【課題】走査型プローブ顕微鏡の走査方法をコンピュータに実行させる指示を生成するプログラムにおいて、コンタクトモードの汎用性を維持しつつ、非接触モードやポイントコンタクトモードのように、常時探針と試料表面の接触を伴わない新たな走査方法を実施可能とするプログラムを提供する。
【解決手段】試料表面の測定点に対して、測定中のみ探針を試料表面に接触させその状態を維持し、かつ、測定信号の安定化を待ってデータ採取し、次の測定点への移動は探針を試料表面から所定の距離だけ離間させるようコンピュータに実行させる指示を生成するプログラムとした。 （もっと読む）

【課題】ＦＩＭ像取得のためのシステムを導入することなく、エミッターの先端構造の確認を図ること。
【解決手段】チップ１にガスを供給し、引出電極４に電圧を印加し、チップ１からイオンビーム１１を放出する集束イオンビーム装置において、電圧を変化させ、イオンビーム１１の電流量を測定する電流測定部１１１と、電流測定部１１１で測定した測定データと標準データとを比較処理する処理部１１４とを備え、チップ先端構造を検査する集束イオンビーム装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】イオン源のイオン種切り替えを容易に行い、用途に合わせて適切なイオン種を用いること。
【解決手段】ガス種毎に、チップの設定温度と、イオン源ガスのガス圧力と、引出電極に印加する引出電圧と、コントラストの設定値と、ブライトネスの設定値と、を記憶する記憶部３０２と、ガス種を選択し入力する入力部１０６と、入力したガス種に対応する設定温度と、ガス圧力と、引出電圧と、コントラストの設定値と、ブライトネスの設定値と、を記憶部３０２から読み出し、それぞれヒーター１ｂと、ガス制御部１０４と、電圧制御部２７と、観察像の調整部３０３を設定する制御部３０１と、を備えている集束イオンビーム装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】バックグラウンド波形の急激に変化する偏曲点付近に存在するスペクトルであっても、蛍光Ｘ線ピーク波形とバックグラウンド波形の適当な分離を図ること。
【解決手段】典型的なバックグラウンド波形と強度を求めたい蛍光Ｘ線ピーク波形とそのピークの周辺にあり検出された複数の蛍光Ｘ線ピーク波形を使い、測定された波形を良く再現するようにバックグラウンド波形と蛍光Ｘ線ピーク波形の強度を変化させる。そして、出来上がったスペクトルから、蛍光Ｘ線ピーク波形とバックグラウンド波形を分離する蛍光Ｘ線分析装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】走査型プローブ顕微鏡の物性測定において、コンタクトモードの汎用性を維持しつつ、非接触モードやポイントコンタクトモードのように、常時探針と試料表面の接触を伴わない新たな走査方法を実現する装置及びその走査方法を提供する。
【解決手段】試料表面の測定点に対して、測定中のみ探針を試料表面に接触させその状態を維持し、かつ、測定信号の安定化を待ってデータ採取し、次の測定点への移動は探針を試料表面から所定の距離だけ離間させるようにした。 （もっと読む）

【課題】ＦＩＭ像取得のためのシステムを導入することなく、エミッターの先端構造の確認を図ること。
【解決手段】チップ１にガスを供給するガス供給部と、イオンビーム１１を引き出す引出電極４と、イオンビーム１１の照射方向を調整するガンアライメント電極９とを有する集束イオンビーム装置であり、チップ１の先端の一つの原子から放出されたイオンビームを通過させる開口部１０ａを有するアパーチャ１０と、開口部１０ａを通過したイオンビーム１１の電流量を測定する電流測定部と、を有する集束イオンビーム装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】チップを装置から取り出すことなくチップ先端のピラミッド構造の再生を図ること。
【解決手段】針状のチップ１と、チップ１にガスを供給するガス供給部と、チップ表面に吸着したガスをイオン化してイオンビームを引き出す引出電極４と、チップ１と引出電極４の間に電圧を印加する電圧供給部２７と、チップ表面と同じ金属をイオンビームが照射される面に備えたチップ再生電極と、を有する荷電粒子ビーム装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】形状の制約なしに３次元の立体形状を測定することが可能な走査型プローブ顕微鏡を提供する。
【解決手段】カンチレバー１１と、カンチレバーホルダ１４と、サンプルホルダ８と、サンプル９表面の任意の２次元面内で探針１０を相対的に移動させる水平方向微動機構４と、２次元面に垂直な方向に探針１０とサンプル９を相対的に移動させる垂直方向微動機構１５と、カンチレバー１１の撓み量を検出するための変位検出機構２２を有する走査型プローブ顕微鏡において、変位検出機構をカンチレバー１１に組み込み、カンチレバー１１の長軸に直交し探針１０先端を通る軸が、２次元平面に直交する任意の平面内となるように前記カンチレバー１１を配置し、サンプル９表面の被測定面が、水平方向微動機構４の移動面と略平行になるようにサンプル９とカンチレバー１１の相対位置を規定する角度調整機構を含む位置決め機構（３、５，６，７，１７）を設けた。 （もっと読む）

【課題】気体イオンビーム装置とＦＩＢとＳＥＭを用いて、効率よくTEM試料作製ができる複合荷電粒子ビーム装置としての構成方法を提供する。
【解決手段】ＦＩＢ鏡筒１と、ＳＥＭ鏡筒２と、気体イオンビーム鏡筒３と、ユーセントリックチルト機構とユーセントリックチルト軸８と直交する回転軸１０とを持つ回転試料ステージ９と、を含む複合荷電粒子ビーム装置であり、集束イオンビーム４と電子ビーム５と気体イオンビーム６とは、１点で交わり、かつＦＩＢ鏡筒１の軸とＳＥＭ鏡筒２の軸はそれぞれユーセントリックチルト軸８と直交し、かつＦＩＢ鏡筒１の軸と気体イオンビーム鏡筒３の軸とユーセントリックチルト軸８とは一つの平面内にあるように配置する。 （もっと読む）

【課題】集束イオンビームで形成した観察面に荷電粒子ビームを照射し、観察像を取得し、観察面を保持したまま、さらに透過可能になるように薄片化加工を行うことで、同一観察位置のＴＥＭ観察と二次粒子像観察を図ること。
【解決手段】集束イオンビーム３を試料５に照射し観察面を形成し、電子ビーム４を観察面に照射し、観察像を形成し、試料５の観察面と反対側の面を除去し、観察面を含む薄片部５ｔを形成し、薄片部５ｔの透過電子像を取得する試料加工観察方法を提供する。 （もっと読む）