【課題】汎用性の高い横座標の校正方法によって横座標を校正する形状計測装置、及びその横座標校正方法を提供する。
【解決手段】複数の開口が形成され、これら複数の開口の配列によって校正パターンを形成するアパーチャー板２０をワークＷの被検面Ｗｓの前面に配置する。この開口を通過すると共に、被検面Ｗｓで反射され、再度開口を通過した測定光Ｌｍを撮像素子５によって検出する。撮像素子上にて結像した校正パターンの横座標位置と、予め計測されている校正パターンの基準横座標位置とを、演算装置７によって比較することによって、形状計測装置１の横座標を校正する。 （もっと読む）

【課題】汎用性の高い校正原器を提供し、一つの校正原器で種々の形状計測装置の横座標の校正を可能にする。
【解決手段】形状計測装置の横座標を校正する際にワークの代わりに配置される校正原器２０に、入射角度に係わらず光を元来た方向に反射する再帰性光学素子２１を設け、この再帰性光学素子２１によって測定光Ｌｍを反射させる。校正原器２０は、再帰性光学素子２１によって反射するため、種々の曲率半径の測定光を元来た方向に反射することができ、これによって、種々の形状計測装置の横座標の校正に使用することができる。 （もっと読む）

【課題】収束光学系を有するレーザ干渉測定装置における測定面上の位置の校正が簡便かつ高精度に行えるレーザ干渉測定装置の横座標校正治具および横座標校正方法を提供すること。
【解決手段】横座標校正治具１０は、マーカを有する画像を投影する画像投影手段１９と、画像投影手段１９を第１回動軸線Ａ１まわりに回動自在に支持しかつ第１回動軸線が所定の回動中心Ｃを通る第１支持機構１１と、第１支持機構を第２回動軸線Ａ２まわりに回動自在に支持しかつ第２回動軸線が回動中心Ｃで第１回動軸線Ａ１と交叉する第２支持機構１２と、を有する。 （もっと読む）

【課題】スペックル低減を、拡散板を動かすのではなく、ビームを動かして、質量及びモーメントだけでなく、付随する熱及び振動を低減することにより達成する。
【解決手段】コヒーレント光のスペックルを低減するシステム２５０において：拡散板２８６と；少なくとも１つのビームステアラー２７０および第１軸を有するビームステアリングシステムと；拡散板２８６とビームステアリングシステムとを相互接続する光学系であって、光を、少なくとも１つのビームステアラー２７０を介して拡散板２８６の連続する軸外領域に、そして拡散板２８６の連続する軸外領域から少なくとも１つのビームステアラー２７０に誘導することにより、拡散板２８６の連続する軸外領域からの光の角度分布が、第２軸を略中心とするようになり、かつ第２軸に略揃うようになって、スペックル低減システムから射出する光学系と；を備える。 （もっと読む）

【課題】光学試験表面の誤差と適合光学系の誤差とを分離することを可能にする方法及び装置を提供する。
【解決手段】光学試験表面１４の形状を判定する方法は、測定ビーム３０の波面を適合光学系２０により光学試験表面１４の所望の形状に適合させ、光学試験表面１４の形状を適合済測定ビームにより干渉測定するステップと、適合済測定ビームを光学試験表面に種々の入射角で照射し、測定ビームの波面を光学試験表面１４との相互作用後にそれぞれ測定するステップと、個々の入射角ごとに測定された波面からの干渉測定結果に対する適合光学系２０の影響を確定するステップと、光学試験表面の形状を、適合光学系２０の確定された影響を干渉測定結果から除去することにより判定するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】投影レンズ内の１以上の光学素子の位置をモニタするシステムを提供すること
【解決手段】各々が入力放射から第１の波面及び第２の波面を導出し、かつ、第１及び第２の波面を合成して第１及び第２の波面の経路間の光路長の差に関する情報を備える出力放射を供給するように構成された複数の干渉計１１０，１２０を含み、各々が第１の波面の経路内に位置決めされた反射素子を備え、干渉計の少なくとも１つの反射素子が、第１の物体上に取り付けられる。本システムは、また、複数のファイバ１１１，１２１及び電子制御装置１７０を含む。各ファイバ１１１，１２１は、対応する干渉計１１０，１２０へのに送光、又は、対応する干渉計１１０，１２０からの受光に用いる。電子制御装置１７０は、干渉計１１０，１２０の少なくとも１つからの情報に基づいて、第２の物体に関する第１の物体の絶対変位をモニタする。 （もっと読む）

【課題】被検体の表面から反射光が得られないような場合であっても、被検体の表面性状を確実に測定でき、歩留まり及び製造効率の向上を図ることができる表面性状評価方法を提供する。
【解決手段】ウエハＷをセットしていない状態において、第１参照平面５６で反射された第１参照光と、ウエハＷをセットした状態において、ウエハＷを透過して後に第１参照平面５６で反射された被検光と、に基づいてウエハＷの表面性状を評価することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】広帯域干渉法によって透明な膜の厚さを測定する方法を提供する。
【解決手段】広帯域干渉法によって膜のコレログラムを作成する工程と、コレログラムにフーリエ変換を適用して、フーリエ位相関数を得る工程と、フーリエ位相関数の線形成分を取り除く工程と、残りの非線形成分に第２積分変換を適用して非線形成分の積分振幅関数を得る工程と、積分振幅関数のピーク位置を特定する工程と、波長に依存する膜の屈折率を考慮して前記膜の厚さを前記ピーク位置の横座標の２倍値として決定する工程と、を含む。最後の２つの工程の代わりに、前記積分振幅関数のピーク位置を特定する工程と、前記ピーク位置の横座標の２倍値として膜の厚みを決定する工程と、を含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】動的干渉計を使用した薄膜形成監視方法の提供。
【解決手段】動的干渉計（dynamic interferometer）を用いた薄膜成長リアルタイム監視方法が開示される。光学監視により成長薄膜スタックの反射係数の時間的位相変化を抽出する。該動的干渉計（dynamic interferometer）は、振動と乱気流の影響を排除し、直接的に成長薄膜スタックの変動位相を検出する方法に使用される。反射率或いは透過率測定と組み合わせて、監視光の垂直入射下でのリアルタイム反射係数が光学アドミタンスと同様に見つけられ、これにより薄膜成長の誤り補償強化に供される。 （もっと読む）

【課題】表面を検査するフィゾー干渉計の対物光学系を最適化する。
【解決手段】基準表面と検査表面１８の虚像を形成するオフアクシス放物面反射器３０及び虚像をカメラ検出器表面４８上の実像に変換するカメラレンズ系４６がフィゾー干渉計１０に組み込まれる。カメラ検出器表面４８は、カメラレンズ系４６とともに、オフアクシス放物面反射器３０による虚像の傾きに適応するように配置される。オフアクシス放物面反射器３０に対して配置された実効光源２６およびコリメート光を垂直入射で受け、光の第１の部分を反射し、光の第２の部分を透過させるために配向されたフィゾー基準表面１６も含まれる。 （もっと読む）

【課題】
試料表面に非接触で超音波励起を行い、超音波を励起した点を光干渉計測する手段を用いた非接触で試料内部の観察を行うことにより、稼動部分が無く、コンパクトな構成で、高感度で非破壊・非接触に内部欠陥を検査する。
【解決手段】
検査対象の試料から離れた場所から超音波を発射してこの超音波を試料に照射し、この試料の表面の超音波が照射された箇所に偏光の状態が制御された偏光光を照射し、この偏光光が照射された試料の表面からの反射・散乱光のうち照射した偏光光と同じ偏光特性を持つ光を光検出器で検出し、この光検出器で検出した信号を処理して試料の内部の欠陥を検出する内部欠陥検査方法及びその装置とした。 （もっと読む）

【課題】表面形状測定機の測定視野以上の測定領域の測定をするに際して、複数の測定結果の繋ぎ合せを簡易に行うことを可能とし、オーバーラップ領域を低減して全体の測定時間を削減し、さらに一定の累積誤差の発生を低減することが可能な表面形状測定方法を提供すること。
【解決手段】面測定データの繋ぎ合せ時に回転方向の補正を行わず、面測定データの平行移動のみを行い面測定データを合成して合成面測定データを取得するようにする。 （もっと読む）

【課題】干渉計測システムなどの振動感知システムのために、データ取得中は音響ノイズを最小限にしながら、環境制御をするための方法およびシステムの提供。
【解決手段】計測機器を含む振動感知計測システムのために環境制御を提供するための装置であって、前記振動感知計測システムを囲う熱的に安定したミニ・エンバイロメントを提供するための手段と、音響ノイズおよび振動から生じる前記振動感知計測システムの測定誤差を最小限にするための手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】 走査型干渉計による非球面測定において、被検非球面の頂点付近反射光を使用せずに被検非球面の走査量を高精度に測定する。
【解決手段】 被検面を多段階にステップ走査し、ステップ走査ごとに、撮像手段にて取得した干渉縞の形状測定領域に対応する位相、及び波長測定器にて前記光の波長、をそれぞれ計測する。
その後、被検面上の任意の点と参照球面の曲率中心との距離を、計測された前記位相と前記波長とをパラメータとして含む波数（整数）の関数として定義したうえで、隣接するステップ間の前記関数の関係から各ステップにおける波数を算出し、各ステップ間の移動量を算出する。
さらに、波数とその関数から被検面上の点Ｍと参照球面の曲率中心Ｏとの距離の測定値を算出すると共に、算出された移動量を用いて点Ｍと曲率中心Ｏの距離の設計値を算出し、前記測定値と設計値の差分より被検面の形状誤差を算出する。 （もっと読む）

【課題】別途光源を用意することなく、被検レンズの光軸をレーザ光の進行方向に一致させる傾き調整が可能なレンズの透過波面測定装置を提供する。
【解決手段】透過波面測定装置が、入射部から光を取り入れて出射部から出射させ、入射部を被検レンズの第１レンズ面近傍に出射部を被検レンズの第２レンズ面近傍に夫々配置可能であり、入射部から観察光を出射部に導いて被検レンズのフランジ部の第２レンズ面側に形成された平面部に照射させる傾斜検出用光路形成部と、被検レンズの平面部で反射された観察光による被検レンズの傾きを判別するための点像を観察するための傾斜検出用カメラとを有し、傾斜検出用光路形成部は、被検レンズから離れて観察光を被検レンズの第１レンズ面に入射させる第１の位置と、被検レンズの第１レンズ面側及び第２レンズ面側に入射部及び出射部が夫々位置して観察光を平面部に照射させる第２の位置との間で移動可能である。 （もっと読む）

【課題】コスト及び測定時間を抑えるとともに、非球面を含む様々な表面形状を効率良く測定することが可能な干渉計を提供する。
【解決手段】光源２、コリメートレンズ３、フォーカシングレンズ４、及び空間フィルタ５と、空間フィルタ５からの光束を平行光にする第１ビームエキスパンダーレンズ６及び第２ビームエキスパンダーレンズ８と、第２ビームエキスパンダーレンズ８から射出された平行光を収束させる収束レンズ９と、光束を分割し、参照レンズ１２と被検レンズ１３に導くとともに、参照レンズ１２と被検レンズ１３からの反射光を重ね合わせて射出する
ビームスプリッター１１と、ビームスプリッター１１から射出された光を受光するスクリーン１４と、スクリーン１４が受光した光をＣＣＤカメラ１８で撮像する撮像光学系１７と、ＣＣＤカメラ１８から得られた画像（干渉縞）を取り込み、表面形状を解析する形状解析部１９とを備える。 （もっと読む）

【課題】測定に必要な干渉信号のＳ／Ｎを低下させることなく、高精度な光干渉測定を実行可能な光干渉測定装置を提供すること。
【解決手段】第一面１２Ａから内部を透過して第二面１２Ｂへ直角に入射される透過光の一部を反射して参照光５４にするとともに、反射しないで透過光を第二面１２Ｂから出射する参照鏡１２と、第二面１２Ｂからの透過光の進行方向に沿って変位自在で、透過光を反射する可変反射体３６と、可変反射体３６からの反射光のうち参照鏡１２を透過する光を測定光５６として、該測定光５６と参照光５４との干渉光５８を検出する干渉光検出手段３０とを備える。参照鏡１２と可変反射体３６との間に光減衰手段７６を配置する。光減衰手段７６は、参照鏡１２と可変反射体３６との間を往復する光を減衰させて、ここで生じる多重反射光７５による干渉ノイズを低減する。 （もっと読む）

【課題】参照光および被検光を偏光の回転方向が互いに逆向きとなる２つの円偏光に変換するための光学素子を通過する際の波面の乱れを抑制し、実時間での光干渉測定をより高精度に行うことが可能な実時間測定分岐干渉計を得る。
【解決手段】光源部１からの光ビームを２光束に分岐し、第１光束を第２光束に対して所定の光学距離だけ迂回させた後に１光束に再合波して出射する迂回路部２を設ける。この迂回路部２における第１光束の光路上に第１のλ／２板１５を配置し、第２光束の光路上に、第１のλ／２板１５とは光学軸の方向が４５度だけ異なる第２のλ／２板１９を設置する。さらに、迂回路部２とビーム径拡大部３との間の光路上にλ／４板２１を配置することにより、第１光束および第２光束を偏光の回転方向が互いに逆向きとなる２つの円偏光に変換する。 （もっと読む）

【課題】光学素子の被検面の加工誤差を定量的に評価するのに好適な光学素子形状評価方法を提供すること。
【解決手段】光学素子形状評価方法を、理想面に対する被検面の偏差形状を多項式近似する多項式近似ステップと、多項式近似の結果から偏差形状の回転対称イレギュラリティ成分を切り出して評価形状を計算する評価形状計算ステップと、評価形状の瞳中心を含む領域が平面状に変形するように該評価形状に球面成分又２次成分を付与する成分付与ステップと、球面成分又２次成分が付与された評価形状に基づいて被検面の加工誤差を計算する加工誤差計算ステップとを有する方法とした。 （もっと読む）

【課題】 安定且つ高速に被検体の光学プロファイルを測定することができる周波数偏移干渉計及びその方法を提供する。
【解決手段】 連続同調型光源１６により被検体１２の光学プロファイルを測定する周波数偏移干渉計１０が提供される。被検体１２の一連の干渉画像が捕捉されると共に、干渉画像が形成された時のビーム周波数が取得される。捕捉された被検体の干渉画像から、監視ビーム周波数が所定のビーム周波数間隔パターンに略一致する限定された数の干渉画像が選択される。選択された干渉画像に基づいて更に処理が継続される。 （もっと読む）