【課題】被測定物に対する面方向の分解能や測定位置の変更を容易に行うことができる形状測定装置を提供する。
【解決手段】光源１０と、光源１０からの光を２つの光束に分割して、一方の光束を被測定物Ｔに照射し、他方の光束を参照ミラー４０に照射させると共に、これらから反射された光を合波させるスプリッタ２０と、スプリッタ２０によって合波された光により得られる画像を撮像するＣＣＤ５０と、２つの傾き状態に制御される複数の微小ミラーを有するＤＭＤと、複数の微小ミラーを制御して被測定物Ｔや参照ミラー４０への照射光等を絞り込み、その状態で撮像された画像に基づき、測定点の高さを測定する制御手段と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高速かつ高精度に被検面の形状を計測することが可能な計測装置を提供すること
【解決手段】計測装置は、光コム光源１０１から射出された光束を、被検光束と参照光束に分割するＰＢＳ１５と、前記参照光束と前記被検光束の光路長差を変化させる遅延素子９と、前記被検光束と前記参照光束が干渉して形成する干渉縞を撮像する撮像素子２４と、遅延素子が光路長差を変化させて撮像された干渉縞の信号に基づいて被検面２３の位置を算出する解析器２５と、を有する。 （もっと読む）

【課題】高精度に被検面と参照面の間の絶対距離を計測可能な計測装置および計測方法を提供する。
【解決手段】第１の基準波長λ_１と第２の基準波長λ_２との間で波長走査が可能な光源１１と、第３の基準波長λ_３の光を射出する光源１０を有する光波干渉計測装置は、各波長に対応した干渉光の信号に基づいて被検面と参照面との間の光路長に相当する位相の誤差を補正し、誤差が補正された位相に基づいて被検面と参照面の間の絶対距離を算出する処理部１９を有する。 （もっと読む）

【課題】試料表面の変位量が大きくても、フェーズラッピングの問題が生ずることなく、試料の微細な表面形状を高分解能で測定できる形状測定装置を実現する。
【解決手段】白色光源から出射した照明光は、入射光をシャーリングする第１の光路と入射光に対して可変光路長ないし可変位相量を導入してフリンジスキャンを行う第２の光路とを有する干渉光学系及び対物レンズを経て試料に入射する。試料上には、シャーリングされた参照ビームにより形成される第１の照明領域とフリンジスキャンされた測定ビームにより形成される第２の照明領域が形成される。第１及び第２の照明領域から出射した反射光は、対物レンズ及び干渉光学系を介して２次元撮像装置に入射し、２つの照明領域の画像が合成された干渉画像が形成される。フリンジスキャンにより、２つの画像を構成する反射光間に白色干渉が発生し、干渉信号を検出することで、試料の形状又は孔の深さが測定される。 （もっと読む）

【課題】スペックル低減を、拡散板を動かすのではなく、ビームを動かして、質量及びモーメントだけでなく、付随する熱及び振動を低減することにより達成する。
【解決手段】コヒーレント光のスペックルを低減するシステム２５０において：拡散板２８６と；少なくとも１つのビームステアラー２７０および第１軸を有するビームステアリングシステムと；拡散板２８６とビームステアリングシステムとを相互接続する光学系であって、光を、少なくとも１つのビームステアラー２７０を介して拡散板２８６の連続する軸外領域に、そして拡散板２８６の連続する軸外領域から少なくとも１つのビームステアラー２７０に誘導することにより、拡散板２８６の連続する軸外領域からの光の角度分布が、第２軸を略中心とするようになり、かつ第２軸に略揃うようになって、スペックル低減システムから射出する光学系と；を備える。 （もっと読む）

【課題】 少ないエネルギーで回転鏡を反復回動させて正確にセンターバースト位置に停止できる二光束干渉計の提供。
【解決手段】 光源Ａからの光を固定鏡２と一対の回転鏡３ａ、３ｂとに二分割し、これら固定鏡２並びに回転鏡３ａ、３ｂから戻った光を再び合成して干渉光を得る二光束干渉計であって、上下方向に沿って延設され、その上下に前記一対の回転鏡３ａ、３ｂを互いに平行な姿勢で保持する回転アーム４と、回転アーム４を回動可能に保持する支持軸５と、回転アーム４の下端部で支持軸５を支点として回転アーム４を反復揺動させる駆動源７と、回転鏡３ａ、３ｂからの光を反射して回転鏡３ａ、３ｂに戻す固定反射鏡９とからなり、回転アーム４の回動を停止して回転アーム４が自重により静止した位置で、二分割された固定鏡側の光と回転鏡側の光の光路差が０のセンターバースト位置となるように、上下の回転鏡３ａ、３ｂの位置が予め調整される構成とする。 （もっと読む）

【課題】被検体の表面から反射光が得られないような場合であっても、被検体の表面性状を確実に測定でき、歩留まり及び製造効率の向上を図ることができる表面性状評価方法を提供する。
【解決手段】ウエハＷをセットしていない状態において、第１参照平面５６で反射された第１参照光と、ウエハＷをセットした状態において、ウエハＷを透過して後に第１参照平面５６で反射された被検光と、に基づいてウエハＷの表面性状を評価することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】広帯域干渉法によって透明な膜の厚さを測定する方法を提供する。
【解決手段】広帯域干渉法によって膜のコレログラムを作成する工程と、コレログラムにフーリエ変換を適用して、フーリエ位相関数を得る工程と、フーリエ位相関数の線形成分を取り除く工程と、残りの非線形成分に第２積分変換を適用して非線形成分の積分振幅関数を得る工程と、積分振幅関数のピーク位置を特定する工程と、波長に依存する膜の屈折率を考慮して前記膜の厚さを前記ピーク位置の横座標の２倍値として決定する工程と、を含む。最後の２つの工程の代わりに、前記積分振幅関数のピーク位置を特定する工程と、前記ピーク位置の横座標の２倍値として膜の厚みを決定する工程と、を含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】平板型のＢＳを用いた小型、安価な構成で、ＢＳで発生するゴースト光の影響を抑えながら、干渉強度の高い良好な干渉光を得る。
【解決手段】干渉計では、レーザ光源から出射されたレーザ光を平板型のＢＳで２光束に分離し、それぞれを別々の反射光学素子で反射させた後、ＢＳに再度入射させて干渉させる。干渉光は、ＢＳからレーザ光源とは異なる方向に出射され、光検出器にて検出される。ＢＳは、平板状の基板と、上記基板の表面に形成される反射透過膜と、上記基板の裏面に形成される反射防止膜とを有している。上記基板の反射透過膜が形成された面でのレーザ光の反射率および透過率をそれぞれＲｂおよびＴｂとし、上記基板の反射防止膜が形成された面でのレーザ光の反射率をＲａとすると、以下の条件式（１）および（２）を満足する。すなわち、（１）１．５＜Ｒｂ／Ｔｂ＜２０、（２）Ｒａ＜０．０３である。 （もっと読む）

【課題】平板型のＢＳ１３を用いたときの２光束の光路差の補償を、光学部品の部品点数を増大させることなく行って、小型で組み立てが容易な構成を実現する。光学面の枚数を少なくして、ＢＳ１３に対する入射光の強度が微弱な場合でも、干渉光を確実に得る。
【解決手段】干渉計２では、透明基板１３ａの片面が反射透過面である平板型のＢＳ１３で入射光を２光束に分離し、２光束を固定鏡１５および移動鏡１４でそれぞれ反射させた後、ＢＳ１３で合成して干渉させる。固定鏡１５および移動鏡１４のどちらか一方は、裏面反射鏡で構成されている。この裏面反射鏡は、ＢＳ１３の反射透過面で反射された一方の光束と上記反射透過面を透過した他方の光束とで、ＢＳ１３で分離されてから合成されるまでに透明基板１３ａを通過する回数が異なることによって生ずる上記両光束の光路差を補償する平板１５ｂの裏面に反射膜１５ａを一体的に形成して構成されている。 （もっと読む）

【課題】
光干渉を用いた変位計測装置において、プローブ光路と参照光路とが空間的に分離して
いるため、空気の揺らぎ等による温度分布や屈折率分布、あるいは機械振動が生じた場合
、両光路間で光路差が変動し、測定誤差となってしまう。
【解決手段】
プローブ光の光軸と参照光の光軸を外乱の影響を受けない距離まで近接させて、プロー
ブ光を対象物に、参照光を参照面に各々照射し、その反射光同士を干渉させ、生じた干渉
光から対象物の変位量を求める （もっと読む）

【課題】本発明は、構成が単純であり、正確な絶対距離測定結果を経済的に提供できる固定波長絶対距離干渉計の提供。
【解決手段】第１の光源と波面半径検出器と波面半径検出器における測定結果から低解像度絶対光路長Ｒを求める第１の固定波長絶対距離干渉計と、合成測定波長Λを有する第２の干渉計光ビームを送出するビーム送出手段と前記第２の干渉計光ビームを参照ビームと測定ビームとに分割するとともに、戻ってきた参照ビームと測定ビームとを重ね合わせるビーム分割／重ね合わせ手段と記重ね合わせビームを受光して位相φを示す信号を発生する第２の干渉計検出器と前記重ね合わせビームの波数Ｎ_Λ、波長Λ、および位相φに基づいて中解像度絶対光路長測定値Ｚ_Ｍを求めるように構成された第２の光路長計算部を備える第２の干渉計と、を有する固定波長絶対距離干渉計。 （もっと読む）

【課題】 光軸調整が不要で、振動の影響が軽減され、小型化が可能な光学素子及び干渉計を提供すること。
【解決手段】 光学素子２０は、第１〜第４の三角プリズム２１、２２、２３、２４のそれぞれの頂角をなす面同士を貼り合わせて構成され、第１及び第２の三角プリズムの両接合面２１ａ、２２ｂ、及び第２及び第３の三角プリズムの両接合面２２ａ、２３ｂ、及び第３及び第４の三角プリズムの両接合面２３ａ、２４ｂ、及び第４及び第１の三角プリズムの両接合面２４ａ、２１ｂのそれぞれが、光学薄膜を介して接合され、各光学薄膜は、入射光をその偏光状態に応じて透過又は反射する特性を有する。光学素子２０は、光学薄膜における第１の位置Ｐ１で光路を分割し、光学薄膜における第２の位置Ｐ２で光路を合成する。 （もっと読む）

【課題】測定に必要な干渉信号のＳ／Ｎを低下させることなく、高精度な光干渉測定を実行可能な光干渉測定装置を提供すること。
【解決手段】第一面１２Ａから内部を透過して第二面１２Ｂへ直角に入射される透過光の一部を反射して参照光５４にするとともに、反射しないで透過光を第二面１２Ｂから出射する参照鏡１２と、第二面１２Ｂからの透過光の進行方向に沿って変位自在で、透過光を反射する可変反射体３６と、可変反射体３６からの反射光のうち参照鏡１２を透過する光を測定光５６として、該測定光５６と参照光５４との干渉光５８を検出する干渉光検出手段３０とを備える。参照鏡１２と可変反射体３６との間に光減衰手段７６を配置する。光減衰手段７６は、参照鏡１２と可変反射体３６との間を往復する光を減衰させて、ここで生じる多重反射光７５による干渉ノイズを低減する。 （もっと読む）

【課題】トールボット干渉計のセンサ部の傾きを精度良く調整する。
【解決手段】トールボット干渉計は、光源１から発せられて被検光学系Ｌを通った光を、回折格子３および撮像素子４を含むセンサ部Ｍに導き、被検光学系の波面を計測する。該干渉計は、光軸ＯＡに沿った方向における被検光学系とセンサ部との位置関係を、波面の計測時とは異なる位置関係であって被検光学系の像点位置に撮像素子が配置されるように設定する機構７，８と、回折格子からの回折光の撮像素子上での光量分布を該撮像素子を用いて測定する測定部５と、光量分布の測定結果を用いてセンサ部の傾き補正量を算出する補正量算出部５と、傾き補正量に応じた光軸に対するセンサ部の傾き調整を行う機構９とを有する。 （もっと読む）

【課題】回転対称な線織面または互いに離間した複数の平面からなる被検面の傾斜角度、形状および径の大きさ等を短時間で測定可能な被検面測定装置を得る。
【解決手段】円錐レンズ３１と回折光学素子３２とからなる光偏向素子３０を配置し、測定光を照射する。光偏向素子３０に入射した測定光の一部は、参照基準面３１ｂにおいて参照光として反射され、その余は光偏向素子３０により放射状に偏向されて被検面７１の各部に垂直に照射される。被検面７１の各部から再帰反射された測定光の一部は、光偏向素子３０を経由し被検光として参照基準面３１ｂに戻る。この被検光と参照光の光路長差が低干渉光源１１からの出力光の可干渉距離以下となるように迂回路部１３における迂回距離の調整がなされ、撮像カメラ２３により撮像された干渉縞画像に基づき、被検面７１の各部の傾斜角度、形状および径の大きさが測定解析される。 （もっと読む）

【課題】被検曲面の傾きが大きい場合でも被検曲面の形状を高精度に測定することが可能な被検曲面形状測定装置を得る。
【解決手段】被検曲面Ｐの形状の設計データに基づき形成された反射曲面３１を有する反射偏向素子３を用いて測定を行う。この反射曲面３１は、干渉計１から反射曲面３１に入射した測定光の各光線が、被検曲面Ｐに対し垂直に入射して再帰反射され反射曲面３１を経由して干渉計１に戻るとともに、該各光線の光路長が互いに等しくなるように形成されている。 （もっと読む）

【課題】 大口径の被検光学系の面形状を測定する波面形状測定方法、及び大口径の被検光学系の面形状を測定するための波面形状測定装置を提供する。
【解決手段】被検光学系の面形状を測定するための波面形状測定方法において、重力方向に伸びた回転軸（ＫＪ）を中心に液体（ＥＴ）を入れた容器（ＹＫ）を回転させることにより、重力方向に凹んだ回転放物面の液体反射面（ＥＨ）を形成する液体反射面形成工程と、反射平面（ＨＭ）を有する基準平面鏡（ＫＨ）を液体反射面に対向するように配置する工程と、干渉計（ＫＳ）から可干渉性を有する光束を液体反射面に照射し、液体反射面で反射された光束が基準平面鏡で反射され、再び液体反射面を経由して干渉計に戻った光束を干渉させて、基準平面鏡の面形状を測定する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】折り返し平面鏡の変形によって生じる被検光学系の透過波面を繋ぎ合わせるときの誤差を低減させた光学装置を提供する。
【解決手段】被検光学系Ｔ₁の被測定領域よりも小口径の折り返し平面鏡Ｆ₁を挟んで、被検光学系Ｔ₁の透過波面を測定する第１の干渉計Ｉ₁と対向するように第２の干渉計Ｉ₂を設ける。そして、第２の干渉計Ｉ₂は、測定光を照射し、折り返し平面鏡Ｆ₁の表面に形成された鏡面Ｓ₁で反射され、再び第２の干渉計Ｉ₂に戻ってきた戻り光を基に、第２の干渉縞画像を取得する。解析装置１１は、第２の干渉計Ｉ₂により取得された第２の干渉縞画像を解析して、折り返し平面鏡Ｆ₁の鏡面Ｓ₁の変形量を測定し、折り返し平面鏡Ｆ₁の変形によって生じた誤差を打ち消すように透過波面の補正を行う。 （もっと読む）

【課題】位相変調された干渉信号を検出し、干渉信号の位相を求める信号処理演算を行うことによってナノメータオーダでの分解能で表面形状測定を行うことのできる、表面形状の測定方法及び測定装置を提供する。
【解決手段】半導体レーザ光源11からのレーザ光を偏光方向が互いに直交し位相が異なる２つの光の合成光に変換してから回転多面体ミラー32に導き、レンズ33を通過した合成光を構成する２つの光を偏光ビームスプリッタ34により分離してその一方の光を参照面ミラー42、他方の光を被測定物体41の表面に照射する。参照面ミラー42からの反射光と被測定物体41の表面からの反射光を偏光ビームスプリッタ34により再び重ね合わせ、偏光板52を通過させることにより参照面ミラー42からの反射光と被測定物体41の表面からの反射光を干渉させる。 （もっと読む）