム１６５と、第２フィルム１６７と、を有している。
基部１６３は、光透過性を有しており、天板部１７１と、側壁部１７３と、を有している。天板部１７１は、液晶パネル３３の入射面５７に対向する部位である。
【００５６】
側壁部１７３は、天板部１７１の周縁に設けられており、天板部１７１から液晶パネル３３側に突出している。側壁部１７３は、天板部１７１の周縁に沿って一連しており、液晶パネル３３の側面に対向する。つまり、側壁部１７３は、素子基板７１の側面と、対向基板７３の側面とに対向している。基部１６３は、凹状を呈しており、液晶パネル３３を収容した状態において、側壁部１７３が液晶パネル３３を囲んでいる。
基部１６３の材料としては、光透過性を有する樹脂などが採用され得る。本実施形態では、基部１６３の材料として、ＥＶＡ（エチレン・酢酸ビニル共重合）樹脂が採用されている。
【００５７】
第１フィルム１６５は、基部１６３の液晶パネル３３側に設けられている。このため、第１フィルム１６５は、基部１６３と液晶パネル３３との間に介在している。
第２フィルム１６７は、基部１６３の液晶パネル３３側とは反対側に設けられている。つまり、基部１６３は、第１フィルム１６５と第２フィルム１６７とによって挟持されている。
第１フィルム１６５及び第２フィルム１６７は、それぞれ、光透過性を有している。第１フィルム１６５及び第２フィルム１６７の材料としては、例えば、フッ素やフッ素化合物を含有するフッ素系樹脂が採用され得る。フッ素系樹脂としては、例えば、ＥＴＦＥ（エチレン・テトラフルオロエチレン共重合体）などが挙げられる。本実施形態では、第１フィルム１６５及び第２フィルム１６７として、それぞれ、フッ素系樹脂のフィルムが採用されている。
【００５８】
液晶パネル３３は、フレーム１５１の凹部１７４内に収容されている。
固定プレート１６１は、フレーム１５１の天板部１７１側とは反対側に設けられており、液晶パネル３３の出射面５９に対向している。固定プレート１６１は、図示しない接着剤を介して第１フィルム１６５に固着している。固定プレート１６１には、開口部１７５が設けられている。開口部１７５は、平面視で画素領域７９に重なっている。
フレーム１５１と固定プレート１６１とは、液晶パネル３３を保持している。
なお、本実施形態では、液晶パネル３３とフレーム１５１とは、接着剤１８３を介して互いに固着している。接着剤１８３は、液晶パネル３３の側面と、フレーム１５１の側壁部１７３との間に設けられている。接着剤１８３としては、例えば、シリコーン樹脂系の接着剤が採用され得る。
【００５９】
フレーム１５１は、シート状の原料を加熱しながら型押しする（熱プレスと呼ぶ）ことによって形成され得る。フレーム１５１の原料は、第１フィルム１６５と第２フィルム１６７との間に、架橋前のＥＶＡ樹脂が挟持されたシート状の構成を有している。ＥＶＡ樹脂は、熱可塑性樹脂である。シート状の原料に熱プレスを施すことによって凹部１７４が形成されるとともに、ＥＶＡ樹脂が架橋してフレーム１５１の形状が保持される。このとき、第１フィルム１６５や第２フィルム１６７は、フレーム１５１の形状の保持機能を有するとともに、熱プレスにおける離型性を高める機能を有する。
第１フィルム１６５や第２フィルム１６７は、フレーム１５１を汚れや傷などから保護する保護膜としての機能も有する。
【００６０】
本実施形態において、対向基板７３が第１基板に対応し、素子基板７１が第２基板に対応し、液晶７５が電気光学物質に対応し、基部１６３が保持部材に対応し、第１フィルム１６５及び第２フィルム１６７が透光性フィルムに対応し、ライトバルブユニット１５０が電気光学装置に対応している。
本実施形態では、対向基板７３の素子基板７１側とは反対側にフレーム１５１が重なって設けられているので、対向基板７３に異物が付着することを防止しやすい。このため、対向基板７３へ設ける防塵用基板を省略することができる。この結果、コストを低減しやすくすることができる。
また、対向基板７３とフレーム１５１とが互いに固着されていなくてもよいので、熱膨張係数の違いに起因するひずみの発生を低く抑えやすくすることができる。
【００６１】
なお、本実施形態では、第１フィルム１６５と入射面５７とが、図９に示すように、互いに接した状態が例示されているが、ライトバルブユニット１５０の構成はこれに限定されない。ライトバルブユニット１５０の構成としては、例えば、第１フィルム１６５と入射面５７との間に隙間を確保した構成も採用され得る。これにより、第１フィルム１６５と入射面５７とが互いに離間するので、熱膨張係数の違いに起因するひずみの発生を一層低く抑えやすくすることができる。
【００６２】
なお、本実施形態では、ライトバルブとして、透過型の液晶パネル３３が採用されている。しかしながら、液晶パネル３３は、透過型に限定されず、反射型も採用され得る。
また、本実施形態では、液晶パネル３３をプロジェクター１に適用した例を説明したが、液晶パネル３３が適用され得る電子機器はプロジェクター１に限定されない。液晶パネル３３は、例えば、ディスプレイ、携帯電話機などの電子機器にも表示装置として適用され得る。
また、本実施形態では、液晶７５の駆動方式としてＶＡ型の駆動方式が採用されているが、駆動方式はこれに限定されない。液晶７５の駆動方式は、ＴＮ（Twisted Nematic）型、ＩＰＳ（In Plane Switching）型、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）型等の種々の方式も採用され得る。
【符号の説明】
【００６３】
１…プロジェクター、３…光学系、５…制御部、１３…画像形成部、３３…液晶パネル、５７…入射面、５９…出射面、６３…防塵用基板、７１…素子基板、７１ａ…張出領域、７３…対向基板、７５…液晶、７８…画素、７９…画素領域、１５０…ライトバルブユニット、１５１…フレーム、１５４…ねじ孔、１５５…ＦＰＣ、１６１…固定プレート、１６３…基部、１６５…第１フィルム、１６７…第２フィルム、１７１…天板部、１７３…側壁部、１７４…凹部、１７５…開口部、１８３…接着剤。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置及び電子機器等に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、電気光学装置の１つである液晶装置において、液晶パネルに防塵用基板を接着した構成が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−１２９３４号公報（第３頁〜第４頁、図１２）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記特許文献１に記載された液晶装置では、防塵用基板によって、ごみなどの異物が液晶パネルに付着することを低く抑えることができる。また、防塵用基板に異物が付着しても、異物は、少なくとも防塵用基板の厚みの分だけ液晶パネルから離間する。このため、表示される画像において、投影される異物を目立ちにくくすることができる。
【０００５】
上記特許文献１に記載された液晶装置では、液晶パネルを構成する基板と、防塵用基板とは、互いに同じ材料である石英基板で構成されている。
ここで、例えば、液晶パネルを構成する基板と防塵用基板とが互いに異なる材料で構成されていると、加熱されたときに、液晶パネルを構成する基板や、防塵用基板に、ひずみが発生することがある。これは、材料における熱膨張係数の違いに起因する。
【０００６】
これに対し、特許文献１に記載された液晶装置では、液晶パネルを構成する基板の熱膨張係数と、防塵用基板の熱膨張係数とが同等である。このため、例えば、液晶装置が加熱されても、液晶パネルを構成する基板や、防塵用基板に、ひずみが発生することを低く抑えやすくすることができる。
しかしながら、特許文献１に記載された液晶装置では、液晶パネルを構成する基板と防塵用基板とが互いに同じ材料で構成されるので、材料の選択の自由度を高めることが困難である。これに起因して、コストの低減が困難となる。
つまり、従来の電気光学装置では、コストを低減することが困難であるという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現され得る。
【０００８】
［適用例１］第１基板と、前記第１基板に対向する第２基板と、前記第１基板及び前記第２基板の間に介在し、前記第１基板及び前記第２基板のうち少なくとも一方から出射する光の量を、複数の画素の前記画素ごとに制御する電気光学物質と、前記第１基板の前記第２基板側とは反対側において前記第１基板に対向し、前記第１基板及び前記第２基板を保持する保持部材と、を含み、前記保持部材は、熱可塑性樹脂で構成されており、且つ透光性を有する、ことを特徴とする電気光学装置。
【０００９】
この適用例の電気光学装置は、第１基板と、第２基板と、電気光学物質と、保持部材と、を含む。
第２基板は、第１基板に対向している。電気光学物質は、第１基板及び第２基板の間に介在している。電気光学物質は、第１基板及び第２基板のうち少なくとも一方から出射する光の量を、複数の画素の画素ごとに制御する。保持部材は、第１基板及び第２基板を保持する。保持部材は、第１基板の第２基板側とは反対側において第１基板に対向している。保持部材は、熱可塑性樹脂で構成されており、且つ透光性を有している。
この電気光学装置では、第１基板の第２基板側とは反対側に保持部材が設けられているので、第１基板に異物が付着することを防止しやすい。このため、防塵用基板を省略することができる。この結果、コストを低減しやすくすることができる。
また、第１基板と保持部材とが互いに固着されていなくてもよいので、熱膨張係数の違いに起因するひずみの発生を低く抑えやすくすることができる。
【００１０】
［適用例２］上記の電気光学装置であって、前記保持部材は、前記第１基板及び前記第２基板の側面に対向する側壁部を有する、ことを特徴とする電気光学装置。
【００１１】
この適用例では、保持部材が側壁部を有しているので、第１基板及び第２基板の側面を保持部材で囲みやすくすることができる。これにより、第１基板や第２基板に異物が付着することを防止しやすい。
【００１２】
［適用例３］上記の電気光学装置であって、前記保持部材には、少なくとも、前記第１基板に対峙する面と、前記第１基板側とは反対側の面とに、透光性フィルムが設けられている、ことを特徴とする電気光学装置。
【００１３】
この適用例では、保持部材の第１基板に対峙する面と、第１基板側とは反対側の面とを、透光性フィルムで保護しやすくすることができる。
【００１４】
［適用例４］上記の電気光学装置であって、前記保持部材は、エチレン酢酸ビニル共重合樹脂を含有する材料で構成されており、前記透光性フィルムは、フッ素化合物を含有する材料で構成されていることを特徴とする電気光学装置。
【００１５】
この適用例では、保持部材は、エチレン酢酸ビニル共重合樹脂を含有する材料で構成されている。透光性フィルムは、フッ素化合物を含有する材料で構成されている。上記により、透光性フィルムを有する保持部材を構成することができる。
【００１６】
［適用例５］上記の電気光学装置であって、前記第１基板と前記透光性フィルムとが、互いに離間している、ことを特徴とする電気光学装置。
【００１７】
この適用例では、第１基板と透光性フィルムとが互いに離間しているので、熱膨張係数の違いに起因するひずみの発生を一層低く抑えやすくすることができる。
【００１８】
［適用例６］上記の電気光学装置を有する、ことを特徴とする電子機器。
【００１９】
この適用例の電子機器は、電気光学装置を有している。この電気光学装置は、第１基板と、第２基板と、電気光学物質と、保持部材と、を含む。
第２基板は、第１基板に対向している。電気光学物質は、第１基板及び第２基板の間に介在している。電気光学物質は、第１基板及び第２基板のうち少なくとも一方から出射する光の量を、複数の画素の画素ごとに制御する。保持部材は、第１基板及び第２基板を保持する。保持部材は、第１基板の第２基板側とは反対側において第１基板に対向している。保持部材は、熱可塑性樹脂で構成されており、且つ透光性を有している。
この電気光学装置では、第１基板の第２基板側の反対側に保持部材が設けられているので、第１基板に異物が付着することを防止しやすい。このため、防塵用基板を省略することができる。この結果、コストを低減しやすくすることができる。
また、第１基板と保持部材とが互いに固着されていなくてもよいので、熱膨張係数の違いに起因するひずみの発生を低く抑えやすくすることができる。
そして、この電子機器は、コストを低減しやすくすることができる電気光学装置を有しているので、コストを低減しやすくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本実施形態におけるプロジェクターの主要構成を示すブロック図。
【図２】本実施形態におけるプロジェクターの画像形成部の主要構成を示す図。
【図３】本実施形態におけるプロジェクターの画像形成パネルを示す斜視図。
【図４】図３中のＡ−Ａ線における断面図。
【図５】本実施形態での液晶パネルを示すブロック図。
【図６】本実施形態における液晶パネルの等価回路図。
【図７】本実施形態での画像形成パネルにおける偏光状態を説明する図。
【図８】本実施形態におけるライトバルブユニットを示す平面図。
【図９】図８中のＤ−Ｄ線における断面図。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
実施形態について、電子機器の１つであるプロジェクターを例に、図面を参照しながら説明する。
本実施形態におけるプロジェクター１は、主要構成を示すブロック図である図１に示すように、光学系３と、制御部５と、を有している。プロジェクター１は、図示しない外部装置から入力される画像信号に応じた画像を、光学系３を介してスクリーン８などに投射することができる。
光学系３は、画像信号に基づいた画像を形成し、形成した画像をスクリーン８などに投射する。制御部５は、画像信号に基づいて光学系３の駆動を制御する。
【００２２】
光学系３は、ランプ１１と、画像形成部１３と、投射レンズ部１５と、を有している。
ランプ１１は、画像形成部１３や投射レンズ部１５を経てスクリーン８に向けて出射される投射光１７を発生する。ランプ１１としては、例えば、高圧水銀ランプやメタルハライドランプなどが採用され得る。
画像形成部１３は、後述する画像形成パネルなどを有している。画像形成部１３は、制御部５から入力される画像データなどに基づいて画像形成パネルに画像を形成する。画像形成部１３には、ランプ１１からの光が照射される。このため、画像形成部１３に形成された画像は、ランプ１１からの光によって投射レンズ部１５に投影される。
【００２３】
投射レンズ部１５には、ランプ１１からの光が画像形成部１３を経て入射される。投射レンズ部１５は、入射された光を広げる方向に屈折させて、投射光１７として出射する。このため、画像形成部１３に形成された画像は、拡大された状態でスクリーン８に投射され得る。
【００２４】
ここで、画像形成部１３の構成について、詳細を説明する。
画像形成部１３は、主要構成を示す図である図２に示すように、分光部３１と、液晶パネル３３と、クロスダイクロイックプリズム３５と、を有している。
分光部３１には、ランプ１１からの光４１が入射される。分光部３１は、光４１から、赤系（Ｒ）の色の光４１Ｒ、緑系（Ｇ）の色の光４１Ｇ、及び青系（Ｂ）の色の光４１Ｂのそれぞれを分離する。
【００２５】
ここで、Ｒの色は、純粋な赤の色相に限定されず、橙等を含む。Ｇの色は、純粋な緑の色相に限定されず、青緑や黄緑等を含む。Ｂの色は、純粋な青の色相に限定されず、青紫や青緑等を含む。他の観点から、Ｒの色を呈する光４１Ｒは、光の波長のピークが、可視光領域で５７０ｎｍ以上の範囲にある光であると定義され得る。また、Ｇの色を呈する光４１Ｇは、光の波長のピークが５００ｎｍ〜５６５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。Ｂの色を呈する光４１Ｂは、光の波長のピークが４１５ｎｍ〜４９５ｎｍの範囲にある光であると定義され得る。
【００２６】
分光部３１は、ダイクロイックミラー４３と、ダイクロイックミラー４５と、反射ミラー４７と、反射ミラー４８と、反射ミラー４９と、を有している。光４１は、光軸５１ａに沿って分光部３１に入射する。
ダイクロイックミラー４３は、光軸５１ａと交差する位置に設けられている。ダイクロイックミラー４３は、光軸５１ａの方向に対して傾斜している。ダイクロイックミラー４３は、光４１のうちで、Ｒの光４１Ｒを透過させ、Ｇの光４１Ｇ及びＢの光４１Ｂを反射させることができる。
【００２７】
従って、ダイクロイックミラー４３によって、光４１からＲの光４１Ｒが分離され得る。他方で、Ｇの光４１Ｇ及びＢの光４１Ｂが混合した光５３が、ダイクロイックミラー４３によって、光４１から分離され得る。
ダイクロイックミラー４３を透過した光４１Ｒは、光軸５１ａに沿って反射ミラー４７へ導かれる。
他方で、ダイクロイックミラー４３によって反射された光５３は、光軸５１ａが光軸５１ｂに変えられてから、ダイクロイックミラー４５へ導かれる。
【００２８】
ダイクロイックミラー４５は、光軸５１ｂと交差する位置に設けられている。ダイクロイックミラー４５は、光軸５１ｂの方向に対して傾斜している。ダイクロイックミラー４５は、光５３のうちで、Ｂの光４１Ｂを透過させ、Ｇの光４１Ｇを反射させることができる。従って、ダイクロイックミラー４５によって、光５３からＧの光４１ＧとＢの光４１Ｂとが分離され得る。
ダイクロイックミラー４５を透過した光４１Ｂは、光軸５１ｂに沿って反射ミラー４８へ導かれる。
他方で、ダイクロイックミラー４５によって反射された光４１Ｇは、光軸５１ｂが光軸５１ｃに変えられる。
【００２９】
反射ミラー４７は、光４１Ｒの光軸５１ａと交差する位置に設けられている。反射ミラー４７は、光軸５１ａの方向に対して傾斜している。光４１Ｒは、反射ミラー４７で反射することによって、光軸５１ａが光軸５１ｄに変えられる。
反射ミラー４８は、光４１Ｂの光軸５１ｂと交差する位置に設けられている。反射ミラー４８は、光軸５１ｂの方向に対して傾斜している。光４１Ｂは、反射ミラー４８によって光軸５１ｂが光軸５１ｅに変えられてから、反射ミラー４９に導かれる。
反射ミラー４９は、光４１Ｂの光軸５１ｅと交差する位置に設けられている。反射ミラー４９は、光軸５１ｅの方向に対して傾斜している。光４１Ｂは、反射ミラー４９で反射することによって、光軸５１ｅが光軸５１ｆに変えられる。
【００３０】
クロスダイクロイックプリズム３５は、光軸５１ｃ、光軸５１ｄ及び光軸５１ｆの交点に重なる位置に設けられている。クロスダイクロイックプリズム３５は、面３５ａと、面３５ｂと、面３５ｃと、面３５ｄと、を有している。
面３５ａは、反射ミラー４７側に向けられている。面３５ｂは、ダイクロイックミラー４５側に向けられている。面３５ｃは、反射ミラー４９側に向けられている。
【００３１】
液晶パネル３３は、光４１Ｒ，４１Ｇ及び４１Ｂごとに設けられている。つまり、プロジェクター１は、光４１Ｒに対応する液晶パネル３３と、光４１Ｇに対応する液晶パネル３３と、光４１Ｂに対応する液晶パネル３３と、を有している。なお、以下において、液晶パネル３３を光４１Ｒ，４１Ｇ及び４１Ｂごとに識別する場合には、液晶パネル３３は、液晶パネル３３Ｒ、液晶パネル３３Ｇ及び液晶パネル３３Ｂと表記される。
液晶パネル３３Ｒ、液晶パネル３３Ｇ及び液晶パネル３３Ｂは、相互に同じ仕様の液晶パネル３３が採用され得る。
【００３２】
液晶パネル３３Ｒは、面３５ａと反射ミラー４７との間において、光軸５１ｄに交差する位置に設けられている。液晶パネル３３Ｒは、面３５ａに対向している。
液晶パネル３３Ｇは、面３５ｂとダイクロイックミラー４５との間において、光軸５１ｃに交差する位置に設けられている。液晶パネル３３Ｇは、面３５ｂに対向している。
液晶パネル３３Ｂは、面３５ｃと反射ミラー４９との間において、光軸５１ｆに交差する位置に設けられている。液晶パネル３３Ｂは、面３５ｃに対向している。
【００３３】
ここで、液晶パネル３３は、透過型の液晶パネルであり、ライトバルブとしてプロジェクター１に適用されている。
液晶パネル３３は、後述する複数の画素と、画素ごとに駆動が制御される液晶と、を有している。液晶パネル３３は、複数の画素に入射された光の偏光状態を、画素ごとに変化させることができる。
なお、分光部３１と各液晶パネル３３との間には、後述する偏光板及び位相差板（図示せず）が設けられている。また、各液晶パネル３３とクロスダイクロイックプリズム３５との間にも、後述する偏光板及び位相差板（図示せず）が設けられている。
この構成により、液晶パネル３３では、液晶パネル３３の複数の画素に入射された光の偏光状態を画素ごとに変化させることによって、液晶パネル３３を透過した光で画像を形成することができる。
【００３４】
液晶パネル３３を透過した光は、クロスダイクロイックプリズム３５に導かれる。
液晶パネル３３Ｒを透過した光４１Ｒは、面３５ａからクロスダイクロイックプリズム３５に入射する。
液晶パネル３３Ｇを透過した光４１Ｇは、面３５ｂからクロスダイクロイックプリズム３５に入射する。
液晶パネル３３Ｂを透過した光４１Ｂは、面３５ｃからクロスダイクロイックプリズム３５に入射する。
このため、面３５ａには、Ｒの画像が投影され、面３５ｂには、Ｇの画像が投影され、面３５ｃには、Ｂの画像が投影され得る。
【００３５】
クロスダイクロイックプリズム３５に入射した光４１Ｒ，４１Ｇ及び４１Ｂは、クロスダイクロイックプリズム３５によって合成される。つまり、クロスダイクロイックプリズム３５によって、Ｒの画像、Ｇの画像及びＢの画像が合成され得る。
クロスダイクロイックプリズム３５によって合成された光４１Ｒ，４１Ｇ及び４１Ｂは、画像光５５としてクロスダイクロイックプリズム３５の面３５ｄから出射される。
【００３６】
面３５ｄから出射された画像光５５は、投射レンズ部１５へ導かれてから、投射レンズ部１５に入射する。投射レンズ部１５に入射した画像光５５は、投射光１７（図１）としてスクリーン８などに投射される。
【００３７】
ここで、液晶パネル３３の構成について、詳細を説明する。
液晶パネル３３は、斜視図である図３に示すように、入射面５７を有している。入射面５７は、図２に示す光源の一例であるランプ１１から出射された光４１（光４１Ｒ，４１Ｇ，４１Ｂ）が入射する面である。また、液晶パネル３３は、図３中のＡ−Ａ線における断面図である図４に示すように、出射面５９を有している。液晶パネル３３において、出射面５９は、入射面５７とは反対側の面である。出射面５９は、図２に示す画像形成部１３において、クロスダイクロイックプリズム３５側に向けられている。
【００３８】
また、液晶パネル３３は、図４に示すように、防塵用基板６３と、素子基板７１と、対向基板７３と、液晶７５と、シール材７７と、を有している。
素子基板７１には、入射面５７側すなわち液晶７５側に、後述するスイッチング素子などが設けられている。
対向基板７３は、素子基板７１よりも入射面５７側で素子基板７１に対向し、且つ素子基板７１との間に隙間を有した状態で設けられている。対向基板７３には、出射面５９側すなわち液晶７５側に、後述する共通電極などが設けられている。
なお、本実施形態では、素子基板７１は、平面視で、対向基板７３よりもはみ出ている。素子基板７１において、対向基板７３よりもはみ出た領域は、張出領域７１ａと呼ばれる。張出領域７１ａは、図３に示すように、対向基板７３の輪郭に沿って周状に設けられている。張出領域７１ａは、平面視で、対向基板７３を外側から囲んでいる。
【００３９】
液晶７５は、図４に示すように、素子基板７１及び対向基板７３の間に挟持されており、液晶パネル３３の周縁よりも内側で表示領域を囲むシール材７７によって、素子基板７１及び対向基板７３の間に封止されている。本実施形態では、液晶７５の駆動方式として、ＶＡ（Vertical Alignment）型の駆動方式が採用されている。
防塵用基板６３は、素子基板７１よりも出射面５９側、すなわち液晶７５側とは反対側に設けられている。プロジェクター１では、素子基板７１や対向基板７３にごみなどの異物が付着すると、スクリーン８などに異物が投影されてしまうことがある。素子基板７１や対向基板７３と異物との間に防塵用基板６３を介在させることによって、異物がデフォーカスされる。これにより、投写画像において、異物の投影像を目立ちにくくすることができる。
【００４０】
前述した位相差板６６ａは、対向基板７３の入射面５７側、すなわち液晶７５側とは反対側に設けられている。
位相差板６６ｂは、防塵用基板６３の出射面５９側、すなわち液晶７５側とは反対側に設けられている。液晶パネル３３では、位相差板６６ａ及び位相差板６６ｂは、それぞれ、入射された光に対して１／４波長の位相差を付与する。
また、前述した偏光板６７ａは、位相差板６６ａの液晶パネル３３側とは反対側に設けられている。偏光板６７ｂは、位相差板６６ｂの液晶パネル３３側とは反対側に設けられている。偏光板６７ａ及び偏光板６７ｂは、それぞれ、透過軸に沿った偏光軸を有する直線偏光を透過させることができる。
【００４１】
ここで、液晶パネル３３には、液晶パネル３３の平面図である図５に示すように、複数の画素７８が設定されている。複数の画素７８は、領域７９内で、図中のＸ方向及びＹ方向に配列しており、Ｘ方向を行方向とし、Ｙ方向を列方向とするマトリクスＭを構成している。図５では、構成をわかりやすく示すため、画素７８が誇張され、且つ画素７８の個数が減じられている。
なお、領域７９は、画像が形成（表示）される領域に相当する。このため、以下において、領域７９は、画素領域７９と表記される。
本実施形態では、Ｙ方向に沿って並ぶ複数の画素７８が、１つの画素列７８Ｃを構成している。また、Ｘ方向に沿って並ぶ複数の画素７８が、１つの画素行７８Ｌを構成している。この観点から、Ｘ方向は、画素行７８Ｌが延在する方向であるともみなされ得る。また、Ｙ方向は、画素列７８Ｃが延在する方向であるともみなされ得る。
【００４２】
また、液晶パネル３３は、走査線駆動回路８１と、信号線駆動回路８３と、封止材８５と、端子電極８７と、複数の走査線Ｔと、複数の信号線Ｓと、を有している。
なお、走査線駆動回路８１と、信号線駆動回路８３と、端子電極８７とは、後述するスイッチング素子と同様に、素子基板７１に形成されている。図５では、構成をわかりやすく示すため、端子電極８７が誇張され、且つ端子電極８７の個数が減じられている。
なお、本実施形態では、Ｘ方向は、走査線Ｔが延在する方向に相当している。Ｙ方向は、信号線Ｓが延在する方向に相当している。
【００４３】
走査線駆動回路８１は、各走査線Ｔに選択信号を供給する。信号線駆動回路８３は、各信号線Ｓにデータ信号（画像データ）を供給する。
端子電極８７は、ＦＰＣ（Flexible Printed Circuit）などの外部配線を接続するための端子である。端子電極８７と走査線駆動回路８１との間や、端子電極８７と信号線駆動回路８３との間は、配線８９を介して電気的に接続されている。
【００４４】
シール材７７には、注入口７７ａが形成されている。注入口７７ａは、液晶７５のセル内への導入路である。注入口７７ａは、環状に設けられるシール材７７の一部を欠いた構成を有しており、セル内とセル外とを連通させる。
本実施形態では、液晶７５のセル内への注入方法として、減圧注入法が採用されている。減圧注入法とは、注入口７７ａと液晶７５とを真空に近い減圧環境下で当接させてから、減圧環境の圧力を上昇させることによってセル内に液晶７５を注入する方法である。
注入口７７ａは、封止材８５によって塞がれている。これにより、液晶７５は、セル内に封止されている。
なお、セル内への液晶７５の注入方法は、減圧注入法に限定されず、滴下法（ＯＤＦ（One Drop Fill）とも呼ばれる）も採用され得る。滴下法が採用される場合、注入口７７ａ及び封止材８５は省略され得る。
【００４５】
複数の走査線Ｔ及び複数の信号線Ｓは、図６に示すように、格子状に配線されている。複数の走査線Ｔは、Ｙ方向に互いに間隔をあけた状態で、Ｘ方向に沿って延びている。複数の信号線Ｓは、Ｘ方向に互いに間隔をあけた状態で、Ｙ方向に沿って延びている。各画素７８は、各走査線Ｔと各信号線Ｓとの交差に対応して設定されている。
各信号線Ｓは、Ｙ方向に沿って並ぶ複数の画素７８すなわち各画素列７８Ｃ（図５）に対応している。各走査線Ｔは、Ｘ方向に沿って並ぶ複数の画素７８すなわち各画素行７８Ｌ（図５）に対応している。
また、液晶パネル３３は、画素７８ごとに、スイッチング素子の１つであるＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子９１と、画素電極９３と、共通電極９７と、を有している。なお、共通電極９７は、マトリクスＭを構成する複数の画素７８間にまたがって一連した状態で設けられている。つまり、共通電極９７は、マトリクスＭを構成する複数の画素７８に平面視で重なる領域に設けられており、複数の画素７８間にまたがって共通して機能する。
【００４６】
ＴＦＴ素子９１のゲート電極は、対応する走査線Ｔに電気的に接続されている。ＴＦＴ素子９１のソース電極は、対応する信号線Ｓに電気的に接続されている。各画素７８において、ＴＦＴ素子９１のドレイン電極は、画素電極９３に電気的に接続されている。
各画素７８において、画素電極９３と共通電極９７とは、画素電極９３と共通電極９７との間に電界を形成する一対の電極を構成している。液晶７５（図４）は、画素電極９３と共通電極９７との間に介在している。本実施形態では、画素電極９３と共通電極９７とは、互いに対向している。
ＴＦＴ素子９１は、このＴＦＴ素子９１に電気的に接続される走査線Ｔに選択信号が供給されるとオン状態となる。このとき、このＴＦＴ素子９１に電気的に接続される信号線Ｓからデータ信号が供給され、画素電極９３がデータ信号の大きさに応じた電位に保たれる。このとき、共通電極９７を画素電極９３の電位とは異なる電位に保つと、画素電極９３と共通電極９７との間に電位差が発生する。これにより、画素７８ごとに、画素電極９３と共通電極９７との間に電界を発生させることができる。
【００４７】
液晶パネル３３では、画素電極９３と共通電極９７との間に電圧を印加すると、画素電極９３と共通電極９７との間に電界が発生する。この電界によって液晶７５の配向状態を画素７８ごとに変化させることができる。
本実施形態では、液晶７５に電界が作用すると、液晶７５がオン状態になる。他方で、液晶７５に作用する電界が解除されると、液晶７５がオフ状態になる。
プロジェクター１では、図２に示す画像形成部１３に光４１を照射した状態で、各液晶パネル３３における液晶７５の配向状態を画素７８ごとに変化させることにより、表示が制御される。液晶７５の配向状態は、画素電極９３の電位と共通電極９７の電位との差（以下、駆動電圧と呼ぶ）によって変化し得る。
なお、本実施形態では、液晶７５は、入射した光に１／２波長の位相差を付与することができる。これは、液晶７５のリタデーション（複屈折率と厚みとの積）の設定により実現され得る。本実施形態では、入射した光に１／２波長の位相差を付与するリタデーションが設定されている。
【００４８】
液晶パネル３３では、駆動電圧が０Ｖのときに、液晶７５がオフ状態にある。他方で、駆動電圧が０Ｖを超えると、液晶７５がオフ状態からオン状態に変化する。
図７（ａ）は、液晶７５がオフ状態のときの液晶パネル３３における偏光状態を示す図であり、図７（ｂ）は、液晶７５がオン状態のときの液晶パネル３３における偏光状態を示す図である。
液晶パネル３３では、偏光板６７ａの透過軸１２１と、偏光板６７ｂの透過軸１２３とは、図７（ａ）及び図７（ｂ）に示すように、互いに直交している。
なお、図７（ａ）及び図７（ｂ）において、Ｘ'方向及びＹ'方向は、Ｘ'方向が偏光板６７ａの透過軸１２１の方向を示し、Ｙ'方向が偏光板６７ｂの透過軸１２３の方向を示している。Ｘ'方向及びＹ'方向は、ＸＹ平面内で互いに直交する任意の２方向である。
【００４９】
位相差板６６ａの遅相軸１２５は、平面視でＸ'方向に対して、時計方向に４５度の傾きを有する方向に設定されている。
従って、偏光板６７ａを透過した直線偏光１４３は、位相差板６６ａによって１／４波長の位相差が与えられ、平面視で反時計方向に回転する円偏光１４４として液晶７５に入射する。
【００５０】
液晶７５に入射した円偏光１４４は、液晶７５がオフ状態のときに、図７（ａ）に示すように、偏光状態が維持されたまま（位相差が付与されずに）円偏光１４４として位相差板６６ｂに向けて出射される。
ここで、位相差板６６ｂの遅相軸１２７は、平面視でＸ'方向に対して、時計方向に４５度の傾きを有する方向に設定されている。
【００５１】
このため、位相差板６６ｂに入射した円偏光１４４は、位相差板６６ｂによって１／４波長の位相差が与えられ、平面視でＸ'方向に沿った偏光軸を有する直線偏光１４５として偏光板６７ｂに向けて出射される。
偏光板６７ｂに向けて出射された直線偏光１４５は、偏光軸が偏光板６７ｂの透過軸１２３に対して直交しているため、偏光板６７ｂによって吸収される。
【００５２】
他方で、液晶７５がオン状態のときに、液晶７５に入射された円偏光１４４は、図７（ｂ）に示すように、１／２波長の位相差が与えられ、平面視で時計方向に回転する（円偏光１４４とは逆回転の）円偏光１４７として位相差板６６ｂに向けて出射される。
位相差板６６ｂに入射した円偏光１４７は、位相差板６６ｂによって１／４波長の位相差が与えられ、平面視でＹ'方向に沿った偏光軸を有する直線偏光１４９として偏光板６７ｂに向けて出射される。
偏光板６７ｂに向けて出射された直線偏光１４９は、偏光軸が偏光板６７ｂの透過軸１２３に沿っているため、偏光板６７ｂを透過する。
【００５３】
このように、液晶パネル３３では、液晶７５のオン状態及びオフ状態の切り替えにより、画像の形成が制御される。
本実施形態では、液晶７５がオフ状態のときに液晶パネル３３からの光の出射が遮断される所謂ノーマリーブラック（初期的に“黒表示”の状態）の表示モードが採用されている。しかしながら、表示モードは、ノーマリーブラックに限定されず、所謂ノーマリーホワイト（初期的に“白表示”の状態）も採用され得る。
【００５４】
上述した液晶パネル３３は、図８に示すように、フレーム１５１に収容された状態で、ライトバルブユニット１５０としてプロジェクター１に組み込まれている。
フレーム１５１は、光透過性を有している。このため、ライトバルブユニット１５０では、フレーム１５１を介して液晶パネル３３が視認され得る。また、フレーム１５１は、ねじ孔１５４を有している。ライトバルブユニット１５０は、フレーム１５１のねじ孔１５４に挿入されたねじ（図示せず）を介してプロジェクター１に取り付けられている。
なお、液晶パネル３３の端子電極８７（図５）に接続されたＦＰＣ１５５は、フレーム１５１の内側から外側に延びている。
【００５５】
ライトバルブユニット１５０は、図８中のＤ−Ｄ線における断面図である図９に示すように、液晶パネル３３と、フレーム１５１と、固定プレート１６１と、を有している。
フレーム１５１は、基部１６３と、第１フィルム１６５と、第２フィルム１６７と、を有している。
基部１６３は、光透過性を有しており、天板部１７１と、側壁部１７３と、を有している。天板部１７１は、液晶パネル３３の入射面５７に対向する部位である。
【００５６】
側壁部１７３は、天板部１７１の周縁に設けられており、天板部１７１から液晶パネル３３側に突出している。側壁部１７３は、天板部１７１の周縁に沿って一連しており、液晶パネル３３の側面に対向する。つまり、側壁部１７３は、素子基板７１の側面と、対向基板７３の側面とに対向している。基部１６３は、凹状を呈しており、液晶パネル３３を収容した状態において、側壁部１７３が液晶パネル３３を囲んでいる。
基部１６３の材料としては、光透過性を有する樹脂などが採用され得る。本実施形態では、基部１６３の材料として、ＥＶＡ（エチレン・酢酸ビニル共重合）樹脂が採用されている。
【００５７】
第１フィルム１６５は、基部１６３の液晶パネル３３側に設けられている。このため、第１フィルム１６５は、基部１６３と液晶パネル３３との間に介在している。
第２フィルム１６７は、基部１６３の液晶パネル３３側とは反対側に設けられている。つまり、基部１６３は、第１フィルム１６５と第２フィルム１６７とによって挟持されている。
第１フィルム１６５及び第２フィルム１６７は、それぞれ、光透過性を有している。第１フィルム１６５及び第２フィルム１６７の材料としては、例えば、フッ素やフッ素化合物を含有するフッ素系樹脂が採用され得る。フッ素系樹脂としては、例えば、ＥＴＦＥ（エチレン・テトラフルオロエチレン共重合体）などが挙げられる。本実施形態では、第１フィルム１６５及び第２フィルム１６７として、それぞれ、フッ素系樹脂のフィルムが採用されている。
【００５８】
液晶パネル３３は、フレーム１５１の凹部１７４内に収容されている。
固定プレート１６１は、フレーム１５１の天板部１７１側とは反対側に設けられており、液晶パネル３３の出射面５９に対向している。固定プレート１６１は、図示しない接着剤を介して第１フィルム１６５に固着している。固定プレート１６１には、開口部１７５が設けられている。開口部１７５は、平面視で画素領域７９に重なっている。
フレーム１５１と固定プレート１６１とは、液晶パネル３３を保持している。
なお、本実施形態では、液晶パネル３３とフレーム１５１とは、接着剤１８３を介して互いに固着している。接着剤１８３は、液晶パネル３３の側面と、フレーム１５１の側壁部１７３との間に設けられている。接着剤１８３としては、例えば、シリコーン樹脂系の接着剤が採用され得る。
【００５９】
フレーム１５１は、シート状の原料を加熱しながら型押しする（熱プレスと呼ぶ）ことによって形成され得る。フレーム１５１の原料は、第１フィルム１６５と第２フィルム１６７との間に、架橋前のＥＶＡ樹脂が挟持されたシート状の構成を有している。ＥＶＡ樹脂は、熱可塑性樹脂である。シート状の原料に熱プレスを施すことによって凹部１７４が形成されるとともに、ＥＶＡ樹脂が架橋してフレーム１５１の形状が保持される。このとき、第１フィルム１６５や第２フィルム１６７は、フレーム１５１の形状の保持機能を有するとともに、熱プレスにおける離型性を高める機能を有する。
第１フィルム１６５や第２フィルム１６７は、フレーム１５１を汚れや傷などから保護する保護膜としての機能も有する。
【００６０】
本実施形態において、対向基板７３が第１基板に対応し、素子基板７１が第２基板に対応し、液晶７５が電気光学物質に対応し、基部１６３が保持部材に対応し、第１フィルム１６５及び第２フィルム１６７が透光性フィルムに対応し、ライトバルブユニット１５０が電気光学装置に対応している。
本実施形態では、対向基板７３の素子基板７１側とは反対側にフレーム１５１が重なって設けられているので、対向基板７３に異物が付着することを防止しやすい。このため、対向基板７３へ設ける防塵用基板を省略することができる。この結果、コストを低減しやすくすることができる。
また、対向基板７３とフレーム１５１とが互いに固着されていなくてもよいので、熱膨張係数の違いに起因するひずみの発生を低く抑えやすくすることができる。
【００６１】
なお、本実施形態では、第１フィルム１６５と入射面５７とが、図９に示すように、互いに接した状態が例示されているが、ライトバルブユニット１５０の構成はこれに限定されない。ライトバルブユニット１５０の構成としては、例えば、第１フィルム１６５と入射面５７との間に隙間を確保した構成も採用され得る。これにより、第１フィルム１６５と入射面５７とが互いに離間するので、熱膨張係数の違いに起因するひずみの発生を一層低く抑えやすくすることができる。
【００６２】
なお、本実施形態では、ライトバルブとして、透過型の液晶パネル３３が採用されている。しかしながら、液晶パネル３３は、透過型に限定されず、反射型も採用され得る。
また、本実施形態では、液晶パネル３３をプロジェクター１に適用した例を説明したが、液晶パネル３３が適用され得る電子機器はプロジェクター１に限定されない。液晶パネル３３は、例えば、ディスプレイ、携帯電話機などの電子機器にも表示装置として適用され得る。
また、本実施形態では、液晶７５の駆動方式としてＶＡ型の駆動方式が採用されているが、駆動方式はこれに限定されない。液晶７５の駆動方式は、ＴＮ（Twisted Nematic）型、ＩＰＳ（In Plane Switching）型、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）型等の種々の方式も採用され得る。
【符号の説明】
【００６３】
１…プロジェクター、３…光学系、５…制御部、１３…画像形成部、３３…液晶パネル、５７…入射面、５９…出射面、６３…防塵用基板、７１…素子基板、７１ａ…張出領域、７３…対向基板、７５…液晶、７８…画素、７９…画素領域、１５０…ライトバルブユニット、１５１…フレーム、１５４…ねじ孔、１５５…ＦＰＣ、１６１…固定プレート、１６３…基部、１６５…第１フィルム、１６７…第２フィルム、１７１…天板部、１７３…側壁部、１７４…凹部、１７５…開口部、１８３…接着剤。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板に対向する第２基板と、
前記第１基板及び前記第２基板の間に介在し、前記第１基板及び前記第２基板のうち少なくとも一方から出射する光の量を、複数の画素の前記画素ごとに制御する電気光学物質と、
前記第１基板の前記第２基板側とは反対側において前記第１基板に対向し、前記第１基板及び前記第２基板を保持する保持部材と、を含み、
前記保持部材は、熱可塑性樹脂で構成されており、且つ透光性を有する、
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記保持部材は、前記第１基板及び前記第２基板の側面に対向する側壁部を有する、
ことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記保持部材には、少なくとも、前記第１基板に対峙する面と、前記第１基板側とは反対側の面とに、透光性フィルムが設けられている、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記保持部材は、エチレン酢酸ビニル共重合樹脂を含有する材料で構成されており、
前記透光性フィルムは、フッ素化合物を含有する材料で構成されている、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記第１基板と前記透光性フィルムとが、互いに離間している、
ことを特徴とする請求項３又は４に記載の電気光学装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の電気光学装置を有する、
ことを特徴とする電子機器。
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板に対向する第２基板と、
前記第１基板及び前記第２基板の間に介在し、前記第１基板及び前記第２基板のうち少なくとも一方から出射する光の量を、複数の画素の前記画素ごとに制御する電気光学物質と、
前記第１基板の前記第２基板側とは反対側において前記第１基板に対向し、前記第１基板及び前記第２基板を保持する保持部材と、を含み、
前記保持部材は、熱可塑性樹脂で構成されており、且つ透光性を有する、
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記保持部材は、前記第１基板及び前記第２基板の側面に対向する側壁部を有する、
ことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記保持部材には、少なくとも、前記第１基板に対峙する面と、前記第１基板側とは反対側の面とに、透光性フィルムが設けられている、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記保持部材は、エチレン酢酸ビニル共重合樹脂を含有する材料で構成されており、
前記透光性フィルムは、フッ素化合物を含有する材料で構成されている、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記第１基板と前記透光性フィルムとが、互いに離間している、
ことを特徴とする請求項３又は４に記載の電気光学装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項に記載の電気光学装置を有する、
ことを特徴とする電子機器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１１−６４７５５（Ｐ２０１１−６４７５５Ａ）
【公開日】平成２３年３月３１日（２０１１．３．３１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２１３０１４（Ｐ２００９−２１３０１４）
【出願日】平成２１年９月１５日（２００９．９．１５）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年３月３１日（２０１１．３．３１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年９月１５日（２００９．９．１５）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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