【課題】画面内での十字パターンの大きさや位置に制限を受けることなく、十字パターンの中心座標を検出することを可能にする。
【解決手段】十字パターンの中心検出装置１は、入力画像データに対し、所定以上の輝度を有する高輝度画素の数が所定数に満たない列にマスク処理を施す第１のマスク処理手段４ａと、第１のマスク処理手段４ａでマスク処理を施した画像データに基づき、十字パターン１１の行方向の中心位置Ｘを算出する第１の演算手段４ｂと、入力画像データに対し、高輝度画素の数が所定数に満たない行にマスク処理を施す第２のマスク処理手段４ｃと、第２のマスク処理手段４ｃでマスク処理を施した画像データに基づき、十字パターン１１の列方向の中心位置Ｙを算出する第２の演算手段４ｄとを備え、行方向及び列方向の中心位置Ｘ、Ｙを用いて十字パターン１１の中心座標を求める。 （もっと読む）

【課題】対象物の撮影画像に基づいて指定した目的像を対象物に投影する投影システムにおいて、撮影手段と投影手段との光軸差から生じる投影像と目的像とのずれを補正する処理を迅速に行う。
【解決手段】プロジェクタ１０の原像面上にて、目的像を構成する注目点Ｘに対応する原像対応点Ｗを探索する際の探索範囲を、注目点Ｘそれぞれに対応してビデオカメラ８及びプロジェクタ１０に関するエピポーラ幾何により定まる原像面におけるエピポーラ線Ｌpのうち一部区間に限定する。 （もっと読む）

【課題】パンタグラフの高さ測定におけるキャリブレーションを簡易に行うことを可能としたパンタグラフ高さ測定装置を提供する。
【解決手段】車両の屋根上に設置されて車両のパンタグラフを撮影するラインセンサカメラ２と、ラインセンサカメラから入力される画像信号を時系列的に並べて入力画像を作成する入力画像作成部３ａ、テンプレートを予め登録するテンプレート設定部３ｂ、パンタグラフの実際の位置を入力するパンタグラフ高さ入力部３ｃ、入力画像に対して二値化処理を行う二値化処理部３ｄ、及び入力画像上のマーカの位置を抽出するピクセル位置抽出部３ｅとを備えるキャリブレーション手段と、前述の対応関係を用いてラインセンサカメラ２によって撮影したパンタグラフの入力画像上の位置から実際のパンタグラフの高さを算出するパンタグラフ変位測定手段とからなる処理用コンピュータ３とを備える構成とした。 （もっと読む）

【課題】多数のアライメントヘッドのキャリブレーションを改良し、オーバレイ精度及び製品歩留まりを向上させる。
【解決手段】物体のアライメントを測定するための装置を備えるリソグラフィ装置であって、アライメント検出領域にてアライメントマークの位置を測定するためのアライメント検出器を各々が備える複数のアライメントセンサと、レベリングセンサ検出領域において物体の高さ及び／または傾斜を測定するためのレベリングセンサと、レベリングセンサとアライメントセンサとの間のフィードフォワード接続部と、を備えるリソグラフィ装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】プロダクトフィーチャと同じ感度を受けるオーバーレイエラーを決定する方法を提供する。
【解決手段】オーバーレイエラーの決定に用いるマークはサブフィーチャ（４６）を含んでおり、このサブフィーチャはプロダクトフィーチャの最も小さいピッチとほぼ同等である最も小さいピッチを有する。これにより、歪みおよび収差に対する感度はプロダクトフィーチャのものと同じになる。しかしながら、マークが現像されるとサブフィーチャは組み合わされ、より大きいフィーチャの輪郭のみが現像される。 （もっと読む）

【課題】多数のアライメントヘッドのキャリブレーションを改良し、オーバレイ精度及び製品歩留まりを向上させる。
【解決手段】多重ヘッドアライメントシステムにおいて主アライメントヘッドを用い副アライメントヘッドの位置較正をするためのキャリブレーション方法が開示される。このシステムは例えばウェーハ表面のマーカ測定に使用され、そのウェーハ内またはウェーハ上に回路を形成するリソグラフィ処理中に行われる。複数のオフセット測定が少なくとも１つの副アライメントヘッドのために行われ、それにより副アライメントヘッドの主アライメントヘッドに対するオフセットが測定され、以降のウェーハ測定演算での補正データとして使用される。 （もっと読む）

オーバーレイオフセットを特定するための方法は：第１の散乱測定セルに関する第１の逆対称差分信号（ΔＳ１）の取得と；第２の散乱測定セルに関する第２の逆対称差分信号（ΔＳ２）の取得及び第１の散乱測定セルに関する第１の逆対称差分信号（ΔＳ１）及び第２の散乱測定セルに関する第２の逆対称差分信号（ΔＳ２）からのオーバーレイオフセットの計算を含むがそれに制限されるものではない。 （もっと読む）

【課題】正確かつ高速なパターンの形状評価を実現できるパターン形状評価方法および装置を提供する。
【解決手段】ダブルパターンニング用の設計パターンを用いて製造した回路パターンの接合部の画像を読み出し、その上に、目標境界線と評価領域とを設定する。評価領域において、目標境界線の方向に沿って画像処理を行ない、更に、二値化処理を行なう。こうして、得られた画像に基づいてパターンの欠陥の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】光ビームにより基板を走査して、新たなパターンを下地パターンに合わせて精度良く露光する。
【解決手段】チャック１０に位置検出用マークを設け、チャック１０の位置を検出しながら、ステージによりチャック１０を移動して、各画像取得装置５１によりチャック１０の位置検出用マークの画像を取得し、検出したチャック１０の位置及び画像処理装置５０が検出したチャック１０の位置検出用マークの位置から、各画像取得装置５１の位置ずれを検出して、各移動機構により各画像取得装置５１の位置ずれを修正する。各画像取得装置５１により基板１の下地パターンの位置検出用マークの画像を取得し、画像処理装置５０が検出した基板１の下地パターンの位置検出用マークの位置に応じて、ステージによりチャック１０を移動して、光ビーム照射装置２０からの光ビームにより基板１を走査する前の基板１の位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】赤外光を用いた場合であっても、測定用マークの位置を高精度に測定することができる技術を提供する。
【解決手段】赤外光を測定マークに照射し、測定用マークの像を撮像素子の撮像面に形成する光学系を用いて、測定用マークの位置を測定する測定方法であって、前記光学系によって赤外光を前記測定用マークに予め定められた時間照射した後、赤外光の照射を遮断した状態において、前記光学系の光学素子から放射される赤外光による画像を撮像する第１の撮像ステップと、赤外光を照射した状態において、前記光学系の光学素子及び前記測定用マークで反射された赤外光にる画像を撮像する第２の撮像ステップと、前記第２の撮像ステップで撮像した第２の画像から前記第１の撮像ステップで撮像した第１の画像を差し引いた第３の画像を生成する生成ステップと、第３の画像に基づいて、前記測定用マークの位置を算出する算出ステップと、を有する。 （もっと読む）

【課題】オーバレイ測定を向上させる。
【解決手段】生成物マーカ格子の非対称性などの生成物マーカ格子の横プロファイルに関する情報が測定結果から判定される。オーバレイマーカ格子がレジスト膜に印刷された後、生成物マーカ格子に対するオーバレイマーカ格子の横オーバレイがスキャトロメータによって、且つ適宜の処理モデルと組み合わせた判定済みの非対称情報を使用して測定される。アライメントセンサの情報を使用して、先ず生成物格子を再構築してもよく、この情報はスキャトロメータに送られ、スキャトロメータは生成物とレジスト格子との積層を測定し、積層によって散乱された光は、オーバレイを計算するために積層のモデルを再構築するために利用される。 （もっと読む）

【課題】テンプレートマッチングの位置検出精度向上
【解決手段】テンプレート画像データと被探索画像データとにより相関分布を求め、当該相関分布の特性から被探索パターンの位置検索を行う画像処理方法において、テンプレート画像に対して基準画像を所定の移動距離単位で相対的に直進移動させて理想的な標準相関分布を求め、被探索画像の相関分布と標準相関分布の各々について尖度を求め、標準相関分布の尖度と被探索画像の相関分布の尖度とを比較すると共に、当該各尖度の比較結果に応じて、被探索画像の最大相関値となる最大相関位置を前記画像移動方向における画像一致位置とするか、相関分布の頂上部の加重平均位置を画像一致位置とするかを判定する。 （もっと読む）

【課題】、裏面側の位置検出光学系を移動させることなく、投影光学系の露光パターンの投影位置及び位置検出光学系の検出位置の相対的な位置合わせをより正確に行って、露光を高精度に行うことが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１は、基板７を載置するステージ９と、基板７の表面側に配置され、基板７の表面７ａにパターンを投影する投影光学系４と、基板７の裏面側に配置され、基板７の裏面７ｂに形成された位置合わせマークを検出する裏面位置検出光学系６と、ステージ９を貫通する貫通孔９ｂに取り付けられ、光を透過する部材で形成された窓部材１０と、投影光学系４により窓部材１０の表面１０ａに形成されたパターンの像を、窓部材１０の裏面側から裏面位置検出光学系６で検出し、投影光学系４により形成されるパターンの像の位置と裏面位置検出光学系６で検出される位置合わせマークの位置との相対関係を算出する制御部１１と、を有する （もっと読む）

【課題】チャックテーブルに保持された半導体ウエーハ等の被加工物の上面高さを正確に計測できる計測装置を装備したレーザー加工機を提供する。
【解決手段】チャックテーブル３６に保持された被加工物に向けて発光する白色光源６１と、白色光を被加工物に照射する第１の色収差レンズ６２と、被加工物に照射された白色光の反射光を分光するビームスプリッター６３と、ビームスプリッター６３によって分光された反射光における光軸を通る波長の反射光を通過させる光分別手段６５と、回折格子６６によって回折された回折光の波長を検出する波長検出手段６７と、制御手段を具備する計測装置であって、ビームスプリッター６３と第１の色収差レンズ６２との間に配設され光軸上に白色光源６１からビームスプリッター６３を通して入光する白色光の仮想焦点の像を形成する第２の色収差レンズ６４を備え、各波長の集光点が所定波長間隔に比例するように設定されている。 （もっと読む）

【課題】パタンマッチング処理の精度を向上させることを可能とするパンタグラフ変位測定装置及びトロリ線硬点検出方法を提供する。
【解決手段】ラインセンサカメラ２によってマーカを撮影した画像を処理することによりパンタグラフの加速度を求める画像処理部５Ａが、入力画像を作成する入力画像作成部５ａと、テンプレートを設定するテンプレート設定部５ｂと、入力画像を分割する画像分割処理部５ｃと、テンプレートの拡縮を行うテンプレート拡大・縮小処理部５ｄと、入力画像上のマーカのピクセル位置を検出するパタンマッチング処理部５ｅと、マーカのピクセル位置をパンタグラフの実際の変位に変換するパンタグラフ変位計算部５ｆと、パンタグラフの変位に対して平滑化処理を行うフィルタリング処理部５ｇと、パンタグラフの加速度を出力する加速度出力部５ｈとを有する構成とした。 （もっと読む）

【課題】下層に形成された凹部のパターンの上に、フォトレジストを形成して上層のパターンを重ねて露光する際に、下層のパターンの影響を受けずに上層のパターンを形成することができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】第１のデバイスパターンと、矩形状に掘り込まれたマークが第１の方向に所定の間隔で配列された第１のマーク列を第２の方向に複数配列した第１の検査用パターンと、が形成された加工処理対象上にレジストを塗布し、第２のデバイスパターンを形成するためのマスクパターンと、矩形状に掘り込まれたマークが第１のマーク列のマーク間に配置されるとともに、第２の方向の形成位置が第１のマーク列と所定の長さだけ重なるように配置される第２のマーク列を第２の方向に複数配列した第２の検査用パターンと、をレジストに形成し、第１と第２の検査用パターンを用いて算出した合わせずれ量から後の工程に進むか否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】照明手段を備えた二次元測定機において、測定物を常に高コントラストで撮像できるようにするとともに、常に充分な光量を得ることできるようにする。
【解決手段】測定物（１）を拡大する顕微鏡（５）と、測定物を照明する照明手段（１１）とを備えた二次元測定装置において、照明手段は、それぞれ異なる波長（λ_１、λ_２、λ_３、λ_４、λ_５）の光（１４）を出射する複数のＬＥＤ照明（１２）を備えており、複数のＬＥＤ照明のうちから選択した１つのＬＥＤ照明から出射された光（１４）が、コリメータレンズ（１３）で平行光線とされ、顕微鏡内に配置された半透明プリズム（１６）で測定個所（２０）に向けて反射される。 （もっと読む）

【課題】 ２波長露光など、誤計測要因が発生する状態において高精度な像面計測、ベストフォーカス計測、アライメント原点補正を可能にする。
【解決手段】 ２波長露光において、露光時と同様に2波長発振状態にてTTLキャリブレーション計測を行い、特に、露光領域内の軸外パターンでのフォーカス検出を行う際には、レンズ開口の法線方向（サジタル方向）パターンを用いてフォーカス位置を検出することで倍率色収差による像のにじみの影響を無くしたものである。さらに、単一波長露光時と２波長露光時のそれぞれにおいて最適なキャリブレーション計測チャートを選択する。
また、二波長露光における倍率色収差の影響のみに限定するものではなく、distやコマ、テレセン度などフォーカスにより像シフトが起こり計測誤差が発生する場合でも同様な構成手法により誤差量を減らすことが出来る。 （もっと読む）

【課題】三次元画像および二次元画像を用いた複数種類の外観検査に対応しつつ外観検査に要する手間やコストを低減する上で有利な外観検査用照明装置および外観検査装置を提供する。
【解決手段】外観検査用照明装置１６は、透過性反射板３２と、カバー３４と、フレーム３６と、第１の光源部３８、第２の光源部４０、第３の光源部４２、第４の光源部４４を含む。第１、第２、第３の光源部３８、４０、４２から発せされた光は、透過性反射板３２を透過して被検査物２を通る仮想平面に対して第１、第２、第３の角度θ１、θ２、θ３で交差して被検査物２を照射する。第４の光源部４４から発せられた光は透過性反射板３２の下面３２０６で拡散され反射されることで被検査物２を照射する。 （もっと読む）

【課題】車両が進入可能であれば狭い細道であっても、かつ路面に凹凸があっても、地点間の距離などを精度よく測定することができる測定装置および測定システムを提供する。
【解決手段】測定装置５は、タイヤＴを支持するホイールＷとホイールハブＷＨとの間に、回転中心を合わせて配置された回転体５１と、本体フレームＦに固定された光学的検出器５２とを備えている。回転体５１は、ホイールＷとホイールハブＷＨの取付面との間に装着される円盤部５１１と、円盤部５１１から本体フレームＦに向かって延びてホイールハブＷＨの外周面を包囲する円筒部５１２とから形成されている。円筒部５１１の周囲面には、光を透過する光透過部である長孔５１３が設けられている。光学的検出器５２としては、本体フレームＦに取付金具５２３により固定された発光部として機能する発光素子５２１と受光部として機能する受光素子５２２とを備えている。 （もっと読む）